JP4345476B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、露光の高能率化を図ることができると共に、装置コストの低減を図ることができる露光装置を提供することを目的とする。
ボールねじ装置を使用する場合、左右のX軸移動テーブル3のそれぞれに対応してモータ、ボールねじ装置等、X軸移動テーブル3の移動に必要な構成を設けることにより、それぞれ独立に駆動可能とする。リニアモータを使用する場合は、ベース7側に配設されるリニアモータのステータは両X軸移動テーブル3で共用することができ、リニアモータの可動子はそれぞれのX軸移動テーブル3の下面に一組ずつ設けることにより、それぞれ独立に駆動可能とするのが好ましい。
そして、2台のX軸移動テーブル3の内の一方が露光配置Pに配置されたときに、該露光位置Pに配置されてない他方のX軸移動テーブル3の基板保持部1に対して基板ローダ10による基板Wの搬入又は搬出が行われる。
まず、図1及び図2において、左側のX軸移動テーブル3を駆動制御手段によってマスクM下方の1ショット目の露光位置PまでX軸方向に沿って移動させて該X軸移動テーブル3上の基板保持部1に保持された基板WをマスクMに対向配置し、次に、露光制御装置(図示せず)が、図示しないアライメント調整機構、上下粗動装置及び上下微動装置等によりマスクMと基板Wとの位置合わせ(アライメント)及びマスクMの下面と基板Wの上面とのギャップ調整を行い、次に、前記位置合わせができ、且つすき間量が目標値になった状態で照射装置6から1ショット目の露光用の光をマスクMに向けて照射して該マスクMのパターンを基板に露光転写する。
その後、露光制御装置が、上記1ショット目の場合と同様に、マスクMと基板Wとの位置合わせ(アライメント)及びギャップ調整を行い、次に、前記すき間量が目標値になった状態で照射装置6から2ショット目の露光用の光をマスクMに向けて照射して該マスクMのパターンを基板Wに露光転写する。
露光後、露光制御装置は基板ステージを下降させるように上下粗動装置を制御してマスクMの下面と基板Wの上面とのすき間量を一定量拡大し、この状態で、駆動制御手段によって左側のX軸移動テーブル3をX軸方向の左側に移動させて元の位置(搬入、搬出位置)に復帰させると共に、右側のX軸移動テーブル3をマスクM下方の1ショット目の露光位置PまでX軸方向に沿って移動させて該X軸移動テーブル3上の基板保持部1に保持された基板WをマスクMに対向配置し、上記同様の工程で右側の基板保持部1に保持された基板Wのステップ露光を行う。
このようにこの実施の形態では、各X軸移動テーブル3に搭載された二箇所の基板保持部1の内の一方がマスクM下方の露光配置Pに配置されて露光工程が実行されている間に、該露光位置Pに配置されてない基板保持部1に対して基板ローダ10によって基板Wを搬入、搬出するようにしているので、従来の一台の露光装置で複数枚の基板Wに露光を行う場合に比べて、基板Wの搬入、搬出に要する時間を大幅に削減することができ、露光の高能率化を図ることができると共に、従来の露光装置を複数台設置する場合に比べて、高価な露光光学系やマスクステージ等が一台分で足りるため、装置コストの低減を図ることができる。
本発明の第2の実施の形態である近接露光装置は、図3に示すように、二台のX軸移動テーブル3の間でベース7を分割したものであり、この実施の形態では、案内レール8を各X軸移動テーブル3毎に専用に平行配置し、左側のX軸移動テーブル3専用の案内レール8をベース7上にX軸方向に沿って2本平行に設置すると共に、右側のX軸移動テーブル3専用の案内レール8を左側のX軸移動テーブル3専用の2本の案内レール8の外側に位置させてベース7上にX軸方向に沿って2本平行に設置し、各X軸移動テーブル3の専用の案内レール8の間でベース7を分割している。
本発明の第3の実施の形態である近接露光装置は、図6に示すように、各X軸移動テーブル3の上にY軸移動テーブル20を配置し、該Y軸移動テーブル20上に被露光材としての基板Wを保持する基板保持部1を上面に有する基板ステージ2を搭載するようにしたものである。
また、Y軸移動テーブル20と基板ステージ2との間には、基板ステージ2の単純な上下動作を行うことにより該基板ステージ2を予め設定した位置までマスクMと基板Wとのすき間の計測を行うことなく昇降させる上下粗動装置(図示せず)と、基板ステージ2を上下に微動させてマスクMと基板Wとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置(図示せず)が設置されている。
例えば、上記各実施の形態では、X軸移動テーブル3を複数台配置して各X軸移動テーブル3に基板保持部1を有する基板ステージ2を搭載した場合を例に採ったが、X軸方向のステップ送りを伴わない露光を行う場合や、X軸移動テーブル3上に、別途、それぞれの基板ステージ2のX軸方向ステップ送りのための駆動制御手段を個々に設けるようにした場合は、必ずしもこのようにする必要はなく、X軸方向に長い一台のX軸移動テーブル上に基板保持部1を有する2台の基板ステージ2を互いにX軸方向に離間配置して搭載するようにしてもよい。
更に、上記各実施の形態では、基板ステージ2をマスクMに対してステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光をマスクMに向けて照射する場合を例に採ったが、これに限定されず、ステップ動作を伴わない一括露光方式の場合にも本発明を適用してもよいのは勿論である。
更に、X軸移動テーブル3等の案内を転がり式の案内装置により行うようにしているが、静圧案内等の他の方式でもよい。
M マスク
1 基板保持部
3 X軸移動テーブル
4 マスク保持部
5 マスクステージ
6 照射装置(照射手段)
7 ベース
8 案内レール(案内軸)
10 基板ローダ(基板搬送部)
Claims (1)
- 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持部を介して保持するマスクステージと、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた露光装置において、
前記基板保持部を複数箇所配置すると共に、複数の前記基板保持部を個別に露光位置に配置すべく前記マスクに対して相対移動させる移動手段と、
複数の前記基板保持部の内のいずれかが前記露光配置に配置されたときに、該露光位置に配置されてない前記基板保持部に対して前記基板を搬入、搬出する基板搬送部とを備え、
前記移動手段は、複数の前記基板保持部を搭載する移動テーブルと、該移動テーブルを移動可能に支持する案内軸と、前記移動テーブルを前記案内軸に沿って移動させる駆動制御手段とを有し、
前記駆動制御手段は、前記露光位置にある前記基板保持部を前記マスクに対してステップ移動させるように前記移動テーブルの移動を制御するように構成され、
前記案内軸をベース上に形成し、当該ベースを前記移動テーブル毎に分解して輸送可能とするように分割し、分割部分に上下に重なり、互いに隙間を介して対向する段部を形成し、該段部の上下対向面間に両側のベースの上面の高さが一致するようにスペーサを介挿した
ことを特徴とする露光装置。
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