CN114609870A - 光刻装置及其中的基底传输方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光刻装置及其中的基底传输方法，所述光刻装置包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。

Description

光刻装置及其中的基底传输方法

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种光刻装置及其中的基底传输方法。

背景技术

在光刻机等众多半导体设备中，基底传送进曝光工位时需要经过传输工位进行交接。一般需要在曝光工位前设置一个传输工位，将基底传送到曝光位置。在现有的光刻机中，基底传送板叉大多传送1500mm*1850mm的基底，并不具备传送两块1500mm*925mm基底的能力。限于目前技术水平，产线上蒸镀机最大只能处理1500mm*925mm规格尺寸的基底，为了提高产线整体效率，需要光刻机可以直接曝光出1500mm*925mm的基底。

另外，由于需求的差异或者工艺需要，产线与辊轮台交接每次只进行单块1500mm*925mm基底的传送，这就要求基底传送板叉可以把两块1500mm*925mm基底分两次传送到工件台上。因此，需要基底传送板叉能够往工件台上传送两块1500mm*925mm的基底，进行曝光。为了可以传送两块基底，如果利用现有的技术方案，只能增加板叉臂的长度，这就使得悬臂的总长变大；由于受空间尺寸约束以及较高的运动速度，板叉无法设计调平机构，且悬臂的远端变形较大，难以保证远端吸盘高度一致；而且，加长后的板叉臂会与工件台发生碰撞，将严重损坏工件台或板叉自身。

因此，需要提出一种在不增加板叉臂长度的基础上实现同时传送两块基底的方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻装置及其中的基底传输方法，用于解决现有技术中通过增加板叉臂长度来实现传送两块基底的方案会与工件台发生碰撞，将严重损坏工件台或板叉自身的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提出一种光刻装置，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉；

所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件；

所述驱动组件设置于所述板叉臂上，所述吸附组件设置于所述驱动组件上，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底，所述驱动组件用于驱动所述吸附组件以使所述吸附组件位于吸附工位或避让工位，当所述吸附组件位于所述吸附工位时，所述吸附组件吸附所述基底，当所述吸附组件位于所述避让工位时，所述吸附组件释放所述基底；

所述吸附组件的数量为至少两个，至少两个所述吸附组件间隔设置在所述板叉臂上，每个所述吸附组件或至少两个吸附组件配合以吸附或释放一个所述基底；

每个驱动组件用于分别驱动一个对应的所述吸附组件。

可选地，所述工件台上具有若干个工位，所述基底传送板叉用于将基底传送至所述工件台上对应的工位上，或将所述基底从工件台上传送走，或在所述基底未位于对应工位时，移动所述基底以使将所述基底传送到对应工位上。

可选地，所述板叉臂的数量为两个，所述吸附组件沿Y方向布置，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

可选地，所述驱动组件包括限位板、限位螺钉以及升降气缸；

所述限位板设置在所述安装板上，所述限位螺钉设置所述限位板上以调节所述升降气缸的伸出距离；

可选地，所述吸附组件包括吸盘、吸盘座以及气路接头；

所述吸盘座设置在升降气缸的滑块上，并随所述滑块做升降运动；

所述吸盘设置在所述吸盘座上，并用于吸附所述基底；

所述气路接头设置在所述吸盘座上，用于给所述吸盘提供真空吸附。

可选地，所述吸附组件包括第一前基底吸附组件；

所述第一前基底吸附组件还包括互锁传感器；

所述互锁传感器用于判断所述第一前基底吸附组件是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂的延伸方向。

可选地，所述吸附组件还包括第二前基底吸附组件；

所述第二前基底吸附组件还包括防碰撞传感器；

所述防碰撞传感器用于判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

可选地，所述防碰撞传感器的数量为两个；

两个所述防碰撞传感器分别设置在所述板叉臂的两侧，当两个所述防碰撞传感器中任意一个被触发时，则判断所述基底传送板叉与工件台的板叉槽位置未对准。

基于同一发明构思，本发明还提出一种光刻装置中的基底传输方法，包括将基底从上板台转移到工件台上的上板步骤，所述上板步骤包括：

基底传送板叉吸附若干个基底并将若干个所述基底放置到所述上板台上；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述基底传送板叉释放若干个所述基底；

所述基底传送板叉返回所述上板台上；

其中，每次所述上板步骤中传送一个所述基底或至少两个基底或少于所述工件台中工位数量的基底，且仅参与吸附所述基底的吸附组件位于吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

可选地，所述上板步骤还包括：

若所述工件台上的所述基底中存在待调整基底时，则进行二次调整，所述待调整基底为未被传送到对应工位的基底。

可选地，所述二次调整包括：

所述基底传送板叉带动所述待调整基底在所述工件台的工件位间进行运动以传送所述待调整基底到所述工件台上对应的工位上；

其中，在进行所述二次调整过程中，所述基底传送板叉上除了用于吸附所述待调整基底的吸附组件位于所述吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

可选地，在每次所述上板步骤中传送至少两块基底；

其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉上所有的吸附组件均伸出以吸附所有的基底，并将所有的基底传送到所述工件台上对应的工位。

可选地，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的前基底吸附组件伸出以吸附所述第一基底，后基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件释放所述第一基底和所述第二基底，所述第一基底传送到所述工件台的前基底工位，所述第二基底传送到所述工件台的后基底工位；

所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回辊轮台。

可选地，在每次所述上板步骤中仅传送一个基底；

其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉上仅放置基底的吸附组件伸出以吸附当前基底，其余所有吸附组件均缩回，并将所述基底传送到所述工件台上对应的工位。

可选地，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的后基底吸附组件缩回，前基底吸附组件伸出以吸附辊轮台上前基底工位的所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的前基底工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台上的前基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台；

所述前基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动以带动所述前基底吸附组件运动到所述工件台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台。

可选地，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的前基底吸附组件缩回，后基底吸附组件伸出以吸附辊轮台上后基底工位的所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述后基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的后基底工位；

所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉运动到所述前基底吸附组件与所述工件台上的后基底工位的工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件伸出并吸附所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到所述工件台工位；

所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底从所述工件台上的后基底工位传送到所述工件台上的前基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台；

所述后基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动到所述工件台工位；

所述后基底吸附组件释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台。

可选地，所述基底传输方法还包括基底从工件台转移到下板台的下板步骤，所述下板步骤包括：

基底传送板叉运动到工件台工位；

所述基底传送板叉吸附若干个所述基底；

所述基底传送板叉返回所述下板台上；

所述基底传送板叉的吸附组件释放若干个所述基底，若干个所述基底传送到所述下板台上；

产线依次从所述下板台上取走所述若干个基底。

可选地，在所述基底传送板叉运动到工件台工位过程中，互锁传感器判断第一前基底吸附组件是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂的延伸方向。

可选地，在所述基底传送板叉运动到工件台工位过程中，防碰撞传感器判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1、本发明提出的光刻装置，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。

2、每组吸附组件均对应设置有一个驱动组件，也即每个吸附组件均可以独立升降，所述基底传送板叉上各吸附组件的吸盘座均可以独立升降，例如，当工件台上前基底工位已经一块基底，后基底吸附组件再把辊轮台上后基底工位的基底传送到工件台上后基底工位时，前基底吸附组件的吸盘座可以缩回，使得吸盘上表面低于基底下表面，从而有效避免吸盘刮伤基底，有效提高了交接的安全性。

3、在第一前基底吸附组件中增加互锁传感器，用于判断所述第一前基底吸附组件是否进入工件台中，并且在检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，进一步提高了交接的安全性。

4、在第二前基底吸附组件中增加防碰撞传感器，用于判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动。例如，当所述防碰撞传感器被触发时，即表示工件台的板叉槽与所述基底传送板叉位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器被触发的信号可以反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台的Y向运动轴立即停止Y向运动，避免所述基底传送板叉与工件台发生碰撞，因此，更进一步提高了交接的安全性。

本发明还提出一种光刻装置中的基底传输方法，与所述光刻装置属于同一发明构思，因此具有相同的有益效果。

附图说明

图1为本发明实施例提出的光刻装置中基底传送板叉的结构示意图；

图2为第一前基底吸附组件的结构示意图；

图3为第二前基底吸附组件的结构示意图；

图4为后基底吸附组件的结构示意图；

图5为工件台板叉槽与板叉臂无干涉状态时的示意图；

图6为工件台板叉槽与板叉臂干涉状态时的示意图；

图7为基底传送板叉与工件台交接时的示意图；

图8为本发明实施例提出的一种光刻装置的结构示意图；

图9为运动平台的结构示意图；

图10为本发明另一实施例提出的一种光刻装置中的基底传输方法的流程示意图；

图11为两块基底同时传送到工件台上指定工位的过程示意图；

图12为两块基底同时传送到工件台上指定工位的流程示意图；

图13为两块基底分两次从滚轮台后基底工位传送到工件台上的过程示意图；

图14为两块基底分两次从滚轮台后基底工位传送到工件台上的流程示意图；

图15为两块基底分两次从滚轮台前基底工位传送到工件台上的过程示意图；

图16为两块竖向基底同时传送到工件台上的过程示意图；

图17为四块基底同时传送到工件台上的过程示意图；

图18为下板步骤的过程示意图；

其中：10-运动平台，20-基底传送板叉，20-1-安装底板，20-2-支座，20-3-板叉臂，20-4-后基底吸附组件，20-5-第一前基底吸附组件，20-6-第二前基底吸附组件，20-7-安装板，20-8-限位板，20-9-限位螺钉，20-10-升降气缸，20-11-吸盘，20-12-吸盘座，20-13-气路接头，20-5-1-互锁传感器，20-5-2-传感器垫板，20-6-2-防碰撞传感器，30-滚轮台，30-1-气浮块，30-2-辊轮，40-过渡气浮块，50-工件台。

具体实施方式

下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。请参考图1至图9，本发明实施例提出一种光刻装置，包括工件台50以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉20。所述基底传送板叉20包括板叉臂20-3、吸附组件以及驱动组件；所述驱动组件设置于所述板叉臂20-3上，所述吸附组件设置于所述驱动组件上，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底，所述驱动组件用于驱动所述吸附组件以使所述吸附组件位于吸附工位或避让工位，当所述吸附组件位于所述吸附工位时，所述吸附组件吸附所述基底，当所述吸附组件位于所述避让工位时，所述吸附组件释放所述基底。所述吸附组件的数量为至少两个，至少两个所述吸附组件间隔设置在所述板叉臂20-3上，每个所述吸附组件或至少两个吸附组件配合以吸附或释放一个所述基底。每个驱动组件用于分别驱动一个对应的所述吸附组件。

与现有技术不同之处在于，本发明提出的光刻装置，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。，所述板叉臂20-3上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂20-3上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂20-3长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。

请参考图8，所述工件台上具有若干个工位，所述基底传送板叉用于将基底传送至所述工件台上对应的工位上，或将所述基底从工件台上传送走，或在所述基底未位于对应工位时，移动所述基底以使将所述基底传送到对应工位上。在本实施例中，所述工件台上具有两个工位，分别为靠近所述基底传送装置的后基底工位和远离所述基底传送装置的前基底工位，可以理解的是，在其它实施例中，所述工件台上还可以具有更多的的工位，在此不做限制。其它数量的工位时，所述基底传送装置传送基底的方式与所述工件台上两个工位时的情况类似，在此不一一赘述。

具体地，请参考图1，在本发明实施例中，所述板叉臂20-3上间隔设置有两个所述吸附组件。两个所述吸附组件分别设置在所述板叉臂20-3上远离所述连接机构的一端和靠近所述连接机构的一端，且所述吸附组件的延伸方向与所述板叉臂20-3的延伸方向相同。所述吸附组件包括连接单元以及吸附组件，所述连接单元用于连接所述吸附组件和所述板叉臂20-3，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底。需要注意的是，为了便于说明本申请的技术方案，在本发明的实施例中，均以每个板叉臂20-3上设置两个所述吸附组件为例进行具体说明，在其它实施中，每个板叉臂20-3上还可设置其它数量的所述吸附组件，例如，在每个板叉臂20-3上还可间隔设置3个、4个甚至更多，在此不做限制，具体可根据实际需要来选择。本领域技术人员可以理解的是，每个板叉臂20-3上的多个所述吸附组件可等间距设置也可不等间距设置，在此不做限制。所述吸附组件用于吸附所述基底，所述基底与所述吸附组件的对应关系可以是两个吸附组件吸附一个基底，还可以一个吸附组件吸附对应的一个基底，还可以更多个吸附组件吸附一个基底，在此不一一赘述。

进一步地，请参考图2至图4，每个所述吸附组件上均设置有一个所述驱动组件，每个所述吸附组件的所述驱动组件分别带动对应的所述吸附组件做升降运动。每组吸附组件均对应设置有一个驱动组件，也即每个吸附组件均可以独立升降，所述基底传送板叉20上各吸附组件的吸盘座20-12均可以独立升降。可以把两块1500mm*925mm基底同时传送到工件台上指定工位，如图11和图12所示；也可以把两块1500mm*925mm基底分两次传送到工件台上指定工位，如图13和图14所示。例如，当工件台上前基底工位已经一块基底，后基底吸附组件20-4再把辊轮台30上后基底工位的基底传送到工件台上后基底工位时，前基底吸附组件的吸盘座20-12可以缩回，使得吸盘20-11上表面低于基底下表面(即所述避让工位)，从而有效避免吸盘20-11刮伤基底，有效提高了交接的安全性。

在本发明实施例中，每个所述吸附组件上均设置有一个所述驱动组件，在其它实施例中，所述驱动组件的数量还可以仅有一个，所述驱动组件用于同时驱动所有的所述吸附组件做升降运动。这种结构无法实现单独控制某一个所述吸附组件做升降运动，但是，其成本较低且易于实现，在一些无需单独控制每个吸附组件的应用场合可作为备选方案实施。具体是选择每个所述吸附组件上均设置有一个所述驱动组件还是选择所述驱动组件的数量仅有一个，可根据实际需要来选择，在此不做赘述。

具体地，请继续参考图2至图4，所述吸附组件、所述驱动组件以及所述板叉臂20-3间通过一安装板20-7连接，所述安装板20-7设置在所述板叉臂上，所述驱动组件包括限位板20-8、限位螺钉20-9以及升降气缸20-10，所述吸附组件包括吸盘20-11、吸盘座20-12以及气路接头20-13。所述安装板20-7设置在所述板叉臂20-3上，所述限位板20-8设置在所述安装板20-7上，所述限位螺钉20-9设置所述限位板20-8上以调节所述升降气缸20-10的伸出距离。所述升降气缸20-10设置在所述安装板20-7上，所述吸盘座20-12设置在所述升降气缸20-10的滑块上，并随所述滑块做升降运动。所述吸盘20-11设置在所述吸盘座20-12上，并用于吸附所述基底。所述气路接头20-13设置在所述吸盘座20-12上，用于给所述吸盘20-11提供真空吸附。

请继续参考图2至图4，在本发明实施例中，每个所述吸附组件上设置3个所述吸盘20-11，3个所述吸盘20-11依次紧靠设置在所述吸盘座20-12上。在其它实施例中，所述吸盘20-11的数量还可以是1个、2个、4个甚至更多，具体数量可根据实际需要来选择，在此不做限制。本领域技术人员可以理解的是，所述吸盘20-11的尺寸可根据实际需要来调整，不多做赘述。

进一步地，两个所述吸附组件分别为前基底吸附组件以及后基底吸附组件20-4。所述前基底吸附组件设置在所述板叉臂20-3上远离所述连接机构的一端，所述后基底吸附组件20-4设置在所述板叉臂20-3上靠近所述连接机构的一端。

请参考图4，所述后基底吸附组件20-4的结构为：安装板20-7固定在板叉臂20-3上，在所述吸附组件中起基础支撑作用；限位板20-8固定在安装板20-7上，限位螺钉20-9固定在限位板20-8上，起到调节升降气缸20-10伸出距离，保证吸附组件的吸盘20-11与基底的下表面接触，顺利吸附基底；升降气缸20-10底座固定在吸附组件安装板20-7上，吸盘座20-12固定在升降气缸20-10的滑块上，并随气缸滑块上下升降运动；吸盘20-11固定在吸盘座20-12上，用于吸附基底；气路接头20-13固定在吸盘座20-12上，用于给吸盘20-11提供真空吸附。

优选地，请参考图2，所述前基底吸附组件包括第一前基底吸附组件20-5。所述第一前基底吸附组件20-5还包括互锁传感器20-5-1，所述互锁传感器20-5-1用于判断所述第一前基底吸附组件20-5是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉20停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂20-3的延伸方向。

请参考图2和图7，所述第一前基底吸附组件20-5的结构与所述后基底吸附组件20-4的结构基本相同，不同之处在于吸盘座20-12上安装了互锁传感器20-5-1和传感器垫板20-5-2，当基底传送板叉20运动到与工件台交接工位时，互锁传感器20-5-1检测到工件台侧壁，互锁传感器20-5-1触发信号并反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台10的X轴不能进行X向运动，起到工位互锁作用，通过所述第一前基底吸附组件20-5中的互锁传感器20-5-1可以进一步提高交接的安全性。所述互锁传感器20-5-1主要用于判断所述第一前基底吸附组件20-5是否进入工件台中，因此，所述互锁传感器20-5-1可利用距离传感器来判断距离工件台侧壁的距离，或者利用带有距离识别能力的图像传感器来实现，或者其它具有类似效果的传感器均可用于实现，在此不一一赘述。

优选地，请参考图3、图5和图6，所述前基底吸附组件还包括第二前基底吸附组件20-6。所述第二前基底吸附组件20-6还包括防碰撞传感器20-6-2，所述防碰撞传感器20-6-2用于判断所述基底传送板叉20是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉20停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂20-3的延伸方向相同。在第二前基底吸附组件20-6中增加防碰撞传感器20-6-2，用于判断所述基底传送板叉20是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉20停止Y方向的运动。例如，当所述防碰撞传感器20-6-2被触发时，即表示工件台的板叉槽与所述基底传送板叉20位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器20-6-2被触发的信号可以反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台10的Y向运动轴立即停止Y向运动，避免所述基底传送板叉20与工件台发生碰撞，因此，更进一步提高了交接的安全性。

请参考图3，所述第二前基底吸附组件20-6的结构和所述后基底吸附组件20-4的结构基本相同，不同在于吸盘座20-12上增加了防碰撞传感器20-6-2。当基底传送板叉20运动到接近工件台时，如果防碰撞传感器20-6-2被触发，即表示工件台的板叉槽与基底传送板叉20的位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器20-6-2被触发的信号反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台10的Y向运动轴立即停止Y向运动，避免基底传送板叉20与工件台发生碰撞。

所述防碰撞传感器20-6-2的数量优选为两个，请继续参考图3，两个所述防碰撞传感器20-6-2分别设置在所述板叉臂20-3的两侧，当两个所述防碰撞传感器20-6-2中任意一个被触发时，则判断所述基底传送板叉20与工件台的板叉槽位置未对准。所述防碰撞传感器20-6-2的数量还可设置为3个、4个或者更多，所述防碰撞传感器20-6-2还可仅设置为1个，具体数量可根据实际需要来选择，只要能保证所述防碰撞传感器20-6-2的检测范围可以覆盖所述工件台的板叉槽即可，具体数量在此不做限制。另外，所述防碰撞传感器20-6-2主要用于判断所述基底传送板叉20是否与工件台的板叉槽位置对准，因此，所述防碰撞传感器20-6-2可利用距离传感器来判断工件台的板叉槽位置差距，或者利用带有距离识别能力的图像传感器来实现，或者其它具有类似效果的传感器均可用于实现，在此不一一赘述。

可选地，请参考图1，从图1中可以看出所述板叉臂20-3的数量为两个，两个所述板叉臂20-3分别设置在所述连接机构的两端，两个所述板叉臂20-3平行对齐设置。其中一个所述板叉臂20-3上远离所述连接机构的一端设置有所述第一前基底吸附组件20-5，另一个所述板叉臂20-3上远离所述连接机构的一端设置有所述第二前基底吸附组件20-6，两个所述板叉臂20-3的另一端分别设置一个所述后基底吸附组件20-4。所述第一前基底吸附组件20-5、所述第二前基底吸附组件20-6以及所述后基底吸附组件20-4均用于吸附所述基底，所述基底在所述板叉臂20-3上的放置关系可以包括但不限于以下方式：

1、板叉臂20-3上放置两块基底，其中，所述第一前基底吸附组件20-5和所述第二前基底吸附组件20-6一齐吸附一个基底，两个所述后基底吸附组件20-4一齐吸附一个基底，请参考图11；

2、板叉臂20-3上放置两块基底，其中，所述一个板叉臂20-3上的所述第一前基底吸附组件20-5和所述后基底吸附组件20-4一齐吸附一个基底，另一板叉臂20-3上的所述第二前基底吸附组件20-6和所述后基底吸附组件20-4一齐吸附一个基底，请参考图16；

3、板叉臂20-3上放置四个基底，其中，所述第一前基底吸附组件20-5、所述第二前基底吸附组件20-6以及两个所述后基底吸附组件20-4上分别吸附一个基底，请参考图17。

本领域技术人员应当理解的是，以上仅是为了便于理解本申请的技术方案所例举的几个示例，并非对申请的任何限制，在其它实施例中还有很多其它的放置关系，在此不一一赘述。

在本发明实施例中，所述板叉臂20-3的数量为两个，在其它实施例中，所述板叉臂20-3还可以是其它数量，例如，所述板叉臂20-3的数量还可以为1个。另外，为了实现更多数量的基底的传送或是为了使得基底的传送过程更加稳定以提高传送过程的安全性，还可以提高所述板叉臂20-3的数量，例如，在一些实施例中，可将所述板叉臂20-3的数量设置为3个或4个甚至更多。

具体地，请继续参考图1，所述连接机构包括安装底板20-1以及支座20-2。所述安装底板20-1与所述运动平台10的滑块连接，所述支座20-2设置在所述安装底板20-1上，并与所述板叉臂20-3连接。

请参考图8，所述基底传送装置还包括运动平台10以及若干个辊轮台30，所述若干个辊轮台30沿X方向设置，所述辊轮台30用于沿Y方向传送所述基底。所述运动平台10包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，每个所述辊轮台30分别与一个所述运动台连接并通过所述运动台沿X方向往复运动。所述运动平台10还包括设置在所述运动台上的Y向运动轴，所述基底传送板叉20与所述Y向运动轴连接，所述Y向运动轴用于带动所述基底传送板叉20沿所述Y方向往复运动。其中，所述X方向垂直于所述板叉臂20-3的延伸方向，所述Y方向与所述板叉臂20-3的延伸方向相同。所述固定台以及所述运动台均优选为框架结构。

可选地，所述辊轮台30包括若干个上板台和若干个下板台，所述上板台与所述下板台的数量优选为一个。

可选地，所述辊轮台30上设置有传送组件，所述传送组件用于配合所述基底传送板叉20将位于所述上板台上的基底转移至工件台或加工完成的基底从所述工件台转移至所述下板台。其中，所述传送组件优选为辊轮30-2。

可选地，所述辊轮台30在靠近工件台的一端设置有气浮块30-1，远离所述工件台的一端设置有辊轮30-2。

可选地，所述固定台上还设置有过渡气浮块40，用于对位于所述工件台与所述辊轮台30之间的基底提供气浮面支撑。加工完成的基底从工件台移动到下板台上之前以及基地从上板台传送到工件台之前，升降结构会驱动过渡气浮块40上升并对位于工件台与上板台或下板台之间的基底进行过渡支撑，如此就对大型的基底起到了更好的支撑效果，防止了基底发生破裂等，安全系数更高。另外，加工完成的基底转移完成之后升降结构会驱动过渡气浮块40下降，这样下次工件台转移基底到靠近运动平台10的时候，就能够较好的防止工件台与过渡气浮块40之间发生碰撞，安全性更高。

可选地，所述过渡气浮块40上设置有用于升降所述过渡气浮块40的升降结构，所述升降结构与所述固定台连接。

优选地，所述传送组件包括Y向传动滚轮和万向轮调节组，所述Y向传动滚轮用于支撑所述基底沿所述Y方向移动，所述万向轮调节组用于沿Z方向撑起所述基底，所述Z方向与所述X方向和所述Y方向组成的平面垂直。传送组件在拖动基底活动的时候，基底底端是通过Y向传动滚轮进行转动支撑的，如此就即对基底进行了支撑防止了基底破裂，同时也能够将基底的磨损减小的最小。

所述运动平台10为基底传送板叉20的基础载体，如图8和图9所示。实现X方向和Y方向运动的同时起到总体支撑的作用。其中运动平台10的两个Y向运动轴安装在运动台上，运动台通过直线电机滑块和导轨与运动平台10固定框架联接。基底传送板叉20安装在运动平台10的Y向运动轴上，Y向运动轴驱动板叉沿Y方向往复运动。辊轮台30安装在运动平台10的运动台上，辊轮台30的前端布置有气浮块30-1，后端布置有辊轮，气浮块30-1Y方向覆盖整个前块基底(位于前基底工位)，并延伸到后块基底(位于后基底工位)的一定距离，使得后块基底在辊轮部分顺利过渡到气浮块30-1上，保证基底传送板叉20顺利传送两块基底。运动平台10的运动台带动基底传送板叉20和辊轮台30沿X向往复运动。当工件台开到基底工位后，过渡气浮块40升到与气浮块30-1平齐位置，使得基底可以顺利传送到工件台上，工件台上开有板叉槽，板叉槽的长度大于后基底的Y向尺寸，可以保证板叉臂20-3伸进空间。所述工件台可应用于一种光刻装置当中，用于承载基底进行曝光、对准位置测量或焦面位置测量等。

为了便于理解本申请的提出的光刻装置的技术方案，以下提供一种更为具体的方案：

基底传送板叉20包括安装底板20-1、支座20-2、板叉臂20-3、后基底吸附组件20-4、第一前基底吸附组件20-5、第二前基底吸附组件20-6；后基底吸附组件20-4由安装板20-7、限位板20-8、限位螺钉20-9、升降气缸20-10、吸盘20-11、吸盘座20-12、气路接头20-13组成；第一前基底吸附组件20-5在后基底吸附组件20-4的基础上增加了互锁传感器20-5-1、传感器垫板20-5-2；第二前基底吸附组件20-6在后基底吸附组件20-4的基础上在吸盘座20-12上增加两个防碰撞传感器20-6-2。请参考图2至图4。

安装底板20-1与运动平台10的Y轴滑块连接，实现基底传送板叉20带基底沿Y方向往复运动。支座20-2固定在安装底板20-1上，板叉臂20-3固定在支座20-2上，后基底吸附组件20-4安装在板叉臂20-3的后端，第一前基底吸附组件20-5和第二前基底吸附组件20-6安装在板叉臂20-3的前端。其中后基底吸附组件20-4用于吸附后块基底，第一前基底吸附组件20-5和第二前基底吸附组件20-6用于吸附前块基底。

各吸附组件的吸盘座20-12可以独立升降，可以把两块1500mm*925mm基底同时传送到工件台上指定工位，如图11所示；也可以把两块1500mm*925mm基底分两次传送到工件台上指定工位，如图13所示。基底传送板叉20上各吸附组件的吸盘座20-12可以独立升降，当工件台上前基底工位已经一块基底，后基底吸附组件20-4再把辊轮台30上后基底工位的基底传送到工件台的后基底工位时，前基底吸附组件的吸盘座20-12缩回，使得吸盘20-11上表面低于基底下表面，从而避免吸盘20-11刮伤基底。

其中，后基底吸附组件20-4的结构为：安装板20-7固定在板叉臂20-3上，在基底吸附组件中起基础支撑作用；限位板20-8固定在安装板20-7上，限位螺钉20-9固定在限位板20-8上，起到调节升降气缸20-10伸出距离，保证基底吸附组件的吸盘20-11与基底下表面接触，顺利吸附基底；升降气缸20-10底座固定在吸附组件安装板20-7上，吸盘座20-12固定在升降气缸20-10滑块上，并随气缸滑块上下升降运动；吸盘20-11固定在吸盘座20-12上，用于吸附基底；气路接头20-13固定在吸盘座20-12上，给吸盘20-11提供真空吸附。

第一前基底吸附组件20-5的结构为：结构和后基底吸附组件20-4基本一样，不同在于吸盘座20-12安装了互锁传感器20-5-1和传感器垫板20-5-2，当基底传送板叉20开到与工件台交接工位时，互锁传感器20-5-1检测到工件台侧壁，信号触发并反馈给基底传输系统控制软件，此时运动平台10X轴不能进行X向运动，起到工位互锁作用，见图7。

第二前基底吸附组件20-6的结构为：结构和后基底吸附组件20-4基本一样，不同在于吸盘座20-12换成吸盘座20-12并增加两个防碰撞传感器20-6-2。当基底传送板叉20运动到接近工件台，两个防碰撞传感器20-6-2中任意一个被触发，即表示工件台板叉槽与基底传送板叉20位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器20-6-2被触发的信号反馈给基底传输系统控制软件，此时运动平台10Y轴立即停止Y向运动，避免基底传送板叉20与工件台发生碰撞，见图5和图6。

基于同一发明构思，本发明另一实施例还提出一种光刻装置中的基底传输方法，利用上述特征描述中的基底传送系统，请参考图10，包括基底从上板台转移到工件台的上板步骤，所述上板步骤包括：

S100：基底传送板叉20吸附若干个基底并将若干个所述基底放置到所述上板台上；

S200：所述基底传送板叉20运动到工件台工位；

S300：所述基底传送板叉20释放若干个所述基底；

S400：所述基底传送板叉20返回所述上板台上；

其中，每次所述上板步骤中传送一个所述基底或至少两个基底或少于所述工件台中工位数量的基底，且仅参与吸附所述基底的吸附组件位于吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

利用所述基底传送系统可所述基底传送板叉20可实现各种上板步骤，例如，可根据需要选择在每次上板步骤时传送多块基底，还可以在每次上板步骤时仅传送一块基底，在其它实施例中还有很多其它情况，在此不一一赘述。本发明实施例中将以每次所述上板步骤中传送至少两块基底、每次所述上板步骤中仅传送一个基底来具体说明，其它情况与之类似，在此不详细阐述。

优选地，所述上板步骤还包括：若所述工件台上的所述基底中存在待调整基底时，则进行二次调整，所述待调整基底为未被传送到对应工位的基底。具体地，所述二次调整包括：

所述基底传送板叉带动所述待调整基底在所述工件台的工件位间进行运动以传送所述待调整基底到所述工件台上对应的工位上；

其中，在进行所述二次调整过程中，所述基底传送板叉上除了用于吸附所述待调整基底的吸附组件位于所述吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

进一步地，在每次所述上板步骤中传送至少两块基底，其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉20上所有的吸附组件均伸出以吸附所有的基底，并将所有的基底传送到所述工件台上对应的工位。通过前面对于所述基底传送板叉20和所述基底传送系统的描述可知，所述基底传送板叉20可一次传送多块基底，利用所述基底传送板叉20可在每次所述上板步骤中传送至少两块基底，与现有技术相比，有效提高了基底的传送效率。

具体地，请参考图11和图12，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

第一步：所述基底传送板叉20的前基底吸附组件伸出以吸附所述第一基底，后基底吸附组件20-4伸出以吸附所述第二基底；

第二步：所述基底传送板叉20运动到工件台工位；

第三步：所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件20-4释放所述第一基底和所述第二基底，所述第一基底传送到所述工件台的前基底工位，所述第二基底传送到所述工件台的后基底工位；

第四步：所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件20-4缩回；

第五步：所述基底传送板叉20返回所述辊轮台30。

进一步地，在每次所述上板步骤中仅传送一个基底；其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉20上仅放置基底的吸附组件伸出以吸附当前基底，其余所有吸附组件均缩回，并将所述基底传送到所述工件台上对应的工位。例如，当工件台上前基底工位已经一块基底，后基底吸附组件20-4再把辊轮台30上后基底工位的基底传送到工件台上后基底工位时，前基底吸附组件的吸盘座20-12可以缩回，使得吸盘20-11上表面低于基底下表面，从而有效避免吸盘20-11刮伤基底，有效提高了交接的安全性。

具体地，请参考图15，当所述基底包括第一基底和第二基底时，每次所述上板步骤中仅传送一个基底时，所述上板步骤包括：

第一步：所述基底传送板叉20的后基底吸附组件20-4缩回，前基底吸附组件伸出以吸附辊轮台30上前基底工位的所述第一基底；

第二步：所述基底传送板叉20运动到工件台工位；

第三步：所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的前基底工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台30上的前基底工位；

第四步：所述前基底吸附组件缩回；

第五步：所述基底传送板叉20返回所述辊轮台30；

第六步：所述前基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

第七步：所述基底传送板叉20运动以带动所述前基底吸附组件运动到所述工件台上的后基底工位；

第八步：所述前基底吸附组件释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

第九步：所述前基底吸附组件缩回；

第十步：所述基底传送板叉20返回所述辊轮台30。

上述上板步骤为将基底从辊轮台30的前基底工位分两次传送到工件台上，在传送过程中将所述后基底吸附组件20-4的吸盘20-11缩回，将前基底吸附组件的吸盘20-11伸出，可以有效避免吸盘20-11干涉基底。另外，在第三步中，当所述第一基底传送到工件台的前基底工位时，所述第二基底被同步传送到所述辊轮台30上的前基底工位，这样通过循环以及同时加工的方式，使得新基底的传送以及加工完成基底的移走能够同时的进行，在很大程度上节省了加工的时间，并提高了加工的效率。除了上述将基底从辊轮台30的前基底工位分两次传送到工件台上外，还可以将基底从辊轮台30的后基底工位分两次传送到工件台上。

具体地，请参考图13和图14，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

第一步：所述基底传送板叉20的前基底吸附组件缩回，后基底吸附组件20-4伸出以吸附辊轮台30上后基底工位的所述第一基底；

第二步：所述基底传送板叉20运动到工件台工位；

第三步：所述后基底吸附组件20-4释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的后基底工位；

第四步：所述后基底吸附组件20-4缩回；

第五步：所述基底传送板叉20运动到所述前基底吸附组件与所述工件台上的后基底工位的工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台30上的后基底工位；

第六步：所述前基底吸附组件伸出并吸附所述第一基底；

第七步：所述基底传送板叉20运动到所述工件台工位；

第八步：所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底从所述工件台上的后基底工位传送到所述工件台上的前基底工位；

第九步：所述前基底吸附组件缩回；

第十步：所述基底传送板叉20返回所述辊轮台30；

第十一步：所述后基底吸附组件20-4伸出以吸附所述第二基底；

第十二步：所述基底传送板叉20运动到所述工件台工位；

第十三步：所述后基底吸附组件20-4释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

第十四步：所述后基底吸附组件20-4缩回；

第十五步：所述基底传送板叉20返回所述辊轮台30。

上述上板步骤为将基底从辊轮台30的后基底工位分两次传送到工件台上，在传送过程中将所述前基底吸附组件的吸盘20-11缩回，将后基底吸附组件20-4的吸盘20-11伸出，可以有效避免吸盘20-11干涉基底。另外，在第五步中，当所述基底传送板叉20运动到所述前基底吸附组件与所述工件台上的后基底工位的工位时，所述第二基底被同步传送到所述辊轮台30上的后基底工位，这样通过循环以及同时加工的方式，使得新基底的传送以及加工完成基底的移走能够同时的进行，在很大程度上节省了加工的时间，并提高了加工的效率。

除了上述几种上板步骤外，在其它实施例中，还可有很多其它的情况的上板步骤，例如，在一实施例中，请参考图16，两块基底在所述基底传送板叉20上还可沿X方向设置，每次所述上板步骤中可同时传送两块竖向放置的基底，其过程与同时传送两块横向放置的基底类似；另外，在一实施例中，请参考图17，所述基底传送板叉20上还可放置4块基底，每次所述上板步骤中可同时传送4块基底，还有很多其它方式，在此不一一赘述。

进一步地，基底在工件台上加工完之后，需要从工件台上移动到下板台上，这个过程称为下板步骤，也即所述光刻装置中的基底传输方法还包括基底从工件台转移到下板台的下板步骤，所述下板步骤包括：

第一步：基底传送板叉20运动到工件台工位；

第二步：所述基底传送板叉20吸附若干个所述基底；

第三步：所述基底传送板叉20返回所述下板台上；

第四步：所述基底传送板叉20的吸附组件释放若干个所述基底，若干个所述基底传送到所述下板台上；

第五步：产线依次从所述下板台上取走所述若干个基底。

请参考图18，图18为所述下板步骤的过程示意图，以下以图18中的示出的结构为例详细说明所述下板步骤，具体如下：

第一步：两个基底的初始位置分别位于工件台的前基底工位和后基底工位，这两个基底在工件台处完成一些列检测或处理后，所述基底传送板叉20上的所有的吸附组件均缩回；

第二步：所述基底传送板叉20运动到所述工件台的工位，此时所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件20-4均伸出以吸附两个基底；

第三步：所述基底传送板叉20运动到所述辊轮台30上；

第四步：所述后基底吸附组件20-4释放位于所述辊轮台30的后基底工位上的基底，所述后基底吸附组件20-4缩回；

第五步：产线取走位于所述辊轮台30的后基底工位上的基底；

第六步：所述基底传送板叉20运动并使位于所述辊轮台30的前基底工位上的基底运动至所述辊轮台30的后基板工位处；

第七步：所述前基底吸附组件释放基底；

第八步：产线取走位于所述辊轮台30的后基底工位上的基底。

可以理解的是，产线还可以先取走位于所述辊轮台30的前基底工位上的基底，还有很多其它的方式，在此不做限制。

优先地，在所述基底传送板叉20运动到工件台工位过程中，互锁传感器20-5-1判断第一前基底吸附组件20-5是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉20停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂20-3的延伸方向。当基底传送板叉20运动到与工件台交接工位时，互锁传感器20-5-1检测到工件台侧壁，互锁传感器20-5-1触发信号并反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台10的X轴不能进行X向运动，起到工位互锁作用，通过所述第一前基底吸附组件20-5中的互锁传感器20-5-1可以进一步提高交接的安全性。

优选地，在所述基底传送板叉20运动到工件台工位过程中，防碰撞传感器20-6-2判断所述基底传送板叉20是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉20停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂20-3的延伸方向相同。当所述防碰撞传感器20-6-2被触发时，即表示工件台的板叉槽与所述基底传送板叉20位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器20-6-2被触发的信号可以反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台10的Y向运动轴立即停止Y向运动，避免所述基底传送板叉20与工件台发生碰撞，因此，更进一步提高了交接的安全性。

基于同一发明构思，本发明实施例还提出一种光刻装置，其特征在于，包括工件台以及上述特征描述中任一项所述的基底传送板叉20或上述特征描述中任一项所述的基底传送系统。

基于同一发明构思，本发明实施例还提出一种光刻方法，使用上述特征描述中任一项所述的光刻装置中的基底传输方法进行基底的传送。

综上所述，本发明具有以下有益效果：

1、本发明提出的光刻装置，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。

2、每组吸附组件均对应设置有一个驱动组件，也即每个吸附组件均可以独立升降，所述基底传送板叉上各吸附组件的吸盘座均可以独立升降，例如，当工件台上前基底工位已经一块基底，后基底吸附组件再把辊轮台上后基底工位的基底传送到工件台上后基底工位时，前基底吸附组件的吸盘座可以缩回，使得吸盘上表面低于基底下表面，从而有效避免吸盘刮伤基底，有效提高了交接的安全性。

3、在第一前基底吸附组件中增加互锁传感器，用于判断所述第一前基底吸附组件是否进入工件台中，并且在检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，进一步提高了交接的安全性。

4、在第二前基底吸附组件中增加防碰撞传感器，用于判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动。例如，当所述防碰撞传感器被触发时，即表示工件台的板叉槽与所述基底传送板叉位置没有对准，会发生碰撞，防碰撞传感器被触发的信号可以反馈给基底传输系统的控制软件，此时运动平台的Y向运动轴立即停止Y向运动，避免所述基底传送板叉与工件台发生碰撞，因此，更进一步提高了交接的安全性。

本发明还提出一种光刻装置中的基底传输方法，与所述光刻装置属于同一发明构思，因此具有相同的有益效果。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”或“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合。

上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (19)

1.一种光刻装置，其特征在于，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉；

所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件；

所述驱动组件设置于所述板叉臂上，所述吸附组件设置于所述驱动组件上，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底，所述驱动组件用于驱动所述吸附组件以使所述吸附组件位于吸附工位或避让工位，当所述吸附组件位于所述吸附工位时，所述吸附组件吸附所述基底，当所述吸附组件位于所述避让工位时，所述吸附组件释放所述基底；

所述吸附组件的数量为至少两个，至少两个所述吸附组件间隔设置在所述板叉臂上，每个所述吸附组件或至少两个吸附组件配合以吸附或释放一个所述基底；

每个驱动组件用于分别驱动一个对应的所述吸附组件。

2.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述工件台上具有若干个工位，所述基底传送板叉用于将基底传送至所述工件台上对应的工位上，或将所述基底从工件台上传送走，或在所述基底未位于对应工位时，移动所述基底以使将所述基底传送到对应工位上。

3.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述板叉臂的数量为两个，所述吸附组件沿Y方向布置，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

4.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述驱动组件包括限位板、限位螺钉以及升降气缸；

所述限位板设置在所述安装板上，所述限位螺钉设置所述限位板上以调节所述升降气缸的伸出距离。

5.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述吸附组件包括吸盘、吸盘座以及气路接头；

所述吸盘座设置在升降气缸的滑块上，并随所述滑块做升降运动；

所述吸盘设置在所述吸盘座上，并用于吸附所述基底；

所述气路接头设置在所述吸盘座上，用于给所述吸盘提供真空吸附。

6.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述吸附组件包括第一前基底吸附组件；

所述第一前基底吸附组件还包括互锁传感器；

所述互锁传感器用于判断所述第一前基底吸附组件是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂的延伸方向。

7.如权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述吸附组件还包括第二前基底吸附组件；

所述第二前基底吸附组件还包括防碰撞传感器；

所述防碰撞传感器用于判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

8.如权利要求7所述的光刻装置，其特征在于，所述防碰撞传感器的数量为两个；

两个所述防碰撞传感器分别设置在所述板叉臂的两侧，当两个所述防碰撞传感器中任意一个被触发时，则判断所述基底传送板叉与工件台的板叉槽位置未对准。

9.一种光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，包括将基底从上板台转移到工件台上的上板步骤，所述上板步骤包括：

基底传送板叉吸附若干个基底并将若干个所述基底放置到所述上板台上；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述基底传送板叉释放若干个所述基底；

所述基底传送板叉返回所述上板台上；

其中，每次所述上板步骤中传送一个所述基底或至少两个基底或少于所述工件台中工位数量的基底，且仅参与吸附所述基底的吸附组件位于吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

10.如权利要求9所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，所述上板步骤还包括：

若所述工件台上的所述基底中存在待调整基底时，则进行二次调整，所述待调整基底为未被传送到对应工位的基底。

11.如权利要求10所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，所述二次调整包括：

所述基底传送板叉带动所述待调整基底在所述工件台的工件位间进行运动以传送所述待调整基底到所述工件台上对应的工位上；

其中，在进行所述二次调整过程中，所述基底传送板叉上除了用于吸附所述待调整基底的吸附组件位于所述吸附工位，其余所有吸附组件均位于避让工位。

12.如权利要求9所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，在每次所述上板步骤中传送至少两块基底；

其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉上所有的吸附组件均伸出以吸附所有的基底，并将所有的基底传送到所述工件台上对应的工位。

13.如权利要求12所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的前基底吸附组件伸出以吸附所述第一基底，后基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件释放所述第一基底和所述第二基底，所述第一基底传送到所述工件台的前基底工位，所述第二基底传送到所述工件台的后基底工位；

所述前基底吸附组件以及所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回辊轮台。

14.如权利要求9所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，在每次所述上板步骤中仅传送一个基底；

其中，在每次所述上板步骤时，所述基底传送板叉上仅放置基底的吸附组件伸出以吸附当前基底，其余所有吸附组件均缩回，并将所述基底传送到所述工件台上对应的工位。

15.如权利要求14所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的后基底吸附组件缩回，前基底吸附组件伸出以吸附辊轮台上前基底工位的所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的前基底工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台上的前基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台；

所述前基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动以带动所述前基底吸附组件运动到所述工件台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台。

16.如权利要求14所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，当所述基底包括第一基底和第二基底时，所述上板步骤包括：

所述基底传送板叉的前基底吸附组件缩回，后基底吸附组件伸出以吸附辊轮台上后基底工位的所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到工件台工位；

所述后基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底传送到工件台的后基底工位；

所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉运动到所述前基底吸附组件与所述工件台上的后基底工位的工位，且所述第二基底传送到所述辊轮台上的后基底工位；

所述前基底吸附组件伸出并吸附所述第一基底；

所述基底传送板叉运动到所述工件台工位；

所述前基底吸附组件释放所述第一基底，所述第一基底从所述工件台上的后基底工位传送到所述工件台上的前基底工位；

所述前基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台；

所述后基底吸附组件伸出以吸附所述第二基底；

所述基底传送板叉运动到所述工件台工位；

所述后基底吸附组件释放所述第二基底，所述第二基底传送到所述工件台上的后基底工位；

所述后基底吸附组件缩回；

所述基底传送板叉返回所述辊轮台。

17.如权利要求9所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，所述基底传输方法还包括基底从工件台转移到下板台的下板步骤，所述下板步骤包括：

基底传送板叉运动到工件台工位；

所述基底传送板叉吸附若干个所述基底；

所述基底传送板叉返回所述下板台上；

所述基底传送板叉的吸附组件释放若干个所述基底，若干个所述基底传送到所述下板台上；

产线依次从所述下板台上取走所述若干个基底。

18.如权利要求9至17中任一项所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，在所述基底传送板叉运动到工件台工位过程中，互锁传感器判断第一前基底吸附组件是否进入工件台中，当检测到所述工件台的侧壁时，所述基底传送板叉停止X方向的运动，所述X方向垂直于所述板叉臂的延伸方向。

19.如权利要求9至17中任一项所述的光刻装置中的基底传输方法，其特征在于，在所述基底传送板叉运动到工件台工位过程中，防碰撞传感器判断所述基底传送板叉是否与工件台的板叉槽位置对准，并在检测到未对准时，所述基底传送板叉停止Y方向的运动，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

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