CN117031886A - 曝光设备以及曝光设备的曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种曝光设备以及曝光设备的曝光方法，曝光设备包括：上曝光组件，上曝光组件包括：上工作台、上吸附件和上曝光件，上吸附件可上下移动地设置于上工作台上，上曝光件设置于上工作台上；下曝光组件，下曝光组件位于上曝光组件的下方，且下曝光组件与上曝光组件之间可相对移动，下曝光组件包括：下工作台、下吸附件和下曝光件，下工作台与上工作台上下相对设置，下吸附件可上下移动地设置于下工作台上，下曝光件设置于下工作台上。可以在基板不翻转的情况下分别对基板的上下两个面进行曝光，无需利用翻板机对基板进行翻转，减小曝光设备所占用的空间，降低成本，提高产能，而且也可以避免玻璃双面曝光机划伤基板，提升成品率。

Description

曝光设备以及曝光设备的曝光方法

技术领域

本发明涉及曝光设备技术领域，尤其是涉及一种曝光设备以及曝光设备的曝光方法。

背景技术

相关技术中，通常使用两台单台面曝光设备中间加一台翻板机实现对基板的双面曝光。但是，两台单台面曝光设备中间加一台翻板机的设置所占用的面积较大，成本高，并且产能较低，而且存在玻璃双面曝光机划伤基板的风险，造成曝光成品率低的问题。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出了一种曝光设备，该曝光设备可以减小曝光设备所占用的面积，降低成本，提高产能，而且也可以避免玻璃双面曝光机划伤基板，提升成品率。

本发明进一步地提出了一种曝光设备的曝光方法。

根据本发明的曝光设备，包括：上曝光组件，所述上曝光组件包括：上工作台、上吸附件和上曝光件，所述上吸附件可上下移动地设置于所述上工作台上，所述上曝光件设置于所述上工作台上；下曝光组件，所述下曝光组件位于所述上曝光组件的下方，且所述下曝光组件与所述上曝光组件之间可相对移动，所述下曝光组件包括：下工作台、下吸附件和下曝光件，所述下工作台与所述上工作台上下相对设置，所述下吸附件可上下移动地设置于所述下工作台上，所述下曝光件设置于所述下工作台上。

根据本发明的曝光设备，通过在曝光设备上设置有上曝光组件和下曝光组件，可以在基板不翻转的情况下，分别对基板的上下两个面进行曝光，无需利用翻板机对基板进行翻转，可以减小曝光设备所占用的空间，降低成本，提高产能，而且也可以避免玻璃双面曝光机划伤基板，提升成品率。

在本发明的一些示例中，曝光设备还包括：第一驱动件和第二驱动件，所述第一驱动件与所述上曝光组件驱动配合，所述第二驱动件与所述下曝光组件驱动配合。

在本发明的一些示例中，所述上工作台朝向所述下工作台的一侧设置有第一吸盘，所述下工作台朝向所述上工作台的一侧设置有第二吸盘，所述第一吸盘和所述第二吸盘均用于吸附基板。

在本发明的一些示例中，所述上工作台上开设有第一通孔，所述上吸附件穿设所述第一通孔，所述下工作台上开设有第二通孔，所述下吸附件穿设所述第二通孔。

在本发明的一些示例中，所述第一通孔为多个，多个所述第一通孔在所述上工作台上间隔设置，所述第二通孔为多个，多个所述第二通孔在所述下工作台上间隔设置。

在本发明的一些示例中，所述上曝光件连接于所述上工作台左右或前后方向上的一端，所述下曝光件连接于所述下工作台左右或前后方向上的另一端。

在本发明的一些示例中，曝光设备还包括：第一对位件和第二对位件，所述第一对位件设置于所述上曝光件远离所述上工作台的一端，所述第二对位件设置于所述下曝光件远离所述下工作台的一端。

在本发明的一些示例中，曝光设备还包括：第一运送件和第二运送件，所述第一运送件可移动地设置于所述上工作台处，以将基板运送至所述上工作台上，所述第二运送件可移动地设置于所述下工作台处，以将基板运送至所述下工作台上。

在本发明的一些示例中，所述第一运送件和所述第二运送件均包括：上吸盘、下吸盘和运送架，所述上吸盘设置于所述运送架的上端，所述下吸盘设置于所述运送架的下端。

在本发明的一些示例中，曝光设备还包括：第三驱动件，所述第三驱动件与所述运送架驱动配合。

根据本发明的曝光设备的曝光方法，包括：所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台和/或所述下工作台上；所述上工作台和/或所述下工作台朝向彼此的方向移动，所述上曝光件和所述下曝光件中的一个对基板的一面进行曝光；所述上工作台上的基板交换至所述下工作台上，和/或所述下工作台上的基板交换至所述上工作台上；所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，所述上曝光件和所述下曝光件中的另一个对基板的另一面进行曝光；将基板从所述上工作台和/或所述下工作台上搬离。

在本发明的一些示例中，基板为一个，在所述的所述上工作台上的基板交换至所述下工作台上，和/或所述下工作台上的基板交换至所述上工作台上的步骤中，包括：上吸附件向下移动或下吸附件向上移动，对相对的工作台上的基板进行吸附；上吸附件向上收缩或下吸附件向下收缩，所述上工作台或所述下工作台吸附基板。

在本发明的一些示例中，基板为两个，两个基板分别设置于所述上工作台和所述下工作台上，在所述的所述上工作台上的基板交换至所述下工作台上，和/或所述下工作台上的基板交换至所述上工作台上的步骤中，包括：将所述上工作台和所述下工作台中的一个上的基板暂时搬离；所述上工作台和所述下工作台中的一个所对应的吸附件吸附所述上工作台和所述下工作台中的另一个上的基板，并将其转移至所述上工作台和所述下工作台中的一个上；将暂时搬离的基板运送至所述上工作台和所述下工作台中的另一个的上端或下端；所述上工作台和所述下工作台中的另一个所对应的吸附件吸附暂时搬离的基板，并将其转移至所述上工作台和所述下工作台中的另一个上。

在本发明的一些示例中，所述曝光设备还包括：第一对位件和第二对位件，其特征在于，在所述的所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台和/或所述下工作台上的步骤之后，且在所述的所述上工作台和/或所述下工作台朝向彼此的方向移动，所述上曝光件和所述下曝光件中的一个对基板的一面进行曝光的步骤之前，还包括：所述第一对位件对所述下工作台上的基板的一面进行对位，和/或所述第二对位件对所述上工作台上的基板的一面进行对位。

在本发明的一些示例中，在所述的所述上工作台上的基板交换至所述下工作台上，和/或所述下工作台上的基板交换至所述上工作台上的步骤之后，且在所述的所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，所述上曝光件和所述下曝光件中的另一个对基板的另一面进行曝光的步骤之前，还包括：所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，所述第一对位件对所述下工作台上的基板的另一面进行对位，和/或所述第二对位件对所述上工作台上的基板的另一面进行对位。

在本发明的一些示例中，所述曝光设备还包括：第一运送件和第二运送件，其特征在于，在所述的所述上工作台和/或所述下工作台朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台和/或所述下工作台上的步骤中，包括：所述第一运送件将基板运送至所述上工作台上，和/或所述第二运送件将基板运送至所述下工作台上；且在所述的将基板从所述上工作台和/或所述下工作台上搬离的步骤中，包括：所述第一运送件搬离所述上工作台上的基板，和/或所述第二运送件搬离所述下工作台上的基板。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本发明的曝光设备的结构图；

图2是根据本发明曝光设备的曝光方法的流程图。

附图标记：

1、曝光设备；

10、上曝光组件；11、上工作台；111、第一通孔；12、上吸附件；13、上曝光件；14、第一对位件；15、第一运送件；20、下曝光组件；21、下工作台；211、第二通孔；22、下吸附件；23、下曝光件；24、第二对位件；25、第二运送件；26、运送架；27、上吸盘；28、下吸盘。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，参考附图描述的实施例是示例性的，下面详细描述本发明的实施例。

下面参考图1和图2描述根据本发明实施例的曝光设备1，以及使用该曝光设备1对基板的曝光方法，其中，基板可以为制作电路板的基板材料。

如图1所示，根据本发明的曝光设备1，包括：上曝光组件10和下曝光组件20。其中，上曝光组件10和下曝光组件20均可以起到曝光的作用，可以对基板进行曝光，通过上曝光组件10和下曝光组件20的相互配合，可以对基板进行双面曝光。

如图1所示，上曝光组件10包括：上工作台11、上吸附件12和上曝光件13，上吸附件12可上下移动地设置于上工作台11上，上曝光件13设置于上工作台11上。下曝光组件20位于上曝光组件10的下方，而且下曝光组件20与上曝光组件10之间可相对移动，下曝光组件20包括：下工作台21、下吸附件22和下曝光件23，下工作台21与上工作台11上下相对设置，下吸附件22可上下移动地设置于下工作台21上，下曝光件23设置于下工作台21上。

其中，上工作台11主要起到吸附基板的作用，当基板吸附于上工作台11上时，可以对基板进行曝光工作。上吸附件12也可以对基板起到吸附和转移的作用，首先对基板进行吸附固定，然后将其转移到上工作台11上。而上曝光件13则主要起到曝光的作用，用于对基板进行曝光。

上吸附件12可上下移动地设置在上工作台11上，这样上吸附件12可以通过上下移动吸附基板，并且在吸附基板之后，可以带动基板进行上下方向上的移动，便于调节基板在上下方向上的位置，将基板转移到上工作台11上。将上曝光件13设置在上工作台11上，这样可以固定上曝光件13的位置，使上曝光件13的设置更加牢靠和稳定，上曝光件13可以更好地进行工作，而且上曝光件13可以与上工作台11一起移动，便于上曝光组件10的曝光工作。

同样，下工作台21也主要起到吸附基板的作用，当基板吸附于下工作台21上时，可以对基板进行曝光工作。下吸附件22也可以对基板起到吸附和转移的作用，首先对基板进行吸附固定，然后将其转移到下工作台21上。而下曝光件23则主要起到曝光的作用，用于对基板进行曝光。

下吸附件22可上下移动地设置在下工作台21上，这样下吸附件22可以通过上下移动吸附基板，并且在吸附基板之后，也可以带动基板进行上下方向上的移动，便于调节基板在上下方向上的位置，将基板转移到下工作台21上。将下曝光件23设置在下工作台21上，这样可以固定下曝光件23的位置，使下曝光件23的设置更加牢靠和稳定，下曝光件23可以更好地进行工作，而且下曝光件23可以与下工作台21一起移动，便于下曝光组件20的曝光工作。

而且，下曝光组件20位于上曝光组件10的下方，也就是说，上曝光组件10和下曝光组件20为上下分布设置，这样上曝光组件10和下曝光组件20的设置更加合理，可以通过上曝光组件10和下曝光组件20分别对基板进行上下吸附和曝光，例如：当上工作台11对基板进行吸附时，下曝光件23可以对基板的下表面进行曝光，基板单面曝光完成后，下吸附件22吸附上工作台11上的基板，并将其转移到下工作台21上，基板交换位置，此时下工作台21对基板进行吸附，上曝光件13可以对基板的上表面进行曝光，从而可以实现对基板的两个面进行曝光。

而且下曝光组件20与上曝光组件10之间可相对移动，这样便于调整上曝光组件10和下曝光组件20之间的相对位置，而且便于对基板的位置进行调节对位，使基板可以更好地进行曝光，另外，当下曝光组件20与上曝光组件10相对移动时，下曝光件23可以对上工作台11上的基板进行全面的曝光，和/或上曝光件13可以对下工作台21上的基板进行全面的曝光。

由此，通过在曝光设备1上设置有上曝光组件10和下曝光组件20，可以在基板不翻转的情况下，分别对基板的上下两个面进行曝光，无需利用翻板机对基板进行翻转，可以减小曝光设备1所占用的空间，降低成本，提高产能，而且也可以避免玻璃双面曝光机划伤基板，提升成品率。

此外，如图1所示，曝光设备1还包括：第一驱动件和第二驱动件，第一驱动件与上曝光组件10驱动配合，第二驱动件与下曝光组件20驱动配合。第一驱动件和第二驱动件均可以起到驱动的作用，第一驱动件与上曝光组件10驱动配合，这样第一驱动件可以驱动上曝光组件10进行移动，便于调节上曝光组件10的位置，第二驱动件与下曝光组件20驱动配合，这样第二驱动件可以驱动下曝光组件20进行移动，便于调节下曝光组件20的位置。

另外，如图1所示，上工作台11朝向下工作台21的一侧设置有第一吸盘，下工作台21朝向上工作台11的一侧设置有第二吸盘，第一吸盘和第二吸盘均用于吸附基板。其中，第一吸盘和第二吸盘均可以起到吸附的作用，可以对基板进行吸附固定。将第一吸盘设置在上工作台11朝向下工作台21的一侧，这样可以固定第一吸盘，使第一吸盘的设置更加牢靠和稳定，而且在上吸附件12将基板转移到上工作台11的过程中，第一吸盘可以更加方便地将基板固定在上工作台11上，同时也便于下曝光件23对基板朝向下工作台21的一侧进行曝光。同样，将第二吸盘设置在下工作台21朝向上工作台11的一侧，这样可以固定第二吸盘，使第二吸盘的设置更加牢靠和稳定，而且在下吸附件22将基板转移到下工作台21的过程中，第二吸盘可以更加方便地将基板固定在下工作台21上，同时也便于上曝光件13对基板朝向上工作台11的一侧进行曝光。

进一步地，如图1所示，上工作台11上开设有第一通孔111，上吸附件12穿设第一通孔111，下工作台21上开设有第二通孔211，下吸附件22穿设第二通孔211。其中，第一通孔111和第二通孔211均可以起到连通的作用，上吸附件12穿设第一通孔111，这样便于上吸附件12的装配，上吸附件12可以在第一通孔111处沿上下方向进行移动，从而上吸附件12可以通过上下移动对基板吸附固定，并且对基板在上下方向的位置进行调整。同样，下吸附件22穿设第二通孔211，这样便于下吸附件22的装配，下吸附件22可以在第二通孔211处沿上下方向进行移动，从而下吸附件22可以通过上下移动对基板吸附固定，并且对基板在上下方向的位置进行调整。

具体地，如图1所示，第一通孔111为多个，多个第一通孔111在上工作台11上间隔设置，第二通孔211为多个，多个第二通孔211在下工作台21上间隔设置。第一通孔111设置有多个，而且多个第一通孔111在上工作台11上间隔设置，这样可以使第一通孔111在上工作台11上的设置更加的均匀和全面，相应地可以增加上吸附件12的数量，从而可以增大对基板的吸附力，使基板在被吸附时更加地稳定和可靠。

同样，第二通孔211设置有多个，而且多个第二通孔211在下工作台21上间隔设置，这样可以使第二通孔211在下工作台21上的设置更加的均匀和全面，相应地可以增加下吸附件22的数量，从而可以增大对基板的吸附力，使基板在被吸附时更加地稳定和可靠。

进一步地，如图1所示，上曝光件13连接于上工作台11左右或前后方向上的一端，下曝光件23连接于下工作台21左右或前后方向上的另一端。也就是说，上曝光件13可以连接在上工作台11左右方向上的一端，或者前后方向上的一端，首先，这样可以对上曝光件13进行固定，使上曝光件13的设置更加地牢靠和稳定，而且，上曝光件13不设置在上工作台11的上下方向上，这样可以避免上曝光件13与下工作台21产生干涉，同时在下曝光组件20与上曝光组件10相对移动的过程中，上曝光件13可以更好地对下工作台21上的基板进行曝光。

同样，下曝光件23也可以连接在下工作台21左右方向上的一端，或者前后方向上的一端，首先，这样可以对下曝光件23进行固定，使下曝光件23的设置更加地牢靠和稳定，而且，下曝光件23不设置在下工作台21的上下方向上，这样可以避免下曝光件23与上工作台11产生干涉，同时在下曝光组件20与上曝光组件10相对移动的过程中，下曝光件23可以更好地对上工作台11上的基板进行曝光。

此外，如图1所示，曝光设备1还包括：第一对位件14和第二对位件24，第一对位件14设置于上曝光件13远离上工作台11的一端，第二对位件24设置于下曝光件23远离下工作台21的一端。其中，第一对位件14和第二对位件24均可以起到对位的作用，可以对基板的位置进行对准。将第一对位件14设置在上曝光件13远离上工作台11的一端，这样第一对位件14的设置更加合理，第一对位件14更加靠近下工作台21的位置，这样便于第一对位件14对下工作台21上的基板进行对位。同样，将第二对位件24设置在下曝光件23远离下工作台21的一端，这样第二对位件24的设置更加合理，第二对位件24更加靠近上工作台11的位置，这样便于第二对位件24对上工作台11上的基板进行对位。

另外，如图1所示，曝光设备1还包括：第一运送件15和第二运送件25，第一运送件15可移动地设置于上工作台11处，以将基板运送至上工作台11上，第二运送件25可移动地设置于下工作台21处，以将基板运送至下工作台21上。其中，第一运送件15和第二运送件25均可以起到运送基板的作用。具体来说，第一运送件15可以将基板运送到上工作台11上，便于后续对基板进行曝光，当上工作台11上的基板完成双面曝光后，第一运送件15又可以将上工作台11上的基板取走，转移至下一个工位，同样，第二运送件25可以将基板运送到下工作台21上，便于后续对基板进行曝光，当上工作台11上的基板完成双面曝光后，第一运送件15又可以将上工作台11上的基板取走，转移至下一个工位。如此，可以实现曝光设备1的整个曝光流程。

具体地，如图1所示，第一运送件15和第二运送件25均包括：上吸盘27、下吸盘28和运送架26，上吸盘27设置于运送架26的上端，下吸盘28设置于运送架26的下端。其中，运送架26为第一运送件15和第二运送件25的主体部分，主要起到安装的作用。上吸盘27和下吸盘28均可以起到吸附的作用，可以对基板进行吸附，将上吸盘27设置在运送架26的上端，下吸盘28设置在运送架26的下端，这样第一运送件15和可以利用上吸盘27对基板进行吸附固定，便于将基板运送至上工作台11上，而第二运送件25则可以利用下吸盘28对基板进行吸附固定，便于将基板运送至下工作台21上。

进一步地，曝光设备1还包括：第三驱动件，第三驱动件与运送架26驱动配合。第三驱动件也主要起到驱动的作用，第三驱动件与运送架26驱动配合，这样第三驱动件可以为运送架26提供动力，从而可以驱动第一运送件15和第二运送件25，使第一运送件15和第二运送件25分别移动至上工作台11和下工作台21处，进而可以利用第一运送件15和第二运送件25对基板进行运输。

如图2所示，根据本发明实施例的曝光设备1的曝光方法，包括：

S1、上工作台11和/或下工作台21朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于上工作台11和/或下工作台21上。

具体来说：在基板为一个的工况下，例如：可以利用第一驱动件将上工作台11向左移出，将基板运送至上工作台11上，当然，也可以利用第二驱动件将下工作台21向右移出，将基板运送至下工作台21上；基板为两个的工况下，此时可以利用第一驱动件将上工作台11向左移出，同时利用第二驱动件将下工作台21向右移出，将相应的基板分别运送至上工作台11和下工作台21上。如此，便于将基板设置于上工作台11和/或下工作台21上。

S2、上工作台11和/或下工作台21朝向彼此的方向移动，上曝光件13和下曝光件23中的一个对基板的一面进行曝光。

也就是说：在基板为一个的工况下，例如：在将基板运送至上工作台11上后，第一驱动件可以驱动上工作台11向右移动，并且在向右移动的过程中，利用下曝光件23对基板进行图形曝光，完成曝光后，上工作台11的位置正好位于下工作台21的正上方。当然，也可以在将基板运送至下工作台21上后，第二驱动件可以驱动下工作台21向左移动，并且在向左移动的过程中，利用上曝光件13对基板进行图形曝光，完成曝光后，下工作台21的位置正好位于上工作台11的正下方。

在基板为两个的工况下，在将相应的基板分别运送至上工作台11和下工作台21上后，第一驱动件可以驱动上工作台11向右移动，并且在移动的过程中，上曝光件13可以对位于下方的基板的一面进行图形曝光，同时下曝光件23可以对位于上方的基板的一面进行图形曝光。或者，第二驱动件驱动下工作台21向左移动，并且在移动的过程中，上曝光件13可以对位于下方的基板的一面进行图形曝光，同时下曝光件23可以对位于上方的基板的一面进行图形曝光。当然，也可以在第一驱动件驱动上工作台11向右移动的同时，第二驱动件驱动下工作台21向左移动，并且在上工作台11和下工作台21朝向彼此移动的过程中，上曝光件13可以对位于下方的基板的一面进行图形曝光，同时下曝光件23可以对位于上方的基板的一面进行图形曝光。

S3、上工作台11上的基板交换至下工作台21上，和/或下工作台21上的基板交换至上工作台11上。

在基板为一个的工况下，例如：在位于上工作台11上的基板的一面被下曝光件23曝光后，可以将位于上工作台11上的基板交换至下工作台21上，便于后续利用上曝光件13对该基板的另一面进行曝光。或者，当位于上下工作台21上的基板的一面被上曝光件13曝光后，可以将位于下工作台21上的基板交换至上工作台11上，便于后续利用下曝光件23对该基板的另一面进行曝光。

在基板为两个的工况下，在位于上工作台11上的基板的一面被下曝光件23曝光，而且位于上下工作台21上的基板的一面被上曝光件13曝光后，可以将位于上工作台11上的基板交换至下工作台21上，并且将位于下工作台21上的基板交换至上工作台11上，这样便于后续上曝光件13对原来位于上工作台11的基板的另一面进行曝光，而且便于后续下曝光件23对原来位于下工作台21上的基板的另一面进行曝光。

S4、上工作台11和/或下工作台21朝向远离彼此的方向移动，上曝光件13和下曝光件23中的另一个对基板的另一面进行曝光。

在基板为一个的工况下，例如：当原来位于上工作台11上的基板被交换至下工作台21上后，下工作台21向左移动，进而在向左移动的过程中，上曝光件13可以对位于下工作台21上的基板的另一面进行曝光。或者，当原来位于下工作台21上的基板被交换至上工作台11上后，上工作台11向右移动，进而在向右移动的过程中，下曝光件23可以对位于上工作台11上的基板的另一面进行曝光。

在基板为两个的工况下，在将位于上工作台11上的基板交换至下工作台21上，并且将位于下工作台21上的基板交换至上工作台11上后，下工作台21静止，上工作台11可以向右移动，并且在向右移动的过程中，利用第二曝光件对位于上工作台11上基板的另一面进行曝光，并且利用第一曝光件对位于下工作台21上基板的另一面进行曝光。或者，上工作台11静止，下工作台21向左移动，并且在向左移动的过程中，利用第一曝光件对位于下工作台21上基板的另一面进行曝光，并且利用第二曝光件对位于上工作台11上基板的另一面进行曝光。又或者，上工作台11向右移动的同时，下工作台21向左移动，并且在上工作台11和下工作台21移动的同时，利用第一曝光件对位于下工作台21上基板的另一面进行曝光，并且利用第二曝光件对位于上工作台11上基板的另一面进行曝光。

S5、将基板从上工作台11和/或下工作台21上搬离。

在基板为一个的工况下，例如：当位于上工作台11上的基板另一面曝光之后，可以将位于上工作台11上的基板重新搬运至生产线。或者，当位于下工作台21上的基板另一面曝光之后，可以将位于下工作台21上的基板重新搬运至生产线；在基板为两个的工况下，当位于上工作台11上的基板和位于下工作台21上的基板均完成另一面曝光之后，可以将位于上工作台11上的基板重新搬运至生产线，同时可以将位于下工作台21上的基板重新搬运至生产线。如此，可以完成曝光设备1的整个曝光过程。

如图2所示，基板为一个，在步骤S3中，包括：

S311、上吸附件12向下移动或下吸附件22向上移动，对相对的工作台上的基板进行吸附。

也就是说，在将下工作台21上的基板交换至上工作台11上的过程中，首先上吸附件12下移，当移动至与基板接触时，打开上吸附件12真空吸附基板，在吸附基板的同时，第二吸盘关闭真空对基板进行释放，从而完成上吸附件12对下工作台21上的基板的吸附工作；又或者，在将上工作台11上的基板交换至下工作台21上的过程中，首先下吸附件22上移，当移动至与基板接触时，打开下吸附件22真空吸附基板，在吸附基板的同时，第一吸盘关闭真空对基板进行释放，从而完成下吸附件22对上工作台11上的基板的吸附工作。

S312、上吸附件12向上收缩或下吸附件22向下收缩，上工作台11或下工作台21吸附基板。

也就是说，在将下工作台21上的基板交换至上工作台11上的过程中，当上吸附件12下移吸附基板之后，上吸附件12向上收缩，当基板与第一吸盘接触时，打开第一吸盘真空对基板进行吸附，然后关闭上吸附件12真空释放基板，此时上吸附件12松开基板，上工作台11完成对基板的吸附；又或者，在将上工作台11上的基板交换至下工作台21上的过程中，当下吸附件22上移吸附基板之后，下吸附件22向下收缩，当基板与第二吸盘接触时，打开第二吸盘真空对基板进行吸附，然后关闭下吸附件22真空释放基板，此时下吸附件22松开基板，下工作台21完成对基板的吸附。

如图2所示，基板为两个，两个基板分别设置于上工作台11和下工作台21上，在步骤S3中，包括：

S321、将上工作台11和下工作台21中的一个上的基板暂时搬离。

例如：在将下工作台21上的基板交换至上工作台11时，可以先利用第一运送件15将位于上工作台11上的基板向左运送，暂时搬离上工作台11，这样上工作台11可以先用于吸附下工作台21上的基板。

S322、上工作台11和下工作台21中的一个所对应的吸附件吸附上工作台11和下工作台21中的另一个上的基板，并将其转移至上工作台11和下工作台21中的一个上。

例如：在将下工作台21上的基板交换至上工作台11时，可以将上工作台11上的基板暂时搬离，上工作台11上的上吸附件12可以向下移动，当上吸附件12移动至与下工作台21上的基板接触时，打开上吸附件12的真空对该基板进行吸附，然后关闭第二吸盘真空释放该基板，之后上吸附件12向上收缩，当基板与第一吸盘接触时，打开第一吸盘真空对基板进行吸附，然后关闭上吸附件12真空对基板进行释放，从而可以将下工作台21上的基板交换至上工作台11上。

S323、将暂时搬离的基板运送至上工作台11和下工作台21中的另一个的上端或下端。

例如：在将下工作台21上的基板交换至上工作台11的工况下，在将下工作台21上的基板交换至上工作台11后，可以将先前暂时搬离上工作台11的基板，运送至下工作台21的上方，从而便于下工作台21所对应的下吸附件22对基板进行吸附和转移。

S324、上工作台11和下工作台21中的另一个所对应的吸附件吸附暂时搬离的基板，并将其转移至上工作台11和下工作台21中的另一个上。

例如：在将下工作台21上的基板交换至上工作台11后，可以将先前暂时搬离的上工作台11的基板运送至下工作台21的上方，然后下吸附件22开始上移，当下吸附件22上移至与基板接触时，打开下吸附件22真空对基板进行吸附，然后关闭第一运送件15的下吸盘28真空释放基板，之后下吸附件22可以带动基板向下收缩，当基板与第二吸盘接触时，打开第一吸盘真空吸附基板，然后关闭下吸附件22真空释放基板，从而可以将上工作台11上的基板交换至下工作台21上。如此，可以实现上工作台11和下工作台21上基板之间的交换。

此外，如图1和图2所示，曝光设备1还包括：第一对位件14和第二对位件24，在S1步骤之后，并且在S2的步骤之前，还包括：

S10、第一对位件14对下工作台21上的基板的一面进行对位，和/或第二对位件24对上工作台11上的基板的一面进行对位。

其中，第一对位件14和第二对位件24均可以起到对位的作用，需要说明的是，第一对位件14和第二对位件24均是通过对基板上特殊标记的MARK点进行采点，然后计算基板在系统内的具体位置，由于对位过程是：利用第一对位件14和第二对位件24对基板的MARK采点计算而来，所以需要第一对位件14对下工作台21上的基板进行采点对位，同样，利用第二对位件24对上工作台11上的基板进行采点对位。

另外，由于基板分别运到上工作台11和下工作台21后，此时两个工作台是处于上下料工位，而不在对位工位上，所以基板的MARK点还不在第一对位件14或第二对位件24的视场内，所以要相对移动至MARK在第一对位件14或第二对位件24的视场内才可以进行对位。

此外，在两个基板的工况下，当两个基板都分别放在上工作台11和下工作台21之后，上方基板与第二对位件24之间的距离与下方基板与第一对位件14之间的距离并不相等，为了实现第一对位件14和第二对位件24可同时对两个基板进行对位，需要第一对位件14和第二对位件24均可以单独前后左右移动，使上方基板的MARK点在第二对位件24的视场内，并且下方基板的MARK点在第一对位件14的视场内。

在一个基板的工况下，例如：当基板从产线运送至下工作台21上之后，可以利用第一对位件14对该基板进行对位，确保基板的一面处于预设的位置上，对位完成后，下工作台21向左移动，利用上曝光件10对该基板进行曝光。

在两个基板的工况下，当上工作台11左移，下工作台21右移，将两个基板分别运送至上工作台11和下工作台21，然后可以将上工作台11右移，利用第一对位件14对位于下工作台21上的基板一面进行对位，同时，第二对位件24进行前后左右方向的微动至合适位置，对位于上工作台11上的基板一面进行对位。

另外，如图2所示，在S3步骤之后，并且在S4步骤之前，还包括：

S30、上工作台11和/或下工作台21朝向远离彼此的方向移动，第一对位件14对下工作台21上的基板的另一面进行对位，和/或第二对位件24对上工作台11上的基板的另一面进行对位。

在一个基板的工况下，例如：当下工作台21上的基板被交换至上工作台11之后，下工作台21会向右移出，这样当第二对位件24移动至合适的位置后，可以对位于上工作台11上的基板的另一面进行对位，确保基板的另一面处于预设的位置上。

在两个基板的工况下，在上下两个基板交换位置之后，上工作台11左移至对位位置，第一对位件14可以对位于下工作台21上的基板进行对位。同时，第二对位件24通过调整至合适的位置，对位于上工作台11上的基板的另一面进行对位。如此，可以确保两个基板的另一面均处于预设的位置上，便于后续对两个基板的另一面进行曝光。

进一步地，如图1和图2所示，曝光设备1还包括：第一运送件15和第二运送件25，在S1步骤中，包括：

第一运送件15将基板运送至上工作台11上，和/或第二运送件25将基板运送至下工作台21上。其中，第一运送件15和第二运送件25均可以起到运送的作用。

在一个基板的工况下，例如：可以将下工作台21向右移出，然后打开第二运送件25上的下吸盘28真空对产线上的基板进行吸附，然后第三驱动件驱动第二运送件25至下工作台21处，当基板到达与下工作台21预设配合的位置时，打开第二吸盘真空对基板进行吸附，同时关闭第二运送件25的下吸盘28真空对基板释放，从而可以将基板移至下工作台21上。

在两个基板的工况下，可以将下工作台21向右移出的同时，将上工作台11向左移出，在下工作台21向右移出时，打开第二运送件25上的下吸盘28真空对产线上的基板进行吸附，然后第三驱动件驱动第二运送件25至下工作台21处，当基板到达与下工作台21预设配合的位置时，打开第二吸盘真空对基板进行吸附，同时关闭第二运送件25的下吸盘28真空对基板释放，从而可以将基板移至下工作台21上。

同样，在上工作台11向左移出时，打开第一运送件15上的上吸盘27真空对产线上的基板进行吸附，然后第三驱动件驱动第一运送件15至上工作台11处，当基板到达与上工作台11预设配合的位置时，打开第一吸盘真空对基板进行吸附，同时关闭第一运送件15的上吸盘27真空对基板释放，从而可以将基板移至上工作台11上。

进一步地，在S5的步骤中，包括：

第一运送件15搬离上工作台11上的基板，和/或第二运送件25搬离下工作台21上的基板。

在一个基板的工况下，例如：当位于上工作台11上的基板另一面曝光之后，利用第三驱动件驱动第一运送件15至与该基板配合的位置，然后打开第一运送件15的上吸盘27真空，对基板进行吸附，关闭第一吸盘真空对基板进行释放，从而可以将基板吸附至第一运送件15上，再利用第三驱动件驱动第一运送件15，将基板从左边或者右边运送至产线上。

在两个基板的工况下，当位于上工作台11上的基板和位于下工作台21上的基板另一面均曝光之后，利用第三驱动件驱动第一运送件15至与上方基板配合的位置，打开第一运送件15的上吸盘27真空，对上方基板进行吸附，关闭第一吸盘真空对上方基板进行释放，从而可以将上方基板吸附至第一运送件15上，再利用第三驱动件驱动第一运送件15，将上方基板从左边或者右边运送至产线上。

同时可以利用第三驱动件驱动第二运送件25至与下方基板配合的位置，打开第二运送件25的下吸盘28真空，对下方基板进行吸附，关闭第二吸盘真空对下方基板进行释放，从而可以将下方基板吸附至第二运送件25上，再利用第三驱动件驱动第二运送件25，将下方基板从左边或者右边运送至产线上。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，“第一特征”、“第二特征”可以包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。在本发明的描述中，第一特征在第二特征“之上”或“之下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。在本发明的描述中，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (16)

1.一种曝光设备，其特征在于，包括：

上曝光组件(10)，所述上曝光组件(10)包括：上工作台(11)、上吸附件(12)和上曝光件(13)，所述上吸附件(12)可上下移动地设置于所述上工作台(11)上，所述上曝光件(13)设置于所述上工作台(11)上；

下曝光组件(20)，所述下曝光组件(20)位于所述上曝光组件(10)的下方，且所述下曝光组件(20)与所述上曝光组件(10)之间可相对移动，所述下曝光组件(20)包括：下工作台(21)、下吸附件(22)和下曝光件(23)，所述下工作台(21)与所述上工作台(11)上下相对设置，所述下吸附件(22)可上下移动地设置于所述下工作台(21)上，所述下曝光件(23)设置于所述下工作台(21)上。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：第一驱动件和第二驱动件，所述第一驱动件与所述上曝光组件(10)驱动配合，所述第二驱动件与所述下曝光组件(20)驱动配合。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述上工作台(11)朝向所述下工作台(21)的一侧设置有第一吸盘，所述下工作台(21)朝向所述上工作台(11)的一侧设置有第二吸盘，所述第一吸盘和所述第二吸盘均用于吸附基板。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述上工作台(11)上开设有第一通孔(111)，所述上吸附件(12)穿设所述第一通孔(111)，所述下工作台(21)上开设有第二通孔(211)，所述下吸附件(22)穿设所述第二通孔(211)。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述第一通孔(111)为多个，多个所述第一通孔(111)在所述上工作台(11)上间隔设置，所述第二通孔(211)为多个，多个所述第二通孔(211)在所述下工作台(21)上间隔设置。

6.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述上曝光件(13)连接于所述上工作台(11)左右或前后方向上的一端，所述下曝光件(23)连接于所述下工作台(21)左右或前后方向上的另一端。

7.根据权利要求6所述的曝光设备，其特征在于，还包括：第一对位件(14)和第二对位件(24)，所述第一对位件(14)设置于所述上曝光件(13)远离所述上工作台(11)的一端，所述第二对位件(24)设置于所述下曝光件(23)远离所述下工作台(21)的一端。

8.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：第一运送件(15)和第二运送件(25)，所述第一运送件(15)可移动地设置于所述上工作台(11)处，以将基板运送至所述上工作台(11)上，所述第二运送件(25)可移动地设置于所述下工作台(21)处，以将基板运送至所述下工作台(21)上。

9.根据权利要求8所述的曝光设备，其特征在于，所述第一运送件(15)和所述第二运送件(25)均包括：上吸盘(27)、下吸盘(28)和运送架(26)，所述上吸盘(27)设置于所述运送架(26)的上端，所述下吸盘(28)设置于所述运送架(26)的下端。

10.根据权利要求9所述的曝光设备，其特征在于，还包括：第三驱动件，所述第三驱动件与所述运送架(26)驱动配合。

11.一种权利要求1-10中任一项所述的曝光设备的曝光方法，其特征在于，包括：

所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)上；

所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向彼此的方向移动，所述上曝光件(13)和所述下曝光件(23)中的一个对基板的一面进行曝光；

所述上工作台(11)上的基板交换至所述下工作台(21)上，和/或所述下工作台(21)上的基板交换至所述上工作台(11)上；

所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，所述上曝光件(13)和所述下曝光件(23)中的另一个对基板的另一面进行曝光；

将基板从所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)上搬离。

12.根据权利要求11所述的曝光设备的曝光方法，其特征在于，基板为一个，在所述的所述上工作台(11)上的基板交换至所述下工作台(21)上，和/或所述下工作台(21)上的基板交换至所述上工作台(11)上的步骤中，包括：

上吸附件(12)向下移动或下吸附件(22)向上移动，对相对的工作台上的基板进行吸附；

上吸附件(12)向上收缩或下吸附件(22)向下收缩，所述上工作台(11)或所述下工作台(21)吸附基板。

13.根据权利要求11所述的曝光设备的曝光方法，其特征在于，基板为两个，两个基板分别设置于所述上工作台(11)和所述下工作台(21)上，在所述的所述上工作台(11)上的基板交换至所述下工作台(21)上，和/或所述下工作台(21)上的基板交换至所述上工作台(11)上的步骤中，包括：

将所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的一个上的基板暂时搬离；

所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的一个所对应的吸附件吸附所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的另一个上的基板，并将其转移至所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的一个上；

将暂时搬离的基板运送至所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的另一个的上端或下端；

所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的另一个所对应的吸附件吸附暂时搬离的基板，并将其转移至所述上工作台(11)和所述下工作台(21)中的另一个上。

14.根据权利要求11所述的曝光设备的曝光方法，所述曝光设备(1)还包括：第一对位件(14)和第二对位件(24)，其特征在于，在所述的所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)上的步骤之后，且在所述的所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向彼此的方向移动，所述上曝光件(13)和所述下曝光件(23)中的一个对基板的一面进行曝光的步骤之前，还包括：

所述第一对位件(14)对所述下工作台(21)上的基板的一面进行对位，和/或所述第二对位件(24)对所述上工作台(11)上的基板的一面进行对位。

15.根据权利要求14所述的曝光设备的曝光方法，其特征在于，在所述的所述上工作台(11)上的基板交换至所述下工作台(21)上，和/或所述下工作台(21)上的基板交换至所述上工作台(11)上的步骤之后，且在所述的所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，所述上曝光件(13)和所述下曝光件(23)中的另一个对基板的另一面进行曝光的步骤之前，还包括：

所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，所述第一对位件(14)对所述下工作台(21)上的基板的另一面进行对位，和/或所述第二对位件(24)对所述上工作台(11)上的基板的另一面进行对位。

16.根据权利要求11所述的曝光设备的曝光方法，所述曝光设备(1)还包括：第一运送件(15)和第二运送件(25)，其特征在于，

在所述的所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)朝向远离彼此的方向移动，将基板放置于所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)上的步骤中，包括：

所述第一运送件(15)将基板运送至所述上工作台(11)上，和/或所述第二运送件(25)将基板运送至所述下工作台(21)上；

且在所述的将基板从所述上工作台(11)和/或所述下工作台(21)上搬离的步骤中，包括：

所述第一运送件(15)搬离所述上工作台(11)上的基板，和/或所述第二运送件(25)搬离所述下工作台(21)上的基板。