TWI428702B - 圖案形成設備與方法 - Google Patents

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TWI428702B
TWI428702B TW097103857A TW97103857A TWI428702B TW I428702 B TWI428702 B TW I428702B TW 097103857 A TW097103857 A TW 097103857A TW 97103857 A TW97103857 A TW 97103857A TW I428702 B TWI428702 B TW I428702B
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Kazuhiro Terada
Yuji Shimoyama
Hiroshi Shibata
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Fujifilm Corp
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Description

圖案形成設備與方法
本發明係關於一種圖案形成設備與方法。特別地,本發明係關於一種圖案形成設備與方法,其中圖案係形成在底板的表面上,而且可以簡化其結構而還具有高生產力。
數位曝光設備係具有圖案形成單元之圖案形成裝置。一組特別的光調變器,如DMD(數位微鏡裝置),係加入在圖案形成裝置之中,並且根據圖案資料驅動,以調變光束。圖案形成係藉由曝光在底板上執行。數位曝光設備也被稱為多光束曝光設備。DMD係包含SRAM胞元或記憶胞元,和微鏡之鏡子裝置。SRAM胞元係以二維方式排列在半導體基板上。微鏡係以樞軸可移動的方式被固定至記憶胞元保護。資料被當作靜電荷個別寫入到記憶胞元。微鏡的反射表面之角度係根據靜電力變化。
數位曝光設備的建議範例具有延伸高於並且在參考方向橫越底板的曝光表面之圖案形成單元。底板係相對於圖案形成單元橫越參考方向移動。用以驅動圖案形成單元中特別的光調變器之資料係根據底板的移動而改變。影像係形成在整個曝光表面上。在數位曝光設備中,圖案形成係可能用於大尺寸底板,例如印刷電路板,用於平板顯示器之玻璃基板。但是,對於每一種底板都會有耗時之問題,所以會造成很低的生產力。
JP-A 2005-037914揭露一種數位曝光設備,其中具有 兩個可移動平台,從載入位置開始,通過圖案形成單元,然後移動到移動位置,以達到高生產力的目的。在第一個可移動平台,執行底板的圖案形成,而第二個可移動平台係藉由交換載入新底板。此外,測量在第二個平台上之底板以對準。
在JP-A 2005-037914的數位曝光設備中,底板的載入位置在可移動平台之間是相等的。第一個可移動平台在運送路徑上通行而第二個可移動平台在完成圖案形成之後,從移除位置移動到載入位置。第一個可移動平台係與第二個可移動平台在垂直方向分別配置,以防止兩者之間相互干擾。由於為了防止可移動平台在運送路徑之間相互干擾之結構的需要,JP-A 2005-037914之數位曝光設備會有複雜度問題。
有鑑於上述之問題,本發明之目的係要提供一種圖案形成設備與方法,其中圖案係形成在底板的表面上,而且可以簡化其結構而還具有高生產力。
為了達成本發明之上述的和其他的目的與優點,一種圖案形成設備包含圖案形成單元,用以根據圖案資料順序形成圖案在通過圖案形成區域之底板上。移動單元具有運送路徑延伸以通過用於底板的圖案形成區域,在相對於圖案形成區域之第一方向,和相反於第一方向之第二方向,以交替方式,向後和向前運送第一和第二底板,第一底板係設定在運送路徑其中之一端,第二底板係設定在運送路 徑的另一端。控制器控制圖案形成單元和移動單元,在第一方向之第一運送週期,通過圖案形成區域,形成圖案在第一底板上,及在第一方向之第二運送週期,通過圖案形成區域,形成圖案在第二底板上。
移動單元包含第一和第二可移動平台,用以分別支撐設定在其上之第一和第二底板。引導機構可在運送路徑可移動地引導第一和第二可移動平台。移動機構使第一和第二可移動平台在運送路徑彼此相互分離移動。
再者,底板位置偵測器偵測底板相關於適當位置的位置偏移值。圖案資料校正器根據來自底板位置偵測器之位置偏移值校正圖案資料。
移動單元,在第一週期期間或之後,在第一方向移動第二底板朝向圖案形成單元,以測量在底板位置偵測器之第二底板。移動單元,在第二週期期間或之後,在第二方向移動第一底板朝向圖案形成單元,以測量在底板位置偵測器之第一底板。
再者,第一和第二底板交換器配置在運送路徑的終端,第一底板交換器在第二週期換新第一底板,而第二底板交換器在第一週期換新第二底板。
一組第一和第二底板交換器包含輸送裝置,配置成沿著運送路徑延伸,用以在運送路徑的其中之一端接近第一可移動平台和在運送路徑的另一端接近第二可移動平台設定底板。第一和第二移位器自輸送裝置握住底板,並將底板分別設定在第一和第二可移動平台上。
再者,還有第一和第二預對準調節器,用以藉由自第一和第二移位器支撐底板,調節底板的位置。
第二預對準調節器具有轉盤,用以藉由旋轉一半改變底板的方向。
再者,角度調節器相對於運送路徑調節底板的角度,以定位底板的方向在預定方向。
再者,圖案資料設定器係在第一和第二週期之間以不同的方式設定圖案資料。
底板係感光性的。圖案形成單元包含用以發光之光源。光閥門可以根據圖案資料調變光,並且藉由應用光到底板而曝光圖案。
光閥門係藉由許多光閥門構成,圖案形成單元係多光束型,而光係雷射光。
較佳地,光閥門包含特別的光調變器。
在第一週期之前,藉由通過圖案形成單元,第一可移動平台在相反於第一方向之第二方向,移動第一底板,然後在第一週期,藉由通過用以圖案形成之圖案形成單元,在第一方向移回第一底板。在第二週期,藉由通過用以圖案形成之圖案形成單元,第二可移動平台在第一方向,移動第二底板,然後,藉由通過圖案形成單元,在第二方向移回第二底板。
運送路徑包含第一端區域,具有可以容納第一可移動平台之尺寸。第二端區域具有可以容納第二可移動平台之尺寸。通行區域包含圖案形成區域,配置成在第一和第二 端區域之間延伸,用以保持第一和第二可移動平台可通過,通行區域具有一種形式,其中第一可移動平台可容納在第二端區域和圖案形成區域之間,及第二可移動平台可容納在第一端區域和圖案形成區域之間。
在本發明之一觀點中,提供一種根據圖案資料將圖案形成在移動底板上之圖案形成方法。圖案形成方法包含在運送路徑的其中之一端設定第一底板,和在運送路徑的另一端設定第二底板,運送路徑延伸以通過圖案形成區域,第一和第二底板係可在相對於圖案形成區域之第一方向和相反於第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前移動。圖案係在第一方向運送第一底板通過圖案形成區域的第一週期,形成在第一底板上。圖案係在第一方向運送第二底板通過圖案形成區域的第二週期,形成在第二底板上。
在本發明之另一觀點中,圖案形成設備包含圖案形成單元,用以根據圖案資料順序地形成圖案在通過圖案形成區域之底板上。移動單元具有運送路徑延伸以通過用於底板的圖案形成區域,在相對於圖案形成區域之第一方向,和相反於第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前運送第一和第二底板,第一底板係設定在運送路徑中之一端,第二底板係設定在運送路徑的另一端。控制器控制圖案形成單元和移動單元,在第一方向之第一運送週期,通過圖案形成區域,形成圖案在第一底板上,及在第一方向之第二運送週期,通過圖案形成區域形成圖案在第二底板上。圖案資料設定器係在第一和第二週期之間的差設定圖案 資料。
圖案資料設定器係在第一和第二週期之間以不同的方式設定圖案資料,以在第一和第二週期在底板上形成相同的圖案。
當圖案形成單元執行將圖案形成在許多底板中的第一底板之上時,底板位置偵測器偵測許多底板中的第二底板之位置偏移值。
在第一週期之前,藉由通過圖案形成單元,第一可移動平台在第二方向移動第一底板,然後在第一週期,藉由通過用以圖案形成之圖案形成單元,在第一方向移回第一底板。在第二週期之前,藉由通過圖案形成單元,第二可移動平台在第一方向移動第二底板,然後在第二週期,藉由通過用以圖案形成之圖案形成單元,在第二方向移回第二底板。
此外,本發明也提供用於圖案形成之計算機可執行程式,而且包含在運送路徑向後和向前運送底板之程式碼,以移入或移出圖案形成區域。當底板通過圖案形成區域時,程式碼係用以根據圖案資料形成圖案在底板上。在第一週期,程式碼係用以在運送路徑之第一方向移動許多底板中的第一底板,用以形成圖案。在第二週期,程式碼係用以在運送路徑之第一方向移動許多底板中的第二底板,用以形成圖案。
因此,因為第一和第二週期係決定在一運送路徑交替運送許多底板,所設備的結構可以簡化而還具有高生產力 。
在第1圖中,用於圖案形成之數位曝光設備10包含第一和第二可移動平台或托盤12a和12b。用於圖案形成之底板或基板11係藉由吸力或類似方式設定在且保持定位在第一和第二可移動平台12a和12b上。底板11的範例係印刷電路板,用於平板顯示器之玻璃基板,和類似的平板。感光材料層藉由塗佈或黏著被設定在底板11的表面上。基底面板14係被包含在數位曝光設備10之中。四個支腳13支撐基底面板14的轉角。兩個引導軌道15或運送路徑係被配置而在基底面板14上之方向Y延伸。第一和第二可移動平台12a和12b係由在運送路徑或一維軌道上之引導軌道15支撐。第5圖之第一平台移動機構51a和第二平台移動機構51b,各自包含線性馬達,分別驅動第一和第二可移動平台12a和12b。
閘門16被配置在基底面板14的中央,而且延伸高於並且橫越引導軌道15。曝光之多光束圖案形成單元17係被支撐在閘門16上。16個光閥門或曝光頭18係被包含在圖案形成單元17之中,係不動的,而且成兩個閥門陣列設定,延伸橫越第一和第二可移動平台12a和12b的路徑。
光纖20和連接纜線22係與曝光的圖案形成單元17連接。雷射光源19係藉由光纖20連接到圖案形成單元17。影像處理器21係藉由連接纜線22連接到圖案形成單元17。框架資料係藉由影像處理器21輸出,以造成曝光頭18 根據雷射光源19調變光束。在藉由第一和第二可移動平台12a和12b的每一個運送之底板11上作曝光,以形成圖案。注意,曝光頭18的數量和配置可以根據底板11的尺寸或類似的情況而改變。
兩個閘門23a和23b係高於且橫越引導軌道15或運送路徑設定,且相對於在基底面板14的閘門16彼此相互對稱。三個影像感測器或照相機24a係被支撐在第一可移動平台12a側之閘門23a上。影像感測器24a係靜置在第一可移動平台12a的路徑上方。第一底板位置偵測器25a包含影像感測器24a,並且為了測量對準,測量在第一可移動平台12a上之底板11的位置。此外,三個影像感測器或照相機24b係被支撐在第二可移動平台12b側之閘門23b上。影像感測器24b係靜置在第二可移動平台12b的路徑上方。第二底板位置偵測器25b包含影像感測器24b,並且為了測量對準,測量在第二可移動平台12b上之底板11的位置。底板位置偵測器25a和25b自底板11讀取指標,圖案和類似的資訊,並且偵測方向X,Y,和θ相關於第一和第二可移動平台12a和12b的適當位置之偏移值。偵測到的值係用以校正框架資料。注意,影像感測器24a和24b的數量和配置可以根據底板11的尺寸而改變。
當在方向Y觀察時,雷射干涉型之長度測量器26a和26b係配置在基底面板14的終端。第一平台偵測器27a係由長度測量器26a構成,該等偵測器27a係安置在基底面板14的第一端之第一可移動平台12a側上之方向X。第二 平台偵測器27b係由長度測量器26b構成,該等偵測器27b係安置在基底面板14的第二端之第二可移動平台12b側上之方向X。第一可移動平台12a的平台端面28a和第二可移動平台12b的平台端面28b,接受來自第一和第二平台偵測器27a和27b所施加之雷射光,然後偵測它們在方向Y的位置。偵測值被用以校正第一和第二可移動平台12a和12b。
在第2圖中,圖示在光閥門或曝光頭18之中的構件。DMD(數位微鏡裝置)30係被包含在曝光頭18之中,當作特別的光調變器。反射器31係位在DMD 30的上游,並將發射自光纖20一端的光朝向DMD 30反射。在第3圖中,圖示SRAM胞元陣列32。微鏡33係藉由在SRAM胞元陣列32的個別胞元上之柱以樞軸可移動方式支撐。微鏡33係排列成二維600x800胞元矩形形式之矩陣。DMD 30的形狀係矩形。DMD驅動器39係被使用將數位訊號的框架資料寫入到SRAM胞元陣列32。連接纜線22係與DMD驅動器39連接,以自影像處理器21輸入框架資料。
SRAM胞元陣列32的胞元係正反器電路,其中充電狀態係根據0或1的寫入資料改變。微鏡33係藉由根據SRAM胞元的充電狀態之靜電力而控制,以改變其傾斜角度,以致微鏡33可以改變自反射器31行進之雷射光的反射方向。光學透鏡34接受藉由DMD 30根據框架資料調變和反射之反射光。只有來自具有寫入資料為0之SRAM胞元中微鏡33的反射光變成入射在光學透鏡34上之入射光。但是 ,來自具有寫入資料為1之SRAM胞元中微鏡33的反射光不會變成入射光,而是會被光吸收材料(未圖示)吸收,並不會造成曝光。
光學透鏡35係與光學透鏡34組合而成為放大透鏡組,其可以將來自DMD 30的反射光一部分區域放大成預定的尺寸。微透鏡陣列36係配置在光學透鏡35的出口側,並且接受具有放大面積之反射光的進入。許多微透鏡36a被包含在微透鏡陣列36中,而且一對一個別對應DMD 30的微鏡33。微透鏡36a的每一個都配置在穿透光學透鏡34和35之雷射光的光學軸上。光學透鏡37接受在微透鏡陣列36增強之後放大尺寸的影像光之進入。光學透鏡38係與光學透鏡37組合而成為相等放大透鏡組,其可以將影像投射到曝光的底板11。配置曝光頭18以在光學透鏡37和38之背面焦點定位底板11的曝光表面。
在第4圖中,在使用光閥門或曝光頭18之後,曝光在底板11上之圖案形成區域40係類似於DMD 30之矩形四邊形的形式。DMD 30被定向使其較短側相對於方向Y傾斜0.1-0.5度之很小的角度。因此,圖案形成區域40被傾斜。藉由使用DMD 30的微鏡33,以矩陣形式排列曝光點的方向係相對於掃瞄方向傾斜。在方向X觀察之掃瞄線與曝光點的節距很小。因此,可以在結構上保持很高的解析功率,而不用傾斜DMD 30。
兩個光閥門或曝光頭18的陣列在橫越運送路徑之方向X延伸。曝光頭18係被排列彼此相互沒有間隙的接觸。 第一陣列的曝光頭18係以正常區間的一半距離與第二陣列偏移。即使在使用第一陣列之後未被記錄的部分也可以藉由曝光頭18的第二陣列曝光。若在方向X觀察,帶形的曝光區域41可以沒有間隙的延伸形成。
在第5圖中,圖示數位曝光設備10的電路構件。系統控制器50被加入,以控制在數位曝光設備10中各種不同的電路。用於第一可移動平台12a之第一平台移動機構51a,和第二可移動平台12b之第二平台移動機構51b係藉由系統控制器50驅動,用以移動。此外,系統控制器50也控制雷射光源19和影像處理器21執行曝光。此外,第一和第二平台偵測器27a和27b也係藉由系統控制器50監視,輸出偵測值,系統控制器50根據這些偵測值,藉由回授平台移動機構51a和51b校正平台位置。底板位置偵測器25a和25b係藉由系統控制器50監視。在影像處理器21中之框架資料產生器52係藉由系統控制器50供應底板位置偵測值,使得可以校正框架資料。
圖案資料儲存器54被加入在影像處理器21中。圖案資料輸出裝置53可以外部連接數位曝光設備10,輸出光柵化形式之圖案資料,其係被寫入到圖案資料儲存器54。寫入器55連接圖案資料儲存器54,用以控制寫入。讀取器56連接圖案資料儲存器54,用以控制讀取。寫入器55將來自圖案資料輸出裝置53的圖案資料寫入到圖案資料儲存器54。讀取器56係藉由系統控制器50控制,並且自圖案資料儲存器54讀取圖案資料,然後將圖案資料送到框架 資料產生器52。
框架資料產生器52根據要輸入的影像資料產生框架資料,然後將框架資料送到DMD驅動器39。特別地,根據在圖案形成區域40中藉由DMD 30的微鏡33之排列和光閥門或曝光頭18的排列所決定之曝光點的座標,框架資料產生器52產生框架資料。此外,框架資料產生器52根據藉由底板位置偵測器25a和25b所偵測之底板11的位置偏移值校正框架資料,使在和沒有位置偏移之狀態相同的點形成曝光點。
在第6圖中,圖示用以形成圖案之數位曝光系統60,其中用於底板11之載入機構係被加入到數位曝光設備10。數位曝光系統60包含輸送裝置61,具有運送機器人或移位器之底板交換器62a和62b,及具有平台之第一和第二預對準調整器63a和63b。控制器(未圖示)控制那些構件。
輸送裝置61係被設定以沿著數位曝光設備10之基底面板14的較長側延伸。底板交換器62a和62b相對於基底面板14的較短側。輸送裝置61在第一可移動平台12a朝向第二可移動平台12b之方向正常間距運送許多底板11。為了描繪底板11的方向,用以形成圖案之範例係字母F。
底板交換器62a,如移位器,包含起重機64a,起重臂65a,和可移位支撐桿66a。起重機64a具有叉形狀和支撐位在其上之底板11。起重臂65a其中一端連接起重機64a,且移動起重機64a朝向和遠離第一可移動平台12a。可移位支撐桿66a支撐起重臂65a的第二端,並且在方向θ旋 轉移動,和在垂直圖片紙面的方向Z移動。底板交換器62b,如移位器,包含起重機64b,起重臂65b,和可移位支撐桿66b。那些以和起重機64a,起重臂65a,和可移位支撐桿66a相同的方式操作。
設置有許多升高針腳(未圖示),自第一和第二預對準調整器63a和63b及第一和第二可移動平台12a和12b突出,用以接觸和升高一個底板11的下表面。起重機64a和64b係藉由底板交換器62a和62b插入在升高針腳之間,以提高藉由起重機64a和64b傳送之底板11。特別地,未曝光的一個底板11藉由底板交換器62a從輸送裝置61拾取,然後在將底板11移動到第一可移動平台12a之前,移動到校正底板11的位置之第一預對準調整器63a。此外,在底板11曝光之後,底板交換器62a將底板11從第一可移動平台12a移位到輸送裝置61。底板交換器62b的操作和底板交換器62a類似。
第一和第二預對準調整器63a和63b每一個都包含影像感測器或照相機(未圖示)和平台移動機構(未圖示)。影像感測器自底板11讀取指標,圖案和類似的資訊。平台移動機構在X,Y,和θ方向移動平台。底板11的位置以預先方式校正,用以將底板11移位到第一和第二可移動平台12a和12b上之適當的位置。此外,轉盤67係位在第二預對準調整器63b上,用以在藉由底板交換器62b傳送之後在方向θ旋轉地移動底板11。因此,底板11的角度被調整。在第一可移動平台12a上之底板11和在第二可移動平 台12b上之底板11都朝偏向在相同方向。
數位曝光系統60的操作藉由參考第7A圖到第9圖順序和第10圖的時序圖說明。首先,底板交換器62a和62b將底板11設定在第一和第二可移動平台12a和12b上,如第7A圖所示。底板11係朝向在相同方向。第一可移動平台12a開始朝向右邊移動,以接近第二可移動平台12b,然後通過第一底板位置偵測器25a,在第10圖的週期t0和t1測量底板11之對準。
在通過第一底板位置偵測器25a之後,第一可移動平台12a移動通過多光束圖案形成單元17,然後在第10圖的週期t1和t2,到達接近第二可移動平台12b之位置,如第7B圖所示。圖案形成單元17不會對於曝光操作。
然後,第一可移動平台12a移動到左邊,並遠離第二可移動平台12b,通過圖案形成單元17。在第10圖的週期t2和t3,藉由圖案形成單元17對第一可移動平台12a上之底板11執行曝光。在第7C圖,第一可移動平台12a完成通過圖案形成單元17,以結束曝光。此時,第二可移動平台12b開始朝向左邊移動,以接近第一可移動平台12a。第二可移動平台12b通過第二底板位置偵測器25b,在第10圖的週期t3和t4測量底板11之對準。
在通過圖案形成單元17之後,第一可移動平台12a到起始位置,如第8A圖所示。第二可移動平台12b移動通過圖案形成單元17,在第10圖的週期t4和t5對第二可移動平台12b上之底板11執行曝光。在曝光期間,底板交換器 62a換新在第一可移動平台12a上之底板11。在曝光之後,第二可移動平台12b到達接近第一可移動平台12a之位置,如第8B圖所示。
此外,將一個新的底板11設定在第一可移動平台12a上,第一可移動平台與第二可移動平台12b一起移動到右邊。當第一可移動平台12a通過底板位置偵測器25a時,底板11的對準係在第10圖的週期t5和t6,藉由第一底板位置偵測器25a測量。在第8C圖中,第二可移動平台12b通過圖案形成單元17,並且移動到其起始位置。第一可移動平台12a跟隨第二可移動平台12b通過圖案形成單元17,然後到達接近在第9圖之第二可移動平台12b。此係在第10圖的週期t6和t7。圖案形成單元17不會對於可移動平台曝光。
然後,第一可移動平台12a遠離第二可移動平台12b,即圖式的左邊,並且移動通過圖案形成單元17。在第10圖的週期t7和t8,圖案形成單元17對設定在第一可移動平台12a上之底板11執行曝光。在曝光期間,底板交換器62b換新在第二可移動平台12b上之底板11。之後,重複第10圖的週期t3-t8之順序。
在本發明之數位曝光系統60中,當在第一可移動平台上之第一底板曝光時,可以換新第二可移動平台上之第二平台。因此,與只具有單一可移動平台之系統相較,數位曝光系統60所花的時間可以縮短。此外,為了曝光,數位曝光系統60的可移動平台,在和左邊相同的方法移動。所 以在每一個曝光週期都可以使用相同的資訊之影像資料。在兩次之間曝光的控制可以都相同。底板的曝光結果不會有差異發生,使可以穩定化產品的品質。
在實施例中,在第一和第二可移動平台之間使用共同的圖案資料。但是,用於第二可移動平台之圖案資料可以和用於第一可移動平台之圖案資料不同。
第11圖中,圖示一優選實施例,其中在可移動平台之間的圖案資料或影像資料並不相同。當作圖案資料設定器之影像處理器70具有圖案資料儲存器72,其儲存用在第一可移動平台之第一圖案資料71a和用在第二可移動平台之第二圖案資料71b。寫入器73藉由圖案資料輸出裝置53提供第一和第二圖案資料71a和71b,並且將那些寫入到圖案資料儲存器72。讀取器74藉由系統控制器50控制,以自圖案資料儲存器72讀取第一和第二圖案資料71a和71b中所選擇的一者。任何的第一和第二圖案資料71a和71b都係輸入到框架資料產生器75。框架資料產生器75根據第一圖案資料71a或第二圖案資料71b產生框架資料。產生的框架資料係輸入到DMD驅動器39。注意,圖案資料儲存器72可以為具有許多記憶體區域之一個儲存裝置,其分別儲存第一和第二圖案資料71a和71b。此外,圖案資料儲存器72也可以為兩個儲存裝置,分別儲存第一和第二圖案資料71a和71b。在實施例中,除了影像處理器70之外,重複上述實施例之結構。
在實施例中,轉盤67係位在每一個第一和第二預對準 調整器63a和63b上,用以調整底板台將底板朝向某一方向。但是,轉盤可以設定在輸送裝置或類似的裝置之上。
在第12圖中,圖示結合第11圖之另一優選實施例,其中圖案資料係為兩個相反的方向之形式。在當作圖案資料設定器之影像處理器70中,圖案資料儲存器72儲存用在第一可移動平台之第一圖案資料71a和用在第二可移動平台之第二圖案資料71b。移動第一和第二可移動平台12a和12b的方向係彼此相反相差180度。假如曝光根據在第一和第二可移動平台12a和12b之間的相同影像資料執行,沒有不相同的圖案將產生在這兩個底板11上。有鑑於此,第二圖案資料71b係與第一圖案資料71a不同。為了在第一和第二可移動平台12a和12b之間造成相同的曝光圖案,那些係藉由圖案資料輸出裝置53供應。
操作係參考第16圖說明。關於第13A圖和第13B圖的順序與第7A圖和第7B圖的相同。第一可移動平台12a移動到左邊,並且遠離第二可移動平台12b。在第13C圖中,第一可移動平台12a移動而通過多光束圖案形成單元17,在週期t2-t4,根據第一圖案資料71a對第一可移動平台12a上之底板11曝光。在曝光期間,第二可移動平台12b移動到左邊,以接近第一可移動平台12a,並且通過第二底板位置偵測器25b。在第16圖的週期t3和t4,第二底板位置偵測器25b測量底板11之對準。
在第14A圖中,在通過曝光的圖案形成單元17之後,第一可移動平台12a移動到起始位置。在第16圖的週期t4 和t5,第二可移動平台12b通過圖案形成單元17,並且接近第一可移動平台12a,如第14B圖所示。圖案形成單元17保持不曝光。
然後,第二可移動平台12b移動到右邊,並遠離第一可移動平台12a。在第14C圖中,第二可移動平台12b移動通過圖案形成單元17,在第16圖的週期t5-t7根據第二圖案資料71b對第二可移動平台12b上之底板11曝光。在第16圖的週期t5和t6,底板交換器62a換新在第一可移動平台12a上之底板11。第一可移動平台12a被供應一個新的底板11,移動到右邊,以接近第二可移動平台12b。在第16圖的週期t6和t7,第一可移動平台12a通過第一底板位置偵測器25a,測量底板11之對準。
第15A圖中,在通過曝光的圖案形成單元17之後,第二可移動平台12b移動到起始位置。此時,在第16圖的週期t7和t8,第一可移動平台12a通過圖案形成單元17,並且接近第二可移動平台12b,如第15B圖所示。圖案形成單元17保持不曝光。
然後,第一可移動平台12a移動到左邊,並遠離第二可移動平台12b。在第15C圖中,第一可移動平台12a通過圖案形成單元17,在第16圖的週期t8-t10,根據第一圖案資料71a對第一可移動平台12a上之底板11曝光。在第16圖的週期t8和t9,底板交換器62b換新在第二可移動平台12b上之底板11。第二可移動平台12b被供應一個新的底板11,移動到左邊,以接近第一可移動平台12a。在週期 t9和t10,第二可移動平台12b通過第二底板位置偵測器25b,測量底板11之對準。之後,重複在第16圖的週期t4-t10的順序。
在本發明之數位曝光系統60中,當在第一可移動平台上之第一底板被曝光時,在第二可移動平台上之第二底板可以被換新,並且測量底板11之對準。因此,與只具有單一可移動平台之系統相較,數位曝光系統60所花的時間可以減少。
在第12圖到第16圖之上述實施例中,在第二可移動平台12b上之底板11係以180度的角度對稱在第一可移動平台12a上之底板11旋轉。但是,也可將第二可移動平台12b上之底板11轉向在和第一可移動平台12a上之底板11相同的方向。
在上述之實施例中,第一和第二可移動平台12a和12b係彼此相互分開移動。但是,第一和第二可移動平台12a和12b也可能一起移動。
在上述之實施例中,第一和第二可移動平台12a和12b可從靜止的圖案形成單元17移動。但是,相對於曝光的多光束圖案形成單元17係可移動的,第一和第二可移動平台12a和12b可以為靜止的。此外,底板位置偵測器25a和25b可以和圖案形成單元17同時移動。若第一和第二可移動平台12a和12b與靜止的圖案形成單元17移動,可以量測對準,而可移動平台12a和12b係藉由移動底板位置偵測器25a和25b停止。
在上述之實施例中,使用底板位置偵測器25a和25b。但是,也可以使用單一底板位置偵測器,而且可以移動用以偵測在平台上之許多底板之每一個,以測量對準。
在上述之實施例中,用以曝光在第二可移動平台12b之第二圖案資料71b不同於用以曝光在第一可移動平台12a之第一圖案資料71a。但是,也可能只準備第一圖案資料71a,然後藉由使用資料反相電路,藉由反轉第一圖案資料71a產生第二圖案資料。
上述實施例之圖案形成設備係用以藉由根據圖案資料調變光束執行曝光之數位曝光系統10,如微影製程設備。
但是,本發明之圖案形成設備可以為任何形式之影像形成設備,例如噴墨列印機,影像列印機,電子影像的設備,及其他根據電子影像資料形成影像之電子設備。
雖然本發明已參考附圖對優選實施例完全詳細說明,但是那些熟悉本項技術之人士所做之各種不同的變化例和修正例明顯都在本領域中。因此除非這些變化例和修正例另外脫離本發明之範圍,否則其將被推斷係包含在本發明之範圍中。
10‧‧‧數位曝光設備
11‧‧‧底板
12a‧‧‧第一可移動平台
12b‧‧‧第二可移動平台
13‧‧‧支腳
14‧‧‧基底面板
15‧‧‧引導軌道
16‧‧‧閘門
17‧‧‧圖案形成單元
18‧‧‧曝光頭
19‧‧‧雷射光源
20‧‧‧光纖
21‧‧‧影像處理器
22‧‧‧連接纜線
23a,24b‧‧‧閘門
24a,24b‧‧‧影像感測器
25a‧‧‧第一底板位置偵測器
25b‧‧‧第二底板位置偵測器
26a,26b‧‧‧長度測量器
27a‧‧‧第一平台偵測器
27b‧‧‧第二平台偵測器
28a,28b‧‧‧平台端面
30‧‧‧數位微鏡裝置
31‧‧‧反射器
32‧‧‧SRAM胞元陣列
33‧‧‧微鏡
34‧‧‧光學透鏡
35‧‧‧光學透鏡
36‧‧‧微透鏡陣列
36a‧‧‧微透鏡
37‧‧‧光學透鏡
38‧‧‧光學透鏡
39‧‧‧DMD驅動器
40‧‧‧圖案形成區域
41‧‧‧曝光區域
50‧‧‧系統控制器
51a‧‧‧第一平台移動機構
51b‧‧‧第二平台移動機構
52‧‧‧框架資料產生器
53‧‧‧圖案資料輸出裝置
54‧‧‧圖案資料儲存器
55‧‧‧寫入器
56‧‧‧讀取器
60‧‧‧數位曝光系統
61‧‧‧輸送裝置
62a,62b‧‧‧底板交換器
63a‧‧‧第一預對準調整器
63b‧‧‧第二預對準調整器
64a,64b‧‧‧起重機
65a,65b‧‧‧起重臂
66a,66b‧‧‧可移位支撐桿
67‧‧‧轉盤
70‧‧‧影像處理器
71a‧‧‧第一圖案資料
71b‧‧‧第二圖案資料
72‧‧‧圖案資料儲存器
73‧‧‧寫入器
74‧‧‧讀取器
75‧‧‧框架資料產生器
根據下面參考相關附圖之詳細說明,本發明上述的目的和優點將會更明顯,其中:第1圖為當作圖案形成設備之數位曝光設備的立體圖;第2圖為當作曝光頭之圖案形成單元的正視說明圖; 第3圖為說明DMD的立體圖;第4圖為在底板上之圖案形成區域的立體圖;第5圖為示意說明數位曝光設備之方塊圖;第6圖為包含數位曝光設備之數位曝光系統的平面說明圖;第7A圖,第7B圖,和第7C圖為說明數位曝光設備的操作順序之第一部分的平面說明圖;第8A圖,第8B圖,和第8C圖為說明數位曝光設備的操作順序之第二部分的平面說明圖;第9圖為說明數位曝光設備的操作順序之第三部分的平面說明圖;第10圖為說明順序的時序圖;第11圖為示意說明另一優選的數位曝光設備之方塊圖;第12圖為說明再另一優選的數位曝光設備之平面說明圖;第13A圖,第13B圖,和第13C圖為說明數位曝光設備的操作順序之第一部分的平面說明圖;第14A圖,第14B圖,和第14C圖為說明數位曝光設備的操作順序之第二部分的平面說明圖;第15A圖,第15B圖,和第15C圖為說明數位曝光設備的操作順序之第三部分的平面說明圖;及第16圖為順序的時序圖。
10‧‧‧數位曝光設備
11‧‧‧底板
12a‧‧‧第一可移動平台
12b‧‧‧第二可移動平台
13‧‧‧支腳
14‧‧‧基底面板
15‧‧‧引導軌道
16‧‧‧閘門
17‧‧‧圖案形成單元
18‧‧‧曝光頭
19‧‧‧雷射光源
20‧‧‧光纖
21‧‧‧影像處理器
22‧‧‧連接纜線
23a,23b‧‧‧閘門
24a,24b‧‧‧影像感測器
25a‧‧‧第一底板位置偵測器
25b‧‧‧第二底板位置偵測器
26a,26b‧‧‧長度測量器
27a‧‧‧第一平台偵測器
27b‧‧‧第二平台偵測器
28a,28b‧‧‧平台端面

Claims (23)

  1. 一種圖案形成設備,包括:圖案形成單元,用於可以根據圖案資料順序地形成圖案在通過圖案形成區域之底板上;移動單元,具有延伸成通過該底板的圖案形成區域之運送路徑,用以在相對於該圖案形成區域之第一方向,和相反於該第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前運送第一和第二底板,該第一底板係設定在運送路徑中之一端,該第二底板係設定在運送路徑的另一端;控制器,用於控制該圖案形成單元和該移動單元,在該第一方向之第一運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第一底板上,及在該第一方向之第二運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第二底板上。
  2. 如申請專利範圍第1項之圖案形成設備,其中該移動單元包含:第一和第二可移動平台,用以分別支撐設定在其上之該第一和第二底板;引導機構,用於在該運送路徑上可移動地引導該第一和第二可移動平台;移動機構,用於在該運送路徑上使該第一和第二可移動平台彼此相互分離地移動。
  3. 如申請專利範圍第2項之圖案形成設備,其中還包括:底板位置偵測器,用於偵測底板相關於適當位置的位 置偏移值;及圖案資料校正器,用於根據來自該底板位置偵測器之該位置偏移值,校正該圖案資料。
  4. 如申請專利範圍第3項之圖案形成設備,其中該移動單元,在該第一週期期間或之後,在該第一方向移動該第二底板朝向該圖案形成單元,以該底板位置偵測器測量該第二底板;該移動單元,在該第二週期期間或之後,在該第二方向移動該第一底板朝向該圖案形成單元,以該底板位置偵測器測量該第一底板。
  5. 如申請專利範圍第2項之圖案形成設備,其中還包括第一和第二底板交換器,配置在該運送路徑的該終端,該第一底板交換器在該第二週期換新該第一底板,而該第二底板交換器在該第一週期換新該第二底板。
  6. 如申請專利範圍第5項之圖案形成設備,其中一組該第一和第二底板交換器包含:輸送裝置,沿著該運送路徑延伸而配置,用以在該運送路徑中之一端接近該第一可移動平台和在該運送路徑的另一端接近該第二可移動平台設定該底板;第一和第二移位器,用以自該輸送裝置保持該底板,及將該底板分別設定在該第一和第二可移動平台上。
  7. 如申請專利範圍第6項之圖案形成設備,其中還包括含第一和第二預對準調節器,用以藉由自該第一和第二移位器支撐該底板,調節該底板的位置。
  8. 如申請專利範圍第7項之圖案形成設備,其中該第二預對準調節器具有轉盤,用以藉由半旋轉旋轉地改變該底板的方向。
  9. 如申請專利範圍第2項之圖案形成設備,其中還包括角度調節器,用於相對於該運送路徑調節該底板的角度,以定位該底板的方向在預定方向。
  10. 如申請專利範圍第2項之圖案形成設備,其中還包括圖案資料設定器,用以在該第一和第二週期之間以不同的方式設定該圖案資料。
  11. 如申請專利範圍第2項之圖案形成設備,其中該底板係感光性的;該圖案形成單元包含:用以發光之光源;及光閥門,用以根據該圖案資料調變該光,及用以藉由施加該光到該底板而曝光該圖案。
  12. 如申請專利範圍第11項之圖案形成設備,其中該光閥門係由多數光閥門構成,該圖案形成單元係多光束型,及該光係雷射光。
  13. 如申請專利範圍第11項之圖案形成設備,其中該光閥門包含空間光調變器。
  14. 一種圖案形成方法,用以根據圖案資料將圖案形成在移動底板上,包括下列步驟:在運送路徑中之一端設定第一底板,和在運送路徑的另一端設定第二底板,其中該運送路徑延伸以通過圖案 形成區域,該第一和第二底板係可在相對於該圖案形成區域之第一方向和相反於該第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前移動;在該第一方向之第一運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第一底板上;在該第一方向之第二運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第二底板上。
  15. 一種圖案形成設備,包括:圖案形成單元,用以可根據圖案資料順序地形成圖案在通過圖案形成區域之底板上;移動單元,具有延伸以通過該底板的圖案形成區域之運送路徑,用以在相對於該圖案形成區域之第一方向,和相反於該第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前運送第一和第二底板,該第一底板係設定在運送路徑中之一端,該第二底板係設定在運送路徑的另一端;控制器,用以控制該圖案形成單元和該移動單元,在該第一方向之第一運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第一底板上,及在該第二方向之第二運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第二底板上;及圖案資料設定器,在該第一和第二週期之間以不同的方式設定該圖案資料。
  16. 如申請專利範圍第15項之圖案形成設備,其中該移動單元包含: 第一和第二可移動平台,用以分別支撐設定在其上之該第一和第二底板;引導機構,用於在該運送路徑上可移動地引導該第一和第二可移動平台;移動機構,用在該運送路徑上,使該第一和第二可移動平台彼此相互分離地移動。
  17. 如申請專利範圍第16項之圖案形成設備,其中該圖案資料設定器係在該第一和第二週期之間以不同的方式設定該圖案資料,以在該第一和第二週期形成相同的該圖案在該等底板上。
  18. 如申請專利範圍第16項之圖案形成設備,其中還包括:底板位置偵測器,用以偵測該底板相關於適當位置的位置偏移值;及圖案資料校正器,用以根據來自該底板位置偵測器之該位置偏移值校正該圖案資料。
  19. 如申請專利範圍第18項之圖案形成設備,其中該移動單元,在該第一週期期間或之後,在該第一方向移動該第二底板朝向該圖案形成單元,以該底板位置偵測器測量該第二底板;該移動單元,在該第二週期期間或之後,在該第二方向移動該第一底板朝向該圖案形成單元,以該底板位置偵測器測量該第一底板。
  20. 如申請專利範圍第16項之圖案形成設備,其中當該圖案形成單元執行該圖案形成在該多數底板中之該第一底板 上時,該底板位置偵測器偵測該多數底板中之該第二底板的位置偏移值。
  21. 如申請專利範圍第16項之圖案形成設備,其中還包括第一和第二底板交換器,配置在該運送路徑的該終端,該第一底板交換器在該第二週期換新該第一底板,而該第二底板交換器在該第一週期換新該第二底板。
  22. 如申請專利範圍第21項之圖案形成設備,其中一組該第一和第二底板交換器包含:輸送裝置,沿著該運送路徑延伸配置,用以在該運送路徑中之一端接近該第一可移動平台和在該運送路徑的另一端接近該第二可移動平台設定該底板;第一和第二移位器,用以自該輸送裝置保持該底板,及用以將該底板分別設定在該第一和第二可移動平台上。
  23. 一種根據圖案資料將圖案形成在移動底板上之圖案形成方法,包括下列步驟:在運送路徑中之一端設定第一底板,和在該運送路徑的另一端設定第二底板,其中該運送路徑延伸以通過圖案形成區域,該第一和第二底板可在相對於該圖案形成區域之第一方向和相反於該第一方向之第二方向,以交替方式向後和向前移動;在該第一方向之第一運送週期通過該圖案形成區域時,形成該圖案在該第一底板上;在該第二方向之第二運送週期通過該圖案形成區域時 ,形成該圖案在該第二底板上;其中該圖案資料係在該第一和第二週期之間設定為不同。
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