JP6717908B2 - 基板の搬送装置、搬送方法、及びフォトリソグラフィ設備 - Google Patents

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Description

本発明は、フォトリソグラフィ分野に属し、特に基板の搬送装置、搬送方法、及びフォトリソグラフィ設備に関する。
フォトリソグラフィ装置などの多くの半導体設備において、基板を露光ワークステーションへ搬送するとき、搬送ワークステーションを経由して引き渡すことが必要となる。通常、露光ワークステーションの前に搬送ワークステーションを設け、基板を露光位置へ搬送しなければならない。しかし、搬送装置は、基板に対してプリアライメントを行うことができないので、プリアライメント装置を独立して増やすことで基板をプリアライメントし、プリアライメント完了後にワークステージへ搬送して露光しなければならない。このように基板の露光効率が悪くなってしまう。
本発明の目的は、基板の搬送装置、搬送方法、及びフォトリソグラフィ設備を提供し、基板の露光効率が悪いという課題を解決することである。
上述の技術的課題を解決するために、本発明は、基板の搬送装置を提供するものであり、動作ステージと、複数の基板移動テーブルと、を有し、前記複数の基板移動テーブルは、第１方向に沿って設けられ、前記基板移動テーブルは、第２方向に沿って基板を搬送するためのものであり、前記第１方向及び第２方向は、互いに垂直であり、前記動作ステージは、固定テーブル、及び前記固定テーブルに可動的に接続された複数の動作テーブルを有し、前記基板移動テーブルにおける各基板移動テーブルはいずれも、前記動作テーブルの対応する部分にそれぞれ接続され、かつ前記動作テーブルにより第１方向に沿って動作するよう駆動され、前記動作ステージ、及び前記基板移動テーブルには基板に対してプリアライメント、及び位置調整を行うためのプリアライメント機構が設けられ、前記複数の基板移動テーブルにおける一つの基板移動テーブルが第１基板をアンロードすると同時に、前記複数の基板移動テーブルにおける他の基板移動テーブルは、第２基板を受け取り、かつ前記プリアライメント機構の作用により前記第１方向及び第２方向においてプリアライメントを行うものである。
本発明はさらに、前記プリアライメント機構は、第１方向プリアライメントユニットを有し、第１方向プリアライメントユニットは、前記基板移動テーブルの両側に位置し、かつ前記基板移動テーブルに位置する基板に対して、前記第１方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うために設けられる。
本発明さらに、前記プリアライメント機構は、第２方向プリアライメントユニットをさらに有し、第２方向プリアライメントユニットは、前記固定テーブルに位置し、かつ前記基板移動テーブルに位置する基板に対して、前記第２方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うために設けられる。
本発明はさらに、前記複数の基板移動テーブルは、少なくとも一つの基板ロードテーブル、及び少なくとも一つの基板アンロードテーブルを有するように設けられる。
本発明はさらに、前記基板移動テーブルには移送機構が設けられ、前記移送機構は、前記基板ロードテーブルに位置する基板をワークステージに移動させ、または加工が完了した基板を前記ワークステージから前記基板アンロードテーブルへ移動させるために設けられる。
本発明はさらに、前記固定テーブルは、基板引渡ワークステーションを有し、前記基板移動テーブルは、前記基板引渡ワークステーションの箇所において基板の引き渡しを行うためのものであり、前記プリアライメント機構は、二つの第２方向プリアライメントユニットをさらに有し、二つの前記第２方向プリアライメントユニットは、前記基板引渡ワークステーションの両側に分布するように設けられる。
本発明はさらに、前記基板引渡ワークステーションは、基板フォーク引渡ワークステーション、及びワークステージ引渡ワークステーションを有し、前記基板フォーク引渡ワークステーションは、前記ワークステージ引渡ワークステーションともに前記第２方向に沿って、前記固定テーブルの両側に分布し、前記基板移動テーブルは、前記基板フォーク引渡ワークステーションの箇所と基板フォークとの間で基板を引き渡すためのものであり、前記基板移動テーブルは、前記ワークステージ引渡ワークステーションの箇所と前記ワークステージとの間で基板を引き渡すためのものであるように設けられる。
本発明はさらに、前記基板ロードテーブルに接続された前記動作テーブルと、前記基板アンロードテーブルに接続された前記動作テーブルは、一体構造になるように設けられている。
本発明はさらに、二つの前記第２方向プリアライメントユニットは、基板アンロードプリアライメントワークステーション、及び基板ロードプリアライメントワークステーションにそれぞれ位置し、前記基板アンロードプリアライメントワークステーション及び前記基板ロードプリアライメントワークステーションは、前記第１方向に沿って前記基板引渡ワークステーションの両側に対称的に分布し、前記基板アンロードテーブルが前記基板引渡ワークステーションに位置するとき、前記基板ロードテーブルは、前記基板ロードプリアライメントワークステーションの箇所に位置し、前記基板ロードテーブルが前記基板引渡ワークステーションに位置するとき、前記基板アンロードテーブルは、前記基板アンロードプリアライメントワークステーションの箇所に位置するように設けられる。
本発明はさらに、前記固定テーブルに移動用空気浮上機構が設けられ、移動用空気浮上機構は、ワークステージと前記基板移動テーブルとの間の基板に空気浮上の面支持をするよう提供するように設けられる。
本発明はさらに、前記移動用空気浮上機構には、前記移動用空気浮上機構を昇降させための昇降構造が設けられ、前記昇降構造は、前記固定テーブルに接続されるように設けられる。
本発明はさらに、前記固定テーブルには静電消去器が設けられ、静電消去器は、基板フォークから前記基板ロードテーブルへ引き渡される基板の静電気を消去するように設けられる。
本発明はさらに、前記固定テーブルには基板フォーク安全検出ユニットが設けられ、基板フォーク安全検出ユニットは、基板を載置してピックアップする基板フォークを位置検出するように設けられる。
本発明はさらに、前記固定テーブルには空気浴ユニットが設けられ、空気浴ユニットは、前記基板ロードテーブルに位置する基板の温度を調節するように設けられる。
本発明はさらに、前記基板移動テーブルは、第２方向駆動輪及びユニバーサルローラ調節群を有し、前記第２方向駆動輪は、前記基板を支持して前記第２方向に沿って移動するためのものであり、前記ユニバーサルローラ調節群は、第３方向に沿って前記基板を持ち上げ、かつ前記基板が前記持ち上げられた状態で前記第１方向及び／または前記第２方向の位置調整を行うことを許容するためのものであり、前記第３方向は、前記第１方向及び前記第２方向により定義される平面に垂直であるように設けられる。
上述の基板の搬送装置に基づいて基板を搬送する方法は、基板をワークステージから基板アンロードテーブルへ搬送する基板アンロードステップを含み、前記基板アンロードステップは、以下を含む。
ステップＳ１２：基板アンロードテーブル上の移送機構は動作してワークステージに位置する加工が完了した第１基板を基板アンロードテーブルへ移動させるステップと、
ステップＳ１３：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板アンロードテーブル上の第１方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の基板の第１方向における方位を調節するステップと、
ステップＳ１４：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を固定し、動作テーブルは動作して基板アンロードテーブルが基板アンロードプリアライメントワークステーションの箇所まで動作するよう駆動し、基板アンロードテーブル上の移送機構は第１基板を解放し、第２方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の第１基板の第２方向における方位を調整し、前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直であり、基板アンロードテーブル上の移送機構に対して第１基板を固定するステップと、
ステップＳ１５：基板アンロードテーブルは、基板フォーク引渡ワークステーションまで動作し、基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板フォークは第１基板をピックアップするステップと、である。
本発明はさらに、ステップＳ１６をさらに含み、基板アンロードテーブルの移送機構は復位し、次のアンロードを待つように設けられる。
本発明はさらに、基板を基板ロードテーブルからワークステージまで移動させる基板ロードステップをさらに含み、前記基板ロードステップは、以下を含むように設けられる。
ステップＳ２１：基板ロードテーブルは、基板フォーク引渡ワークステーションの箇所まで動作し、基板フォークは動作して第２基板を基板ロードテーブルに載置するステップと、
ステップＳ２２：基板ロードテーブル上の前記第１方向プリアライメントユニットは動作して基板ロードテーブル上の第２基板の前記第１方向における方位を調節するステップと、
ステップＳ２３：基板ロードテーブルの移送機構は、第２基板を固定し、動作テーブルは動作して基板ロードテーブルが前記基板ロードプリアライメントワークステーションの箇所まで動作するよう駆動し、基板ロードテーブル上の移送機構は、第２基板を解放し、前記第２方向プリアライメントユニットは動作して基板ロードテーブル上の第２基板の前記第２方向における方位を調節するステップと、
ステップＳ２４：基板ロードテーブル上の移送機構は、第２基板の位置を固定し、動作テーブルは動作して第２基板をワークステージ引渡ワークステーションまで搬送し、基板ロードテーブル上の移送機構は動作して第２基板をワークステージまで搬送するステップと、である。
本発明はさらに、ステップＳ２５をさらに含み、基板ロードテーブルの移送機構は復位し、基板フォークの次のロードを待つように設けられる。
本発明はさらに、前記ステップＳ１２における前記第１基板を前記基板アンロードテーブルへ搬送する前に、移動用空気浮上機構は、昇降構造の作用により上昇し、かつ前記第１基板を空気浮上にて支持し、前記第１基板が基板アンロードテーブルに位置した後、前記移動用空気浮上機構は下降するように設けられる。
本発明はさらに、前記ステップＳ２１において基板フォークが前記第２基板を搬送するとき、静電消去器は、前記第２基板を静電消去するように設けられる。
本発明はさらに、前記ステップＳ２１において基板フォークが第２基板を搬送するとき、基板フォーク安全検出ユニットは、基板フォークが基板引渡ワークステーションの干渉領域内にあるか否かを検出するように設けられる。
本発明はさらに、前記ステップＳ２３において前記第２基板の第２方向の方位調整が完了した後、空気浴ユニットは、前記第２基板に温度調節を行い、かつ前記第２基板の温度を露光環境温度に一致させるように設けられる。
本発明はさらに、前記第１基板または前記第２基板に第１方向の方位調節、または第２方向の方位調節を行うとき、前記基板アンロードテーブルまたは基板ロードテーブルに位置するユニバーサルローラ調節群は、第３方向に沿って前記第１基板または前記第２基板を持ち上げ、前記第３方向は、前記第１方向及び前記第２方向により定義される平面に垂直であるように設けられる。
フォトリソグラフィ設備は、ワークステージを有し、上述の基板の搬送装置を有し、第２方向に沿って基板を搬送するための前記複数の基板移動テーブルは、少なくとも一つの基板ロードテーブル及び少なくとも一つの基板アンロードテーブルを有し、前記基板ロードテーブルは、ワークステージへ露光待ちの基板を搬送するためのものであり、前記基板アンロードテーブルは、ワークステージから露光済みの基板を受け取るためのものである。
既存の技術と比較して、本発明は、基板の搬送装置、搬送方法、及びフォトリソグラフィ設備を提供するものであり、基板を加工する過程において、そのうちの一つの基板移動テーブルがワークステージに対して基板をアンロードするとき、このときの他の基板移動テーブルは、基板フォークにより搬送される新たな基板を受け取ることができ、その後、この基板は、この基板移動テーブル上のｘ方向プリアライメントユニットの作用によりｘ方向のプリアライメントが行われ、ｙ方向プリアライメントユニット箇所において、ｙ方向のプリアライメントが行われ、加工が完了した基板を載置する基板移動テーブルが移動した後、この新たな基板を置いた基板移動テーブルはワークステージへ移動し、かつ移送機構の作用により新たな基板をワークステージへ移動させて加工を行う。
この過程において、ワークステージが基板をアンロードすると同時に、新たな基板は既にロード準備中であり、このように加工が完了した基板が移動した後、新たな基板がワークステージへ搬送される時間は大幅に減少されることで加工効率を向上させることができる。
新たな基板を載置した基板移動テーブルがワークステージへ基板を移動させるとき、加工が完了した基板を載置した基板移動テーブルのｘ方向プリアライメントユニットは、加工が完了した基板にｘ方向プリアライメントを行うことを完了し、その後、ｙ方向プリアライメントユニットの作用によりｙ方向のプリアライメントを完了し、プリアライメント完了後に、基板フォークは、加工が完了した基板を移動させるため、後続の基板の載置がしやすく、実用性が高い。
基板を載置してピックアップする全過程において、新たな基板のロード、及び加工が完了した基板のアンロードを同時に行うことが可能であり、このように加工効率も保証され、しかも加工が完了した基板の位置も正確に調節できるので、後続の加工が完了した基板の載置の品質もさらに高められ、安全性もさらに向上することが可能である。
本発明における基板の搬送装置の正方向構造概略図である。 本発明における基板の搬送装置の平面構造概略図である。 本発明における基板の搬送装置の側面構造概略図である。 本発明における動作ステージの構造概略図である。 本発明における基板移動テーブル（基板ロードテーブル及び基板アンロードテーブル）の構造概略図である。 本発明におけるｙ方向駆動輪群の構造概略図である。 本発明におけるユニバーサルローラ調節群、ユニバーサル調節シリンダ、及びボールトランスファの構造概略図である。 本発明におけるｘ方向プリアライメントユニットの構造概略図である。 本発明における移送機構の構造概略図である。 本発明における動作ステージの立体構造図である。
以下に図面及び具体的な実施例を踏まえて、本発明により提出される基板の搬送装置、搬送方法、及びフォトリソグラフィ設備をさらに詳細に説明する。以下の明細書及び特許請求の範囲に基づいて、本発明の優れた点及び特徴はさらに明確になる。図面は、いずれも非常に簡素化された形式を採用し、かついずれも正確でない比率を採用しており、本発明の実施例を便利に、明確に補助的に説明する目的のみに用いられることを説明する必要がある。図面における同一、または類似の図面記号は、同一、または類似の部材を示す。
基板の搬送装置は、図１から図１０に示すとおりである。動作ステージ１と、複数の基板移動テーブルと、を有し、前記複数の基板移動テーブルはｘ方向に沿って設けられ、前記基板移動テーブルは、ｙ方向に沿って基板を搬送するためのものであり、前記ｘ方向及びｙ方向は、互いに垂直であり、ｘ、ｙ方向は図２に示すとおりである。前記動作ステージ１は、固定テーブル１０１、及び前記固定テーブル１０１に可動的に接続された複数の動作テーブル１０２を有し、前記基板移動テーブルは、前記動作テーブル１０２にそれぞれ接続され、かつ前記動作テーブル１０２によりｘ方向に沿って動作可能である。前記複数の基板移動テーブルは、複数の基板ロードテーブル６、及び複数の基板アンロードテーブル７を有する。好ましくは、前記ワークステージ５は、フォトリソグラフィ装置内に応用され、基板を支持してアライメント位置測定、または焦面位置測定、及び露光などを行うためのものである。
好ましくは、前記固定テーブル１０１及び動作テーブル１０２はいずれも、フレーム構造である。
好ましくは、前記動作ステージ１及び／または前記基板移動テーブルには、基板に対してプリアライメント、及び位置調整を行うためのプリアライメント機構が設けられる。好ましくは、前記プリアライメント機構は、前記基板移動テーブルのｘ方向の両側に設けられ、前記基板移動テーブルに位置する基板に対してｘ方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うためのｘ方向プリアライメントユニット２を有し、前記プリアライメント機構は、前記固定テーブル１０１に位置し、前記基板移動テーブルに位置する基板に対してｙ方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うためのｙ方向プリアライメントユニット３をさらに有する。
好ましくは、前記基板移動テーブルには移送機構４が設けられ、前記基板移動テーブルが基板ロードテーブルとして機能するときは、前記移送機構４は、前記基板ロードテーブル６に位置する基板をワークステージ５へ移動させるためのものであり、前記基板移動テーブルが基板アンロードテーブルとして機能するときは、前記移送機構４は、加工が完了した基板を前記ワークステージ５から前記基板アンロードテーブル７へ移動させるためのものである。好ましくは、前記複数の基板移動テーブルは、一つの基板ロードテーブル６及び一つの基板アンロードテーブル７を有する。
好ましくは、前記固定テーブル１０１には基板引渡ワークステーション８が設けられる。
前記基板引渡ワークステーション８とは、前記基板移動テーブルが基板の引き渡しを行う位置であり、前記固定テーブル１０１には二つの前記ｙ方向プリアライメントユニット３が設けられ、二つの前記ｙ方向プリアライメントユニット３は、ｘ方向に沿って前記基板引渡ワークステーション８の両側に分布する。
好ましくは、前記基板引渡ワークステーション８は、基板フォーク引渡ワークステーション８０１、及びワークステージ引渡ワークステーション８０２を有し、前記基板フォーク引渡ワークステーション８０１は、前記ワークステージ引渡ワークステーション８０２とともにｙ方向に沿って、前記固定テーブル１０１の両側に分布し、前記基板フォーク引渡ワークステーション８０１とは、図示せぬ基板フォークと前記基板移動テーブルとの間で基板を引き渡す位置であり、前記ワークステージ引渡ワークステーション８０２とは、前記ワークステージ５と前記基板移動テーブルとの間で基板を引き渡す位置である。
好ましくは、前記基板ロードテーブル６に接続された前記動作テーブル１０２と、前記基板アンロードテーブル７に接続された前記動作テーブル１０２は、一体構造である。即ち、動作テーブル１０２は、基板ロードテーブル６及び基板アンロードテーブル７が同期して動作するよう駆動するためのものである。
好ましくは、二つの前記ｙ方向プリアライメントユニット３は、基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１、及び基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２にそれぞれ位置する。
ここで、基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１とは、基板アンロードテーブル７がｙ方向においてプリアライメント、及び位置調整を行う位置である。
他方、基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２とは、基板ロードテーブル６がｙ方向においてプリアライメント、及び位置調整を行う位置である。
前記基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１及び前記基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２は、前記基板引渡ワークステーション８のｘ方向両側に対称的に分布する。動作テーブル１０２の同期駆動の作用により前記基板アンロードテーブル７が前記基板引渡ワークステーション８に位置するとき、前記基板ロードテーブル６は、前記基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所に位置し、前記基板ロードテーブル６が前記基板引渡ワークステーション８に位置するとき、前記基板アンロードテーブル７は、前記基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１の箇所に位置する。
好ましくは、前記固定テーブル１０１には移動用空気浮上機構９が設けられ、ワークステージ５と前記基板移動テーブルとの間に位置する基板に空気浮上の面支持を提供するためのものである。好ましくは、前記移動用空気浮上機構９は、前記移動用空気浮上機構９を昇降させるための昇降構造１０に接続され、前記昇降構造１０は、前記固定テーブル１０１に接続される。
好ましくは、前記固定テーブル１０１には静電消去器１１が設けられる。これは、基板フォークから前記基板ロードテーブル６へ引き渡される基板の静電気を消去するためのものである。好ましくは、前記固定テーブル１０１には基板フォーク安全検出ユニット１２が設けられる。これは、基板を載置してピックアップする基板フォークを位置検出するためのものである。好ましくは、前記固定テーブル１０１には空気浴ユニット１３が設けられる。これは、前記基板ロードテーブル６に位置する基板の温度を調節するためのものである。
好ましくは、前記基板移動テーブルは、ｙ方向駆動輪及びユニバーサルローラ調節群１６を有し、前記ｙ方向駆動輪は、前記基板を支持してｙ方向に沿って移動するためのものであり、前記ユニバーサルローラ調節群１６は、ｚ方向に沿って前記基板を持ち上げ、かつ基板が持ち上げられた状態でｘ方向及び／またはｙ方向の位置調整を行うことを許容するためのものであり、前記ｚ方向は、ｘ方向及びｙ方向からなる平面に垂直である。
基板の搬送方法は、基板をワークステージ５から基板アンロードテーブル７へ搬送する基板アンロードステップを含み、前記基板アンロードステップは、以下を含む。
ステップＳ１１：基板アンロードテーブル７は、基板引渡ワークステーション８まで動作するステップと、
ステップＳ１２：基板アンロードテーブル７上の移送機構４は動作してワークステージ５に位置する加工が完了した第１基板を基板アンロードテーブル７へ移動させ、この移動過程において、移送機構４は、例えば、吸着による方法で基板を固定し、基板が基板アンロードテーブル７の対応する位置まで移動した後、移送機構４は、第１基板の吸着を解放するステップと、
ステップＳ１３：基板アンロードテーブル７上のｘ方向プリアライメントユニット２は、稼働して、基板アンロードテーブル７上の第１基板のｘ方向における方向及び位置を調節し、基板アンロードテーブル７のｘ方向の位置調整が完了後、移送機構４は、例えば吸着による方法で第１基板を固定するステップと、
ステップＳ１４：動作テーブル１０２は動作して基板アンロードテーブル７が基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１の箇所まで動作するよう駆動し、基板アンロードテーブル７上の移送機構４は、第１基板の吸着を解放し、ｙ方向プリアライメントユニット３は、稼働して基板アンロードテーブル７上の第１基板のｙ方向における方向及び位置を調整し、前記ｘ方向及び前記ｙ方向は、互いに垂直であり、基板アンロードテーブル７のｙ方向の位置調整が完了後、移送機構４に対して第１基板を固定するステップと、
ステップＳ１５：基板アンロードテーブル７は、基板フォーク引渡ワークステーション８０１まで動作し、基板アンロードテーブル７上の移送機構４は、第１基板を解放し、基板フォークは第１基板をピックアップするステップと、
ステップＳ１６、基板アンロードテーブル７上の移送機構４は復位し、次のアンロードを待つステップと、である。
前記基板の搬送方法は、基板を基板ロードテーブル６からワークステージ５まで移動させる基板ロードステップをさらに含み、前記基板ロードステップは、以下を含む。
ステップＳ２１：基板ロードテーブル６は、基板フォーク引渡ワークステーション８０１の箇所まで動作し、基板フォークは動作して第２基板を基板ロードテーブル６にロードするステップと、
ステップＳ２２：基板ロードテーブル６上のｘ方向プリアライメントユニット２は、稼働して、基板ロードテーブル６上の第２基板のｘ方向における方向及び位置を調節し、基板ロードテーブル６のｘ方向の位置調整が完了後、移送機構４は、例えば吸着による方法で第２基板を固定するステップと、
ステップＳ２３：動作テーブル１０２は動作して基板ロードテーブル６が基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所まで動作するよう駆動し、基板ロードテーブル６上の移送機構４は、第２基板の吸着を解放し、ｙ方向プリアライメントユニット３は、稼働して基板ロードテーブル６上の第２基板のｙ方向における方向及び位置を調節し、基板ロードテーブル６のｙ方向の位置調整が完了後、移送機構４は、第２基板の位置を固定するステップと、
ステップＳ２４：動作テーブル１０２は動作して第２基板をワークステージ引渡ワークステーション８０２まで搬送し、基板ロードテーブル６上の移送機構４は動作して第２基板をワークステージ５まで搬送するステップと、
ステップＳ２５、基板ロードテーブル６上の移送機構４は復位し、基板フォークの次のロードを待つステップと、である。
好ましくは、前記ステップＳ１２において第１基板を基板アンロードテーブル７へ搬送する前に、移動用空気浮上機構９は、昇降構造１０の作用により上昇し、かつ前記第１基板を空気浮上にて支持し、前記第１基板が基板アンロードテーブル７に位置した後、移動用空気浮上機構９は下降する。好ましくは、前記ステップＳ２１において基板フォークが前記第２基板を搬送するとき、静電消去器１１は、前記第２基板を静電消去する。好ましくは、前記ステップＳ２１において基板フォークが第２基板を搬送するとき、基板フォーク安全検出ユニット１２は、基板フォークが基板引渡ワークステーション８の干渉領域内にあるか否かを検出して衝突を回避する。
好ましくは、前記ステップＳ２３において前記第２基板のｙ方向の方位調整が完了した後、空気浴ユニット１３は、前記第２基板に温度調節を行い、かつ第２基板の温度を露光環境温度に一致させる。
好ましくは、前記第１基板または第２基板にｘ方向の方位調整、またはｙ方向の方位調整を行うとき、前記基板アンロードテーブル７または基板ロードテーブル６に位置するユニバーサルローラ調節群１６は、ｚ方向に沿って前記第１基板または第２基板を持ち上げ、かつ基板が前記持ち上げられた状態でｘ方向及び／またはｙ方向の位置調整を行うことを許容し、前記ｚ方向は、ｘ方向及びｙ方向からなる平面に垂直である。
本発明は、フォトリソグラフィ設備をさらに提供し、ワークステージ５を有し、上述の基板の搬送装置をさらに有し、ｙ方向に沿って基板を搬送するための前記複数の基板移動テーブルは、複数の基板ロードテーブル６及び複数の基板アンロードテーブル７を有し、前記基板ロードテーブル６は、ワークステージ５へ露光待ちの基板を搬送するためのものであり、前記基板アンロードテーブル７は、ワークステージ５から露光済みの基板を受け取るためのものである。
本発明は、フォトリソグラフィ方法をさらに提供し、上述の基板の搬送方法を使用して基板の搬送を行うものである。
以上を総合し、本発明により提供される基板の搬送装置、搬送方法、並びにフォトリソグラフィ設備及びフォトリソグラフィの方法は、基板ロードテーブル６及び基板アンロードテーブル７が同一の動作テーブル１０２に接続されており、かつｙ方向プリアライメントユニット３、即ち基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２及び基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１は、基板引渡ワークステーション８の両側に対称的に分布するものであり、全加工過程は、以下のとおりである。
基板アンロードテーブル７は、ワークステージ５上の加工が完了した第１基板を受け取り、同時に基板ロードテーブル６上のｘ方向プリアライメントが予め完了した第２基板は、固定テーブル１０１上の基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所において、ユニバーサルローラ調節群１６の支持作用を受け、ｙ方向プリアライメントユニット３が第２基板のｙ方向両側に作用し、かつ第２基板の位置を設定値まで調節し、第２基板のｙ方向の位置決めを完了する。
第１基板が基板アンロードテーブル７に位置した後、基板はユニバーサルローラ調節群１６により持ち上げられ、基板アンロードテーブル７のｘ方向プリアライメントユニット２は、第１基板のｘ方向に対してプリアライメント、及び位置調整を行い、動作テーブル１０２は動作して基板アンロードテーブル７を基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１の箇所に位置させ、同時に基板ロードテーブル６は、ワークステージ引渡ワークステーション８０１まで動作する。
基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０１の箇所の第１基板は、ユニバーサルローラ調節群１６の支持作用によりｙ方向のプリアライメント、及び位置調整が行われ、基板ロードテーブル６は、位置調節が完了した第２基板をワークステージへ搬送する。
基板フォークは、新たな基板を基板ロードテーブル６に載置し、新たな第２基板となり、新たな第２基板は、基板ロードテーブル６の両側のｘ方向プリアライメントユニット２の作用によりｘ方向のプリアライメント、及び位置調整を完了する。
動作テーブル１０２は、再度動作し、かつ第１基板を載置した基板アンロードテーブル７を基板フォーク引渡ワークステーション８０１の箇所まで動作させ、基板フォークは動作し、かつ基板アンロードテーブル７に位置する第１基板をピックアップし、同時に新たな第２基板は、基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所にあり、ｙ方向プリアライメントユニット３により新たな第２基板にｙ方向のプリアライメントを行い、かつ新たな第２基板の方位調整を完了させる。
第１基板が基板アンロードテーブル７から移動した後、加工が完了した新たな第１基板がワークステージから送り出されるのを待機する。
このような循環及び同時加工の方法により、新たな基板の方位アライメント、及び加工が完了した基板の移動を同時に行うことができ、加工時間を大きく節約し、かつ加工効率を向上させることができる。これだけに留まらず、基板アンロードテーブル７上の基板の位置も設定値まで調節されるので、このように基板フォークが、加工が完了した基板を移動させた後に載置するときにもさらに簡単で便利になり、かつ後続の基板フォークの載置の安全性がさらに高くなり、実用性が高い。
基板ロードテーブル６及び基板アンロードテーブル７が同一の動作テーブル１０２に接続され、しかも二つのｙ方向プリアライメントユニット３は、基板引渡ワークステーション８の両側に対称的に分布されるため、投資コストがさらに安くなるだけでなく、基板ロードテーブル６及び基板アンロードテーブル７の動作を制御するときに、同時に同期して行うことができ、ミスも低減できる。
加工が完了した基板をワークステージから基板アンロードテーブル７へ移動させる前に、昇降構造１０は、移動用空気浮上機構９が上昇し、かつワークステージ５と基板アンロードテーブル７の間に位置する基板を過渡的に支持するよう駆動する。これによれば、大型の基板にさらに良好な支持効果をもたらし、基板が破裂することなどを回避し、安全係数がさらに高くなり、本発明の装置が大型基板の搬送に適用されることが可能になる。移送機構４が基板の可動を駆動するとき、基板の底端は、ｙ方向駆動輪群１５により回転支持される。これによれば、基板が支持され、基板の破裂を防止するとともに、基板の摩損を最小にまで減少させることができる。加工が完了した基板の移動が完了した後、昇降構造１０は、移動用空気浮上機構９が下降するよう駆動され、これによれば、次回、ワークステージが基板を移動させて動作ステージ１に近接するとき、ワークステージ５と移動用空気浮上機構９との間に衝突が生じることを良好に防止でき、安全性がさらに高い。
基板の静電消去器１１及び安全検出ユニットは、固定テーブル１０１に装着され、かつ基板引渡ワークステーション８の基板フォーク引渡ワークステーション８０１の箇所に位置する。即ち、基板フォークが基板を搬送する出入口位置において、外部から搬送された基板の静電消去を行うことで、基板の静電気が後続の露光に影響することを防ぐことができる。基板フォーク安全検出ユニット１２は、基板フォークが基板引渡ワークステーション８の干渉領域内にあるか否かを適宜検出することで、基板フォークに位置ずれが生じて基板を継続して押し出す状況を防ぎ、基板の搬送の安定性を保証することができる。空気浴ユニット１３は、基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所に装着される。プリロード時に、基板ロードテーブル６は、プリアライメントが完了した第２基板を基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション３０２の箇所にてロードするのを待機しているが、待機時間内に空気浴ユニット１３は、第２基板に温度制御を行い、基板温度が露光環境温度に一致することを保証することで、基板が露光温度と異なることで生じる露光品質が劣るという課題を減らすことができ、側面から露光品質を向上させることができる。
フォトリソグラフィ設備が以上の搬送装置を使用して搬送を行い、以上の搬送方法を使用して基板を搬送するとき、基板の搬送効率をさらに高めるだけでなく、同時に基板の後続の載置の安全性もさらに高くなり、しかも露光の品質も高めることができ、実用性が高い。
ここで、動作ステージ１の構造は、図４に示すとおりであり、動作テーブル１０２は、動作フレーム１０２１、並びに動作フレーム１０２１に平行に接続された基板ロードｙ軸１０２２、及び基板アンロードｙ軸１０２３を有し、基板ロードテーブル６は、基板ロードｙ軸１０２２に接続され、基板アンロードテーブル７は、基板アンロードｙ軸１０２３に接続される。動作フレーム１０２１は、全体が固定体１０１においてｘ方向に沿って動作できることで、基板ロードテーブル６及び基板アンロードテーブル７もｘ方向において動作するよう駆動する。さらに、動作フレーム１０２１と固定テーブル１０１との間には、ロックシリンダが設けられ、基板ロード、基板アンロード、または基板位置調節時に、動作フレーム１０２１はいずれもロックシリンダにより固定テーブル１０１に固定して接続される。このように基板の位置の安定性を保持できることで、基板のロード、アンロード、またはｘ、ｙ方向における基板の方位に対する調節を安定して行うことができる。
基板移動テーブルの構造は、図５に示すとおりであり、基板移動テーブルは動作テーブル１０２に接続された接続フレーム１４を有し、接続フレーム１４の間には複数の平行なｙ方向駆動輪群１５が設けられ、ｙ方向駆動輪群１５の構造は、図６に示すとおりである。ｙ方向駆動輪群１５は、接続フレーム１４に接続された駆動板体１５０１、及び駆動板体１５０１に回転可能に接続された静電防止駆動輪１５０２を有する。基板がｙ方向駆動輪群１５に位置するとき、基板はｙ方向に沿ってのみ動作できる。接続フレーム１４にはユニバーサルローラ調節群１６が設けられ、ユニバーサルローラ調節群１６は、ユニバーサル調節シリンダ１７によりｚ方向において昇降するように動作テーブル１０２に接続されることができる。ここで、ｚ方向は、ｘ、ｙ方向がある平面に垂直な方向である。基板にｘ方向の調節を行うとき、ユニバーサル調節シリンダ１７は、ユニバーサルローラ調節群１６を上昇させ、その後、ユニバーサルローラ調節群１６は、その頂端のボールトランスファ１８により基板を持ち上げる。このように基板は、プリアライメントの状況に基づいてｘ方向及びｙ方向において必要な動作を行うことができる。ここで、ユニバーサルローラ調節群１６、ユニバーサル調節シリンダ１７、及びボールトランスファ１８の構造は、図７に示すとおりである。基板の位置調節が完了した後、ユニバーサル調節シリンダ１７は下降し、かつ基板をｙ方向駆動輪群１５に載置する。また、ワークステージ５に近接する基板移動テーブルの側部には前端空気浮上ブロック１９が設けられ（図１０に示す）、これも基板に過渡的な支持を行うためのものでもある。
ｘ方向プリアライメントユニット２の構造は、図８に示すとおりである。接続フレーム１４に接続された接続支持ラック２０１を有し、接続支持ラック２０１にはｘ方向エア駆動スライドテーブル２０２が接続され、ｘ方向エア駆動スライドテーブル２０２には装着板２０３、立柱２０４、及び静電防止ローラ２０５が装着され、ｘ方向エア駆動スライドテーブル２０２は、装着板２０３、立柱２０４、及び静電防止ローラ２０５を駆動し、かつｘ方向において基板の動作を駆動できる。ｘ方向プリアライメントユニット２は、基板移動テーブルのｘ方向の各側にいずれも二つ設けられ、このようにこの４つのｘ方向プリアライメントユニット２により基板をｘ方向の位置において正確に調節できる。一つのｙ方向プリアライメントユニット３は、固定テーブル１０１のｙ方向両側に分布した二対のシリンダを有し、ユニバーサルローラ調節群１６が基板を上昇させた後、ｙ方向プリアライメントユニット３は動作して基板をｙ方向両端から挟み、基板のｙ方向における位置を調節できる。
基板を搬送するための移送機構４は、図９に示すとおりである。動作テーブル１０２に可動的に接続された装着支持ラック４０１、及び装着支持ラック４０１に位置する吸着機構４０２を有する。装着支持ラック４０１は、シリンダにより動作テーブル１０２に対し昇降可能に接続される。移送機構４が基板を搬送するときには、装着支持ラック４０１は動作して吸着機構４０２を基板下方に位置させ、吸盤を真空引きすることで基板の位置を固定できる。そして、装着支持ラック４０１の駆動により基板を移動できる。同様に、基板移動テーブルが動作する時にも基板の位置を固定することが必要となり、このときも吸着機構４０２により固定するが、基板のｘ方向またはｙ方向の方位を調節するときには、吸着機構４０２を停止させることが必要となり、かつ基板を自由に動作させることができる。本発明に関するすべてのシリンダは、モータまたはその他の駆動部材を使用して代替できる。
本明細書における各実施例は、補足する方法を採用して説明しており、各実施例において重点的に説明したのは、いずれもその他の実施例と異なる箇所であり、各実施例の間の同一、類似部分は、互いに参照すればよいということを説明する必要がある。
上述の説明は、本発明の好適な実施例についての説明のみであり、本発明の範囲のいかなる限定ともならず、当業者が上述の開示内容に基づいて行ういかなる変更、修飾はいずれも特許請求の範囲の保護範囲にある。
１ 動作ステージ
１０１ 固定テーブル
１０２ 動作テーブル
１０２１ 動作フレーム
１０２２ 基板ロードｙ軸
１０２３ 基板アンロードｙ軸
２ ｘ方向プリアライメントユニット
２０１ 接続支持ラック
２０２ ｘ方向エア駆動スライドテーブル
２０３ 装着板
２０４ 立柱
２０５ 静電防止ローラ
３ ｙ方向プリアライメントユニット
３０１ 基板アンロードｙ方向プリアライメントワークステーション
３０２ 基板ロードｙ方向プリアライメントワークステーション
４ 移送機構
４０１ 装着支持ラック
４０２ 吸着機構
５ ワークステージ
６ 基板ロードテーブル
７ 基板アンロードテーブル
８ 基板引渡ワークステーション
８０１ 基板フォーク引渡ワークステーション
８０２ ワークステージ引渡ワークステーション
９ 移動用空気浮上機構
１０ 昇降構造
１１ 静電消去器
１２ 基板フォーク安全検出ユニット
１３ 空気浴ユニット
１４ 接続フレーム
１５ ｙ方向駆動輪群
１５０１ 駆動板体
１５０２ 静電防止駆動輪
１６ ユニバーサルローラ調節群
１７ ユニバーサル調節シリンダ
１８ ボールトランスファ
１９ 前端空気浮上ブロック

Claims (25)

  1. 基板の搬送装置であって、
    動作ステージと、複数の基板移動テーブルと、を有し、
    前記複数の基板移動テーブルは、第１方向に沿って設けられ、前記基板移動テーブルは、第２方向に沿って基板を搬送するためのものであり、前記第１方向及び第２方向は、互いに垂直であり、
    前記動作ステージは、固定テーブル、及び前記固定テーブルに可動的に接続された動作テーブルを有し、前記基板移動テーブルにおける各基板移動テーブルはいずれも、前記動作テーブルの対応する部分にそれぞれ接続され、かつ前記動作テーブルにより第１方向に沿って動作するよう駆動され、
    前記動作ステージ、及び前記基板移動テーブルには、基板に対する位置調整を行うためのプリアライメント機構が設けられ、
    前記複数の基板移動テーブルにおける一つの基板移動テーブルが第１基板をワークステージからアンロードするものであり、
    前記複数の基板移動テーブルにおける他の基板移動テーブルは、第２基板を基板フォークから受け取り、かつ前記プリアライメント機構の作用により前記第１方向及び前記第２方向において前記ワークステージにロードする前のプリアライメントを行うものである、ことを特徴とする搬送装置。
  2. 前記プリアライメント機構は、第１方向プリアライメントユニットを有し、
    前記第１方向プリアライメントユニットは、前記基板移動テーブルの両側に位置し、かつ前記基板移動テーブルに位置する基板に対して前記第１方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うためのものである、ことを特徴とする請求項１に記載の基板の搬送装置。
  3. 前記プリアライメント機構は、第２方向プリアライメントユニットをさらに有し、
    前記第２方向プリアライメントユニットは、前記固定テーブルに位置し、かつ前記基板移動テーブルに位置する基板に対して前記第２方向においてプリアライメント、及び位置調整を行うためのものである、ことを特徴とする請求項２に記載の基板の搬送装置。
  4. 前記複数の基板移動テーブルの少なくとも一つは、基板ロードテーブルであり、少なくとも一つの基板アンロードテーブルである、ことを特徴とする請求項１に記載の基板の搬送装置。
  5. 前記基板移動テーブルには移送機構が設けられ、
    前記移送機構は、前記基板ロードテーブルに位置する基板をワークステージへ移動させ、または加工が完了した基板を前記ワークステージから前記基板アンロードテーブルへ移動させるためのものである、ことを特徴とする請求項４に記載の基板の搬送装置。
  6. 前記固定テーブルは、基板引渡ワークステーションを有し、
    前記基板移動テーブルは、前記基板引渡ワークステーションの箇所において基板の引き渡しを行うためのものであり、
    前記プリアライメント機構は、二つの第２方向プリアライメントユニットをさらに有し、
    二つの前記第２方向プリアライメントユニットは、基板引渡ワークステーションの両側に分布する、ことを特徴とする請求項４に記載の基板の搬送装置。
  7. 前記基板引渡ワークステーションは、基板フォーク引渡ワークステーション、及びワークステージ引渡ワークステーションを有し、
    前記基板フォーク引渡ワークステーションは、前記ワークステージ引渡ワークステーションとともに前記第２方向に沿って、前記固定テーブルの両側に分布し、
    前記基板移動テーブルは、前記基板フォーク引渡ワークステーションの箇所を介して前記基板フォークへの基板の引き渡しが可能とするように位置づけられ、
    前記基板移動テーブルは、前記ワークステージ引渡ワークステーションの箇所を介して前記ワークステージへの基板の引き渡しが可能とするように位置づけられる、ことを特徴とする請求項６に記載の基板の搬送装置。
  8. 前記基板ロードテーブルと、前記基板アンロードテーブルは、前記動作テーブルにそれぞれ接続される、ことを特徴とする請求項４に記載の基板の搬送装置。
  9. 二つの前記第２方向プリアライメントユニットは、基板アンロードプリアライメントワークステーション、及び基板ロードプリアライメントワークステーションにそれぞれ位置し、
    前記基板アンロードプリアライメントワークステーション及び前記基板ロードプリアライメントワークステーションは、前記第１方向に沿って前記基板引渡ワークステーションの両側に対称的に分布し、
    前記基板アンロードテーブルが前記基板引渡ワークステーションに位置するとき、前記基板ロードテーブルは、前記基板ロードプリアライメントワークステーションの箇所に位置し、
    前記基板ロードテーブルが前記基板引渡ワークステーションに位置するとき、前記基板アンロードテーブルは、前記基板アンロードプリアライメントワークステーションの箇所に位置する、ことを特徴とする請求項６に記載の基板の搬送装置。
  10. 前記固定テーブルには移動用空気浮上機構が設けられ、
    前記移動用空気浮上機構は、ワークステージと前記基板移動テーブルとの間に位置する基板に空気浮上の面支持を提供するためのものである、ことを特徴とする請求項４に記載の基板の搬送装置。
  11. 前記移動用空気浮上機構には前記移動用空気浮上機構を昇降させるための昇降構造が設けられ、
    前記昇降構造は、前記固定テーブルに接続される、ことを特徴とする請求項１０に記載の基板の搬送装置。
  12. 前記固定テーブルには静電消去器が設けられ、
    前記静電消去器は、基板フォークから前記基板ロードテーブルへ引き渡される基板の静電気を消去するためのものである、ことを特徴とする請求項７に記載の基板の搬送装置。
  13. 前記固定テーブルには基板フォーク安全検出ユニットが設けられ、
    前記基板フォーク安全検出ユニットは、基板を載置してピックアップする基板フォークを位置検出するためのものである、ことを特徴とする請求項７に記載の基板の搬送装置。
  14. 前記固定テーブルには空気浴ユニットが設けられ、
    前記空気浴ユニットは、前記基板ロードテーブルに位置する基板の温度を調整するためのものである、ことを特徴とする請求項４に記載の基板の搬送装置。
  15. 前記基板移動テーブルは、第２方向駆動輪及びユニバーサルローラ調節群を有し、
    前記第２方向駆動輪は、前記基板を支持して前記第２方向に沿って移動するためのものであり、
    前記ユニバーサルローラ調節群は、第３方向に沿って前記基板を持ち上げ、かつ前記基板が持ち上げられた状態で前記第１方向及び／または前記第２方向の位置調整を行うことを許容するためのものであり、
    前記第３方向は、前記第１方向及び前記第２方向により定義された平面に垂直である、ことを特徴とする請求項３に記載の基板の搬送装置。
  16. 基板をワークステージから基板アンロードテーブルへ搬送する基板アンロードステップを含み、
    前記基板アンロードステップは、
    ステップＳ１１：基板アンロードテーブルは、基板引渡ワークステーションの箇所まで動作するステップと、
    ステップＳ１２：基板アンロードテーブル上の移送機構は動作してワークステージに位置する加工が完了した第１基板を基板アンロードテーブルへ移動させるステップと、
    ステップＳ１３：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板アンロードテーブルの第１方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の基板の第１方向における方位を調節するステップと、
    ステップＳ１４：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を固定し、動作テーブルは動作して基板アンロードテーブルが基板アンロードプリアライメントワークステーションの箇所まで動作するよう駆動し、基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、第２方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の第１基板の第２方向における方位を調整し、前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直であり、基板アンロードテーブル上の移送機構に対して第１基板を固定するステップと、
    ステップＳ１５：基板アンロードテーブルは、基板フォーク引渡ワークステーションまで動作し、基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板フォークは第１基板をピックアップするステップと、
    を含むことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の基板の搬送装置に基づいて基板を搬送する方法。
  17. ステップＳ１６をさらに含み、基板アンロードテーブルの移送機構は復位し、次のアンロードを待つ、ことを特徴とする請求項１６に記載の基板の搬送方法。
  18. 請求項９に記載の基板の搬送装置に基づいて基板を搬送する方法であって、
    基板をワークステージから基板アンロードテーブルへ搬送する基板アンロードステップを含み、
    前記基板アンロードステップは、
    ステップＳ１１：基板アンロードテーブルは、基板引渡ワークステーションの箇所まで動作するステップと、
    ステップＳ１２：基板アンロードテーブル上の移送機構は動作してワークステージに位置する加工が完了した第１基板を基板アンロードテーブルへ移動させるステップと、
    ステップＳ１３：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板アンロードテーブルの第１方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の基板の第１方向における方位を調節するステップと、
    ステップＳ１４：基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を固定し、動作テーブルは動作して基板アンロードテーブルが基板アンロードプリアライメントワークステーションの箇所まで動作するよう駆動し、基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、第２方向プリアライメントユニットは動作して基板アンロードテーブル上の第１基板の第２方向における方位を調整し、前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直であり、基板アンロードテーブル上の移送機構に対して第１基板を固定するステップと、
    ステップＳ１５：基板アンロードテーブルは、基板フォーク引渡ワークステーションまで動作し、基板アンロードテーブル上の移送機構は、第１基板を解放し、基板フォークは第１基板をピックアップするステップと、
    を含み、
    基板を基板ロードテーブルからワークステージまで移動させる基板ロードステップをさらに含み、
    前記基板ロードステップは、
    ステップＳ２１：基板フォーク引渡ワークステーションに基板フォークを位置づけて第２基板を基板ロードテーブルにロードするステップと、
    ステップＳ２２：基板ロードテーブル上の前記第１方向プリアライメントユニットは動作して基板ロードテーブル上の第２基板の前記第１方向における方位を調節するステップと、
    ステップＳ２３：基板ロードテーブル上の移送機構は、第２基板を固定し、動作テーブルは動作して基板ロードテーブルが前記基板ロードプリアライメントワークステーションの箇所まで動作するよう駆動し、基板ロードテーブル上の移送機構は、第２基板を解放し、前記第２方向プリアライメントユニットは動作して基板ロードテーブル上の第２基板の前記第２方向における方位を調節するステップと、
    ステップＳ２４：基板ロードテーブル上の移送機構は、第２基板の位置を固定し、動作テーブルは動作して第２基板をワークステージ引渡ワークステーションの箇所まで搬送し、基板ロードテーブル上の移送機構は動作して第２基板をワークステージまで搬送するステップと、
    を含む、ことを特徴とする基板の搬送方法。
  19. ステップＳ２５をさらに含み、基板ロードテーブル上の移送機構は復位し、基板フォークの次のロードを待つ、ことを特徴とする請求項１８に記載の基板の搬送方法。
  20. 前記ステップＳ１２において前記第１基板を前記基板アンロードテーブルに搬送する前に、移動用空気浮上機構は、昇降構造の作用により上昇し、かつ前記第１基板を空気浮上にて支持し、前記第１基板が基板アンロードテーブルに位置した後、前記移動用空気浮上機構は、下降する、ことを特徴とする請求項１６に記載の基板の搬送方法。
  21. 前記ステップＳ２１において基板フォークが前記第２基板を搬送するとき、静電消去器は、前記第２基板に静電消去を行う、ことを特徴とする請求項１８に記載の基板の搬送方法。
  22. 前記ステップＳ２１において基板フォークが前記第２基板を搬送するとき、基板フォーク安全検出ユニットは、基板フォークが基板引渡ワークステーションの干渉領域内にあるか否かを検出する、ことを特徴とする請求項１８に記載の基板の搬送方法。
  23. 前記ステップＳ２３において前記第２基板の第２方向の方位調整が完了した後、空気浴ユニットは、前記第２基板に温度調節を行い、かつ前記第２基板の温度を露光環境温度に一致させる、ことを特徴とする請求項１８に記載の基板の搬送方法。
  24. 前記第１基板または前記第２基板に第１方向の方位調節、または第２方向の方位調節を行うとき、前記基板アンロードテーブルまたは基板ロードテーブルに位置するユニバーサルローラ調節群は、第３方向に沿って前記第１基板または前記第２基板を持ち上げ、前記第３方向は、前記第１方向及び前記第２方向により定義される平面に垂直である、ことを特徴とする請求項１８に記載の基板の搬送方法。
  25. ワークステージを有するフォトリソグラフィ設備であって、
    請求項１から１５のいずれか１項に記載の基板の搬送装置をさらに有し、
    第２方向に沿って基板を搬送するための前記複数の基板移動テーブルは、少なくとも一つの基板ロードテーブル及び少なくとも一つの基板アンロードテーブルを有し、
    前記基板ロードテーブルは、ワークステージへ露光待ちの基板を搬送するためのものであり、
    前記基板アンロードテーブルは、ワークステージから露光済みの基板を受け取るためのものである、ことを特徴とするフォトリソグラフィ設備。
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