JP5470321B2 - 露光装置の露光方法 - Google Patents
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Description
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、露光の高能率化を図ることができると共に、装置コストの低減を図ることができる露光装置の露光方法を提供することを目的とする。
ことを特徴とする。
図1は本発明の第1の実施の形態である近接露光装置を説明するための平面図、図2は図1のY軸方向から見た図、図3は本発明の第2の実施の形態である近接露光装置を説明するための平面図、図4はリニアモータ部の詳細断面図、図5は分割位置での連結構造を示す一部を破断した図、図6は本発明の第3の実施の形態である近接露光装置を説明するための平面図である。
なお、X軸移動テーブル3を案内レール8に沿って移動させる駆動制御手段としては、例えば、ボールねじ装置、該ボールねじ装置のねじ軸を回転駆動するモータ及び該モータを制御する制御装置の組合せや、リニアモータと該リニアモータを制御する制御装置の組合せ等を用いることができる。
そして、2台のX軸移動テーブル3の内の一方が露光配置Pに配置されたときに、該露光位置Pに配置されてない他方のX軸移動テーブル3の基板保持部1に対して基板ローダ10による基板Wの搬入又は搬出が行われる。
まず、図1及び図2において、左側のX軸移動テーブル3を駆動制御手段によってマスクM下方の1ショット目の露光位置PまでX軸方向に沿って移動させて該X軸移動テーブル3上の基板保持部1に保持された基板WをマスクMに対向配置し、次に、露光制御装置(図示せず)が、図示しないアライメント調整機構、上下粗動装置及び上下微動装置等によりマスクMと基板Wとの位置合わせ(アライメント)及びマスクMの下面と基板Wの上面とのギャップ調整を行い、次に、前記位置合わせができ、且つすき間量が目標値になった状態で照射装置6から1ショット目の露光用の光をマスクMに向けて照射して該マスクMのパターンを基板に露光転写する。
その後、露光制御装置が、上記1ショット目の場合と同様に、マスクMと基板Wとの位置合わせ(アライメント)及びギャップ調整を行い、次に、前記すき間量が目標値になった状態で照射装置6から2ショット目の露光用の光をマスクMに向けて照射して該マスクMのパターンを基板Wに露光転写する。
このように、左側の基板保持部1に保持された基板Wの露光が行われている間に、右側のプリアライメント装置11によってプリアライメントされた次に露光を行う基板Wが、右側の基板ローダ10により右側の基板保持部1に搬入、保持される。
このようにこの実施の形態では、各X軸移動テーブル3に搭載された二箇所の基板保持部1の内の一方がマスクM下方の露光配置Pに配置されて露光工程が実行されている間に、該露光位置Pに配置されてない基板保持部1に対して基板ローダ10によって基板Wを搬入、搬出するようにしているので、従来の一台の露光装置で複数枚の基板Wに露光を行う場合に比べて、基板Wの搬入、搬出に要する時間を大幅に削減することができ、露光の高能率化を図ることができると共に、従来の露光装置を複数台設置する場合に比べて、高価な露光光学系やマスクステージ等が一台分で足りるため、装置コストの低減を図ることができる。
本発明の第2の実施の形態である近接露光装置は、図3に示すように、二台のX軸移動テーブル3の間でベース7を分割したものであり、この実施の形態では、案内レール8を各X軸移動テーブル3毎に専用に平行配置し、左側のX軸移動テーブル3専用の案内レール8をベース7上にX軸方向に沿って2本平行に設置すると共に、右側のX軸移動テーブル3専用の案内レール8を左側のX軸移動テーブル3専用の2本の案内レール8の外側に位置させてベース7上にX軸方向に沿って2本平行に設置し、各X軸移動テーブル3の専用の案内レール8の間でベース7を分割している。
本発明の第3の実施の形態である近接露光装置は、図6に示すように、各X軸移動テーブル3の上にY軸移動テーブル20を配置し、該Y軸移動テーブル20上に被露光材としての基板Wを保持する基板保持部1を上面に有する基板ステージ2を搭載するようにしたものである。
例えば、上記各実施の形態では、X軸移動テーブル3を複数台配置して各X軸移動テーブル3に基板保持部1を有する基板ステージ2を搭載した場合を例に採ったが、X軸方向のステップ送りを伴わない露光を行う場合や、X軸移動テーブル3上に、別途、それぞれの基板ステージ2のX軸方向ステップ送りのための駆動制御手段を個々に設けるようにした場合は、必ずしもこのようにする必要はなく、X軸方向に長い一台のX軸移動テーブル上に基板保持部1を有する2台の基板ステージ2を互いにX軸方向に離間配置して搭載するようにしてもよい。
更に、上記各実施の形態では、基板ステージ2をマスクMに対してステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光をマスクMに向けて照射する場合を例に採ったが、これに限定されず、ステップ動作を伴わない一括露光方式の場合にも本発明を適用してもよいのは勿論である。
更に、X軸移動テーブル3等の案内を転がり式の案内装置により行うようにしているが、静圧案内等の他の方式でもよい。
M…マスク
1…基板保持部
3…X軸移動テーブル
4…マスク保持部
5…マスクステージ
6…照射装置(照射手段)
7…ベース
8…案内レール(案内軸)
10…基板ローダ(基板搬送部)
Claims (2)
- 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持部を介して保持するマスクステージと、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段とを備えた露光装置の露光方法において、
前記マスクステージ下の露光位置と、当該マスクステージを挟んで互いに対向し、前記露光位置を通る軸線上の前記基板保持部に対して基板を搬入、搬出する2つの位置との間に移動手段を配置するとともに、該移動手段によって前記軸線上で移動させる前記基板保持部を搭載した2つの移動テーブルを配置し、
一方の基板を搬入、搬出する位置に配置された一方の移動テーブルを前記移動手段で前記露光位置に移動させて、前記基板保持部に保持している基板に露光転写している間に、他方の基板を搬入、搬出する位置に配置された他方の移動テーブルの基板保持部に対して前記基板の搬出及び搬入を行い、
前記一方の移動テーブルの前記基板保持部に保持している基板への露光転写が完了したときに、当該一方の移動テーブルを前記移動手段で一方の基板を搬入、搬出する位置に移動させるとともに、他方の基板を搬入、搬出する位置の他方の移動テーブルを前記移動手段によって前記露光位置に移動させるようにした
ことを特徴とする露光装置の露光方法。 - 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持部を介して保持するマスクステージと、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段とを備えた露光装置の露光方法において、
前記マスクステージ下の露光位置と、当該マスクステージを挟んで互いに対向し、前記露光位置を通る軸線上の前記基板保持部に対して基板を搬入、搬出する2つの位置との間に移動手段を配置するとともに、該移動手段によって前記軸線上で移動させる前記基板保持部を搭載した2つの移動テーブルを配置し、
一方の基板を搬入、搬出する位置に配置された一方の移動テーブルを前記移動手段で前記露光位置に移動させて、前記基板保持部に保持している基板に露光転写している間に、他方の基板を搬入、搬出する位置に配置された他方の移動テーブルの基板保持部に対して前記基板の搬出及びプリアライメント装置でプリアライメントした基板の搬入を行い、
前記一方の移動テーブルの前記基板保持部に保持している基板への露光転写が完了したときに、当該一方の移動テーブルを前記移動手段で一方の基板を搬入、搬出する位置に移動させるとともに、他方の基板を搬入、搬出する位置の他方の移動テーブルを前記移動手段によって前記露光位置に移動させるようにした
ことを特徴とする露光装置の露光方法。
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