CN101713931B - 显示用面板曝光装置和曝光方法及显示用面板曝光装置的组装或调整方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种曝光装置和液晶曝光方法,所述曝光装置能够加强加工和输送容易的分割状态的台架在组装中的连接强度,且该曝光装置容易组装,或者即使组装后也能够容易地调整从分割状态组装后的部位。设有中空的连接工作台,该连接工作台连接构成台架的多个工作台并具有四棱柱结构,在连接面上设置突起部并插入对方侧的工作台,并且从工作台的上表面操作所述突起部的位置。另外,调节设置在所述连接面上的空气储存室中的空气量。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示用面板等的基板的制造装置,尤其涉及一种在玻璃基板上形成图形的液晶曝光装置。
背景技术
将掩模和基板玻璃靠近在1mm以下并照射平行光从而在基板玻璃上转印掩模图案的近接方式的曝光装置被用于制造以液晶为首的显示用面板。对于该曝光装置处理的基板玻璃而言,为了提高液晶面板的生产性,其大型化在不断发展中,以使曝光装置在一次曝光下作成的液晶面板的数量增多,其尺寸可根据情况达到10m(长)×5m(宽)×8m(高),重量仅台架就能达到100吨。在曝光装置大型化的情况下,当从装置组装工场向液晶面板制造工场搬送或制造时,为了不使其重量或尺寸成为障碍,将曝光装置或构成该曝光装置的台架装置由分割成的若干个部件组装构成。
在下面的文献中对曝光装置的台架装置的分割结构及其连接方法进行了叙述。在专利文献1、2均公开了一种曝光装置,该曝光装置将玻璃基板交替地从左右的搬入台架搬送到中央的曝光台架并进行曝光。在专利文献1中提出有以移动导轨不分割的方式将搬入台架和移动到中央的曝光台架的引导台架形成为一体并左右分割的结构。在专利文献2中提出将台架分割成左右的搬入台架和曝光台架这三部分的结构。
专利文献1:日本特开2005-189775号公报;
专利文献2:日本特开2007-065588号公报。
但是,专利文献1以通过左右交替地曝光来谋求曝光的高效率化为目的,没有认识到对所述大型装置的分割,另外,在两个工作台的连接中,公开了用螺栓隔着衬垫连接两个工作台的方法,但是由于移动导轨没有被分割,因此该连接也是不必要的。另一方面,专利文献2虽然认识到了对大型装置的分割,但是对如何连接分割后的台架等没有进行公开。
本发明针对现有技术中没有认识到的以下记载的新的课题而提出。即,现有技术的台架装置是在输送分割状态的台架装置后,在装置设置场所组装并使用的装置。其组装中的连接强度依赖于连接时使用的螺栓的强度和螺栓产生的轴向力。用于液晶曝光装置的台架从其尺寸和需要的强度出发多由铸件制造,因此存在连接台架的螺栓的座面的凸凹或倾斜使轴向力下降的情况。(第一课题)
另外,由于台架装置大型,为了使支承它的腿的负荷变小而需要设置多个腿。台架装置组装后几年至十年间持续可动,在该期间,当有设置场所的地基变动时,在从分割状态进行组装的部位的调整中,很难对台架下面的多个腿进行调整操作。(第二课题)
另外,在台架装置的组装部位上除了使接触面上下移动的力以外,还作用欲要弯曲的力。若为了调整而将组装台架的部位的螺栓放松或拧紧,则由于该力,各部位有时自由地变位而使得调整困难。(第三课题)
因此,本发明的第一目的是提供一种液晶曝光装置,对于容易加工和输送的分割状态的台架,能够增强台架组装中的连接强度。
本发明的第二目的是提供一种能够容易组装,或者组装后能够很容易地调整从分割状态组装后的部位的液晶曝光装置或液晶曝光方法及曝光装置的组装或调整方法。
发明内容
为了实现第一目的,本发明提供一种显示用面板曝光装置,其具有搬送基板的多个工作台,在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,所述多个工作台中至少一个工作台是连接工作台,该连接工作台具有多棱柱的结构,至少其一部分是中空,并且该连接工作台具有与另外两个工作台接触的连接面。
另外,为了实现第一目的,本发明的第二特征在于,在第一特征的基础上,在所述连接面的内侧具有连结用的螺栓或螺母用的座面,在与该座面相对的面上具有至少比座面直径大的孔。
进而,为了实现第一目的,本发明的第三特征在于,在第二特征的基础上,所述座面利用通过所述孔的切削机构进行加工。
另外,为了实现第二目的,本发明的第四特征在于,具有工作台上下调整工序,其中,将在所述多个工作台中的具有连接面的两个工作台中的一方工作台的所述连接面上设置的突起部插入在另一方工作台的所述连接面上设置的凹部,从所述另一方工作台的上表面上下移动所述突起部,从而上下调整所述一方工作台的位置。
进而,为了实现第二目的,本发明的第五特征在于,在第四特征的基础上,具有:所述工作台上下调整工序;下述的工作台上下调整工序,其中,将与在所述另一方工作台的所述连接面上设置的凹部相邻而设置在所述另一工作台的所述连接面上的突起部插入在所述一方工作台的所述连接面上与突起部相邻而设置在所述一方工作台的所述连接面上的凹部,从所述一方工作台的上表面上下移动所述突起部,从而上下调整所述一方工作台的位置。
另外,为了实现第二目的,本发明的第六特征在于,对在所述多个工作台中的两个工作台的连接面上设置的空气储存室中的空气量进行调节。
发明效果
根据本发明,能够提供一种液晶曝光装置,其能够加强加工和输送容易的分割状态的台架在组装中的连接强度。
另外,根据本发明,能够提供一种液晶曝光装置或液晶曝光方法以及曝光装置的组装或调整方法,其容易组装,或者即使组装后也能够容易地调整从分割状态组装后的部位。
附图说明
图1是示出本发明的液晶曝光装置的一个实施例的立体图。
图2是示出本发明的液晶曝光装置的一个实施例的立体图。
图3是示出本发明的液晶曝光装置的加工方法的立体图。
图4是示出现有台架的连接方法的立体图。
图5是示出本发明的液晶曝光装置的另一实施例的立体图。
图6是示出本发明的液晶曝光装置的另一实施例的立体图。
图7是示出本发明的液晶曝光装置的另一实施例的截面图。
图8是示出本发明的液晶曝光装置的另一实施例的立体图。
图中:
1-台架;10、12-工作台;11-连接工作台;13-表面加工机头;14-加工钻头;15-连接工作台的连接面;16-连接工作台的空间内的内表面;20-X轴导轨;21-Y轴导轨;30、31-直线电动机定子;40-X轴可动台架;41-Y轴可动台架;50-载置台;60-连结螺栓;61-螺栓座面;62-加工用孔;70-连接工作台的内侧的空间;81~88-对位螺栓;91、92-对位突起;93、94-对位孔;101、102-对位螺栓孔;111~118-腿;120-摩擦调整凹坑;121-空气孔;122-连接部;
具体实施方式
以下,参照附图对用于实施本发明的优选方式进行说明。图1是示出本发明的液晶曝光装置的一个实施例的立体图。台架1由工作台10、连接工作台11和工作台12构成,在台架1的上表面设置六根X轴导轨20,在位于所述台架1的上表面的凹处侧部,对置设置有直线电动机的定子30。在X轴导轨20上安装沿X轴方向移动的X轴可动台架40,其通过未图示的直线电动机可动元件而在X轴导轨20上移动。
在X轴可动台架的上表面设置两根Y轴导轨21。在X轴可动台架40上与所述台架1同样,在位于其上表面的凹的侧部,相对设置直线电动机的定子31。在Y轴导轨21上安装Y轴可动台架41,其通过未图示的直线电动机可动元件而在Y轴导轨21上移动。在Y轴可动台架41上安装载置台50,在其上表面载置基板玻璃,并且沿着X轴导轨20和Y轴导轨21将基板玻璃定位到台架1上的曝光位置。
构成台架1的工作台的个数基于台架1的规模,定子30、31的设置个数与可动台架的动作目的相一致,X轴导轨20、Y轴导轨21的设置个数考虑在导轨上承受的载荷,但不被上述说明限定,能够增减。
图2示出在图1装置中由工作台10、12和连结工作台11构成台架1的情况,是除去用于说明的工作台10的状态。将连结工作台11和工作台12在连结工作台11的内侧的空间70内使用多根连结螺栓60连结。如图2的局部放大图所示,连结螺栓60的螺颈(首下)60a由于位于在图3中后述的锪孔的螺栓座面61上,因此与铸件的未加工表面相比没有座面的凹陷,所以连结螺栓60不会松动。另外,由于将螺栓座面61以平行螺栓螺颈60a面的方式形成,因此能够在不降低连结螺栓60的轴向力的状态下连结,另外,在本实施方式中,作为防尘对策虽然不使用垫圈连结但也能够具有充分的连结力。
图3示出在连接工作台11中,在空间70内加工螺栓座面61的方法。如前所述,在螺栓的座面上若存在凸凹或倾斜有时会使轴向力下降,需要形成平坦无倾斜的座面。从用于现在被要求的液晶曝光装置的台架的尺寸和必要的强度考虑,表面加工机头自身的尺寸也达到将近1m,即使存在人进入的空间,也不能够在连接工作台11的空间70内进行形成座面的操作。
因此,在本实施方式中,在连接工作台11的连接面15上(也参照图2)设置对应螺栓座面61的加工用孔62,将搭载在所述表面加工机的头上的加工钻头14插入来加工螺栓座面61。
即,在表面加工机头13上搭载连接工作台11,并且在连接工作台11的连接面15上设置加工用孔62,该加工用孔62设置在与加工的螺栓座面61相对的位置,其直径设置成加工钻头14能够穿过连接工作台11的连接面15的尺寸。将该加工用孔62如图3所示在连接面15上设置成左右方向(图2的连接时为上下)且呈列状。因此,将加工钻头14穿过加工用孔62,在连接工作台11的空间70内的内表面16上加工螺栓座面61。如图3所示,将该螺栓座面加工相对于接合面15上设置的全部加工用孔62来进行,其结果是,将螺栓座面61在对应所述加工用孔62的列的所述内表面16上形成列状。
如图1所示,当在连接工作台11的两侧面连接其它的工作台时,其它的连接面15也同样加工座面。在本实施例中,此时将螺栓座面61和加工用孔62在连接工作台11的空间70内的内表面16上以交替形成一对并配置成一列的方式加工。
图4示出现有的连接方法。在现有的连接方法中,在一方的工作台17上设置操作孔64,在该部分和端部用连结螺栓60连接。在这样的现有连接中,为了确保工作台17的强度,将用于拧紧连结螺栓60用的操作孔64不能设置很大。其结果是,在工作台17上不能够设置本实施例那样的加工用孔,不能将座面平坦且无倾斜地加工。另外,由于操作孔64的操作空间不充分,操作孔64的底面螺栓(未图示)的螺栓拧紧操作困难。
另一方面,根据本实施例,由于首先通过设置加工用孔将座面平坦且无倾斜地加工,因此,能够利用小的螺栓确保必要的连接强度。另外,由于能够使螺栓连结个数增多,因此提高连接强度。另外,即使发生振动,也能够将螺栓间确定的共振振动频率变成振动能量小的高频。这些的结果是,在使用所述连接工作台11连接工作台10和工作台12时,由于抗震性提高且X轴可动台架在台架1上移动时其变形减小,因此,能够正确地进行搭载在载置台50上的基板玻璃的定位,能够提供坚固且精度高的曝光装置。
另外,根据本实施方式,提供一种基于曝光装置的规模,能够进入连接工作台11的空间70内进行操作,且由于螺栓拧紧操作容易,在台架1的制作方面操作性高的方法。
进而,在上述实施例中,设置一个连接工作台11的空间70,但如果为了在连接工作台11的左右设置两个空间70而在连接工作台11的中央设置隔壁,则能够进一步提高连接工作台11的弯曲刚度。其结果是,能够提供精度更加高的曝光装置。
在上述的实施例中使用螺栓进行连结,但也可以使用具有同样功能的螺母等进行连结。
图5是示出本发明的液晶曝光装置的其它实施例的立体图。本实施例涉及一种在工作台10、12和连接工作台11的工作台间进行对位而没有段差,并且使该X轴导轨20的弯曲变小用的结构和方法。
如图5所示,台架1由工作台10、连接工作台11及工作台12三部分构成。该三个工作台10、11、12用腿111~118(有另外未图示的腿)等支承。工作台10和12通过连接工作台11用先前实施例中所示的多根连结螺栓60连结。图1中所示的在台架1上设置的X轴可动台架等由于容易理解说明因此未图示。
在工作台10和连接工作台11、连接工作台11和12中由于在其上表面设置X轴导轨20,因此若在该工作台连接端面上有段差,则X轴导轨20沿着该段差弯曲。X轴可动工作台40位于该X轴导轨20弯曲的部位时,X轴可动工作台40由于对应X轴导轨20的弯曲而变位,因此在载置台50上搭载的基板玻璃的定位产生误差。
以往利用腿111~118的高度调整机构来使工作台10和连接工作台11、连接工作台11和12的连接端面的段差一致。但是,在该种方法中,很难仅移动想要调整的端面,若利用任一个腿调整工作台间的段差,则连接的工作台一起移动。尤其在降低工作台端面时,由于在工作台的连接面的摩擦力很大,即使降低腿的高度,工作台端面也不降低,因此需要大幅度地松开连接工作台的螺栓。若大幅度地松开连接工作台的螺栓,则存在在工作台之间产生间隙的情况,调整段差后,若拧紧连接工作台的螺栓则工作台的姿势发生变化。
本实施例是为了解决这些问题的本发明的另外的一个实施例,使用图5至图7进行说明。
如图5所示,在工作台10和连接工作台11的上表面设置对位螺栓81、82及85、86,这些对位螺栓用于进行两工作台间的高度方向的对位(以下仅称对位)。同样在连接工作台11和工作台12的上表面设置对位螺栓83、84及87、88。
图6是对图5的台架1中的工作台10与连接工作台11或连接工作台11与12之间进行对位用的结构进行说明用的图,示出了除去连结螺栓60(未图示)进行的连结的状态。
本实施例的工作台10和连接工作台11的对位是通过在连接面的两端侧设置螺栓卡止机构来进行的,在该螺栓卡止机构中,将在两工作台10、11的连接面上设置的对位突起91、92插入与对位突起91、92分别相对的工作台的连接面上设置的对位孔93、94中,并且从工作台10和连接工作台11的上表面将对位螺栓85、86插入在对位突起91、92上设置的对位螺栓孔101、102中。
在前述中,将对位孔93作成比对位突起91大一圈,对位突起91能够在对位孔93中自由地移动,即,能够使工作台10相对于连接工作台11为了对位而移动。同样,将对位孔94作成比对位突起92大一圈,对位突起92能够在对位孔94中自由地移动,即,能够使连接工作台11相对于工作台10为了对位而移动。
图7是为了说明利用上述的机构进行工作台10和连接工作台11或连接工作台11和12的对位的方法而示出包含对位螺栓85、86的截面图。
如前所述,在工作台10的上表面设置对位螺栓85,其前端螺栓部与连接工作台11的突起92前端的对位螺栓孔102连接,同样,在工作台11的上表面设置对位螺栓86,其前端螺栓部与工作台10的对位突起91前端的对位螺栓孔101连接。
在工作台10和连接工作台11的上表面的对位中,例如,若拧紧工作台10上表面的对位螺栓85,则连接工作台11的对位突起92被拉近工作台10,因此连接工作台11的上表面相对于工作台10翘起。若拧紧工作台11上表面的对位螺栓86,则连接工作台10的对位突起91被拉近连接工作台11,因此工作台10的上表面相对于连接工作台11翘起。因此,通过协调调节加上在接触面的相反侧设置的对位螺栓81、82共计四根对位螺栓85、86、81及82,进行工作台10和11的上表面的对位,由此能够消除两工作台的上表面的段差。通过连结螺栓连结后,由于能够维持充分的连结力,因此消除两工作台的上表面的段差意味着:不需要调节台架下的各腿111和112等的高度,可以对各腿均等加重,或者可以仅调节悬空的腿。
接下来,同样地进行连接工作台11和12的上表面的对位,由此能够结束三个工作台10、11、12的对位。
在上述中,一旦用连结螺栓60等固定两工作台,显然两工作台就不能移动,在调整后,通过拧紧两螺栓能够防止将工作台不小心移动。
根据本实施方式,工作台10和11的上表面的对位只是拧紧螺栓85和86,最后只是简单地调节台架下的腿111和112等就可以。尤其工作台的尺寸变大,仅通过操作工作台中央部下面的腿很难对两工作台间的上表面进行对位,因此利用本方法的调整是有用的。
另外,由于仅在调整的工作台10和11之间产生调整力,因此目的以外的工作台不会不小心地移动,所以调整操作变得容易。
尤其是,即使工作台尺寸变大,在工作台间的对位中,在工作台的上表面,以往依靠基于工作台的自重而向下方向的力来实现的降低一方工作台表面的操作,仅操作在该调整机构中设置的螺栓就可以实现,另外调整后的固定只要拧紧全部的螺栓就可以实现,能够使调整操作变得容易。
在图5至7所示的实施例中,在工作台上设置突起和收纳相对的突起的孔,但是即使在工作台的侧面设置工作台的突起,显然也能够得到同样的效果。另外,构成台架的工作台的个数在本实施例中是三个,但是不限定于此,也能够将更多的工作台连接。
在上述实施例中,利用螺栓操作突起,但不限于螺栓,只要是能够从工作台上表面进行操作的方法,其他的方法也可以使用。
图8是示出本发明的液晶曝光装置的另外实施例的立体图。本实施例涉及一种将工作台坚固地固定的结构和方法,该结构和方法使所述工作台10、12和连接工作台11的对位变得更加容易,且对位调节时使连接面的摩擦变小,而在对位调节后使摩擦变大。
在图8中,为便于说明,示出了将工作台10和11通过连结螺栓60连接进行解除的状态。在连接工作台11的连接面15上至少设置一个以上摩擦调整凹坑120,且设置有空气孔121,在连接工作台11与工作台10连接时,该空气孔121能够通过连接凹坑120与外部的空气。空气孔121与能够使用导管使高压空气通过的连接部122连接。
将工作台10和连接工作台11连接后,在进行两工作台的上表面的对位时,通过连接部122注入高压空气。例如,若将40kgf每平方厘米的高压空气注入面积为3000平方cm的摩擦调整凹坑120内,则在凹坑整体产生由120000kgf的力引起的想要打开工作台10和连接工作台11的连接面的力。利用此力,能够减少由相对于所述连接面的连结螺栓60产生的连结力。在连接面上有摩擦,若连结力减少,则在连接面内方向上移动工作台的力减少,因此利用对位螺栓85、86等的工作台上表面的对位操作变得容易。
在使用台架1时,为了减小工作台10和连接工作台11或者工作台11和工作台12的连接部的变形,多使用连接螺栓60,因此,在工作台上表面的对位操作时从松开该连结螺栓60的操作开始。该连结螺栓60的松开方便性成为问题。其理由是,在该操作中,若完全松开螺栓60,则工作台之间没有摩擦力,虽然工作台上表面的对位操作变得容易,但是若弯矩力作用在工作台上,则会在连接面间形成V字形间隙。在工作台上表面的对位结束后,若再次拧紧螺栓60,则没有这些间隙,但是由于工作台以倾斜的状态移动并连接,因此在工作台的连接面以外的部分产生变位。
因此,若应用本实施方式,不将连结螺栓60完全松开,而是在留有轴向力的状态下进行工作台上表面的对位操作,从而能够减少工作台的倾斜,因此在工作台上表面的对位结束后,即使再次拧紧连结螺栓60,也不产生如前所述的工作台在倾斜状态下移动,能够容易地进行作业。
另外,摩擦调整凹坑120的容积越小,注入此处的空气量可以越少。在摩擦调整凹坑120中,若装入比摩擦调整凹坑120的深度浅的板来使容积变小,则能够降低泵的负荷,从而能够使用小型的泵,具有能够提高现场作业性的效果。进而,设置O形圈来包围摩擦调整凹坑120,因此减少从摩擦调整凹坑120逸出的空气,能够得到同样的效果。
另外,在摩擦调整凹坑120中与注入高压空气相反,通过将摩擦调整凹坑120的空气抽出使其产生负压,能够进一步提高连结螺栓60的连结力和负压力共同产生的工作台连接的强度。尤其在工作台上表面的对位结束后,通过直接切换成负压,在螺栓连结结束前的时间内能够防止工作台对位的变化。
另外,利用O形圈包围摩擦调整凹坑120以使得不从外部向摩擦调整凹坑120流入空气,若在连结部122上设置阀,则可以在工作台上表面的对位结束后将空气一次抽出,由此,作为曝光装置,即使在台架的使用中也能够很容易地维持效果。
虽然在本实施例中使用连接工作台11,但是在如图4所示的以往例子那样,当直接连接工作台10、12时,在连接面至少一方的工作台上设置摩擦调整凹坑来应用本实施例,也能得到本实施例的效果。
本发明不拘于液晶基板,也能够将大型的薄基板应用于显示用面板。
Claims (18)
1.一种显示用面板曝光装置,具有搬送基板的多个工作台,在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
所述多个工作台中至少一个工作台是连接工作台,该连接工作台具有多棱柱的结构,至少其一部分是中空,并且该连接工作台具有与另外两个工作台接触的连接面,
在所述连接面的内侧具有用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上具有加工用孔。
2.如权利要求1所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
在所述连接面的内侧具有用于设置连结用螺栓或螺母的座面,在与该座面相对的连接面上具有至少比座面直径大的孔。
3.如权利要求2所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述座面由通过所述孔的切削机构进行加工。
4.一种显示用面板曝光装置,具有搬送基板的多个工作台,在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
所述显示用面板曝光装置具有工作台上下调整机构,该工作台上下调整机构具备:
突起部,其设置在所述多个工作台中具有连接面的两个工作台中的一方工作台的所述连接面上;
凹部,其设置在另一方工作台的所述连接面上并能够将所述突起部插入;
突起部上下移动机构,所述另一方工作台的上表面包括对位螺栓,通过拧紧该对位螺栓,从所述另一方工作台的上表面将所述一方工作台的突起部上下移动,
在所述连接面的内侧具有用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上具有加工用孔。
5.如权利要求4所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述显示用面板曝光装置具有一对工作台上下调整机构,该一对工作台上下调整机构包括所述一方工作台上下调整机构和与所述一方工作台上下调整机构相邻的另一方工作台上下调整机构,
该另一方工作台上下调整机构具备:
突起部,其设置在所述另一方工作台的所述连接面上;
凹部,其设置在所述一方工作台的所述连接面上并能够将所述突起部插入;
突起部上下移动机构,其从所述一方工作台的上表面将所述突起部上下移动。
6.如权利要求4或5所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述突起部上下移动机构具有螺栓,该螺栓在具有所述凹部的工作台的上表面具有座面,且另一端与所述突起部卡合。
7.一种显示用面板曝光装置,具有搬送基板的多个工作台,在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
所述显示用面板曝光装置具有在所述多个工作台中的两个工作台的连接面上设置的空气储存室以及调节所述空气储存室的空气量的机构,
在所述连接面的内侧具有用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上具有加工用孔。
8.如权利要求7所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述空气储存室是在所述两个工作台中至少一方的连接面上设置的凹部。
9.如权利要求4所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述两个工作台中的一个工作台至少其一部分是中空且具有多棱柱构造。
10.如权利要求7所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述两个工作台中的一个工作台至少其一部分是中空且具有多棱柱的构造。
11.如权利要求1或9或10所述的显示用面板曝光装置,其特征在于,
所述的多棱柱是4棱柱。
12.一种显示用面板曝光方法,其在多个工作台上搬送基板,并且在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
具有工作台上下调整工序,其中,将在所述多个工作台中的具有连接面的两个工作台中的一方工作台的所述连接面上设置的突起部插入在另一方工作台的所述连接面上设置的凹部,所述另一方工作台的上表面包括对位螺栓,通过拧紧该对位螺栓,从所述另一方工作台的上表面上下移动所述一方工作台的突起部,从而上下调整所述一方工作台的位置,
在所述工作台上下调整工序后,将掩模板的图案烧结在所述基板表面,
在所述连接面的内侧形成用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上形成加工用孔。
13.如权利要求12所述的显示用面板曝光方法,其特征在于,
具有:
所述工作台上下调整工序;和
下述的工作台上下调整工序,将与在所述另一方工作台的所述连接面上设置的凹部相邻而设置在另一工作台的所述连接面上的突起部插入在所述一方工作台的所述连接面上与突起部相邻而设置在所述一方工作台的所述连接面上的凹部中,从所述一方工作台的上表面上下移动所述突起部,从而上下调整所述一方工作台的位置。
14.一种显示用面板曝光方法,其在多个工作台上搬送基板,并且在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
所述显示用面板曝光方法具有对位工序,在该对位工序中,对在所述多个工作台中的两个工作台的连接面上设置的空气储存室中的空气量进行调节来进行所述两个工作台的对位,
在所述对位工序后,将掩模板的图案烧结在所述基板表面,
在所述连接面的内侧形成用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上形成加工用孔。
15.如权利要求14所述的显示用面板曝光方法,其特征在于,
所述空气储存室是在所述两个工作台中的至少一方的连接面上设置的凹部。
16.一种显示用面板曝光装置的组装或调整方法,其在多个工作台上搬送基板,并且在搬送后的曝光位置将掩模板的图案烧结在所述基板表面,其特征在于,
具有工作台上下调整工序,将在所述多个工作台中的具有连接面的两个工作台中的一方工作台的所述连接面上设置的突起部插入在另一方工作台的所述连接面上设置的凹部,所述另一方工作台的上表面包括对位螺栓,通过拧紧该对位螺栓,从所述另一方工作台的上表面上下移动所述一方工作台的突起部,从而上下调整所述一方工作台的位置,
在所述连接面的内侧形成用于连接工作台的螺栓座面,在与该座面相对的连接面上形成加工用孔。
17.如权利要求16所述的显示用面板曝光装置的组装或调整方法,其特征在于,
还具有对在所述多个工作台中的两个工作台的连接面上设置的空气储存室中的空气量进行调节的工序。
18.如权利要求17所述的显示用面板曝光装置的组装或调整方法,其特征在于,
调节所述空气量的工序是在不放松所述连接面的连结力的状态下进行的。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008-258836 | 2008-10-03 | ||
| JP2008258836A JP2010091628A (ja) | 2008-10-03 | 2008-10-03 | 表示用パネル露光装置および露光方法並びに表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101713931A CN101713931A (zh) | 2010-05-26 |
| CN101713931B true CN101713931B (zh) | 2012-09-05 |
Family
ID=42215092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2009102046070A Expired - Fee Related CN101713931B (zh) | 2008-10-03 | 2009-09-29 | 显示用面板曝光装置和曝光方法及显示用面板曝光装置的组装或调整方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010091628A (zh) |
| KR (1) | KR101114730B1 (zh) |
| CN (1) | CN101713931B (zh) |
| TW (1) | TW201015246A (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103809385A (zh) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 川宝科技股份有限公司 | 曝光机光罩结构的水平角度调整机构及方法 |
| CN106406036B (zh) * | 2016-12-20 | 2018-05-22 | 广东莱宝智能装备股份有限公司 | 曝光设备 |
| CN106483775B (zh) * | 2016-12-20 | 2018-06-08 | 广东莱宝智能装备股份有限公司 | 曝光机 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1932650A (zh) * | 2005-09-13 | 2007-03-21 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006173364A (ja) | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
| KR100615605B1 (ko) | 2004-12-30 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 노광 설비의 레벨링 장치 |
| JP2006242679A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Olympus Corp | 基板検査装置及び基板検査装置の組み立て方法 |
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| TW200804999A (en) | 2006-07-10 | 2008-01-16 | Nsk Ltd | Exposure device and exposure method |
-
2008
- 2008-10-03 JP JP2008258836A patent/JP2010091628A/ja active Pending
-
2009
- 2009-09-29 CN CN2009102046070A patent/CN101713931B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-01 KR KR1020090093651A patent/KR101114730B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-01 TW TW098133402A patent/TW201015246A/zh unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1932650A (zh) * | 2005-09-13 | 2007-03-21 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
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| Title |
|---|
| JP特开2002-93693A 2002.03.29 |
| JP特开2004-95658A 2004.03.25 |
| JP特开2005-189775A 2005.07.14 |
| JP特开2007-65588A 2007.03.15 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101713931A (zh) | 2010-05-26 |
| KR101114730B1 (ko) | 2012-02-29 |
| JP2010091628A (ja) | 2010-04-22 |
| KR20100038153A (ko) | 2010-04-13 |
| TW201015246A (en) | 2010-04-16 |
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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Granted publication date: 20120905 Termination date: 20140929 |
|
| EXPY | Termination of patent right or utility model |