CN109634061B - 基底的传输装置、传输方法以及光刻设备 - Google Patents

基底的传输装置、传输方法以及光刻设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备，包括运动平台以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，所述运动平台包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，所述转板台分别与所述运动台连接并通过所述运动台可沿x方向运动，所述若干个转板台包括若干个上板台和若干个下板台。本发明提供的一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备能够提高效率。

Description

基底的传输装置、传输方法以及光刻设备
技术领域
本发明属于光刻技术领域，涉及一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备。
背景技术
在光刻机等众多半导体设备中，基底传送进曝光工位时需要经过传输工位进行交接。一般需要在曝光工位前设置一个传输工位，将基底传送到曝光位置；但是传输装置不能对基底进行预对准，需要独立增加预对准装置对基底进行预对准，预对准完成之后再送到工件台进行曝光，如此就使得基底的曝光效率较低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备，旨在解决基底曝光效率低的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种基底的传输装置，设置在一光刻设备内，用于向所述光刻设备的工件台传输基底以及从工件台接收基底，包括运动平台以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，所述运动平台包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，所述转板台分别与所述运动台连接并通过所述运动台可沿x方向往复运动，所述若干个转板台包括若干个上板台和若干个下板台；
所述上板台设置有传送组件用于将位于所述上板台上的待曝光基底转移至所述工件台，所述下板台设置有传送组件用于将已曝光基底从所述工件台转移至所述下板台；
所述固定台上设置有基底交接工位和预对准工位，所述下板台运动到所述基底交接工位处与所述工件台进行一已曝光基底的交接时，所述上板台处于所述预对准工位对一待曝光基底进行预对准。
本发明进一步设置为，所述运动平台上和/或所述转板台上设置有用于对基底进行预对准的预对准组件。
本发明进一步设置为，所述转板台的两侧设置有用于对位于所述转板台上的基底在x方向进行预对准的x方向预对准单元，所述预对准组件包括位于所述固定台上的用于对位于所述转板台上的基底在y 方向进行预对准的y方向预对准单元。
本发明进一步设置为，所述若干个转板台为一个上板台和一个下板台。
本发明进一步设置为，所述y方向预对准单元设置有两个，两个所述y方向预对准单元分布于所述基底交接工位的两侧。
本发明进一步设置为，所述基底交接工位包括板叉交接工位以及工件台交接工位，所述板叉交接工位与所述工件台交接工位沿y方向分布于所述固定台的两侧，位于所述板叉交接工位处板叉与所述转板台之间交接基底，位于所述工件台交接工位处所述工件台与所述转板台之间交接基底。
本发明进一步设置为，与所述上板台连接的所述运动台以及与所述下板台连接的所述运动台为一体结构。
本发明进一步设置为，两个所述y方向预对准单元分别位于下板 y方向预对准工位和上板y方向预对准工位，所述下板y方向预对准工位和所述上板y方向预对准工位对称分布于所述基底交接工位的两侧，当所述下板台位于所述基底交接工位时，所述上板台位于所述上板y方向预对准工位处，当所述上板台位于所述基底交接工位时，所述下板台位于所述下板y方向预对准工位处。
本发明进一步设置为，所述固定台上设置有过渡气浮组件，用于对位于工件台与所述转板台之间的基底提供气浮面支撑。
本发明进一步设置为，所述过渡气浮组件上设置有用于升降所述过渡气浮组件的升降结构，所述升降结构连接于所述固定台。
本发明进一步设置为，所述固定台上设置有静电消除器，用于消除位于板叉与所述上板台之间交接基底时所述基底的静电。
本发明进一步设置为，所述固定台上设置有板叉安全检测单元，用于对放取基底的板叉进行位置检测。
本发明进一步设置为，所述固定台上设置有气浴单元，用于对位于所述上板台上的基底温度进行调节。
本发明进一步设置为，所述转板台包括y方向传动滚轮和万向轮调节组，所述y方向传动滚轮用于支撑所述基底沿y方向移动，所述万向轮调节组用于沿z方向撑起所述基底，所述z方向与x方向和y 方向组成的平面垂直。
一种基底的传输方法，采用上文所述的基底的传输装置实现，所述转板台的两侧设置有x方向预对准单元，下板y方向预对准工位和上板y方向预对准工位对称分布于所述基底交接工位的两侧，所述下板y方向预对准工位和所述上板y方向预对准工位上设有y方向预对准单元，所述基底交接工位包括板叉交接工位以及工件台交接工位，所述板叉交接工位与所述工件台交接工位沿y方向分布于所述固定台的两侧；
所述的基底的传输方法包括基底从工件台传输到下板台的下板步骤，所述下板步骤包括有：
S11，下板台运动至基底交接工位；
S12，下板台上的传送组件运动并将位于工件台上加工完成的第一基底转移至下板台，下板台的传送组件释放第一基底；
S13，下板台上的x方向预对准单元运动，调节下板台上第一基底在x方向的方位，下板台的传送组件固定第一基底；
S14，运动台运动并带动下板台运动至下板y方向预对准工位处，下板台的传送组件释放第一基底，y方向预对准单元运动并调节下板台上第一基底在y方向的方位，所述x方向与y方向相互垂直，下板台的传送组件固定第一基底；
S15，下板台运动至板叉交接工位，下板台的传送组件释放第一基底，板叉取走第一基底；
S16，下板台的传送组件复位，等待下次下板。
本发明进一步设置为，还包括有基底从上板台转移到工件台的上板步骤，所述上板步骤包括有：
S21，上板台运动至板叉交接工位处，板叉运动并将第二基底放置到上板台上；
S22，上板台上的x方向预对准单元运动，调节上板台上第二基底在x方向的方位，上板台的传送组件固定第二基底；
S23，运动台运动并带动上板台运动至上板y方向预对准工位处，上板台上的传送组件释放第二基底，y方向预对准单元运动并调节上板台上第二基底在y方向的方位，上板台上的传送组件固定第二基底的位置；
S24，运动台运动并将第二基底送至工件台交接工位，上板台上的传送组件运动并将第二基底送至工件台；
S25，上板台上的传送组件复位，等待板叉下次上板。
本发明进一步设置为，所述固定台上设置有过渡气浮组件，所述过渡气浮组件上设置有用于升降所述过渡气浮组件的升降结构，所述升降结构连接于所述固定台；
所述S12中第一基底传导到下板台之前，过渡气浮组件在升降结构的作用下升高并对第一基底进行气浮支撑，当第一基底位于下板台上之后过渡气浮组件下降。
本发明进一步设置为，所述S21中板叉传送第二基底时，静电消除器对第二基底进行静电消除。
本发明进一步设置为，所述S21中板叉传送第二基底时，板叉安全检测单元检测板叉是否处在基底交接工位的干涉区域内。
本发明进一步设置为，所述S23中第二基底y方向方位调节完成之后，气浴单元对第二基底进行温度调节，并使得第二基底的温度与曝光环境温度一致。
本发明进一步设置为，在所述第一基底或第二基底进行x方向方位调节或y方向方位调节时，位于所述下板台或上板台的万向轮调节组沿z方向撑起所述第一基底或第二基底，所述z方向与x方向和y 方向组成的平面垂直。
一种光刻设备，包括工件台，包括有如上所述的基底的传输装置。
一种光刻方法，使用如上所述的基底的传输方法进行基底的传输。
与现有技术相比，本发明提供了一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备，在对基底加工的过程中，在其中一个转板台对工件台上进行下板的时候，此时另外的转板台能够接受板叉运输上的新的基底，然后该基底在该转板台上的x方向预对准单元的作用下在x方向进行方向的预对准，在y方向预对准单元处进行y方向的预对准，承载有加工完成的基底的转板台移走之后，该放有新的基底的转板台移动到工件台，并在传送组件的作用下将新的基底转移到工件台上进行加工，在这个过程中，由于工件台在下板的同时，新的基底已经在准备上板中，如此当加工完成的基底移走之后，新的基底传导到工件台的时间就大大减少，从而提高了加工的效率；带有新基底的转板台向工件台转移基底的时候，带有加工完成的基底的转板台的x方向预对准单元完成对加工完成的基底进行x方向预对准，然后在y方向预对准单元的作用下完成y方向的预对准，对准完成之后板叉将加工完成的基底移走，方便后续基底的放置，实用性强；在整个基底的放取过程中，新基底的放置以及加工完成的基底的取下能够同时进行，如此也使得加工效率得到了保证，而且由于加工完成的基底的位置也能够精准的进行调节，如此对后续加工完成基底的放置质量也更为提高，安全性也更高。
附图说明
图1是本发明中大型基底的传输装置的正向结构示意图；
图2是本发明中大型基底的传输装置的俯瞰结构示意图；
图3是本发明中大型基底的传输装置的侧视结构示意图；
图4是本发明中运动平台的结构示意图；
图5是本发明中转板台(上板台和下板台)的结构示意图；
图6是本发明中y方向传动轮组的结构示意图；
图7是本发明中万向轮调节组、万向调节气缸以及万向滚珠的结构示意图；
图8是本发明中x方向预对准单元的结构示意图；
图9是本发明中传送组件的结构示意图；
图10是本发明中运动平台的立体结构图。
其中，1-运动平台；101-固定台；102-运动台；1021-运动框架； 1022-上板y轴；1023-下板y轴；2-x方向预对准单元；201-连接支架；202-x方向气动滑台；203-安装板；204-立柱；205-防静电滚轮； 3-y方向预对准单元；301-下板y方向预对准工位；302-上板y方向预对准工位；4-传送组件；401-安装支架；402-吸盘组件；5-工件台； 6-上板台；7-下板台；8-基底交接工位；801-板叉交接工位；802-工件台交接工位；9-过渡气浮组件；10-升降结构；11-静电消除器；12-板叉安全检测单元；13-气浴单元；14-连接框架；15-y方向传动轮组； 1501-传动板体；1502-防静电传动轮；16-万向轮调节组；17-万向调节气缸；18-万向滚珠；19-前端气浮块。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的一种大型基底的传输装置、传输方法以及光刻设备作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。附图中相同或相似的附图标记代表相同或相似的部件。
一种大型基底的传输装置，如图1至图10所示，包括运动平台 1以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，x、y的方向如图2中所示，所述运动平台1包括固定台101以及若干个与所述固定台101运动连接的运动台102，所述转板台分别与所述运动台 102连接并通过所述运动台102可沿x方向运动，所述若干个转板台包括若干个上板台6和若干个下板台7。优选的，所述工件台5应用于一种光刻装置当中，用于承载基底进行曝光、对准位置测量或焦面位置测量等。
优选的，所述固定台101和运动台102均为框架结构。
优选的，所述运动平台1上和/或所述转板台上设置有用于对基底进行预对准的预对准组件；优选的，所述转板台的两侧设置有用于对位于所述转板台上的基底在x方向进行预对准的x方向预对准单元2，所述预对准组件包括位于所述固定台101上的用于对位于所述转板台上的基底在y方向进行预对准的y方向预对准单元3。
优选的，所述转板台上设置有传送组件4，所述传送组件4用于将位于所述上板台6上的基底转移至工件台5或将加工完成的基底从所述工件台5转移至所述下板台7；优选的，其特征在于，所述若干个转板台为一个上板台6和一个下板台7。
优选的，所述固定台101上设置有基底交接工位8，位于所述基底交接工位8处所述转板台进行基底的交接，所述y方向预对准单元 3设置有两个，两个所述y方向预对准单元3分布于所述基底交接工位8的两侧。优选的，所述基底交接工位8包括板叉交接工位801以及工件台交接工位802，所述板叉交接工位801与所述工件台交接工位802沿y方向分布于所述固定台101的两侧，位于所述板叉交接工位801处板叉与所述转板台之间交接基底，位于所述工件台交接工位 802处所述工件台5与所述转板台之间交接基底。
优选的，与所述上板台6连接的所述运动台102以及与所述下板台7连接的所述运动台102为一体结构。优选的，两个所述y方向预对准单元3分别位于下板y方向预对准工位301和上板y方向预对准工位302，所述下板y方向预对准工位301和所述上板y方向预对准工位302对称分布于所述基底交接工位8的两侧，当所述下板台7 位于所述基底交接工位8时，所述上板台6位于所述上板y方向预对准工位302处，当所述上板台6位于所述基底交接工位8时，所述下板台7位于所述下板y方向预对准工位301处。
优选的，所述固定台101上设置有过渡气浮组件9，用于对位于工件台5与所述转板台之间的基底提供气浮面支撑；优选的，所述过渡气浮组件9上设置有用于升降所述过渡气浮组件9的升降结构10，所述升降结构10连接于所述固定台101。
优选的，所述固定台101上设置有静电消除器11，用于消除位于板叉与所述上板台6之间交接基底时所述基底的静电。优选的，所述固定台101上设置有板叉安全检测单元12，用于对放取基底的板叉进行位置检测。优选的，所述固定台101上设置有气浴单元13，用于对位于所述上板台6上的基底温度进行调节。
优选的，所述转板台包括y方向传动滚轮和万向轮调节组16，所述y方向传动滚轮用于支撑所述基底沿y方向移动，所述万向轮调节组16用于沿z方向撑起所述基底，所述z方向与x方向和y方向组成的平面垂直。
一种基底的传输方法，包括基底从工件台5传输到下板台7的下板步骤，所述下板步骤包括有：
S11，下板台7运动至基底交接工位8；
S12，下板台7上的传送组件4运动并将位于工件台5上加工完成的第一基底转移至下板台7，下板台7的传送组件4释放第一基底；
S13，下板台7上的x方向预对准单元2运动，调节下板台7上第一基底在x方向的方位，下板台7的传送组件4固定第一基底；
S14，运动台102运动并带动下板台7运动至下板y方向预对准工位301处，下板台7的传送组件4释放第一基底，y方向预对准单元3运动并调节下板台7上第一基底在y方向的方位，所述x方向与 y方向相互垂直，下板台7的传送组件4固定第一基底；
S15，下板台7运动至板叉交接工位801，下板台7的传送组件4 释放第一基底，板叉取走第一基底；
S16，下板台7的传送组件4复位，等待下次下板。
优选的，还包括有基底从上板台6转移到工件台5的上板步骤，所述上板步骤包括有：
S21，上板台6运动至板叉交接工位801处，板叉运动并将第二基底放置到上板台6上；
S22，上板台6上的x方向预对准单元2运动，调节上板台6上第二基底在x方向的方位，上板台6的传送组件4固定第二基底；
S23，运动台102运动并带动上板台6运动至上板y方向预对准工位302处，上板台6上的传送组件4释放第二基底，y方向预对准单元3运动并调节上板台6上第二基底在y方向的方位，上板台6上的传送组件4固定第二基底的位置；
S24，运动台102运动并将第二基底送至工件台交接工位802，上板台6上的传送组件4运动并将第二基底送至工件台5；
S25，上板台6上的传送组件4复位，等待板叉下次上板。
优选的，所述S12中第一基底传导到下板台7之前，过渡气浮组件9在升降结构10的作用下升高并对第一基底进行气浮支撑，当第一基底位于下板台7上之后过渡气浮组件9下降。优选的，所述S21 中板叉传送第二基底时，静电消除器11对第二基底进行静电消除；优选的，所述S21中板叉传送第二基底时，板叉安全检测单元12检测板叉是否处在基底交接工位8的干涉区域内。
优选的，所述S23中第二基底y方向方位调节完成之后，气浴单元13对第二基底进行温度调节，并使得第二基底的温度与曝光环境温度一致。优选的，在所述第一基底或第二基底进行x方向方位调节或y方向方位调节时，位于所述下板台7或上板台6的万向轮调节组16沿z方向撑起所述第一基底或第二基底，所述z方向与x方向和y 方向组成的平面垂直。
一种光刻设备，包括工件台5，包括有如上所述的基底的传输装置，所述若干个用于沿y方向传输基底的转板台包括若干个上板台6 和若干个下板台7，所述上板台6用于向工件台5传输待曝光基底，所述下板台7用于从工件台5接收已曝光基底。
一种光刻方法，使用如上所述的基底的传输方法进行基底的传输。
综上所述，本发明提供的一种大型基底的传输装置、传输方法以及光刻设备和光刻方法，其中由于上板台6和下板台7是连接在同一个运动台102上的，且y方向预对准单元3，即上板y方向预对准工位302和下板预对准工位302对称分布于基底交接工位8的两侧，所以整个的加工过程为：
下板台7对工件台5上的加工完成的第一基底进行传递，同时上板台6上的第二基底在固定台101上的上板y方向预对准工位302 处，受到万向轮调节组16的支撑作用，y方向预对准单元3作用到第二基底的y方向两侧上，并对第二基底的位置进行调节到设定值，完成第二基底y方向的定位；
第一基底位于下板台7上之后，基底受到万向轮调节组16的撑起，下板台7上的x方向预对准单元2对第一基底的x方向进行预对准，运动台102运动并使得下板台7位于下板y方向预对准工位 301 处，同时上板台6也运动到工件台交接工位802 ；
下板y方向预对准工位301处的第一基底在万向轮调节组16的支撑作用下进行y方向预对准，上板台6将位置调节完成的第二基底传导到工件台；
板叉将新的基底放置到上板台6上，成为新的第二基底，新的第二基底在上板台6两侧的x方向预对准单元2的作用下完成x方向的预对准；
运动台102再次运动，并使得带有第一基底的下板台7运动到板叉交接工位801处，板叉运动并将位于下板台7上的基底取走，同时新的第二基底上板y方向预对准工位302处，y方向预对准单元3对新的第二基底进行y方向的预对准，并完成新的第二基底的方位调节；
第一基底从下板台7上移走之后，等待加工完成的新的第一基底从工件台上送出。
这样通过循环以及同时加工的方式，使得新的基底的方位对准以及加工完成基底的移走能够同时的进行，在很大程度上节省了加工的时间，并提高了加工的效率；不仅如此，由于下板台7上的基底的位置也调节到设定值，如此板叉将加工完成的基底转移出去之后进行放置的时候，也能够更为简单方便，并使得后续板叉的放置安全性更高，实用性强。
上板台6和下板台7连接在同一个运动台102上，而且两个y方向预对准单元3对称分布在基底交接工位8两侧，如此不仅使得投入成本更低，而且在控制上板台6和下板台7运动的时候，能够同时同步的进行，出错率也能降低。
其中，加工完成的基底从工件台移动到下板台7上之前，升降结构10驱动过渡气浮组件9上升并对位于工件台5与下板台7之间的基底进行过渡支撑，如此就对大型的基底起到了更好的支撑效果，防止了基底发生破裂等，安全系数更高；传送组件4在拖动基底活动的时候，基底底端是通过y方向传动轮组15进行转动支撑的，如此就即对基底进行了支撑防止了基底破裂，同时也能够将基底的磨损减小的最小；加工完成的基底转移完成之后升降结构10驱动过渡气浮组件9下降，这样下次工件台转移基底到靠近运动平台1的时候，就能够较好的防止工件台5与过渡气浮组件9之间发生碰撞，安全性更高。
基底的静电消除器11和板叉安全检测单元安装在固定台101上，且处于基底交接工位8的板叉交接工位801处，即板叉传送基底的进出口位置，对外部传送进来的基底进行静电消除，从而防止基底上的静电影响后续的曝光，板叉安全检测单元12适时检测板叉是否处在基底交接工位8的干涉区域内，从而防止有板叉发生位置偏差而继续推送基底的情况，保证了基底的传送稳定性。气浴单元13安装在上板y方向预对准工位302处，预上板时上板台6将做好预对准的第二基底在上板y方向预对准工位302处等待上板，在等待时间内气浴单元13对第二基底进行温度控制，保证基底温度与曝光环境温度一致，从而减小由于基底与曝光温度不同而带来的曝光质量差的问题，从侧面提高了曝光质量。
当光刻设备使用以上的传输装置进行传输，以以上的传输方法进行传输基底的时候，不仅使得基底传输效率更高，同时也使得基底后续放置安全性更佳，而且还能够提高曝光的质量，实用性强。
其中，运动平台1的结构如图4所示，运动台102包括运动框架 1021以及平行连接于运动框架1021的上板y轴1022和下板y轴 1023，上板台6与上板y轴1022连接，下板台7与下板y轴1023连接；而同时运动框架1021能够整体在固定体上沿x方向进行运动，从而带动上板台6和下板台7也在x方向上运动，其中在运动框架 1021与固定台101之间还具有锁紧气缸，当进行上板、下板或者基底位置调节的时候，运动框架1021都通过锁紧气缸与固定台101固定连接，这样就能够保持基底位置的稳定性，从而稳定的进行上下板或者在x、y方向对基底的方位进行调节。
转板台的结构如图5所示，其中包括有与运动台102连接的连接框架14，在连接框架14之间设有若干个平行的y方向传动轮组15， y方向传动轮组15的结构如图6所示，其中y方向传动轮组15包括连接于连接框架14的传动板体1501以及转动连接于传动板体1501 的防静电传动轮1502；当基底位于y方向传动轮组15上的时候，基底只可沿着y方向进行运动；在连接框架14上设置有万向轮调节组 16，万向轮调节组16通过万向调节气缸17可在z方向进行升降的连接在运动台102上，其中z方向为与x、y方向所在平面相垂直的方向；当对基底进行x方向调节的时候，万向调节气缸17将万向轮调节组16升高，然后万向轮调节组16通过其顶端的万向滚珠18将基底撑起，如此基底就能够在x方向和y方向运动，其中万向轮调节组 16、万向调节气缸17以及万向滚珠18的结构如图7所示；基底的位置调节完成之后，万向调节气缸17下降并使得基底落下到y方向传动轮组15上；同时在转板台靠近工件台5的侧部设置有前端气浮块 19，也用于的对基底进行过渡支撑。
x方向预对准单元2的结构如图8所示，其包括有连接于连接框架14的连接支架201，连接支架201上连接有x方向气动滑台202， x方向气动滑台202上安装有安装板203、立柱204和防静电滚轮 205，x方向气动滑台202驱动安装板203、立柱204和防静电滚轮205，并在x方向驱动基底运动；x方向预对准单元2在转板台的x方向的每侧均设置有两个，如此通过该四个x方向预对准单元2就能够使得基底在x方向的位置进行精准的调节；一个y方向预对准单元3 为两对分布在固定台101两侧的气缸，当万向轮调节组16将基底升起之后，y方向预对准单元3运动并将基底y方向两端夹住，即可对基底在y方向的位置进行调节。
用于对基底进行传导的传送组件4如图9所示，其包括有运动连接于运动台102的安装支架401以及位于安装支架401上的吸盘组件402，其中安装支架401通过气缸可升降的连接于运动台102；当传送组件4对基底进行传送的时候，安装支架401运动并使得吸盘组件402位于基底下方，吸盘开启真空，然后就能够对基底的位置进行固定，此时就能够在安装支架401的带动作用下移动基底；同样，转板台在运动的时候也需要对基底的位置进行固定，此时也是通过吸盘组件402进行固定的，但是在对基底的x方向或者y方向方位进行调节的时候，吸盘组件402需关闭，并使得基底能够正常的运动。本发明中涉及的所有气缸，可以用电机等其他驱动部件进行替代。
需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (23)

1.一种基底的传输装置，设置在一光刻设备内，用于向所述光刻设备的工件台传输基底以及从工件台接收基底，其特征在于，包括运动平台以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，所述运动平台包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，所述转板台分别与所述运动台连接并通过所述运动台可沿x方向往复运动，所述若干个转板台包括若干个上板台和若干个下板台；
所述上板台设置有传送组件用于将位于所述上板台上的待曝光基底转移至所述工件台，所述下板台设置有传送组件用于将已曝光基底从所述工件台转移至所述下板台；
所述固定台上设置有基底交接工位和预对准工位，所述下板台运动到所述基底交接工位处与所述工件台进行一已曝光基底的交接时，所述上板台处于所述预对准工位对一待曝光基底进行预对准。
2.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述运动平台上和/或所述转板台上设置有用于对基底进行预对准的预对准组件。
3.根据权利要求2所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述转板台的两侧设置有用于对位于所述转板台上的基底在x方向进行预对准的x方向预对准单元，所述预对准组件包括位于所述固定台上的用于对位于所述转板台上的基底在y方向进行预对准的y方向预对准单元。
4.根据权利要求1或2所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述若干个转板台为一个上板台和一个下板台。
5.根据权利要求3所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述y方向预对准单元设置有两个，两个所述y方向预对准单元分布于所述基底交接工位的两侧。
6.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述基底交接工位包括板叉交接工位以及工件台交接工位，所述板叉交接工位与所述工件台交接工位沿y方向分布于所述固定台的两侧，位于所述板叉交接工位处板叉与所述转板台之间交接基底，位于所述工件台交接工位处所述工件台与所述转板台之间交接基底。
7.根据权利要求4所述的一种基底的传输装置，其特征在于，与所述上板台连接的所述运动台以及与所述下板台连接的所述运动台为一体结构。
8.根据权利要求5所述的一种基底的传输装置，其特征在于，两个所述y方向预对准单元分别位于下板y方向预对准工位和上板y方向预对准工位，所述下板y方向预对准工位和所述上板y方向预对准工位对称分布于所述基底交接工位的两侧，当所述下板台位于所述基底交接工位时，所述上板台位于所述上板y方向预对准工位处，当所述上板台位于所述基底交接工位时，所述下板台位于所述下板y方向预对准工位处。
9.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述固定台上设置有过渡气浮组件，用于对位于工件台与所述转板台之间的基底提供气浮面支撑。
10.根据权利要求9所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述过渡气浮组件上设置有用于升降所述过渡气浮组件的升降结构，所述升降结构连接于所述固定台。
11.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述固定台上设置有静电消除器，用于消除位于板叉与所述上板台之间交接基底时所述基底的静电。
12.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述固定台上设置有板叉安全检测单元，用于对放取基底的板叉进行位置检测。
13.根据权利要求1所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述固定台上设置有气浴单元，用于对位于所述上板台上的基底温度进行调节。
14.根据权利要求3所述的一种基底的传输装置，其特征在于，所述转板台包括y方向传动滚轮和万向轮调节组，所述y方向传动滚轮用于支撑所述基底沿y方向移动，所述万向轮调节组用于沿z方向撑起所述基底，所述z方向与x方向和y方向组成的平面垂直。
15.一种基底的传输方法，其特征在于，采用如权利要求1所述的基底的传输装置实现，所述转板台的两侧设置有x方向预对准单元，下板y方向预对准工位和上板y方向预对准工位对称分布于所述基底交接工位的两侧，所述下板y方向预对准工位和所述上板y方向预对准工位上设有y方向预对准单元，所述基底交接工位包括板叉交接工位以及工件台交接工位，所述板叉交接工位与所述工件台交接工位沿y方向分布于所述固定台的两侧；
所述的基底的传输方法包括基底从工件台传输到下板台的下板步骤，所述下板步骤包括有：
S11，下板台运动至基底交接工位；
S12，下板台上的传送组件运动并将位于工件台上加工完成的第一基底转移至下板台，下板台的传送组件释放第一基底；
S13，下板台上的x方向预对准单元运动，调节下板台上第一基底在x方向的方位，下板台的传送组件固定第一基底；
S14，运动台运动并带动下板台运动至下板y方向预对准工位处，下板台的传送组件释放第一基底，y方向预对准单元运动并调节下板台上第一基底在y方向的方位，所述x方向与y方向相互垂直，下板台的传送组件固定第一基底；
S15，下板台运动至板叉交接工位，下板台的传送组件释放第一基底，板叉取走第一基底；
S16，下板台的传送组件复位，等待下次下板。
16.根据权利要求15所述的基底的传输方法，其特征在于，还包括有基底从上板台转移到工件台的上板步骤，所述上板步骤包括有：
S21，上板台运动至板叉交接工位处，板叉运动并将第二基底放置到上板台上；
S22，上板台上的x方向预对准单元运动，调节上板台上第二基底在x方向的方位，上板台的传送组件固定第二基底；
S23，运动台运动并带动上板台运动至上板y方向预对准工位处，上板台上的传送组件释放第二基底，y方向预对准单元运动并调节上板台上第二基底在y方向的方位，上板台上的传送组件固定第二基底的位置；
S24，运动台运动并将第二基底送至工件台交接工位，上板台上的传送组件运动并将第二基底送至工件台；
S25，上板台上的传送组件复位，等待板叉下次上板。
17.根据权利要求15所述的基底的传输方法，其特征在于，所述固定台上设置有过渡气浮组件，所述过渡气浮组件上设置有用于升降所述过渡气浮组件的升降结构，所述升降结构连接于所述固定台；
所述S12中第一基底传导到下板台之前，过渡气浮组件在升降结构的作用下升高并对第一基底进行气浮支撑，当第一基底位于下板台上之后过渡气浮组件下降。
18.根据权利要求16所述的基底的传输方法，其特征在于，所述S21中板叉传送第二基底时，静电消除器对第二基底进行静电消除。
19.根据权利要求16所述的基底的传输方法，其特征在于，所述S21中板叉传送第二基底时，板叉安全检测单元检测板叉是否处在基底交接工位的干涉区域内。
20.根据权利要求16所述的基底的传输方法，其特征在于，所述S23中第二基底y方向方位调节完成之后，气浴单元对第二基底进行温度调节，并使得第二基底的温度与曝光环境温度一致。
21.根据权利要求16所述的基底的传输方法，其特征在于，在所述第一基底或第二基底进行x方向方位调节或y方向方位调节时，位于所述下板台或上板台的万向轮调节组沿z方向撑起所述第一基底或第二基底，所述z方向与x方向和y方向组成的平面垂直。
22.一种光刻设备，包括工件台，其特征在于，包括有如权利要求1-14任一项所述的基底的传输装置。
23.一种光刻方法，其特征在于，使用如权利要求15-21任一项所述的基底的传输方法进行基底的传输。
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