TW201916234A - 基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備，所述傳輸裝置包括運動平台以及複數個轉板台，所述複數個轉板台沿第一方向設置，所述轉板台用於沿第二方向傳輸基板，所述第一方向與第二方向相互垂直，所述運動平台包括固定台以及複數個與所述固定台運動連接的運動台，所述轉板台中的每一個轉板台均分別與所述運動台的相應部分連接，並藉由所述運動台帶動沿第一方向運動，所述運動平台上和所述轉板台上設置有用於對基板進行預對準及位置調整的預對準組件，在所述複數個轉板台中的一個轉板台對第一基板進行下板的同時，所述複數個轉板台中的另一個轉板台接收第二基板並在所述預對準組件的作用下在所述第一方向和所述第二方向進行預對準。

Description

基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備
本發明屬於光刻技術領域，涉及一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備。
在光刻機等眾多半導體設備中，基板傳送進曝光位置時需要經過傳輸位置進行交接。一般需要在曝光位置前設置一個傳輸位置，將基板傳送到曝光位置；但是傳輸裝置不能對基板進行預對準，需要獨立增加預對準裝置對基板進行預對準，預對準完成之後再送到工件台進行曝光，如此就使得基板的曝光效率較低。
本發明的目的在於提供一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備，旨在解決基板曝光效率低的問題。
為解決上述技術問題，本發明提供了一種基板的傳輸裝置，包括運動平台以及複數個轉板台，所述複數個轉板台沿第一方向設置，所述轉板台用於沿第二方向傳輸基板，所述第一方向與第二方向相互垂直，所述運動平台包括固定台以及複數個與所述固定台運動連接的運動台，所述轉板台中的每一個轉板台均分別與所述運動台的相應部分連接，並藉由所述運動台帶動沿第一方向運動，所述運動平台上和所述轉板台上設置有用於對基板進行預對準及位置調整的預對準組件，在所述複數個轉板台中的一個轉板台對第一基板進行下板的同時，所述複數個轉板台中的另一個轉板台接收第二基板並在所述預對準組件的作用下在所述第一方向和所述第二方向進行預對準。
本發明進一步設置為，所述預對準組件包括第一方向預對準單元，位於所述轉板台的兩側且用於對位於所述轉板台上的基板在所述第一方向進行預對準及位置調整。
本發明進一步設置為，所述預對準組件進一步包括第二方向預對準單元，位於所述固定台上且用於對位於所述轉板台上的基板在所述第二方向進行預對準及位置調整。
本發明進一步設置為，所述複數個轉板台包括至少一個上板台和至少一個下板台。
本發明進一步設置為，所述轉板台上設置有傳送組件，所述傳送組件用於將位於所述上板台上的基板轉移至工件台或將加工完成的基板從所述工件台轉移至所述下板台。
本發明進一步設置為，所述固定台包括基板交接位置，所述轉板台用於在所述基板交接位置處進行基板的交接，所述預對準組件進一步包括兩個第二方向預對準單元，兩個所述第二方向預對準單元分佈於所述基板交接位置的兩側。
本發明進一步設置為，所述基板交接位置包括板叉交接位置以及工件台交接位置，所述板叉交接位置與所述工件台交接位置沿所述第二方向分佈於所述固定台的兩側，所述轉板台用於在所述板叉交接位置處與板叉之間交接基板，所述轉板台用於在所述工件台交接位置處與所述工件台之間交接基板。
本發明進一步設置為，與所述上板台連接的所述運動台以及與所述下板台連接的所述運動台為一體結構。
本發明進一步設置為，兩個所述第二方向預對準單元分別位於下板預對準位置和上板預對準位置，所述下板預對準位置和所述上板預對準位置沿所述第一方向對稱分佈於所述基板交接位置的兩側，當所述下板台位於所述基板交接位置時，所述上板台位於所述上板預對準位置處，當所述上板台位於所述基板交接位置時，所述下板台位於所述下板預對準位置處。
本發明進一步設置為，所述固定台上設置有過渡氣浮組件，用於對位於工件台與所述轉板台之間的基板提供氣浮面支撐。
本發明進一步設置為，所述過渡氣浮組件上設置有用於升降所述過渡氣浮組件的升降結構，所述升降結構連接於所述固定台。
本發明進一步設置為，所述固定台上設置有靜電消除器，用於消除自板叉交接至所述上板台的基板的靜電。
本發明進一步設置為，所述固定台上設置有板叉安全檢測單元，用於對放取基板的板叉進行位置檢測。
本發明進一步設置為，所述固定台上設置有氣浴單元，用於對位於所述上板台上的基板溫度進行調節。
本發明進一步設置為，所述轉板台包括第二方向傳動滾輪和萬向輪調節組，所述第二方向傳動滾輪用於支撐所述基板沿所述第二方向移動，所述萬向輪調節組用於沿第三方向撐起所述基板並允許所述基板在所述撐起的狀態下進行所述第一方向和/或所述第二方向的位置調整，所述第三方向與所述第一方向和所述第二方向定義的平面垂直。
一種根據上述的基板的傳輸裝置對基板進行傳輸的方法，包括基板從工件台傳輸到下板台的下板步驟，所述下板步驟包括有：
步驟S12，下板台上的傳送組件運動並將位於工件台上加工完成的第一基板轉移至下板台。
步驟S13，下板台上的傳送組件釋放第一基板，下板台上的第一向預對準單元運動，調節下板台上第一基板在第一向的方位。
步驟S14，下板台上的傳送組件固定第一基板，運動台運動並帶動下板台運動至下板預對準位置處，下板台上的傳送組件釋放第一基板，第二方向預對準單元運動並調節下板台上第一基板在第二方向的方位，所述第一方向與所述第二方向相互垂直，下板台上的傳送組件固定第一基板。
步驟S15，下板台運動至板叉交接位置，下板台上的傳送組件釋放第一基板，板叉取走第一基板。
本發明進一步設置為，進一步包括有步驟S16，下板台的傳送組件復位，等待下次下板。
本發明進一步設置為，進一步包括有基板從上板台轉移到工件台的上板步驟，所述上板步驟包括：
步驟S21，上板台運動至板叉交接位置處，板叉運動並將第二基板放置到上板台上。
步驟S22，上板台上的所述第一向預對準單元運動，調節上板台上第二基板在所述第一向的方位。
步驟S23，上板台上的傳送組件固定第二基板，運動台運動並帶動上板台運動至所述上板預對準位置處，上板台上的傳送組件釋放第二基板，所述第二方向預對準單元運動並調節上板台上第二基板在所述第二方向的方位。
步驟S24，上板台上的傳送組件固定第二基板的位置，運動台運動並將第二基板送至工件台交接位置，上板台上的傳送組件運動並將第二基板送至工件台。
本發明進一步設置為，進一步包括步驟S25，上板台上的傳送組件復位，等待板叉下次上板。
本發明進一步設置為，所述步驟S12中所述第一基板傳送到所述下板台之前，過渡氣浮組件在升降結構的作用下升高並對所述第一基板進行氣浮支撐，當所述第一基板位於下板台上之後所述過渡氣浮組件下降。
本發明進一步設置為，所述步驟S21中板叉傳送所述第二基板時，靜電消除器對所述第二基板進行靜電消除。
本發明進一步設置為，所述步驟S21中板叉傳送第二基板時，板叉安全檢測單元檢測板叉是否處在基板交接位置的干涉區域內。
本發明進一步設置為，所述步驟S23中所述第二基板進行第二方向方位調節完成之後，氣浴單元對所述第二基板進行溫度調節，並使得所述第二基板的溫度與曝光環境溫度一致。
本發明進一步設置為，在所述第一基板或所述第二基板進行第一向方位調節或第二方向方位調節時，位於所述下板台或上板台的萬向輪調節組沿第三方向撐起所述第一基板或所述第二基板，所述第三方向與所述第一方向和所述第二方向定義的平面垂直。
一種光刻設備，包括工件台，包括有如上所述的基板的傳輸裝置，所述複數個用於沿第二方向傳輸基板的轉板台包括至少一個上板台和至少一個下板台，所述上板台用於向工件台傳輸待曝光基板，所述下板台用於從工件台接收已曝光基板。
與習知技術相比，本發明提供了一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備，在對基板加工的過程中，在其中一個轉板台對工件台上進行下板的時候，此時另外的轉板台能夠接收板叉運輸上的新的基板，然後該基板在該轉板台上的x向預對準單元的作用下在x向進行方向的預對準，在y向預對準單元處進行y向的預對準，承載有加工完成的基板的轉板台移走之後，該放有新的基板的轉板台移動到工件台，並在傳送組件的作用下將新的基板轉移到工件台上進行加工，在這個過程中，由於工件台在下板的同時，新的基板已經在準備上板中，如此當加工完成的基板移走之後，新的基板傳送到工件台的時間就大大減少，從而提高了加工的效率；帶有新基板的轉板台向工件台轉移基板的時候，帶有加工完成的基板的轉板台的x向預對準單元完成對加工完成的基板進行x向預對準，然後在y向預對準單元的作用下完成y向的預對準，對準完成之後板叉將加工完成的基板移走，方便後續基板的放置，實用性強；在整個基板的放取過程中，新基板的放置以及加工完成的基板的取下能夠同時進行，如此也使得加工效率得到了保證，而且由於加工完成的基板的位置也能夠精准的進行調節，如此對後續加工完成基板的放置質量也更為提高，安全性也更高。
以下結合圖式和具體實施例對本發明提出的一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備作進一步詳細說明。根據下面說明和申請專利範圍，本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是，圖式均採用非常簡化的形式且均使用非精准的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。圖式中相同或相似的圖式標記代表相同或相似的元件。
一種基板的傳輸裝置，如第1圖至第10圖所示，包括運動平台1以及複數個轉板台，所述複數個轉板台沿x方向設置，所述轉板台用於沿y方向傳輸基板，所述x方向與y方向相互垂直，x、y的方向如第2圖中所示，所述運動平台1包括固定台101以及複數個與所述固定台101運動連接的運動台102，所述轉板台分別與所述運動台102連接並藉由所述運動台102可沿x方向運動，所述複數個轉板台包括複數個上板台6和複數個下板台7。較佳的，工件台5應用於一種光刻裝置當中，用於承載基板進行對準位置測量或焦面位置測量、以及曝光等。
較佳的，所述固定台101和運動台102均為框架結構。
較佳的，所述運動平台1上和/或所述轉板台上設置有用於對基板進行預對準及位置調整的預對準組件；較佳的，所述預對準組件包括設置於所述轉板台x向兩側的用於對位於所述轉板台上的基板在x向進行預對準及位置調整的x向預對準單元2，所述預對準組件進一步包括位於所述固定台101上的用於對位於所述轉板台上的基板在y向進行預對準及位置調整的y向預對準單元3。
較佳的，所述轉板台上設置有傳送組件4，當所述轉板台作為上板台6時，所述傳送組件4用於將位於所述上板台6上的基板轉移至工件台5，當所述轉板台作為下板台7時，所述傳送組件4用於將加工完成的基板從所述工件台5轉移至所述下板台7；較佳的，所述複數個轉板台包括一個上板台6和一個下板台7。
較佳的，所述固定台101上設置有基板交接位置8，所述基板交接位置8指的是所述轉板台進行基板的交接的位置，所述固定台101上設置有兩個所述y向預對準單元3，兩個所述y向預對準單元3沿x向分佈於所述基板交接位置8的兩側。較佳的，所述基板交接位置8包括板叉交接位置801以及工件台交接位置802，所述板叉交接位置801與所述工件台交接位置802沿y向分佈於所述固定台101的兩側，所述板叉交接位置801指的是板叉與所述轉板台之間交接基板的位置，所述工件台交接位置802指的是所述工件台5與所述轉板台之間交接基板的位置。
較佳的，與所述上板台6連接的所述運動台102以及與所述下板台7連接的所述運動台102為一體結構，即運動台102用於帶動上板台6和下板台7進行同步運動。較佳的，兩個所述y向預對準單元3分別位於下板y向預對準位置301和上板y向預對準位置302，其中下板y向預對準位置301指的是下板台7在y方向上進行預對準及位置調整的位置；上板y向預對準位置302指的是上板台6在y方向上進行預對準及位置調整的位置。所述下板y向預對準位置301和所述上板y向預對準位置302對稱分佈於所述基板交接位置8的x向兩側。在運動台102的同步驅動作用下，當所述下板台7位於所述基板交接位置8時，所述上板台6位於所述上板y向預對準位置302處，當所述上板台6位於所述基板交接位置8時，所述下板台7位於所述下板y向預對準位置301處。
較佳的，所述固定台101上設置有過渡氣浮組件9，用於對位於工件台5與所述轉板台之間的基板提供氣浮面支撐；較佳的，所述過渡氣浮組件9連接至用於升降所述過渡氣浮組件9的升降結構10，所述升降結構10連接於所述固定台101。
較佳的，所述固定台101上設置有靜電消除器11，用於消除自板叉交接至所述上板台6的基板的靜電。較佳的，所述固定台101上設置有板叉安全檢測單元12，用於對放取基板的板叉進行位置檢測。較佳的，所述固定台101上設置有氣浴單元13，用於對位於所述上板台6上的基板溫度進行調節。
較佳的，所述轉板台包括y向傳動滾輪和萬向輪調節組16，所述y向傳動滾輪用於支撐所述基板沿y方向移動，所述萬向輪調節組16用於沿z方向撐起所述基板並允許基板在所述撐起的狀態下進行x向和/或y向的位置調整，所述z方向與x方向和y方向組成的平面垂直。
一種基板的傳輸方法，包括基板從工件台5傳輸到下板台7的下板步驟，所述下板步驟包括有：
步驟S11，下板台7運動至基板交接工位8。
步驟S12，下板台7上的傳送組件4運動並將位於工件台5上加工完成的第一基板轉移至下板台7，在此轉移過程中，傳送組件4例如藉由吸附方式來固定基板，當基板轉移至下板台7的對應位置後，傳送組件4釋放對第一基板的吸附。
步驟S13，下板台7上的x向預對準單元2運作，調節下板台7上第一基板在x向的方向和位置，當下板台7的x向位置調整完畢後，傳送組件4例如藉由吸附方式固定第一基板。
步驟S14，運動台102運動並帶動下板台7運動至下板y向預對準位置301處，下板台7上的傳送組件4釋放對第一基板的吸附，y向預對準單元3運作並調節下板台7上第一基板在y向的方向和位置，所述x方向與y方向相互垂直，當下板台7的y向位置調整完畢後，傳送組件4固定第一基板。
步驟S15，下板台7運動至板叉交接位置801，下板台7上的傳送組件4釋放第一基板，板叉取走第一基板。
步驟S16，下板台7上的傳送組件4復位，等待下次下板。
所述基板的傳輸方法進一步包括有基板從上板台6轉移到工件台5的上板步驟，所述上板步驟包括有：
步驟S21，上板台6運動至板叉交接位置801處，板叉運動並將第二基板放置到上板台6上。
步驟S22，上板台6上的x向預對準單元2運作，調節上板台6上第二基板在x向的方向和位置，當上板台6的x向位置調整完畢後，傳送組件4例如藉由吸附方式來固定第二基板。
步驟S23，運動台102運動並帶動上板台6運動至上板y向預對準位置302處，上板台6上的傳送組件4釋放對第二基板的吸附，y向預對準單元3運作並調節上板台6上第二基板在y向的方向和位置，當上板台6的y向位置調整完畢後，傳送組件4固定第二基版的位置。
步驟S24，運動台102運動並將第二基板送至工件台交接位置802，上板台6上的傳送組件4運動並將第二基板送至工件台5。
步驟S25，上板台6上的傳送組件4復位，等待板叉下次上板。
較佳的，所述步驟S12中第一基板傳送到下板台7之前，過渡氣浮組件9在升降結構10的作用下升高並對第一基板進行氣浮支撐，當第一基板位於下板台7上之後過渡氣浮組件9下降。較佳的，所述步驟S21中板叉傳送第二基板時，靜電消除器11對第二基板進行靜電消除；較佳的，所述步驟S21中板叉傳送第二基板時，板叉安全檢測單元12檢測板叉是否處在基板交接位置8的干涉區域內，以避免出現碰撞。
較佳的，所述步驟S23中第二基板y向方位調節完成之後，氣浴單元13對第二基板進行溫度調節，並使得第二基版的溫度與曝光環境溫度一致。較佳的，在所述第一基板或第二基板進行x向方位調節或y向方位調節時，位於所述下板台7或上板台6的萬向輪調節組16沿z方向撐起所述第一基板或第二基板，並允許基板在所述撐起的狀態下進行x向和/或y向的位置調整，所述z方向與x方向和y方向組成的平面垂直。
本發明進一步提供一種光刻設備，包括工件台5，進一步包括有如上所述的基板的傳輸裝置，所述複數個用於沿y方向傳輸基板的轉板台包括複數個上板台6和複數個下板台7，所述上板台6用於向工件台5傳輸待曝光基板，所述下板台7用於從工件台5接收已曝光基板。
本發明進一步提供一種光刻方法，使用如上所述的基板的傳輸方法進行基板的傳輸。
綜上所述，本發明提供的一種基板的傳輸裝置、傳輸方法以及光刻設備和光刻方法，其中由於上板台6和下板台7是連接在同一個運動台102上的，且y向預對準單元3，即上板y向預對準位置302和下板y向預對準位置301對稱分佈於基板交接工位8的兩側，所以整個的加工過程為：
下板台7對工件台5上的加工完成的第一基板進行接收，同時上板台6上的預先完成了x向預對準的第二基板在固定台101上的上板y向預對準位置302處，受到萬向輪調節組16的支撐作用，y向預對準單元3作用到第二基版的y向兩側上，並對第二基版的位置進行調節到設定值，完成第二基底y向的定位。
第一基板位於下板台7上之後，基板被萬向輪調節組16撐起，下板台7上的x向預對準單元2對第一基板的x向進行預對準及位置調整，運動台102運動並使得下板台7位於下板y向預對準單元301處，同時上板台6運動到工件台交接位置801。
下板y向預對準位置301處的第一基板在萬向輪調節組16的支撐作用下進行y向預對準及位置調整，上板台6將位置調節完成的第二基板傳送到工件台。
板叉將新的基板放置到上板台6上，成為新的第二基板，新的第二基板在上板台6兩側的x向預對準單元2的作用下完成x向的預對準及位置調整。
運動台102再次運動，並使得帶有第一基板的下板台7運動到板叉交接位置801處，板叉運動並將位於下板台7上的第一基板取走，同時新的第二基板在上板y向預對準位置302處，由y向預對準單元3對新的第二基板進行y向的預對準，並完成新的第二基版的方位調節。
第一基板從下板台7上移走之後，等待加工完成的新的第一基板從工件台5上送出。
這樣藉由循環以及同時加工的方式，使得新的基板的方位對準以及加工完成基板的移走能夠同時的進行，在很大程度上節省了加工的時間，並提高了加工的效率；不僅如此，由於下板台7上的基板的位置也調節到設定值，如此板叉將加工完成的基板轉移出去之後進行放置的時候，也能夠更為簡單方便，並使得後續板叉的放置安全性更高，實用性強。
上板台6和下板台7連接在同一個運動台102上，而且兩個y向預對準單元3對稱分佈在基板交接位置8兩側，如此不僅使得投入成本更低，而且在控制上板台6和下板台7運動的時候，能夠同時同步的進行，出錯率也能降低。
其中，加工完成的基板從工件台5移動到下板台7上之前，升降結構10驅動過渡氣浮組件9上升並對位於工件台5與下板台7之間的基板進行過渡支撐，如此就對大型的基板起到了更好的支撐效果，防止了基板發生破裂等，安全係數更高，使得本發明的裝置能適用於大型基板的傳輸；傳送組件4在拖動基板活動的時候，基板底端是藉由y向傳動輪組15進行轉動支撐的，如此就即對基板進行了支撐防止了基板破裂，同時也能夠將基板的磨損減小的最小；加工完成的基板轉移完成之後升降結構10驅動過渡氣浮組件9下降，這樣下次工件台5轉移基板到靠近運動平台1的時候，就能夠較好的防止工件台5與過渡氣浮組件9之間發生碰撞，安全性更高。
基板的靜電消除器11和板叉安全檢測單元安裝在固定台101上，且處於基板交接位置8的板叉交接位置801處，即板叉傳送基板的進出口位置，對外部傳送進來的基板進行靜電消除，從而防止基板上的靜電影響後續的曝光，板叉安全檢測單元12適時檢測板叉是否處在基板交接位置8的干涉區域內，從而防止有板叉發生位置偏差而繼續推送基板的情況，保證了基板的傳送穩定性。氣浴單元13安裝在上板y向預對準位置302處，預上板時上板台6將做好預對準的第二基板在上板y向預對準位置302處等待上板，在等待時間內氣浴單元13對第二基板進行溫度控制，保證基板溫度與曝光環境溫度一致，從而減小由於基板與曝光溫度不同而帶來的曝光質量差的問題，從側面提高了曝光質量。
當光刻設備使用以上的傳輸裝置進行傳輸，以上的傳輸方法進行傳輸基板的時候，不僅使得基板傳輸效率更高，同時也使得基板後續放置安全性更佳，而且還能夠提高曝光的質量，實用性強。
其中，運動平台1的結構如圖4所示，運動台102包括運動框架1021以及平行連接於運動框架1021的上板y軸1022和下板y軸1023，上板台6與上板y軸1022連接，下板台7與下板y軸1023連接；運動框架1021能夠整體在固定體101上沿x方向進行運動，從而帶動上板台6和下板台7也在x方向上運動，其中在運動框架1021與固定台101之間還具有鎖緊氣缸，當進行上板、下板或者基板位置調節的時候，運動框架1021都藉由鎖緊氣缸與固定台101固定連接，這樣就能夠保持基板位置的穩定性，從而穩定的進行上下板或者在x、y方向對基板的方位進行調節。
轉板台的結構如第5圖所示，其中包括有與運動台102連接的連接框架14，在連接框架14之間設有複數個平行的y向傳動輪組15，y向傳動輪組15的結構如第6圖所示，其中y向傳動輪組15包括連接於連接框架14的傳動板體1501以及轉動連接於傳動板體1501的防靜電傳動輪1502；當基板位於y向傳動輪組15上的時候，基板只可沿著y向進行運動；在連接框架14上設置有萬向輪調節組16，萬向輪調節組16藉由萬向調節氣缸17以可在z方向進行升降的方式連接在運動台102上，其中z方向為與x、y方向所在平面相垂直的方向；當對基板進行x向調節的時候，萬向調節氣缸17將萬向輪調節組16升高，然後萬向輪調節組16藉由其頂端的萬向滾珠18將基板撐起，如此基板就能夠根據預對準的情況在x向和y向進行所需的運動，其中萬向輪調節組16、萬向調節氣缸17以及萬向滾珠18的結構如第7圖所示；基板的位置調節完成之後，萬向調節氣缸17下降並使得基板落下到y向傳動輪組15上；同時在轉板台靠近工件台5的側部設置有前端氣浮塊19(如第10圖所示)，也用於對基板進行過渡支撐。
x向預對準單元2的結構如第8圖所示，其包括有連接於連接框架14的連接支架201，連接支架201上連接有x向氣動滑台202，x向氣動滑台202上安裝有安裝板203、立柱204和防靜電滾輪205，x向氣動滑台202驅動安裝板203、立柱204和防靜電滾輪205，並能夠在x向驅動基板運動；x向預對準單元2在轉板台的x向的每側均設置有兩個，如此藉由該四個x向預對準單元2就能夠使得基板在x向的位置進行精准的調節；一個y向預對準單元3包括兩對分佈在固定台101的y向兩側的氣缸，當萬向輪調節組16將基板升起之後，y向預對準單元3運動並將基板y向兩端夾住，即可對基板在y向的位置進行調節。
用於對基板進行傳送的傳送組件4如第9圖所示，其包括有運動連接於運動台102的安裝支架401以及位於安裝支架401上的吸盤組件402，其中安裝支架401藉由氣缸可升降的連接於運動台102；當傳送組件4對基板進行傳送的時候，安裝支架401運動並使得吸盤組件402位於基板下方，吸盤開啟真空，然後就能夠對基板的位置進行固定，此時就能夠在安裝支架401的帶動作用下移動基板；同樣，轉板台在運動的時候也需要對基板的位置進行固定，此時也是藉由吸盤組件402進行固定的，但是在對基板的x向或者y向方位進行調節的時候，吸盤組件402需關閉，並使得基板能夠自由的運動。本發明中涉及的所有氣缸，可以用電機或其他驅動元件進行替代。
需要說明的是，本說明書中各個實施例採用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。
上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，並非對本發明範圍的任何限定，本發明領域的通常技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬於申請專利範圍。
1‧‧‧運動平台
2‧‧‧x向預對準單元
3‧‧‧y向預對準單元
4‧‧‧傳送組件
5‧‧‧工件台
6‧‧‧上板台
7‧‧‧下板台
8‧‧‧基板交接位置
9‧‧‧過渡氣浮組件
10‧‧‧升降結構
11‧‧‧靜電消除器
12‧‧‧板叉安全檢測單元
13‧‧‧氣浴單元
14‧‧‧連接框架
15‧‧‧y向傳動輪組
16‧‧‧萬向輪調節組
17‧‧‧萬向調節氣缸
18‧‧‧萬向滾珠
19‧‧‧前端氣浮塊
101‧‧‧固定台
102‧‧‧運動台
201‧‧‧連接支架
202‧‧‧x向氣動滑台
203‧‧‧安裝板
204‧‧‧立柱
205‧‧‧防靜電滾輪
301‧‧‧下板y向預對準位置
302‧‧‧上板y向預對準位置
401‧‧‧安裝支架
402‧‧‧吸盤組件
801‧‧‧板叉交接位置
802‧‧‧工件台交接位置
1021‧‧‧運動框架
1022‧‧‧上板y軸
1023‧‧‧下板y軸
1501‧‧‧傳動板體
1502‧‧‧防靜電傳動輪
第1圖是本發明中基板的傳輸裝置的正向結構示意圖。
第2圖是本發明中基板的傳輸裝置的俯視結構示意圖。
第3圖是本發明中基板的傳輸裝置的側視結構示意圖。
第4圖是本發明中運動平台的結構示意圖。
第5圖是本發明中轉板台(上板台和下板台)的結構示意圖。
第6圖是本發明中y向傳動輪組的結構示意圖。
第7圖是本發明中萬向輪調節組、萬向調節氣缸以及萬向滾珠的結構示意圖。
第8圖是本發明中x向預對準單元的結構示意圖。
第9圖是本發明中傳送組件的結構示意圖。
第10圖是本發明中運動平台的立體結構圖。

Claims (25)

  1. 一種基板的傳輸裝置，其包括： 運動平台；以及 複數個轉板台 其中，該複數個轉板台沿第一方向設置，該複數個轉板台用於沿第二方向傳輸基板，該第一方向與該第二方向相互垂直，該運動平台包括固定台以及複數個與該固定台運動連接的運動台，該轉板台中的每一個轉板台均分別與該運動台的相應部分連接，並藉由該運動台帶動沿第一方向運動，該運動平台上和該轉板台上設置有用於對基板進行預對準及位置調整的預對準組件，在該複數個轉板台中的一個轉板台對第一基板進行下板的同時，該複數個轉板台中的另一個轉板台接收第二基板並在該預對準組件的作用下在該第一方向和該第二方向進行預對準。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之基板的傳輸裝置，其中該預對準組件包括第一方向預對準單元，位於該轉板台的兩側且用於對位於該轉板台上的基板在該第一方向進行預對準及位置調整。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之基板的傳輸裝置，其中該預對準組件進一步包括第二方向預對準單元，位於該固定台上且用於對位於該轉板台上的基板在該第二方向進行預對準及位置調整。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之基板的傳輸裝置，其中該複數個轉板台包括至少一個上板台和至少一個下板台。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之基板的傳輸裝置，其中該轉板台上設置有傳送組件，該傳送組件用於將位於該上板台上的基板轉移至工件台或將加工完成的基板從該工件台轉移至該下板台。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之基板的傳輸裝置，其中該固定台包括基板交接位置，該轉板台用於在該基板交接位置處進行基板的交接，該預對準組件進一步包括兩個第二方向預對準單元，兩個該第二方向預對準單元分佈於該基板交接位置的兩側。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之基板的傳輸裝置，其中該基板交接位置包括板叉交接位置以及工件台交接位置，該板叉交接位置與該工件台交接位置沿該第二方向分佈於該固定台的兩側，該轉板台用於在該板叉交接位置處與板叉之間交接基板，該轉板台用於在該工件台交接位置處與該工件台之間交接基板。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之基板的傳輸裝置，其中與該上板台連接的該運動台以及與該下板台連接的該運動台為一體結構。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之基板的傳輸裝置，其中兩個該第二方向預對準單元分別位於下板預對準位置和上板預對準位置，該下板預對準位置和該上板預對準位置沿該第一方向對稱分佈於該基板交接位置的兩側，當該下板台位於該基板交接位置時，該上板台位於該上板預對準位置處，當該上板台位於該基板交接位置時，該下板台位於該下板預對準位置處。
  10. 如申請專利範圍第4項所述之基板的傳輸裝置，其中該固定台上設置有過渡氣浮組件，用於對位於工件台與該轉板台之間的基板提供氣浮面支撐。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之基板的傳輸裝置，其中該過渡氣浮組件上設置有用於升降該過渡氣浮組件的升降結構，該升降結構連接於該固定台。
  12. 如申請專利範圍第7項所述之基板的傳輸裝置，其中該固定台上設置有靜電消除器，用於消除自板叉交接至該上板台的基板的靜電。
  13. 如申請專利範圍第7項所述之基板的傳輸裝置，其中該固定台上設置有板叉安全檢測單元，用於對放取基板的板叉進行位置檢測。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之基板的傳輸裝置，其中該固定台上設置有氣浴單元，用於對位於該上板台上的基板溫度進行調節。
  15. 如申請專利範圍第3項所述之基板的傳輸裝置，其中該轉板台包括第二方向傳動滾輪和萬向輪調節組，該第二方向傳動滾輪用於支撐該基板沿該第二方向移動，該萬向輪調節組用於沿第三方向撐起該基板並允許該基板在該撐起的狀態下進行該第一方向和/或該第二方向的位置調整，該第三方向與該第一方向和該第二方向定義的平面垂直。
  16. 一種如申請專利範圍第1至15項中任一項所述之基板的傳輸裝置對基板進行傳輸的方法，其包括基板從工件台傳輸到下板台的下板步驟，該下板步驟包括： 步驟S11，下板台運動至基板交接位置； 步驟S12，下板台上的傳送組件運動並將位於工件台上加工完成的第一基板轉移至下板台； 步驟S13，下板台上的傳送組件釋放第一基板，下板台上的第一方向預對準單元運動，調節下板台上第一基板在第一方向的方位； 步驟S14，下板台上的傳送組件固定第一基板，運動台運動並帶動下板台運動至下板預對準位置處，下板台上的傳送組件釋放第一基板，第二方向預對準單元運動並調節下板台上第一基板在第二方向的方位，該第一方向與該第二方向相互垂直，下板台上的傳送組件固定第一基板；以及 步驟S15，下板台運動至板叉交接位置，下板台上的傳送組件釋放第一基板，板叉取走第一基板。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之基板的傳輸方法，其進一步包括步驟S16，下板台上的傳送組件復位，等待下次下板。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之基板的傳輸方法，其進一步包括有基板從上板台轉移到工件台的上板步驟，該上板步驟包括： 步驟S21，上板台運動至板叉交接位置處，板叉運動並將第二基板放置到上板台上； 步驟S22，上板台上的該第一向預對準單元運動，調節上板台上第二基板在該第一向的方位； 步驟S23，上板台上的傳送組件固定第二基板，運動台運動並帶動上板台運動至該上板預對準位置處，上板台上的傳送組件釋放第二基板，該第二方向預對準單元運動並調節上板台上第二基板在該第二方向的方位；以及 步驟S24，上板台上的傳送組件固定第二基板的位置，運動台運動並將第二基板送至工件台交接位置，上板台上的傳送組件運動並將第二基板送至工件台。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之基板的傳輸方法，其進一步包括步驟S25，上板台上的傳送組件復位，等待板叉下次上板。
  20. 如申請專利範圍第16項所述之基板的傳輸方法，其中該步驟S12中該第一基板傳送到該下板台之前，過渡氣浮組件在升降結構的作用下升高並對該第一基板進行氣浮支撐，當該第一基板位於下板台上之後該過渡氣浮組件下降。
  21. 如申請專利範圍第18項所述之基板的傳輸方法，其中該步驟S21中板叉傳送該第二基板時，靜電消除器對該第二基板進行靜電消除。
  22. 如申請專利範圍第18項所述之基板的傳輸方法，其中該步驟S21中板叉傳送該第二基板時，板叉安全檢測單元檢測板叉是否處在基板交接位置的干涉區域內。
  23. 如申請專利範圍第18項所述之基板的傳輸方法，其中該步驟S23中該第二基板進行第二方向方位調節完成之後，氣浴單元對所述第二基板進行溫度調節，並使得該第二基板的溫度與曝光環境溫度一致。
  24. 如申請專利範圍第18項所述之基板的傳輸方法，其中在該第一基板或該第二基板進行第一方向方位調節或第二方向方位調節時，位於該下板台或上板台的萬向輪調節組沿第三方向撐起該第一基板或該第二基板，該第三方向與該第一方向和該第二方向定義的平面垂直。
  25. 一種光刻設備，其包括工件台，其進一步包括有如申請專利範圍第1至15項中任一項所述之基板的傳輸裝置，該複數個用於沿第二方向傳輸基板的轉板台包括至少一個上板台和至少一個下板台，該上板台用於向工件台傳輸待曝光基板，該下板台用於從工件台接收已曝光基板。
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