JP2010091628A - 表示用パネル露光装置および露光方法並びに表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法 - Google Patents
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Abstract
加工と輸送が容易な分割状態のステージであって、ステージの組立てでの接続強度を強くすることができる露光装置を提供及び容易に組立てができ、あるいは組立て後であっても分割状態から組立てた部位を容易に調整することができる露光装置または液晶露光方法を提供することにある。
【解決手段】
ステージを構成する複数テーブルを接続する中空であって4角柱の構造を有した接続テーブルを設け、接続面に突起物を設けて相手側のテーブルに挿入し前記突起物の位置をテーブルの上面から操作する。また、前記接続面に設けた空気溜め室における空気量を調節する。
【選択図】図1
Description
また、ステージ装置が大型になり、これを支える脚の荷重を小さくするために、多数の脚が必要になった。ステージ装置は、組立て後数年から十年間可動を続けるが、この間、設置場所の地盤変動があっても、分割状態から組立てた部位の調整を行なうことは、ステージ下面の多数の脚に対して調整作業をすることが困難であった。(第2の課題)
また、ステージ装置の組立て部位には、接続面を上下にずらせる力の他、曲げようとする力が働く。調整のためにステージを組立てた部位のネジを緩めたり締めたりすると、この力により、各部位が自由に変位してしまうことがあり、調整が困難であった。(第3の課題)
従って、本発明の第1の目的は、加工と輸送が容易な分割状態のステージであって、ステージの組立てでの接続強度を強くすることができる液晶露光装置を提供することにある。
図1は、本発明による液晶露光装置の一実施例を示す斜視図である。ステージ1は、テーブル10と接続テーブル11、テーブル12で構成している。ステージ1の上面にはX軸レール20が6本と設置され、前記ステージ1上面にある凹の側部にリニアモータの固定子30が対向して設置されている。X軸レール20の上には、X軸方向に移動するX軸可動ステージ40が取り付けられており、表示しないリニアモータ可動子によってX軸レール20上を移動する。
11:接続テーブル 13:面加工機ベッド
14:加工ドリル 15:接続テーブルの接続面
16:接続テーブルの空間内の内面 20:X軸レール
21:Y軸レール 30、31:リニアモータ固定子
40:X軸可動ステージ 41:Y軸可動ステージ
50:載置台 60:締結ネジ
61:ネジ座面 62:加工用穴
70:接続テーブルの内側の空間 81〜88:位置合わせネジ
91、92:位置合わせ突起 93,94:位置合わせ穴
101、102:位置合わせネジ穴 111〜118:脚
120:摩擦調整くぼみ 121:空気穴
122:接続部。
Claims (17)
- 基板を搬送する複数のテーブルと、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける表示用パネル露光装置において、
前記複数のテーブルうち少なくとも一つのテーブルは多角柱の構造を有し、少なくともその一部が中空であって、他の2つのテーブルと接触する接続面を有する接続テーブルであることを特徴とする表示用パネル露光装置。 - 前記接続面の内側に締結用のネジまたはナット用の座面と当該座面と対向する面に少なくとも座面直径よりも大きな穴を有することを特徴とする請求項1に記載の表示用パネル露光装置。
- 前記座面は前記穴を通した切削手段により加工したことを特徴とする請求項2に記載の表示用パネル露光装置。
- 基板を搬送する複数のテーブルと、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける表示用パネル露光装置において、
前記複数のテーブルのうち接続面を有する2つのテーブルであって、一方のテーブルの前記接続面に設けた突起部と、他のテーブルの前記接続面に設けた前記突起物を挿入可能な凹部と、前記他のテーブルの上面から前記突起物を上下する突起物上下手段とを具備するテーブル上下調整機構を有することを特徴とする表示用パネル露光装置。 - 前記テーブル上下調整機構と、前記テーブル上下調整機構に隣接して、前記他のテーブルの前記接続面に設けた突起部と、前記一方テーブルの前記接続面に設けた当該突起物を挿入可能な凹部と、前記一方のテーブルの上面から前記突起部を上下する突起物上下手段を具備する他のテーブル上下調整機構とを具備する一対のテーブル上下調整機構を有することを特徴とする請求項4に記載の表示用パネル露光装置。
- 前記突起物上下手段は、座面を前記他のテーブルの上面に持つ他端を前記突起部に係合するネジを有することを特徴とした請求項4または5に記載の表示用パネル露光装置。
- 基板を搬送する複数のテーブルと、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける表示用パネル露光装置において、
前記複数のテーブルのうち2つのテーブルの接続面に設けた空気溜め室と、前記空気溜め室の空気量を調節する手段を有することを特徴とする表示用パネル露光装置。 - 前記空気溜め室は前記2つのテーブルのうち少なくとも一方の接続面に設けた凹部であることを特徴とする請求項7に記載の表示用パネル露光装置。
- 前記2つのテーブルうち一つのテーブルは、少なくともその一部が中空であって多角柱の構造を有していることを特徴とする請求項4または7に記載の表示用パネル露光装置。
- 前記多角柱は4角柱であることを特徴とする請求項1または9に記載の表示用パネル露光装置。
- 基板を複数のテーブル上で搬送し、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける表示用パネル露光方法において、
前記複数のテーブルのうち接続面を有する2つのテーブルのうち一方のテーブルの前記接続面に設けた突起部を、他のテーブルの前記接続面に設けた凹部に挿入し、前記他のテーブルの上面から前記突起部を上下し、前記一方のテーブルの位置を上下調整するテーブル上下調整工程を有し、前記テーブル上下調整工程後に前記基板表面にマスク板のパターンを焼付けることを特徴とする表示用パネル露光方法。 - 前記テーブル上下調整工程と、前記他のテーブルの前記接続面に設けた凹部に隣接して、前記他のテーブルの前記接続面に設けた突起部を、前記一方のテーブルの前記接続面に突起部に隣接して、前記一方のテーブルの前記接続面に設けたけた凹部に挿入し、前記一方のテーブルの上面から前記突起部を上下し、前記一方のテーブルの位置を上下調整するテーブル上下調整工程を有することを特徴とする請求項11に記載の表示用パネル露光方法。
- 基板を複数のテーブル上で搬送し、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける表示用パネル露光方法において、
前記複数のテーブルのうち2つのテーブルの接続面に設けた空気溜め室における空気量を調節して前記2つのテーブルの位置合せする位置合せ工程を有し、前記位置合せ工程後に前記基板表面にマスク板のパターンを焼付けることを特徴とする表示用パネル露光方法。 - 前記空気溜め室は前記2つのテーブルのうち少なくとも一方の接続面に設けた凹部であることを特徴とする請求項13に記載の表示用パネル露光方法。
- 基板を複数のテーブル上で搬送し、搬送後の露光位置で前記基板表面にマスク板のパターンを焼付ける露光装置の組立てまたは調整方法において、
前記複数のテーブルのうち接続面を有する2つのテーブルのうち一方のテーブルの前記接続面に設けた突起部を、他のテーブルの前記接続面に設けた凹部に挿入し、前記他のテーブルの上面から前記突起部を上下し、前記一方のテーブルの位置を上下調整するステージ上下調整工程を有することを特徴とする表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法。 - さらに、前記複数のテーブルのうち2つのテーブルの接続面に設けた空気溜め室における空気量を調節する工程を有することを特徴とする請求項15に記載の表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法。
- 前記空気量を調節する工程は前記接続面の締結力を緩和することなく行なうことを特徴とする請求項16に記載の表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08335540A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置およびその製造方法 |
JPH11223690A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-08-17 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JPH11295901A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-29 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005189775A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nsk Ltd | 露光装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08335540A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置およびその製造方法 |
JPH11223690A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-08-17 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JPH11295901A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-29 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005189775A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2006242679A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Olympus Corp | 基板検査装置及び基板検査装置の組み立て方法 |
JP2007065588A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Nsk Ltd | 露光パターンの転写方法及び露光装置 |
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