KR102202793B1 - 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기 - Google Patents

베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기 Download PDF

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Abstract

본 발명은 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기를 제공하고, 상기 베이스 이송 장치는 고정 테이블 및 상기 고정 테이블과 이동 가능하게 연결된 다수의 이동 테이블을 포함하는 이동 플랫폼; 및 제1 방향을 따라 설치되고 제2 방향을 따라 베이스를 이송하는 다수의 회전 플레이트 테이블을 포함하고, 상기 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직되며, 상기 회전 플레이트 테이블 중의 각각의 회전 플레이트 테이블은 모두 각각 상기 이동 테이블의 상응한 부분에 연결되고, 상기 이동 테이블에 의해 제1 방향을 따라 이동하며, 상기 이동 플랫폼 및 상기 회전 플레이트 테이블에는 베이스에 대해 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 선정렬 어셈블리가 설치되고, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중 하나의 회전 플레이트 테이블이 제1 베이스를 하강시키는 동시에, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중 다른 하나의 회전 플레이트 테이블은 제2 베이스를 수용하고 상기 선정렬 어셈블리의 작용하에서 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에서 선정렬을 수행한다.

Description

베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기 {Substrate Transfer Device, Transfer Method and Lithography Apparatus}
본 발명은 포토리소그래피 기술분야에 속하고, 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기에 관한 것이다.
포토리소그래피 기계 등 많은 반도체 기기에서, 베이스가 노광 스테이션에 이송될 경우, 이송 스테이션을 거쳐 핸드오버를 수행해야 한다. 통상적으로 노광 스테이션 전에 하나의 이송 스테이션을 설치하여, 베이스를 노광 위치에 이송하는데, 이송 장치는 베이스에 대해 선정렬을 수행할 수 없기에 선정렬 장치를 별도로 추가하여 베이스에 대해 선정렬을 수행해야 하며, 선정렬이 완료된 후 다시 작업 테이블에 이송하여 노광을 수행해야 한다. 따라서 베이스의 노광 효율이 낮아진다.
본 발명의 목적은 베이스의 노광 효율이 낮은 문제를 해결하기 위한 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기를 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 고정 테이블 및 상기 고정 테이블과 이동 가능하게 연결된 다수의 이동 테이블을 포함하는 이동 플랫폼; 및 제1 방향을 따라 설치되고 제2 방향을 따라 베이스를 이송하는 다수의 회전 플레이트 테이블을 포함하고, 상기 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직되며, 상기 회전 플레이트 테이블 중의 각각의 회전 플레이트 테이블은 모두 각각 상기 이동 테이블의 상응한 부분에 연결되고, 상기 이동 테이블을 통해 제1 방향을 따라 이동하게 하며, 상기 이동 플랫폼 및 상기 회전 플레이트 테이블에는 베이스에 대해 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 선정렬 어셈블리가 설치되고, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중 하나의 회전 플레이트 테이블이 제1 베이스를 이송시키는 동시에, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중 다른 하나의 회전 플레이트 테이블이 제2 베이스를 수용하고 상기 선정렬 어셈블리의 작용하에서 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에서 선정렬을 수행하는 베이스 이송 장치를 제공한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 선정렬 어셈블리는, 상기 회전 플레이트 테이블의 양측에 위치하고 상기 회전 플레이트 테이블 상에 위치한 베이스에 대해 상기 제1 방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 제1 방향 선정렬 유닛을 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 선정렬 어셈블리는, 상기 고정 테이블에 위치하고 상기 회전 플레이트 테이블 상에 위치한 베이스에 대해 상기 제2 방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 제2 방향 선정렬 유닛을 더 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 적어도 하나의 플레이트 업로딩 테이블 및 적어도 하나의 플레이트 언로딩 테이블을 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 회전 플레이트 테이블에는, 상기 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 베이스를 작업 테이블까지 전이시키거나 또는 가공이 완료된 베이스를 상기 작업 테이블로부터 상기 플레이트 언로딩 테이블까지 전이시키기 위한 이송 어셈블리가 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 고정 테이블은 베이스 핸드오버 스테이션을 포함하고, 상기 회전 플레이트 테이블은 상기 베이스 핸드오버 스테이션에서 베이스의 핸드오버를 수행하고, 상기 선정렬 어셈블리는 상기 베이스 핸드오버 스테이션의 양측에 분포된 2개의 제2 방향 선정렬 유닛을 더 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 베이스 핸드오버 스테이션은 팰릿 핸드오버 스테이션 및 작업 테이블 핸드오버 스테이션을 포함하고, 상기 팰릿 핸드오버 스테이션과 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션은 상기 제2 방향을 따라 상기 고정 테이블의 양측에 분포되며, 상기 회전 플레이트 테이블은 상기 팰릿 핸드오버 스테이션에서의 팰릿과의 사이에서 베이스의 핸드오버를 수행하고, 상기 회전 플레이트 테이블은 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션에서의 상기 작업 테이블과의 사이에서 베이스의 핸드오버를 수행한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 플레이트 업로딩 테이블에 연결된 상기 이동 테이블 및 상기 플레이트 언로딩 테이블에 연결된 상기 이동 테이블은 일체 구조이다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 2개의 상기 제2 방향 선정렬 유닛은 각각 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션 및 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션에 위치하고, 상기 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션 및 상기 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션은 상기 제1 방향을 따라 상기 베이스 핸드오버 스테이션의 양측에 대칭되게 분포되며, 상기 플레이트 언로딩 테이블이 상기 베이스 핸드오버 스테이션에 위치할 경우, 상기 플레이트 업로딩 테이블이 상기 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션에 위치하고, 상기 플레이트 업로딩 테이블이 상기 베이스 핸드오버 스테이션에 위치할 경우, 상기플레이트 언로딩 테이블이 상기 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션에 위치한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 고정 테이블에는 작업 테이블과 상기 회전 플레이트 테이블 사이에 위치한 베이스에 대한 에어 부상 지지를 제공하기 위한 과도 에어 부상 어셈블리가 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 과도 에어 부상 어셈블리에는 상기 고정 테이블에 연결되어 상기 과도 에어 부상 어셈블리를 승강시키기 위한 승강 구조가 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 고정 테이블에는 팰릿으로부터 상기 플레이트 업로딩 테이블에 핸드오버되는 베이스의 정전기를 제거하기 위한 정전기 제거기가 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 고정 테이블에는 베이스를 안착시키거나 수거하는 팰릿에 대해 위치 측정을 수행하기 위한 팰릿 안전 측정 유닛이 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 고정 테이블에는 상기 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 베이스 온도를 조절하기 위한 가스 중탕 유닛이 설치된다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 회전 플레이트 테이블은, 상기 베이스가 상기 제2 방향을 따라 이동하도록 지지하기 위한 제2 방향 동력전달 롤러; 및 제3 방향을 따라 상기 베이스를 지지하고 상기 베이스가 지지된 상태에서 상기 제1 방향 및/또는 상기 제2 방향의 위치 조정을 수행하기 위한 유니버설 휠 조절그룹을 포함하고, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 정의된 평면에 수직된다.
상술한 베이스 이송 장치의 베이스 이송 방법은, 베이스를 작업 테이블로부터 플레이트 언로딩 테이블까지 이송시키는 플레이트 언로딩 단계를 포함하고,
상기 플레이트 언로딩 단계는,
플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 이동하고 작업 테이블에 위치한 가공이 완료된 제1 베이스가 플레이트 업로딩 테이블까지 전이되는 단계(S12);
플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리에서 제1 베이스를 해제시키고, 플레이트 업로딩 테이블의 제1 방향 선정렬 유닛이 이동하여, 플레이트 업로딩 테이블에서 제1 베이스의 제1 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S13);
플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 플레이트 업로딩 테이블을 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션까지 이동시키며, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 해제시키고, 제2 방향 선정렬 유닛이 이동하여 플레이트 업로딩 테이블에서 제1 베이스의 제2 방향에서의 방위를 조절하며, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직되고, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 고정하는 단계(S14); 및
플레이트 업로딩 테이블이 팰릿 핸드오버 스테이션까지 이동하고, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 해제시키고, 팰릿이 제1 베이스를 수거하는 단계(S15)를 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 위치복귀되어 다음번 플레이트 업로딩을 대기하는 단계(S16)를 더 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 베이스를 플레이트 언로딩 테이블로부터 작업 테이블까지 전이시키는 플레이트 언로딩 단계를 더 포함하고,
상기 플레이트 언로딩 단계는,
플레이트 언로딩 테이블이 팰릿 핸드오버 스테이션까지 이동하고, 팰릿이 이동하여 제2 베이스를 플레이트 언로딩 테이블에 안착시키는 단계(S21);
플레이트 언로딩 테이블의 상기 제1 방향 선정렬 유닛이 이동하여, 플레이트 언로딩 테이블에서 제2 베이스의 상기 제1 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S22);
플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블을 상기 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션까지 이동시키며, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스를 해제시키고, 상기 제2 방향 선정렬 유닛이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블에서 제2 베이스의 제2 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S23); 및
플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스의 위치를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블 핸드오버 스테이션까지 이송시키며, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블까지 이송시키는 단계(S24)를 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 위치복귀되어 팰릿의 다음번 플레이트 언로딩을 대기하는 단계(S25)를 더 포함한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 단계(S12)에서 상기 제1 베이스가 상기 플레이트 업로딩 테이블까지 이송되기 전에, 과도 에어 부상 어셈블리가 승강 구조의 작용하에 상승하고 상기 제1 베이스에 대해 에어 부상 지지를 수행하며, 상기 제1 베이스가 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 후 상기 과도 에어 부상 어셈블리가 하강한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 단계(S21)에서 팰릿이 상기 제2 베이스를 이송할 경우, 정전기 제거기가 상기 제2 베이스의 정전기를 제거한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 단계(S21)에서 팰릿이 상기 제2 베이스를 이송할 경우, 팰릿 안전 측정 유닛이 팰릿이 베이스 핸드오버 스테이션의 간섭 영역 내에 위치하는지의 여부를 측정한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 단계(S23)에서 상기 제2 베이스의 제2 방향 방위 조절이 완료된 후, 가스 중탕 유닛이 상기 제2 베이스에 대해 온도 조절을 수행하여 상기 제2 베이스의 온도와 노광 환경 온도가 일치하도록 한다.
본 발명의 추가적 설치에 따르면, 상기 제1 베이스 또는 상기 제2 베이스가 제1 방향 방위 조절 또는 제2 방향 방위 조절을 수행할 경우, 상기 플레이트 업로딩 테이블 또는 플레이트 언로딩 테이블에 위치한 유니버설 휠 조절그룹이 제3 방향을 따라 상기 제1 베이스 또는 상기 제2 베이스를 지지하고, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 정의된 평면에 수직된다.
포토리소그래피 기기는 작업 테이블을 포함하고, 상술한 베이스 이송 장치를 포함하며, 제2 방향을 따라 베이스를 이송하기 위한 다수의 회전 플레이트 테이블은 작업 테이블에 노광 대기 베이스를 이송하기 위한 적어도 하나의 플레이트 언로딩 테이블 및 작업 테이블로부터 기노광 베이스를 수용하기 위한 적어도 하나의 플레이트 업로딩 테이블을 포함한다.
선행기술과 비교하여, 본 발명이 제공하는 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기는 베이스를 가공하는 과정에서 그 중 하나의 회전 플레이트 테이블이 작업 테이블에 대해 플레이트 언로딩을 진행할 경우, 다른 회전 플레이트 테이블은 팰릿에 의해 이송되는 새로운 베이스를 수용할 수 있고, 다음, 해당 베이스가 해당 회전 플레이트 테이블에서의 x방향 선정렬 유닛의 작용하에 x방향에서 방향의 선정렬을 수행하며, y방향 선정렬 유닛이 y방향 선정렬을 수행하고, 가공이 완료된 베이스가 탑재된 회전 플레이트 테이블이 이송된 후, 새로운 베이스가 놓여진 회전 플레이트 테이블이 작업 테이블로 이동하고, 이송 어셈블리의 작용하에 새로운 베이스를 작업 테이블에 전이시켜 가공을 수행한다. 이 과정에서, 작업 테이블이 플레이트 언로딩하는 동시에 새로운 베이스가 이미 플레이트 업로딩을 준비하고 있기에, 가공이 완료된 베이스가 이송된 후 새로운 베이스가 작업 테이블에 이송 되는 시간이 크게 감소되므로, 가공 효율을 향상시킬 수 있다. 새로운 베이스가 탑재된 회전 플레이트 테이블이 작업 테이블을 향해 베이스를 전이시킬 경우, 가공이 완료된 베이스가 탑재된 회전 플레이트 테이블의 x방향 선정렬 유닛이 가공이 완료된 베이스에 대한 x방향 선정렬을 완료하고, 다음, y방향 선정렬 유닛의 작용하에 y방향 선정렬을 완료하며, 정렬이 완료된 다음 팰릿은 가공이 완료된 베이스를 이송하므로 후속적인 베이스 안착이 편리하고, 실용성이 강하다. 베이스를 안착시키거나 수거하는 전반적인 과정에서 새로운 베이스의 안착 및 가공이 완료된 베이스를 해제시키는 것이 동시에 수행될 수 있기에 가공 효율을 확보할 수 있고, 가공이 완료된 베이스의 위치도 정확하게 조절이 가능하기에 후속적인 가공이 완료된 베이스의 안착 품질도 더 높아지고 안전성도 더 높아진다.
도 1은 본 발명에 따른 베이스 이송 장치의 정방향 구조를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 베이스 이송 장치의 조감 구조를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 베이스 이송 장치의 측면 구조를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 이동 플랫폼의 구조를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 회전 플레이트 테이블(플레이트 업로딩 테이블 및 플레이트 언로딩 테이블)의 구조를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 y방향 동력전달 휠 그룹의 구조를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 유니버설 휠 조절그룹, 유니버설 조절 실린더 및 유니버설 볼 베어링의 구조를 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명에 따른 x방향 선정렬 유닛의 구조를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명에 따른 이송 어셈블리의 구조를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명에 따른 이동 플랫폼의 입체 구조를 나타내는 도면이다.
이하, 도면 및 구체적인 실시예를 결합하여 본 발명이 제공하는 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기를 상세히 설명한다. 하기 설명 및 청구범위에 의하면, 본 발명의 장점 및 특징이 더 명확해질 것이다. 도면은 모두 간략화된 형식으로 도시되었고 정확하지 않은 비율을 사용하였으며, 본 발명의 실시예를 편리하고 명확하게 보조적으로 설명하기 위한 목적일 뿐임을 미리 말해둔다. 도면에서 동일하거나 유사한 도면부호는 동일하거나 유사한 부재를 대표한다.
도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 베이스 이송 장치는 이동 플랫폼(1) 및 다수의 회전 플레이트 테이블을 포함하고, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 x방향을 따라 설치되며, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 y방향을 따라 베이스를 이송하고, 상기 x방향과 y방향은 서로 수직되며, x, y의 방향은 도 2에 도시된 바와 같으며 상기 이동 플랫폼(1)은 고정 테이블(101) 및 상기 고정 테이블(101)과 이동 가능하게 연결된 다수의 이동 테이블(102)을 포함한다. 상기 회전 플레이트 테이블은 각각 상기 이동 테이블(102)에 연결되고 상기 이동 테이블(102)을 통해 x방향을 따라 이동할 수 있으며, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 다수의 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 다수의 플레이트 언로딩 테이블(7)을 포함한다. 바람직하게, 상기 작업 테이블(5)은 포토리소그래피 장치에 응용되어 베이스를 탑재하고 정렬위치 측정 또는 초점면 위치 측정 및 노광 등에 사용된다.
바람직하게, 상기 고정 테이블(101) 및 이동 테이블(102)은 모두 프레임 구조이다.
바람직하게, 상기 이동 플랫폼(1) 및/또는 상기 회전 플레이트 테이블에는 베이스에 대해 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 선정렬 어셈블리가 설치되고; 바람직하게, 상기 선정렬 어셈블리는 상기 회전 플레이트 테이블의 x방향 양측에 설치되어 상기 회전 플레이트 테이블에 위치한 베이스에 대해 x방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 x방향 선정렬 유닛(2)을 포함하고, 상기 선정렬 어셈블리는 상기 고정 테이블(101)에 위치하고 상기 회전 플레이트 테이블 상에 위치한 베이스에 대해 y방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 y방향 선정렬 유닛(3)을 더 포함한다.
바람직하게, 상기 회전 플레이트 테이블에는 이송 어셈블리(4)가 설치되고, 상기 회전 플레이트 테이블이 플레이트 업로딩 테이블로 작용할 경우, 상기 이송 어셈블리(4)는 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)에 위치한 베이스를 작업 테이블(5)까지 전이시키고, 상기 회전 플레이트 테이블이 플레이트 언로딩 테이블로 작용할 경우, 상기 이송 어셈블리(4)는 가공이 완료된 베이스를 상기 작업 테이블(5)로부터 상기 플레이트 언로딩 테이블(7)까지 전이시키며; 바람직하게, 상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 하나의 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 하나의 플레이트 업로딩 테이블(7)을 포함한다.
바람직하게, 상기 고정 테이블(101)에는 베이스 핸드오버 스테이션(8)이 설치되고, 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)은 상기 회전 플레이트 테이블이 베이스의 핸드오버를 수행하는 위치를 가리킨다. 상기 고정 테이블(101)에는 x방향에 따라 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 양측에 분포된 2개의 상기 y방향 선정렬 유닛(3)을 더 포함한다. 바람직하게, 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)은 팰릿 핸드오버 스테이션(801) 및 작업 테이블 핸드오버 스테이션(802)을 포함하고, 상기 팰릿 핸드오버 스테이션(801)과 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션(802)은 y방향을 따라 상기 고정 테이블(101)의 양측에 분포되며, 상기 팰릿 핸드오버 스테이션(801)은 팰릿과 상기 회전 플레이트 테이블 사이에서 베이스의 핸드오버를 수행하는 위치를 가리키고, 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션(802)은 상기 작업 테이블(5)과 상기 회전 플레이트 테이블 사이에서 베이스의 핸드오버를 수행하는 위치를 가리킨다.
바람직하게, 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)에 연결된 상기 이동 테이블(102) 및 상기 플레이트 언로딩 테이블(7)에 연결된 상기 이동 테이블(102)은 일체 구조이다. 즉 이동 테이블(102)은 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 플레이트 언로딩 테이블(7)이 동기 이동하도록 한다. 바람직하게, 2개의 상기 y방향 선정렬 유닛(3)은 각각 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301) 및 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에 위치하고, 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)은 플레이트 언로딩 테이블(7)이 y방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하는 위치를 가리키며; 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)은 플레이트 업로딩 테이블(6)이 y방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하는 위치를 가리킨다. 상기 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301) 및 상기 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)은 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 x방향 양측에 대칭되게 분포된다. 이동 테이블(102)의 동기화 구동 작용하에서, 상기 플레이트 언로딩 테이블(7)이 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)에 위치할 경우, 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)이 상기 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에 위치하고, 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)이 상기 베이스 핸드오버 스테이션(8)에 위치할 경우, 상기 플레이트 언로딩 테이블(7)이 상기 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)에 위치한다.
바람직하게, 상기 고정 테이블(101)에는 작업 테이블(5)과 상기 회전 플레이트 테이블 사이에 위치한 베이스에 대한 에어 부상면 지지를 제공하기 위한 과도 에어 부상 어셈블리(9)가 설치되고; 바람직하게, 상기 과도 에어 부상 어셈블리(9)는 상기 과도 에어 부상 어셈블리(9)를 승강시키기 위한 승강 구조(10)에 연결되고, 상기 승강 구조(10)는 상기 고정 테이블(101)에 연결된다.
바람직하게, 상기 고정 테이블(101)에는 팰릿으로부터 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)에 핸드오버되는 베이스의 정전기를 제거하기 위한 정전기 제거기(11)가 설치된다. 바람직하게, 상기 고정 테이블(101)에는 베이스를 안착시키거나 수거하는 팰릿에 대해 위치 측정을 수행하기 위한 팰릿 안전 측정 유닛(12)이 설치된다. 바람직하게, 상기 고정 테이블(101)에는 상기 플레이트 업로딩 테이블(6)에 위치한 베이스 온도를 조절하기 위한 가스 중탕 유닛(13)이 설치된다.
바람직하게, 상기 회전 플레이트 테이블은 상기 베이스가 y방향을 따라 이동하도록 지지하기 위한 y방향 동력전달 롤러; 및 z방향을 따라 상기 베이스를 지지하고 상기 베이스가 지지된 상태에서 x방향 및/또는 y방향의 위치 조정을 수행하기 위한 유니버설 휠 조절그룹(16)을 포함하며, 상기 z방향은 x방향 및 y방향으로 이루어진 평면에 수직된다.
베이스 이송 방법은 베이스를 작업 테이블(5)로부터 플레이트 언로딩 테이블(7)까지 이송시키는 하강 단계를 포함하고, 상기 하강 단계는 하기와 같은 단계를 포함한다.
단계(S11)에서, 플레이트 언로딩 테이블(7)은 베이스 핸드오버 스테이션(8)까지 이동한다.
단계(S12)에서, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 이송 어셈블리(4)가 이동하고 작업 테이블(5)에 위치한 가공이 완료된 제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)까지 전이되며, 이 전이 과정에서 이송 어셈블리(4)는 예를 들면 흡착 방식으로 베이스를 고정하고, 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)의 대응되는 위치까지 전이된 후 이송 어셈블리(4)가 제1 베이스에 대한 흡착을 해제한다.
단계(S13)에서, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 x방향 선정렬 유닛(2)이 작동하여, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 제1 베이스가 x방향에서의 방향 및 위치를 조절하고, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 x방향 위치 조정이 완료된 후, 이송 어셈블리(4)가 예를 들면 흡착 방식으로 제1 베이스를 고정한다.
단계(S14)에서, 이동 테이블(102)이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블(7)을 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)까지 이동시키며, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 이송 어셈블리(4)가 제1 베이스에 대한 흡착을 해제하고, y방향 선정렬 유닛(3)이 작동하여 플레이트 언로딩 테이블(7)에서 제1 베이스의 y방향에서의 방향 및 위치를 조절하며, 상기 x방향과 y방향은 서로 수직되고, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 y방향 위치 조정이 완료된 후, 이송 어셈블리(4)가 제1 베이스를 고정시킨다.
단계(S15)에서, 플레이트 언로딩 테이블(7)이 팰릿 핸드오버 스테이션(801)까지 이동하고, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 이송 어셈블리(4)가 제1 베이스를 해제시키고, 팰릿이 제1 베이스를 수거한다.
단계(S16)에서, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 이송 어셈블리(4)가 위치복귀되어 다음번 플레이트 언로딩을 대기한다.
상기 베이스 이송 방법은 베이스를 플레이트 업로딩 테이블(6)로부터 작업 테이블(5)까지 전이시키는 상승 단계를 더 포함하고, 상기 상승 단계는 하기와 같은 단계를 포함한다.
단계(S21)에서, 플레이트 업로딩 테이블(6)이 팰릿 핸드오버 스테이션(801)까지 이동하고, 팰릿이 이동하여 제2 베이스를 플레이트 업로딩 테이블(6)에 안착시킨다.
단계(S22)에서, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 x방향 선정렬 유닛(2)이 작동하여, 플레이트 업로딩 테이블(6)에서 제2 베이스의 x방향에서의 방향 및 위치를 조절하고, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 x방향 위치 조정이 완료된 후, 이송 어셈블리(4)가 예를 들면 흡착 방식으로 제2 베이스를 고정시킨다.
단계(S23)에서, 이동 테이블(102)이 이동하여 플레이트 업로딩 테이블(6)을 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션(302)까지 이동시키며, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 이송 어셈블리가 제2 베이스에 대한 흡착을 해제하고, y방향 선정렬 유닛(3)이 작동하여 플레이트 업로딩 테이블(6)에서 제2 베이스의 y방향에서의 방향 및 위치를 조절하며, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 y방향 위치 조정이 완료된 후, 이송 어셈블리(4)가 제2 베이스를 고정시킨다.
단계(S24)에서, 이동 테이블(102)이 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블 핸드오버 스테이션(802)까지 이송시키며, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 이송 어셈블리(4)가 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블(5)까지 이송시킨다.
단계(S25)에서, 플레이트 업로딩 테이블(6)의 이송 어셈블리(4)가 위치복귀되어 팰릿의 다음번 상승을 대기한다.
바람직하게, 상기 단계(S12)에서 제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)까지 이송되기 전에, 과도 에어 부상 어셈블리(9)가 승강 구조(10)의 작용하에 상승하고 제1 베이스에 대해 에어 부상 지지를 수행하며, 제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)에 위치한 후 과도 에어 부상 어셈블리(9)가 하강한다. 바람직하게, 상기 단계(S21)에서 팰릿이 제2 베이스를 이송할 경우, 팰릿 안전 측정 유닛(12)이 팰릿이 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 간섭 영역 내에 위치하는지의 여부를 측정하여 충돌을 방지한다.
바람직하게, 상기 S23에서 제2 베이스의 y방향 방위 조절이 완료된 후, 가스 중탕 유닛(13)이 제2 베이스에 대해 온도 조절을 수행하여 제2 베이스의 온도와 노광 환경 온도가 일치하도록 한다. 바람직하게, 상기 제1 베이스 또는 제2 베이스가 x방향 방위 조절 또는 y방향 방위 조절을 수행할 경우, 상기 플레이트 언로딩 테이블(7) 또는 플레이트 업로딩 테이블(6)에 위치한 유니버설 휠 조절그룹(16)은 z방향을 따라 상기 제1 베이스 또는 제2 베이스를 지지하고, 상기 z방향은 x방향 및 y방향으로 이루어진 평면에 수직된다.
본 발명은 작업 테이블(5)을 포함하고, 상술한 베이스 이송 장치를 더 포함하며, y방향을 따라 베이스를 이송하기 위한 다수의 회전 플레이트 테이블은 작업 테이블(5)에 노광 대기 베이스를 이송하기 위한 다수의 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 작업 테이블(5)로부터 기노광 베이스를 수용하기 위한 다수의 플레이트 언로딩 테이블(7)을 포함하는 포토리소그래피 기기를 더 제공한다.
본 발명은 상술한 베이스 이송 방법을 이용하여 베이스를 이송하는 포토리소그래피를 더 제공한다.
결론적으로, 본 발명이 제공하는 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기 및 포토리소그래피 방법은, 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 플레이트 언로딩 테이블(7)이 동일한 이동 테이블(102)에 연결되고 y방향 선정렬 유닛(3), 즉 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302) 및 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)이 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 양측에 대칭되게 분포되기에 전반 가공 과정은 하기와 같다.
플레이트 언로딩 테이블(7)이 작업 테이블(5)의 가공이 완료된 제1 베이스를 수용하는 동시에 플레이트 업로딩 테이블(6)의 x방향 선정렬이 미리 완료된 제2 베이스가 고정 테이블(101)에서의 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에서 유니버설 휠 조절그룹(16)의 지지 작용을 받아, y방향 선정렬 유닛(3)이 제2 베이스의 y방향 양측에 작용하고 제2 베이스의 위치를 설정값으로 조절함으로써 제2 베이스의 y방향 위치결정을 완료한다.
제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)에 위치한 다음, 베이스가 유니버설 휠 조절그룹(16)에 의해 지지되고, 플레이트 언로딩 테이블(7)의 x방향 선정렬 유닛(2)이 제1 베이스의 x방향에 대해 선정렬 및 위치 조정을 수행하고, 이동 테이블(102)이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블(7)이 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)에 위치하는 동시에 플레이트 업로딩 테이블(6)이 작업 테이블 핸드오버 스테이션(801)까지 이동한다.
플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션(301)의 제1 베이스가 유니버설 휠 조절그룹(16)의 지지 작용하에 y방향 선정렬 및 위치 조정을 수행하고, 플레이트 업로딩 테이블(6)이 위치 조절이 완료된 제2 베이스를 작업 테이블까지 이송한다.
팰릿이 새로운 베이스를 플레이트 업로딩 테이블(6)에 안착시키고 새로운 제2 베이스가 되며, 새로운 제2 베이스가 플레이트 업로딩 테이블(6) 양측의 x방향 선정렬 유닛(2) 작용하에 x방향의 선정렬 및 위치 조정을 완료한다.
이동 테이블(102)이 다시 이동하고, 제1 베이스를 탑재한 플레이트 언로딩 테이블(7)이 팰릿 핸드오버 스테이션(801)까지 이동하며, 팰릿이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블(7)에 위치한 제1 베이스를 수거하는 동시에 새로운 제2 베이스가 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에 위치하고, y방향 선정렬 유닛(3)에 의해 새로운 제2 베이스에 대해 y방향의 선정렬을 수행하여 새로운 제2 베이스의 방위 조절을 완료한다.
제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블(7)로부터 이송된 후, 가공이 완료된 새로운 제1 베이스가 작업 테이블로부터 이송되기를 대기한다.
이러한 순환 및 동시가공 방식을 통해, 새로운 베이스의 방위 정렬 및 가공이 완료된 베이스의 이송이 동시에 수행되기에, 가공 시간을 크게 절약하고 가공 효율을 향상시킬 수 있다. 또한 플레이트 언로딩 테이블(7)의 베이스의 위치도 설정값으로 조절함으로써, 팰릿이 가공이 완료된 베이스를 이송한 다음 안착시킬 때 더 간단하고 편리할 수 있고 후속적인 팰릿의 안착 안전성이 높아지고 실용성이 강해진다.
플레이트 업로딩 테이블(6) 및 플레이트 언로딩 테이블(7)이 동일한 이동 테이블(102)에 연결되고 2개의 y방향 선정렬 유닛(3)이 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 양측에 대칭되게 분포되기에 투입 원가를 더 낮출 수 있고 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 플레이트 언로딩 테이블(7)이 이동 시 동시에 동기 이동 가능하여 오류도 적게 발생할 수 있다.
여기서, 가공이 완료된 베이스가 작업 테이블로부터 플레이트 언로딩 테이블(7)에 이송하기 전에, 승강 구조(10)가 과도 에어 부상 어셈블리(9)를 구동하여 상승시키고 작업 테이블(5)과 플레이트 언로딩 테이블(7) 사이에 위치한 베이스에 대해 과도 지지를 수행함으로써, 대형 베이스에 대한 더 좋은 지지 효과가 있고 베이스의 파열되는 등 문제를 방지하며, 안전계수가 더 높아지기에 본 발명의 장치는 대형 베이스의 이송에 적용될 수 있다. 이송 어셈블리(4)가 베이스를 끌어 이동시킬 경우, 베이스의 하단은 y방향 동력전달 휠 그룹(15)을 통해 회전 가능하게 지지되기에, 베이스를 지지하여 파열을 방지하는 동시에 베이스의 마모를 최대한으로 줄일 수 있다. 가공이 완료된 베이스의 전이가 완료된 후 승강 구조(10)가 과도 에어 부상 어셈블리(9)를 구동하여 하강시키고, 이로써 다음번 작업 테이블이 베이스를 이동 플랫폼(1) 가까이로 전이시킬 경우, 작업 테이블(5)과 과도 에어 부상 어셈블리(9) 사이의 충돌을 잘 방지할 수 있기에 안전성이 더 높아진다.
베이스의 정전기 제거기(11) 및 팰릿 안전 측정 유닛은 고정 테이블(101)에 설치되고, 베이스 핸드오버 스테이션(8)에 위치한 팰릿 핸드오버 스테이션(801)에서, 즉 팰릿이 베이스를 이송하는 입출구 위치에서 외부에서 이송되어 온 베이스에 대해 정전기 제거를 수행함으로써 베이스의 정전기가 후속적인 노광에 영향주는 것을 방지하고, 팰릿 안전 측정 유닛(12)은 팰릿이 베이스 핸드오버 스테이션(8)의 간섭 영역 내에 위치하는지의 여부를 시의적절하게 측정함으로써 팰릿에 위치 편차가 발생하였는데 계속하여 베이스를 밀어 이송하는 상황을 방지하여 베이스의 이송 안정성을 확보한다. 가스 중탕 유닛(13)이 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에 설치되고 플레이트 업로딩 준비 시 플레이트 업로딩 테이블(6)이 선정렬이 완료된 제2 베이스를 플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션(302)에서 플레이트 업로딩을 대기하고, 대기하는 시간 내에 가스 중탕 유닛(13)이 제2 베이스에 대해 온도 제어를 수행하여 베이스 온도와 노광 환경 온도가 일치하도록 보장함으로써 베이스와 노광 온도가 상이하여 노광 품질이 떨어지는 문제를 감소하고 노광 품질을 간접적으로 향상시킨다.
포토리소그래피 기기가 상술한 이송 장치를 사용하여 이송을 수행하고, 상술한 이송 방법을 사용하여 베이스를 이송할 경우, 베이스의 이송 효율이 더 높을 뿐만 아니라 베이스의 후속적인 안착 안전성도 더 좋아지고 노광 품질도 향상시킬 수 있으며 실용성도 강해진다.
여기서 이동 플랫폼(1)의 구조는 도 4에 도시된 바와 같이, 이동 테이블(102)이 이동 프레임(1021) 및 이동 프레임(1021)에 평행되게 연결되는 플레이트 업로딩 y축(1022)과 플레이트 언로딩 y축(1023)을 포함하고, 플레이트 업로딩 테이블(6)은 플레이트 업로딩 y축(1022)에 연결되며, 플레이트 언로딩 테이블(7)은 플레이트 언로딩 y축(1023)에 연결되고; 이동 프레임(1021)은 전체적으로 고정 테이블 (101)에서 x방향을 따라 이동할 수 있기에 플레이트 업로딩 테이블(6) 및 플레이트 언로딩 테이블(7)도 x방향에서 이동할 수 있게 하며, 이동 프레임(1021)과 고정 테이블(101) 사이에 잠금 실린더가 더 구비되기에, 플레이트 업로딩, 플레이트 언로딩 또는 베이스의 위치 조절 시, 이동 프레임(1021)이 모두 잠금 실린더를 통해 고정 테이블(101)에 고정 연결됨으로써, 베이스 위치의 안정성을 유지할 수 있어 플리이트 업로딩, 언로딩 또는 x, y방향에서 베이스의 방위에 대한 조절을 더 안정적으로 진행한다.
회전 플레이트 테이블의 구조는 도 5에 도시된 바와 같이, 이동 테이블(102)에 연결되는 연결 프레임(14)을 포함하고, 연결 프레임(14) 사이에 다수의 평행되는 y방향 동력전달 휠 그룹(15)이 설치되며, y방향 동력전달 휠 그룹(15)의 구조는 도 6에 도시된 바와 같이 y방향 동력전달 휠 그룹(15)은 연결 프레임(14)에 연결된 동력전달 플레이트체(1501) 및 동력전달 플레이트체(1501)에 회전 가능하게 연결된 정전기방지 동력전달 휠(1502)을 포함한다. 베이스가 y방향 동력전달 휠 그룹(15)에 위치할 경우, 베이스는 y방향을 따라서만 이동하고; 연결 프레임(14)에 유니버설 휠 조절그룹(16)이 설치되며, 유니버설 휠 조절그룹(16)은 유니버설 조절 실린더(17)를 통해 z방향에서 승강할 수 있도록 이동 테이블(102)에 연결되고, 여기서 z방향은 x, y방향이 위치한 평면에 수직되는 방향이다. 베이스에 대해 x방향 조절을 수행할 경우, 유니버설 조절 실린더(17)는 유니버설 휠 조절그룹(16)을 상승시키고 다음 유니버설 휠 조절그룹(16)은 그 최상단의 유니버설 볼 베어링(18)을 통해 베이스를 지지하며, 이로써 베이스는 선정렬 상황에 따라 x방향 및 y방향에서 필요한 이동을 수행하게 된다. 유니버설 휠 조절그룹(16), 유니버설 조절 실린더(17) 및 유니버설 볼 베어링(18)의 구조는 도 7에 도시된 바와 같고, 베이스의 위치 조절이 완료된 후 유니버설 조절 실린더(17)가 하강하여 베이스가 y방향 동력전달 휠 그룹(15)에 떨어지게 하며; 동시에 회전 플레이트 테이블이 작업 테이블(5)에 접근하는 측부에 전단 에어 부상 블록(19)(도 10에 도시된 바와 같음)이 설치되어 베이스에 대한 과도 지지를 실현한다.
x방향 선정렬 유닛(2)의 구조는 도 8에 도시된 바와 같이, 연결 프레임(14)에 연결된 연결 브라켓(201)을 포함하고, 연결 브라켓(201)에 x방향 공압 슬라이딩 테이블(202)이 설치되며, x방향 공압 슬라이딩 테이블(202)에 장착 플레이트(203), 기둥(204) 및 정전기방지 롤러(205)가 설치되고, x방향 공압 슬라이딩 테이블(202)이 장착 플레이트(203), 기둥(204) 및 정전기방지 롤러(205)를 구동시키고, x방향에서 베이스가 이동하도록 구동시킬 수 있으며; x방향 선정렬 유닛(2)은 회전 플레이트 테이블의 x방향의 각 측에 모두 2개씩 설치되고, 이로써 상기 4개의 x방향 선정렬 유닛(2)을 통해 베이스의 x방향의 위치를 정확하게 조절할 수 있다. 하나의 y방향 선정렬 유닛(3)은 고정 테이블(101)의 y방향 양측에 분포된 2쌍의 실린더를 포함하고, 유니버설 휠 조절그룹(16)이 베이스를 상승시킨 다음 y방향 선정렬 유닛(3)이 이동하여 베이스의 y방향 양단을 클램핑하여 베이스의 y방향 위치 조절을 수행할 수 있다.
베이스를 이송하는 이송 어셈블리(4)는 도 9에 도시된 바와 같이, 이동 테이블(102)에 이동 가능하게 연결되는 장착 브라켓(401) 및 장착 브라켓(401)에 위치한 흡반 어셈블리(402)를 포함하고, 장착 브라켓(401)은 실린더를 통해 승강 가능하게 이동 테이블(102)에 연결되며; 이송 어셈블리(4)가 베이스를 이송시킬 경우, 장착 브라켓(401)이 이동하여 흡반 어셈블리(402)가 베이스 하방에 위치하게 되고, 흡반에 의해 진공 작동이 개시되어, 다음 베이스의 위치에 대해 고정을 수행할 수 있고, 이때 장착 브라켓(401)의 작용하에 베이스를 이동시킨다. 마찬가지로, 회전 플레이트 테이블이 이동 시에도 베이스의 위치를 고정해야 하는데, 이때도 흡반 어셈블리(402)를 통해 고정을 수행하지만, 베이스의 x방향 또는 y방향 방위를 조절할 경우 흡반 어셈블리(402)는 베이스가 자유롭게 이동하도록 페쇄되어야 한다. 본 발명에서 언급한 모든 실린더는 모터 또는 기타 구동부재로 대체될 수 있다.
본 명세서의 각 실시예는 모두 점진적인 서술 방식으로 설명되었으며, 각각의 실시예는 모두 다른 실시예와의 다른 점을 주로 설명하였으며, 각 실시예 사이의 동일하거나 유사한 부분은 서로 참조할 수 있음을 미리 말해둔다.
상기 설명은 단지 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 설명일 뿐, 본 발명의 범위에 대한 어떠한 한정도 아니다. 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진자가 이상에서 개시된 내용에 따라 수행한 임의의 변경, 수식은 모두 청구범위의 보호범위에 속한다.
1-이동 플랫폼
101-고정 테이블
102-이동 테이블
1021-이동 프레임
1022-플레이트 업로딩 y축
1023-플레이트 언로딩 y축
2-x방향 선정렬 유닛
201-연결 브라켓
202-x방향 공압 슬라이딩 테이블
203-장착 플레이트
204-기둥
205-정전기방지 롤러
3-y방향 선정렬 유닛
301- 플레이트 언로딩 y방향 선정렬 스테이션
302-플레이트 업로딩 y방향 선정렬 스테이션
4-이송 어셈블리
401-장착 브라켓
402-흡반 어셈블리
5-작업 테이블
6-플레이트 업로딩 테이블
7-플레이트 언로딩 테이블
8-베이스 핸드오버 스테이션
801-팰릿 핸드오버 스테이션
802-작업 테이블 핸드오버 스테이션
9-과도 에어 부상 어셈블리
10-승강 구조
11-정전기 제거기
12-팰릿 안전 측정 유닛
13-가스 중탕 유닛
14-연결 프레임
15-y방향 동력전달 휠 그룹
1501-동력전달 플레이트체
1502-정전기방지 동력전달 휠
16-유니버설 휠 조절그룹
17-유니버설 조절 실린더
18-유니버설 볼 베어링
19-전단 에어 부상 블록

Claims (25)

  1. 고정 테이블 및 상기 고정 테이블과 이동 가능하게 연결된 다수의 이동 테이블을 포함하는 이동 플랫폼; 및
    제1 방향을 따라 설치되고 제2 방향을 따라 베이스를 이송하는 다수의 회전 플레이트 테이블을 포함하고,
    상기 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직되며,
    상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중의 각각의 회전 플레이트 테이블은 모두 각각 상기 이동 테이블의 상응한 부분에 연결되고, 상기 이동 테이블에 의해 제1 방향을 따라 이동하며,
    상기 이동 플랫폼 및 상기 회전 플레이트 테이블에는 베이스에 대해 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 선정렬 어셈블리가 설치되고,
    상기 다수의 회전 플레이트 테이블 중 하나의 회전 플레이트 테이블이 제1 베이스를 하강시키는 동시에, 다른 하나의 회전 플레이트 테이블은 제2 베이스를 수용하고 상기 선정렬 어셈블리의 작용하에서 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에서 선정렬을 수행하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 선정렬 어셈블리는, 상기 회전 플레이트 테이블의 양측에 위치하고 상기 회전 플레이트 테이블 상에 위치한 베이스에 대해 상기 제1 방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 제1 방향 선정렬 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 선정렬 어셈블리는, 상기 고정 테이블에 위치하고 상기 회전 플레이트 테이블 상에 위치한 베이스에 대해 상기 제2 방향에서 선정렬 및 위치 조정을 수행하기 위한 제2 방향 선정렬 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 다수의 회전 플레이트 테이블은 적어도 하나의 플레이트 업로딩 테이블 및 적어도 하나의 플레이트 언로딩 테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 회전 플레이트 테이블에는, 상기 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 베이스를 작업 테이블까지 전이시키거나 또는 가공이 완료된 베이스를 상기 작업 테이블로부터 상기 플레이트 언로딩 테이블까지 전이시키기 위한 이송 어셈블리가 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 고정 테이블은 베이스 핸드오버 스테이션(base handover station)을 포함하고, 상기 회전 플레이트 테이블은 상기 베이스 핸드오버 스테이션에서 베이스의 핸드오버를 수행하고,
    상기 선정렬 어셈블리는 상기 베이스 핸드오버 스테이션의 양측에 분포된 2개의 제2 방향 선정렬 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 베이스 핸드오버 스테이션은 팰릿 핸드오버 스테이션(Pallet handover station) 및 작업 테이블 핸드오버 스테이션을 포함하고, 상기 팰릿 핸드오버 스테이션과 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션은 상기 제2 방향을 따라 상기 고정 테이블의 양측에 분포되며,
    상기 회전 플레이트 테이블은 상기 팰릿 핸드오버 스테이션에서 팰릿과 베이스의 핸드오버를 수행하고,
    상기 회전 플레이트 테이블은 상기 작업 테이블 핸드오버 스테이션에서 상기 작업 테이블과 베이스의 핸드오버를 수행하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 플레이트 업로딩 테이블에 연결된 상기 이동 테이블 및 상기 플레이트 언로딩 테이블에 연결된 상기 이동 테이블은 일체 구조인 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  9. 제6항에 있어서,
    2개의 상기 제2 방향 선정렬 유닛은 각각 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션 및 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션에 위치하고, 상기 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션 및 상기 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션은 상기 제1 방향을 따라 상기 베이스 핸드오버 스테이션의 양측에 대칭되게 분포되며,
    상기 플레이트 언로딩 테이블이 상기 베이스 핸드오버 스테이션에 위치할 경우, 상기 플레이트 업로딩 테이블이 상기 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션에 위치하고,
    상기 플레이트 업로딩 테이블이 상기 베이스 핸드오버 스테이션에 위치할 경우, 상기 플레이트 언로딩 테이블이 상기 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션에 위치하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  10. 제4항에 있어서,
    상기 고정 테이블에는 작업 테이블과 상기 회전 플레이트 테이블 사이에 위치한 베이스에 대한 에어 부상면 지지를 제공하기 위한 과도 에어 부상 어셈블리가 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 과도 에어 부상 어셈블리에는 상기 고정 테이블에 연결되어 상기 과도 에어 부상 어셈블리를 승강시키기 위한 승강 구조가 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  12. 제4항에 있어서,
    상기 고정 테이블에는 팰릿으로부터 상기 플레이트 업로딩 테이블에 핸드오버되는 베이스의 정전기를 제거하기 위한 정전기 제거기가 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  13. 제7항에 있어서,
    상기 고정 테이블에는 베이스를 안착시키거나 수거하는 팰릿에 대해 위치 측정을 수행하기 위한 팰릿 안전 측정 유닛이 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  14. 제4항에 있어서,
    상기 고정 테이블에는 상기 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 베이스의 온도를 조절하기 위한 가스 중탕 유닛이 설치되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  15. 제3항에 있어서,
    상기 회전 플레이트 테이블은,
    상기 베이스가 상기 제2 방향을 따라 이동하도록 지지하기 위한 제2 방향 동력전달 롤러; 및
    제3 방향을 따라 상기 베이스를 지지하고 상기 베이스가 지지된 상태에서 상기 제1 방향 또는 상기 제2 방향의 위치 조정을 수행하기 위한 유니버설(universal) 휠 조절그룹을 포함하고,
    상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 정의된 평면에 수직되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 장치.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 베이스 이송 장치에 의해 베이스를 이송시키는 방법에 있어서,
    베이스를 작업 테이블로부터 플레이트 언로딩 테이블까지 이송시키는 플레이트 언로딩 단계를 포함하고,
    상기 플레이트 언로딩 단계는,
    플레이트 언로딩 테이블이 베이스 핸드오버 스테이션까지 이동되는 단계(S11);
    플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 이동하고 작업 테이블에 위치한 가공이 완료된 제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블까지 전이되는 단계(S12);
    플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리에서 제1 베이스를 해제시키고, 플레이트 언로딩 테이블의 제1 방향 선정렬 유닛이 이동하여, 플레이트 언로딩 테이블에서 제1 베이스가 제1 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S13);
    플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블을 플레이트 언로딩 선정렬 스테이션까지 이동시키며, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 해제시키고, 제2 방향 선정렬 유닛이 이동하여 플레이트 언로딩 테이블에서 제1 베이스의 제2 방향에서의 방위를 조절하며, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직되고, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 고정하는 단계(S14); 및
    플레이트 언로딩 테이블이 팰릿 핸드오버 스테이션까지 이동하고, 플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제1 베이스를 해제시키고, 팰릿이 제1 베이스를 수거하는 단계(S15)를 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    플레이트 언로딩 테이블의 이송 어셈블리가 위치복귀되어 다음번 플레이트 언로딩을 대기하는 단계(S16)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    베이스를 플레이트 업로딩 테이블로부터 작업 테이블까지 전이시키는 플레이트 업로딩 단계를 더 포함하고,
    상기 플레이트 업로딩 단계는,
    플레이트 업로딩 테이블이 팰릿 핸드오버 스테이션까지 이동하고, 팰릿이 이동하여 제2 베이스를 플레이트 업로딩 테이블에 안착시키는 단계(S21);
    플레이트 업로딩 테이블의 상기 제1 방향 선정렬 유닛이 이동하여, 플레이트 업로딩 테이블에서 제2 베이스의 상기 제1 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S22);
    플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 플레이트 업로딩 테이블을 상기 플레이트 업로딩 선정렬 스테이션까지 이동시키며, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스를 해제시키고, 상기 제2 방향 선정렬 유닛이 이동하여 플레이트 업로딩 테이블에서 제2 베이스의 제2 방향에서의 방위를 조절하는 단계(S23); 및
    플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 제2 베이스의 위치를 고정하고, 이동 테이블이 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블 핸드오버 스테이션까지 이송시키며, 플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 이동하여 제2 베이스를 작업 테이블까지 이송시키는 단계(S24)를 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  19. 제18항에 있어서,
    플레이트 업로딩 테이블의 이송 어셈블리가 위치복귀되어 팰릿의 다음번 플레이트 업로딩을 대기하는 단계(S25)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  20. 제16항에 있어서,
    상기 단계(S12)에서 상기 제1 베이스가 상기 플레이트 언로딩 테이블까지 이송되기 전에,
    과도 에어 부상 어셈블리가 승강 구조의 작용하에 상승하고 상기 제1 베이스에 대해 에어 부상 지지를 수행하며, 상기 제1 베이스가 플레이트 언로딩 테이블에 위치한 후 상기 과도 에어 부상 어셈블리가 하강하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  21. 제18항에 있어서,
    상기 단계(S21)에서 팰릿이 상기 제2 베이스를 이송할 경우, 정전기 제거기가 상기 제2 베이스의 정전기를 제거하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  22. 제18항에 있어서,
    상기 단계(S21)에서 팰릿이 상기 제2 베이스를 이송할 경우, 팰릿 안전 측정 유닛이 팰릿이 베이스 핸드오버 스테이션의 간섭 영역 내에 위치하는지의 여부를 측정하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  23. 제18항에 있어서,
    상기 단계(S23)에서 상기 제2 베이스의 제2 방향 방위 조절이 완료된 후, 가스 중탕 유닛이 상기 제2 베이스에 대해 온도 조절을 수행하여 상기 제2 베이스의 온도와 노광 환경 온도가 일치하도록 하는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  24. 제18항에 있어서,
    상기 제1 베이스 또는 상기 제2 베이스가 제1 방향 방위 조절 또는 제2 방향 방위 조절을 수행할 경우, 상기 플레이트 언로딩 테이블 또는 플레이트 업로딩 테이블에 위치한 유니버설 휠 조절그룹이 제3 방향을 따라 상기 제1 베이스 또는 상기 제2 베이스를 지지하고, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 정의된 평면에 수직되는 것을 특징으로 하는 베이스 이송 방법.
  25. 작업 테이블을 포함하는 포토리소그래피(photolithography) 기기에 있어서,
    제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 베이스 이송 장치를 더 포함하고,
    제2 방향을 따라 베이스를 이송하기 위한 다수의 회전 플레이트 테이블은 작업 테이블에 노광 대기 베이스를 이송하기 위한 적어도 하나의 플레이트 업로딩 테이블 및 작업 테이블로부터 기노광 베이스를 수용하기 위한 적어도 하나의 플레이트 언로딩 테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 기기.
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