CN102819195B - 曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被曝光件的多个基板（W1、W2）的工件卡盘（22）的基板载置台（23）；和借助掩模（M）的多个图案（P1、P2）向多个基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光学系统。且在保持于工件卡盘（22）的多个基板（W1、W2）与保持于掩模载置台（21）的掩模（M）的各图案（P1、P2）对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模（M）的各图案（P1、P2）单次曝光到多个基板（W1、W2）上。

Description

曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法

技术领域

本发明涉及一种曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该曝光单元的曝光方法。 

背景技术

将掩模的曝光图案曝光转印至基板上的接近式曝光是通过以工件卡盘保持表面上涂布有感光剂的透光性基板（被曝光件），以例如数十μm～数百μm的间距接近至保持于掩模载置台的掩模保持框上的掩模，向掩模照射图案曝光用光，并将描绘于掩模上的曝光图案转印到基板上的光刻技术来实施。 

另外，作为用于将掩模的曝光图案曝光转印到液晶面板或半导体等基板上的曝光装置，提出了各种能够实现处理能力的提高的方案（例如参照专利文献1、2）。 

专利文献1所记载的曝光装置采用接近式曝光方式，具有：分别使曝光位置和加载/卸载位置移动的两台工件台；能够将工件向各加载/卸载位置搬入和搬出的两台机械手（robot）；在一个工件台上的工件进行曝光的期间，能够在另一个工件台进行工件的搬入和搬出。另外，在该曝光装置中，使用一张掩模，对基板的一面进行单次曝光，或将一面分为多个照射区域进行曝光。 

另外，专利文献2所述的曝光装置配置有两个对准光学系统和投影光学系统，以对晶片等2张被曝光基板进行并行曝光和对准信息检测。 

进而，在专利文献3所述的曝光装置中，公开了利用与单台式装载台装置相同程度的占地面积（footprint），能够使两个装载台移动的装载台装置，在一个装载台处于曝光动作期间，另一个装载台进行晶片的更换和对准中的至少一个动作。 

专利文献1：日本特开2008-158545号公报 

专利文献2：日本特开2000-40662号公报时 

专利文献3：日本特开2003-17404号公报 

发明内容

发明要解决的课题 

另一方面，一张基板经曝光后再切割以制造多个面板，但在对玻璃进行热处理之际，无法对玻璃内部实施热处理，因此，经热处理之后再切割的玻璃部分有可能强度不足。特别是以触摸面板方式使用的液晶显示器每次受到人手触摸时，应力会反复作用在其上，有可能发生破损。因此，相对于曝光处理后对基板的切割，更希望预先对与液晶显示器中采用的尺寸相匹配的基板进行热处理后再曝光，并要求这些基板能够高效曝光。 

特别是在基板上对第一层图案进行一次性曝光的情况下，在基板与掩模之间不进行对准的条件下执行曝光，通常，针对一张或多张掩模，进行一张基板的曝光，期望处理能力的提高。 

在专利文献1、2所述的曝光装置中，通过以与曝光动作相同的时机进行基板的搬入/搬出动作或对准动作，实现了处理能力的提高，但并未解决上述课题。 

另外，在专利文献1、3所述的曝光装置中，通过与曝光动作同时的并行处理，可实现处理能力的提高，但要求多个基板的曝光动作本 身更有效地进行。 

本发明是鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供一种能够实现处理能力的提高，并能够更有效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、以及曝光单元和使用该单元的曝光方法。 

本发明的上述目的通过下述结构来达到。 

（1）一种曝光装置，具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；以及借助上述掩模的图案向上述基板照射曝光用光的照明光学系统； 

其特征在于，在保持于上述工件卡盘的上述多个基板和保持于上述掩模载置台的上述掩模图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射上述曝光用光，由此将上述掩模的图案曝光到上述多个基板上。 

（2）根据（1）所述的曝光装置，其特征在于，上述掩模具有多个图案，上述照明光学系统借助上述掩模的多个图案向上述多个基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盘的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模的各图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射上述曝光用光，由此将作为第一层的上述掩模的各图案单次曝光到上述多个基板上。 

（3）根据（1）所述的曝光装置，其特征在于，上述基板是预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。 

（4）根据（2）或（3）所述的曝光装置，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一搬送装置和第二搬送装置配置在互不相同的方向上。 

（5）根据（2）或（3）所述的曝光装置，其特征在于，能够向所 述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置夹着上述基板载置台并相互接近地串联配置。 

（6）根据（2）或（3）所述的曝光装置，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置与上述基板载置台平行并相互接近地并联配置。 

（7）一种曝光单元，其特征在于，上述曝光单元具有如（1）所述的曝光装置、第一搬送单元和第二搬送单元， 

上述曝光装置具有上述基板载置台，上述基板载置台包括分别具备上述工件卡盘的第一基板载置台和第二基板载置台， 

上述曝光装置还具有第一载置台移动机构和第二载置台移动机构， 

上述第一载置台移动机构使上述第一基板载置台在曝光位置与由上述第一基板载置台将上述多个基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之间移动，上述曝光位置为，使上述第一基板载置台或第二基板载置台的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模对置的位置， 

上述第二载置台移动机构使上述第二基板载置台在上述曝光位置与由上述第二基板载置台将上述多个基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之间移动， 

上述第一、第二搬送单元分别具有用于保持上述基板，并能够相对于上述各工件卡盘搬入和搬出上述基板的多个搬送装置， 

在保持于上述第一或第二基板载置台的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模对置的状态下，借助上述多个掩模，使上述照明光学系统向上述多个基板照射曝光用光，由此将上述多个基板同时曝光。 

（8）根据（7）所述的曝光单元，其特征在于，当保持于上述第一基板载置台的上述多个基板在上述曝光位置进行曝光时，上述第二基板载置台在上述第二搬入/搬出位置待机，当保持于上述第二基板载 置台的上述多个基板在上述曝光位置进行曝光时，上述第一基板载置台在上述第一搬入/搬出位置待机。 

（9）根据（7）所述的曝光单元，其特征在于，上述曝光装置采用单次曝光方式。 

（10）根据（7）所述的曝光单元，其特征在于，上述掩模载置台保持着多个上述掩模，上述照明光学系统具有借助上述各掩模向上述各基板照射曝光用光的多个照明光学系统，上述曝光装置利用多个照明光学系统对上述多个基板分别进行曝光。 

（11）一种曝光方法，其是用于曝光装置的曝光方法，其特征在于，上述曝光装置具有：用于保持具有图案掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；和借助上述掩模的图案向上述基板照射曝光用光的照明光学系统， 

在保持于上述工件卡盘的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模的图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射曝光用光，由此将上述多个掩模的图案曝光到上述多个基板上。 

（12）根据（11）所述的曝光方法，其特征在于，上述掩模具有多个图案，上述照明光学系统借助上述掩模的多个图案向上述多个基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盘的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模的各图案对向配置的状态下，从上述照明光学系统照射上述曝光用光，由此将作为第一层的上述掩模的各图案单次曝光到上述多个基板上。 

（13）根据（12）所述的曝光方法，其特征在于，上述基板是预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。 

（14）根据（12）或（13）所述的曝光方法，其特征在于，能够 向所述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置配置在互不相同的方向上。 

（15）根据（12）或（13）所述的曝光方法，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置夹着上述基板载置台而相互接近地串联配置。 

（16）根据（12）或（13）所述的曝光方法，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一、第二搬送装置与上述基板载置台平行而相互接近地并联配置。 

（17）一种曝光方法，其使用曝光单元进行曝光，其特征在于，上述曝光单元具有如（1）所述的曝光装置、第一搬送单元和第二搬送单元， 

上述曝光装置具有上述基板载置台，上述基板载置台包括分别具备上述工件卡盘的第一基板载置台和第二基板载置台， 

上述曝光装置还具有第一载置台移动机构和第二载置台移动机构， 

上述第一载置台移动机构使上述第一基板载置台在曝光位置与由上述第一基板载置台将上述多个基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之间移动，上述曝光位置为，使上述第一基板载置台或第二基板载置台的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模对置的位置， 

上述第二载置台移动机构使上述第二基板载置台在上述曝光位置与由上述第二基板载置台将上述多个基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之间移动， 

上述第一、第二搬送单元分别具有用于保持上述基板，并能够相对于上述各工件卡盘搬入和搬出上述基板的多个搬送装置， 

在保持于上述第一或第二基板载置台的上述多个基板与保持于上述掩模载置台的上述掩模对置的状态下，借助上述多个掩模，使上述照明光学系统向上述多个基板照射曝光用光，由此将上述多个基板同时曝光。 

（18）根据（17）所述的曝光方法，其特征在于，当保持于上述第一基板载置台的上述多个基板在上述曝光位置进行曝光时，上述第二基板载置台在上述第二搬入/搬出位置待机，当保持于上述第二基板载置台的上述多个基板在上述曝光位置进行曝光时，上述第一基板载置台在上述第一搬入/搬出位置待机。 

（19）根据（17）所述的曝光方法，其特征在于，上述曝光装置采用单次曝光方式。 

（20）根据（17）所述的曝光方法，其特征在于，上述掩模载置台保持着多个上述掩模，上述照明光学系统具有借助上述各掩模向上述各基板照射曝光用光的多个照明光学系统，上述曝光装置利用多个照明光学系统将上述多个基板分别进行曝光。 

发明效果 

根据本发明的曝光装置以及曝光方法，曝光装置具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；以及借助掩模的图案向基板照射曝光用光的照明光学系统；在保持于工件卡盘的多个基板与保持于掩模载置台的掩模的图案对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，由此将掩模的图案曝光到多个基板上，由此能够实现处理能力的提高，并能够更高效地进行多个基板的曝光。 

特别是在掩模具有多个图案，照明光学系统借助掩模的多个图案向多个基板照射曝光用光，在保持于工件卡盘的多个基板与保持于掩模载置台的掩模的各图案对向配置的状态下，通过从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模的各图案单次曝光到多个基板上。由此，无需进行掩模与基板间的对准，就能够将第一层图案同时单次曝光到多个基板上，从而能够提高处理能力。 

另外，根据本发明的曝光单元以及使用该曝光单元的曝光方法，曝光装置具有能够将第一、第二基板载置台分别移动到曝光位置的第一、第二基板载置台移动机构，在保持于第一或第二基板载置台的多个基板与保持于掩模载置台的掩模对置的状态下，照明光学系统借助掩模向多个基板照射曝光用光，由此能够使多个基板同时曝光。因此，能够高效进行多个基板的曝光用光，能够实现生产节拍间隔时间的缩短。 

另外，第一、第二搬送单元分别具有能够相对于各工件卡盘搬入和搬出基板的多个搬送装置，因此，能够由第一、第二搬送装置同步执行将基板向工件卡盘搬入的动作和将基板从工件卡盘搬出的动作，能够进一步缩短生产节拍间隔时间。 

附图说明

图1是用于说明本发明第一实施方式的曝光单元的简要结构图。 

图2是图1中的曝光装置的侧视图。 

图3是用于说明本发明第一实施方式的第一变形例的曝光单元的简要结构图。 

图4（a）是用于说明第一实施方式的第二变形例的曝光单元的简要结构图，（b）是（a）中的传送带的侧视图。 

图5（a）是用于说明本发明第一实施方式的第三变形例的曝光单元的简要结构图，（b）是（a）中的传送带的侧视图。 

图6是用于说明本发明第二实施方式的曝光单元的简要结构图。 

图7是用于说明本发明第三实施方式的曝光单元的简要结构图。 

图8是图6中的曝光装置的侧视图。 

图9是用于说明本发明第三实施方式的变形例的曝光单元的曝光装置的侧视图。 

图10是用于说明第三实施方式的其它变形例的曝光单元的简要结构图。 

图11是用于说明本发明第四实施方式的曝光单元的简要结构图。 

图12的（a）和（b）是用于说明本发明的变形例的单次曝光的基板和掩模的简要示意图。 

符号说明 

10、10A：曝光单元，11、11A：接近式曝光装置（曝光装置），12、12A：第一搬送装置，13、13A：第二搬送装置，14：第一预对准装置，15：第二预对准装置，16：第一搬入用传送带，17：第二搬入用传送带，18：第一搬出用传送带，19：第二搬出用传送带，20：控制部，21、21A、21B：掩模载置台，22：工件卡盘，23：基板载置台，28：照明光学系统，M、M1、M2：掩模，P1～P2：图案，W1、W2：基板。 

具体实施方式

以下，根据附图详细说明本发明的第一实施方式的曝光单元。 

图1及图2所示的第一实施方式的曝光单元10具有：接近式曝光装置11；第一、第二搬送装置32、33；第一、第二预对准装置14、15；第一、第二搬入用传送带16、17；第一、第二搬出用传送带18、19；以及用于控制这些装置的控制部20。 

接近式曝光装置11具有：用于对具有第一、第二图案P1、P2的掩模M进行保持的掩模载置台21；具有用于对作为被曝光件的多个基板W1、W2进行吸附保持的工件卡盘22的基板载置台23；借助掩模M向多个基板W1、W2照射曝光用光的照明光学系统28。另外，在掩模载置台21上，分别设有多个对准照相机29A和间隙(gap)用致动器29B。具体而言，基板W1、W2是预先匹配液晶显示器中所采用的尺寸的基板。 

本实施方式的接近式曝光装置11采用单次曝光方式，也即，采用 将掩模M的第一、第二图案P1、P2与基板W1、W2分别以1:1比例晒相的方式，各基板W1、W2的曝光时间非常短。 

第一搬送装置32配置为保持着基板W1，并且，在将基板W1相对于基板载置台23的工件卡盘22搬入和搬出的状态下，能够向第一预对准装置14、第一搬入用传送带16以及第一搬出用传送带18进行存取。另外，第二搬送装置33也配置为保持着基板W2，并且，在将基板W2相对于基板载置台23的工件卡盘22搬入和搬出的状态下，能够向第二预对准装置15、第二搬入用传送带17以及第二搬出用传送带19进行存取。 

在本实施方式中，第一、第二搬送装置32、33被配置为，能够分别从各不相同的方向，向接近式曝光装置11的工件卡盘22存取。需要说明的是，在本实施方式中，作为第一、第二搬送装置32、33，适合采用具有用于保持基板W2的机械臂32a、33a，能够沿水平方向和上下方向驱动的智能（scalar）型机器人，也可以是直动式机械手或传送皮带。另外，各搬送装置32、33也可构成为分别具有多个机械臂32a、33a。 

第一、第二预对准装置14、15用于在将基板W1、W2搬入到接近式曝光装置11的工件卡盘22之前，对基板W1、W2进行预对准。另外，第一、第二搬入用传送带16、17搬送来自在先工序的基板W1、W2，第一、第二搬出用传送带18、19将基板W1、W2搬送到在后工序。需要说明的是，各预对准装置14、15、各搬入用传送带16、17、各搬出用传送带18、19分别可适用公知的装置。另外，也可以省略这些预对准装置14、15，或者，还可以使用第一、第二搬送装置32、33进行预对准。 

控制部20用于控制接近式曝光装置11、搬送装置32、33、预对准装置14、15、搬入用传送带16、17以及搬出用传送带18、19。另 外，控制部20对第一、第二搬送装置32、33进行控制，以使得由第一、第二搬送装置32、33执行的基板W1、W2相对于接近式曝光装置11的搬入和搬出动作同步进行。 

以下，对使用了上述曝光单元10的曝光方法进行说明。 

首先，当利用第一、第二搬入用传送带16、17将基板W1、W2搬送到第一、第二预对准装置14、15的附近时，第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a分别把持着基板W1、W2，同步驱动机械臂32a、33a，将上述基板搬运到第一、第二预对准装置14、15。其后，第一、第二搬送装置32、33将基板W1、W2载置到第一、第二预对准装置14、15。 

在第一、第二预对准装置14、15对基板W1、W2进行预对准后，第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a把持基板W1、W2，同步驱动上述机械臂32a、33a，将基板W1、W2载置到工件卡盘22上。 

这样，就在使得保持于工件卡盘22的基板W1、W2与保持于掩模载置台21的掩模M的各图案P1、P2对向配置的状态下，从照明光学系统28照射曝光用光，由此将作为第一层的掩模M的各图案P1、P2同时单次曝光到多个基板W1、W2上。 

并且，已曝光的基板W1、W2由第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a把持，同步驱动这些机械臂32a、33a，向第一、第二搬出用传送带18、19搬运。 

这样，根据本实施方式的接近式曝光装置11以及接近式曝光方法，其具有：保持具有多个图案P1、P2的掩模M的掩模载置台21；具有用于对作为被曝光件的多个基板W1、W2进行保持的工件卡盘22 的基板载置台23；以及借助掩模M的多个图案P1、P2对多个基板W1、W2照射曝光用光的照明光学系统28，在保持于工件卡盘22的多个基板W1、W2与保持于掩模载置台21的掩模M的各图案P1、P2对向配置的状态下，从照明光学系统28照射曝光用光，由此将作为第一层的掩模M的各图案P1、P2单次曝光到多个基板W1、W2上。由此，能够在无需掩模M与基板W1、W2的对准的情况下，将第一层图案P1、P2同时单次曝光到多个基板W1、W2上，从而能够提高处理能力。 

另外，由于基板W1、W2是预先与液晶显示器中所采用的尺寸向匹配的基板，因此，能够在热处理后进行曝光，并能够确保基板W1、W2表面整体的强度。 

另外，利用第一、第二搬送装置32、33，能够同步进行将基板W1、W2向工件卡盘22搬入的动作以及将基板W1、W2从工件卡盘22搬出的动作，能够缩短生产节拍间隔时间。 

需要说明的是，尽管在本实施方式中使用具有多个图案P1、P2的掩模M进行曝光，但也可使用分别具有至少一个图案的多个掩模M对多个基板进行曝光。另外，尽管本实施方式在对无需掩模M与基板的对准的第一层图案进行曝光方面为最优选实施方式，但在能够充分达到掩模M与基板W的对准的情况下，也能够适用于曝光第二层图案。 

图3表示第一实施方式的曝光单元10的第一变形例。在该变形例中，第一、第二搬送装置32、33夹着基板载置台23而相互接近地串联配置。另外，第一、第二搬送装置32、33配置为，能够向接近式曝光装置11的工件卡盘22进行存取。此外，在本变形例中，作为第一、第二搬送装置32、33适合采用具有用于保持基板W1、W2的机械臂32a、33a，能够沿水平方向及驱动的智能型机器人，也可以是直动式机械手或传送皮带。另外，各搬送装置32、33也能够构成为分别具有多个机械臂32a、33a。 

图4示出第一实施方式的曝光单元10的第二变形例。在该变形例中，第一、第二搬入搬出用传送带30、31配置成上下两段，从而能够将曝光单元10设计为小型化。因此，通过使机械臂32a、33a上下移动，第一、第二搬送装置32、33能够实现向上下的各搬入搬出用传送带30、31的存取。 

图5示出第一实施方式的曝光单元10的第三变形例。在该变形例中，第一、第二搬送装置32、33夹着基板载置台23而相互接近地串联配置。另外，第一、第二搬送装置32、33配置为，能够向接近式曝光装置11的工件卡盘22进行存取。此外，在本变形例中，作为第一、第二搬送装置32、33，适合采用具有保持基板W1、W2的机械臂32a、33a，能够沿水平方向驱动的智能型机器人，也可以是直动式机械手或传送皮带。另外，各搬送装置32、33也可构成为分别具有多个机械臂32a、33a。 

另外，在该变形例中，第一搬入用传送带30、第二搬出用传送带31配置为上下两段，从而能够将曝光单元10设计为小型化。因此，通过使机械臂32a、33a上下移动，第一、第二搬送装置32、33能够实现向上下的各搬入、搬出用传送带30、31存取。 

接着，参照图6说明本发明的第二实施方式的曝光单元。此外，对与第1实施方式相同或等同部分标注同一符号，并省略或简化其说明。 

在本实施方式的曝光单元10’中，第一、第二搬送装置32、33与接近式曝光装置11的基板载置台23平行且相互接近地并联配置。因此，第一、第二预对准装置14、15也大致对称配置于其外侧，而且，搬入、搬出用传送带30、31也并联配置。 

关于其它结构，与第一实施方式同样，并能实现与第一实施方式相同的效果。 

接着，参照图7和图8，详细说明本发明第三实施方式的曝光单元。此外，对与第1实施方式相同或等同部分标注同一标号，并省略或简化其说明。 

图7所示的第三实施方式的曝光单元10A具有：接近式曝光装置11A；第一、第二搬送单元12A、13A；分别设置于各搬送单元12A、13A的第一、第二预对准装置14、15，第一、第二搬入用传送带16、17以及第一、第二搬出用传送带18、19；以及用于控制这些装置的控制部20。 

接近式曝光装置11A具有：多个掩模载置台21A、21B，其在分别保持具有第一图案P1的掩模M1和具有第二图案P2掩模M2的状态下，能够使各掩模M1、M2在水平面上进行X、Y驱动以及θ旋转驱动；第一、第二基板载置台24、25，其分别具有用于将作为被曝光件的多个基板W1、W2保持的工件卡盘22；第一载置台移动机构26，其使第一基板载置台24在保持于第一或第二基板载置台24、25的工件卡盘22的多个基板W1、W2与保持于掩模载置台21A、21B上的掩模M1、M2对置的曝光位置A，和由第一基板载置台24将多个基板W1、W2搬入和搬出的第一搬入/搬出位置B1之间进行移动；第二载置台移动机构27，其使第二基板载置台25在曝光位置A与由第二基板载置台25将多个基板W1、W2搬入和搬出的第二搬入/搬出位置B2之间进行移动；以及照明光学系统28，其借助掩模M向基板W1、W2照射曝光用光。另外，在掩模载置台21A、21B，分别设有多个对准照相机29A和间隙用致动器29B。 

此外，第一、第二载置台移动机构26、27也可以由具备电动机与滚珠丝杠的组合及直线导轨的机构构成，还可以由具有直线电动机和 直线导轨的机构构成。另外，第一、第二载置台移动机构26、27也可以如本实施方式所述，是由工件卡盘22载置多个基板W1、W2的机构，或者只要是能够同步移动的机构，就可以在多个基板W1、W2上分别具有两个工件卡盘22。 

第一、第二搬送单元12A、13A分别具有第一、第二搬送装置32、33。与第一实施方式同样，第一搬送装置32用于保持基板W1，且配置为能够将基板W1相对于第一或第二基板载置台24、25的工件卡盘22搬入和搬出，并且能够向第一预对准装置14、第一搬入用传送带16以及第1搬出用传送带18进行存取。另外，第二搬送装置33用于保持基板W2，且配置为能够将基板W2相对于第一或第二基板载置台24、25的工件卡盘22搬入和搬出，并且能够向第二预对准装置15、第二搬入用传送带17、及第二搬出用传送带19进行存取。 

控制部20用于对接近式曝光装置11A、各搬送单元12A、13A的搬送装置32、33、预对准装置14、15、搬入用传送带16、17以及搬出用传送带18、19进行控制。另外，控制部20对第一、第二搬送单元12A、13A进行控制，以使得第一、第二搬送单元12A、13A执行的基板W1、W2相对于接近式曝光装置11A的搬入和搬出动作同步进行。 

以下，对使用了上述曝光单元10A的曝光方法进行说明。 

首先，当利用第二搬送单元13A侧的第一、第二搬入用传送带16、17将基板W1、W2搬送到第一、第二预对准装置14、15的附近时，第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a分别把持着基板W1、W2，同步驱动这些机械臂32a、33a，并搬运到第一、第二预对准装置14、15。其后，第一、第二搬送装置32、33将基板W1、W2载置到第一、第二预对准装置14、15。 

在第一、第二预对准装震14、15对基板W1、W2进行预对准后， 第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a把持基板W1、W2，同步驱动这些机械臂32a、33a，将基板W1、W2搬运到位于第二搬入/搬出位置B2的第二基板载置台25的工件卡盘22上方。 

接着，利用第二载置台移动机构27，使工件卡盘22上载置有基板W1、W2的第二基板载置台25移动到曝光位置A。并且，在将工件卡盘22上的基板W1、W2相对于掩模M1、M2对准后，对基板W1、W2进行曝光。 

在此，在第一、第二搬入/搬出位置B1、B2，设有用于对载置于第一、第二基板载置台24、25的基板W1、W2的板厚进行测定的测量仪（未图示）。因此，也可以在第一、第二搬入/搬出位置B1、B2对第一、第二基板载置台24、25的基板W1、W2进行测定后，在第一、第二基板载置台24、25向曝光位置A移动的期间，使掩模载置台21A、21B或第一、第二基板载置台24、25沿上下方向移动，完成间隙调节。 

此外，在第二基板载置台25于第二搬入/搬出位置B2进行待机的期间，第一基板载置台24位于曝光位置A，对载置于第一基板载置台24的工件卡盘22的基板W1、W2进行曝光。另外，在使第二载置台移动机构27向曝光位置A移动时，第一载置台移动机构26也同时从曝光位置A向第一搬入/搬出位置B1移动。并且，在第二基板载置台25于曝光位置A进行曝光期间，第一基板载置台24在第一搬入/搬出位置B1进行待机（参照图8）。 

并且，位于第一搬入/搬出位置B1的第一基板载置台24的工件卡盘22中，已曝光的基板W1、W2由第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a把持，并同步驱动这些机械臂32a、33a，向第一、第二搬出用传送带18、19搬运。另外，同步驱动第一、第二搬送装置32、33的机械臂32a、33a，将经过预对准的新基板W1、W2载置到第一基板载置台24的工件卡盘22上。 

此外，与保持于第二基板载置台25的多个基板W1、W2在曝光位置A上进行曝光的时刻同时地执行由第一搬送单元12A的多个搬送装置32、33将基板W1、W2相对于待机中的第一基板载置台24的搬入和搬出的动作，由此，也能够提高作为曝光单元10A的处理能力，而且，通过在各不相同的时刻进行各动作，能够防止由搬入和搬出动作引发的振动对曝光动作的影响，以实现良好的曝光精度。另外，由第二搬送单元13A的多个搬送装置32、33将基板W1、W2相对于待机中的第二基板载置台25的搬入和搬出的动作，同样可在与保持于第一基板载置台24的多个基板W1、W2于曝光位置A进行曝光的时刻同时实施，也可在不同的时刻实施。 

此后，通过重复同样的动作，在保持于第一或第二基板载置台24、25的多个基板W1、W2与保持于多个掩模载置台21A、21B的多个掩模M1、M2对置的状态下，照明光学系统28借助多个掩模M1、M2向多个基板W1、W2照射曝光用光，就能够实现多个基板W1、W2同时曝光。 

这样，根据本实施方式的曝光单元10A以及使用该单元的曝光方法，曝光单元10A具有能够将第一、第二基板载置台24、25分别移动到曝光位置A的第一、第二载置台移动机构26、27，在保持于第一或第二基板载置台24、25的多个基板W1、W2与保持于掩模载置台21的多个掩模M1、M2对置的状态下，照明光学系统28借助多个掩模M1、M2向多个基板W1、W2照射曝光用光，因此能够使多个基板W1、W2同时曝光。由此，能够高效进行多个基板W1、W2的曝光，从而能够实现生产节拍间隔时间的缩短。 

另外，第一、第二搬送单元12A、13A分别具有能够将基板W1、W2相对于工件卡盘22搬入和搬出的多个搬送装置32、33，因此，能够利用第一、第二搬送装置32、33同步进行基板W1、W2向工件卡盘 22搬入的动作以及将基板W1、W2从工件卡盘22搬出的动作，从而能够实现生产节拍间隔时间的缩短。 

此外，在本实施方式中，具有分别保持多个掩模M1、M2的多个掩模载置台21A、21B，通过从多个照明光学系统28借助各掩模M1、M2向各基板W1、W2照射曝光用光，由多个照明光学系统28同时对多个基板W1、W2分别进行曝光。不过，如图9的变形例所示，也可使用具有多个图案P1、P2的掩模M，由一个照明光学系统28对多个基板W1、W2同时曝光。 

图10示出第三实施方式的曝光单元10A的另一变形例。在该变形例在中，与第一实施方式的变形例同样，将第一搬入用传送带30、第二搬出用传送带31配置为上下两段，从而能够将曝光单元10设计为小型化。因此，通过使机械臂32a、33a上下移动，第一、第二搬送装置32、33能够实现向上下的各搬入、搬出用传送带30、31的存取。 

接着，参照图11说明本发明第四实施方式的曝光单元。此外，对与第三实施方式相同或等同部分标注同一符号，并省略或简化其说明。 

在本实施方式的曝光单元10A’中，以使第一、第二搬送装置32、33与接近式曝光装置11A的第一、第二基板载置台24、25平行且相互接近地并联配置。因此，第一、第二预对准装置14、15也几乎呈对称地配置于其外侧。另外，搬入、搬出用传送带30、31也并联配置。 

其它结构与第三实施方式同样，并能达到与第三实施方式同样的效果。 

此外，本发明并不非限定于上述实施方式及其变形例，可进行适当的变形和改良等。 

本发明的曝光装置并不限于本实施方式的接近式曝光装置，也可以是密合式曝光装置。 

另外，在上述实施方式中，对使用具有两个图案P1、P2的掩模M，对两张基板W1、W2同时进行单次曝光的情形进行了说明，但本发明并非限定于此，如图12（a）所示，也可以使用具有六个图案P1～P6的掩模M，对六张基板同时进行单次曝光，或者，如图12（b）所示，利用具有两个图案P1、P2的掩模M，对6张基板W1～W6分多次进行单次曝光。此外，如图12（a）、（b）所示，优选为多个基板W1～W6隔开一定间隔配置，并吸附固定到工件卡盘22上。 

另外，六张基板的面积也可各不相同，在该情况下，既可以将与基板面积相对应的图案设置于掩模上，对六张基板进行单次曝光，或者，也可以使用具有多个图案的掩膜进行分割曝光。 

另外，在本发明中，使用两台搬送装置对两张基板进行基板的搬入和搬出，但本发明的搬送装置的数目并不受限于基板的数目。 

Claims (18)

1.一种曝光装置，其特征在于，具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于将作为被曝光件的多个基板进行保持的工件卡盘的基板载置台；和借助所述掩模的图案向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，

所述掩模具有多个图案，所述照明光学系统借助所述掩模的多个图案向所述多个基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述多个图案分别对向配置的状态下，从所述照明光学系统照射所述曝光用光，由此将作为第一层的所述掩模的各图案单次曝光到所述多个基板上。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板是尺寸预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置配置在互不相同的方向上。

4.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置夹着所述基板载置台相互接近地串联配置。

5.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置与所述基板载置台平行且相互接近地并联配置。

6.一种曝光单元，其特征在于，具有第一搬送单元、第二搬送单元、以及如权利要求1所述的曝光装置，

所述的曝光装置还具有基板载置台，所述基板载置台包括分别具备工件卡盘的第一基板载置台和第二基板载置台，

所述曝光装置还具有第一载置台移动机构和第二载置台移动机构，

所述第一载置台移动机构使所述第一基板载置台在曝光位置与由所述第一基板载置台将所述多个基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之间移动，所述曝光位置为使所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的位置，

所述第二载置台移动机构使所述第二基板载置台在所述曝光位置与由所述第二基板载置台将所述多个基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之间移动，

所述第一搬送单元和所述第二搬送单元分别具有用于保持所述基板，并能够相对于各所述工件卡盘搬入和搬出所述基板的多个搬送装置，

在保持于所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的状态下，所述照明光学系统借助多个所述掩模向所述多个基板照射曝光用光，由此将所述多个基板同时曝光。

7.根据权利要求6所述的曝光单元，其特征在于，当保持于所述第一基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第二基板载置台在所述第二搬入/搬出位置待机；当保持于所述第二基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第一基板载置台在所述第一搬入/搬出位置待机。

8.根据权利要求6所述的曝光单元，其特征在于，所述曝光装置采用单次曝光方式。

9.根据权利要求6所述的曝光单元，其特征在于，所述掩模载置台保持有多个所述掩模，所述照明光学系统具有借助各所述掩模向各所述基板照射曝光用光的多个照明光学系统，所述曝光装置利用多个照明光学系统对所述多个基板分别进行曝光。

10.一种曝光方法，其是用于曝光装置的曝光方法，其特征在于，所述曝光装置具有：用于保持具有图案掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；和借助所述掩模的图案向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，

所述掩模具有多个图案，所述照明光学系统借助所述掩模的多个图案向所述多个基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述多个图案分别对向配置的状态下，从所述照明光学系统照射所述曝光用光，由此将作为第一层的所述掩模的各图案单次曝光到所述多个基板上。

11.根据权利要求10所述的曝光方法，其特征在于，所述基板是尺寸预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。

12.根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一搬送装置和第二搬送装置配置在互不相同的方向上。

13.根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一搬送装置和第二搬送装置夹着所述基板载置台而相互接近地串联配置。

14.根据权利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于，能够向所述工件卡盘存取的第一搬送装置和第二搬送装置与所述基板载置台平行且相互接近地并联配置。

15.一种曝光方法，其使用曝光单元进行曝光，其特征在于，

所述曝光单元具有第一搬送单元、第二搬送单元、以及如权利要求1所述的曝光装置，

所述曝光装置具有基板载置台，所述基板载置台包括分别具备工件卡盘的第一基板载置台和第二基板载置台，

所述的曝光装置还具有第一载置台移动机构和第二载置台移动机构，

所述第一载置台移动机构使所述第一基板载置台在曝光位置与由所述第一载置台将多个所述基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之间移动，所述曝光位置为，使所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的位置，

所述第二载置台移动机构使所述第二基板载置台在所述曝光位置与由所述第二基板载置台将所述多个基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之间移动，

所述第一搬送单元和所述第二搬送单元分别具有用于保持所述基板，并能够相对于各所述工件卡盘搬入和搬出所述基板的多个搬送装置，

在保持于所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的状态下，所述照明光学系统借助所述掩模向所述多个基板照射曝光用光，由此将所述多个基板同时曝光。

16.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于，当保持于所述第一基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第二基板载置台在所述第二搬入/搬出位置待机，

当保持于所述第二基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第一基板载置台在所述第一搬入/搬出位置待机。

17.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光装置采用单次曝光方式。

18.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模载置台保持有多个所述掩模，所述照明光学系统具有借助各所述掩模向各所述基板照射曝光用光的多个照明光学系统，所述曝光装置利用多个照明光学系统将所述多个基板分别进行曝光。