JP6082884B2

JP6082884B2 - 露光装置、露光方法

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Publication number: JP6082884B2
Application number: JP2012132802A
Authority: JP
Inventors: 三宅　健; 健三宅; 俊博高木
Original assignee: Sanei Giken Co Ltd
Current assignee: Sanei Giken Co Ltd
Priority date: 2012-06-12
Filing date: 2012-06-12
Publication date: 2017-02-22
Anticipated expiration: 2032-06-12
Also published as: CN103488055A; KR20130139170A; JP2013257409A; TWI603158B; TW201351067A; KR102205976B1

Description

本発明は、露光装置を用いた基板の露光技術に関する。

表面に感光層を有する基板の露光面に対し、電気回路などの２次元パターンを表す露光データに基づいて、露光を行うことによって、当該２次元パターンを基板上に形成する露光装置が知られている。かかる露光装置では、１つの基板を所定の露光位置に配置し、露光した後、露光された基板を露光位置から移動させるとともに、他の基板を露光位置に配置し、露光するといった繰り返しプロセスによって、複数の基板の露光処理を行う。

かかるプロセスにおいては、露光された基板の露光位置からの移動と、他の基板の露光位置への配置とに要する時間の間は、露光を行うことができないので、生産性が低い。このため、生産性を向上するための技術が提案されている。例えば、下記特許文献１は、基板を積載して同一の一次元軌道上を往復移動可能な２つの移動ステージと、当該軌道上の中央に固定的に設置された露光部とを備えた露光装置を開示している。かかる露光装置は、一方の移動ステージと露光部とを相対移動させて、１つの基板に対して露光処理を行っている間に、他方の移動ステージにおいて、露光済みの基板と新たな基板との載せ替えを可能とする。これによって、露光処理を行っている以外の時間が短縮され、生産性が向上する。

特開２００８−１９１３０２号公報

しかしながら、特許文献１の技術では、依然として、露光処理のための時間の他に、移動ステージの移動などに多くの時間が必要となる。また、基板の両面を一連の流れで露光できない。このため、生産性をいっそう向上できる露光技術が求められる。また、露光装置の一般的な課題として、装置の低コスト化や小型化が求められる。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、例えば、以下の形態として実現することが可能である。

本発明の第１の形態は、基板を露光する露光装置として提供される。この露光装置は、基板を保持する第１の基板保持部を備えた第１の移動部を備える。この第１の移動部は、第１の待機位置と、第１の基板保持部に保持された基板の露光面が第１の方向を向いた状態で基板が配置される第１の露光位置との間で、第１の基板保持部を移動させる。また、露光装置は、基板を保持する第２の基板保持部を備えた第２の移動部を備える。この第２の移動部は、第１の待機位置とは異なる第２の待機位置と、第２の露光位置であって、第２の基板保持部に保持された基板の露光面が、第１の方向を向いた状態、かつ、第１の露光位置に配置された基板の露光面と、第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、第２の基板保持部に保持された基板が配置される第２の露光位置との間で、第２の基板保持部を移動させる。さらに、露光装置は、第２の方向に沿って配置されたガイドに沿って、第１の露光位置と第２の露光位置との間を移動可能な露光ヘッドを備えた露光部を備える。この露光部は、第１の露光位置に配置された基板と、第２の露光位置に配置された基板とを、露光ヘッドの第２の方向に沿った移動によって、選択的に露光する。

かかる形態の露光装置によれば、２つの露光位置で交互に露光を行うことができる。したがって、一方の露光位置で露光を行っている時間を、他方の露光位置で既に露光された基板を排出するとともに、新たな基板を他方の露光位置に配置するための時間に割り当てることができる。このため、基板の生産性を向上できる。また、一方の露光位置で露光された基板を、他方の露光位置に配置することによって、１つの露光部のみを使用して、基板の両面を露光できる。したがって、２つの露光装置を使用して、基板の両面を露光する場合と比べて、装置の低コスト化および小型化に資する。

本発明の第２の形態として、第１の移動部は、第１の基板保持部として、第１の方向、および、第１の方向に交差する方向に移動可能に二重化された２つの基板保持部を備えていてもよい。同様に、第２の移動部は、第２の基板保持部として、第１の方向に沿った方向、および、第１の方向に交差する方向に移動可能に二重化された２つの基板保持部を備えていてもよい。

かかる形態の露光装置によれば、１つの露光位置について、露光済みの基板の露光位置からの排出と、新たな基板の露光位置への配置とを同時に行うことができる。したがって、露光以外の動作に要する時間を極めて短くできる。かかる態様は、例えば、２つの基板保持部の一方を、第１の露光位置または第２の露光位置から第１の待機位置または第２の待機位置に移動させるときに、他方を第１の待機位置または第２の待機位置から第１の露光位置または第２の露光位置に移動させる構成として実現されてもよい。あるいは、他方は、他の露光位置での露光時間を利用して、第１の待機位置または第２の待機位置から所定の位置まで予め移動していてもよい。

本発明の第３の形態として、第２の形態の露光装置は、ガイドが設けられたベース部材を備えていてもよい。また、当該露光装置は、ベース部材に取り付けられた基準プレートであって、基板を、第１の露光位置および第２の露光位置としての、基準プレートの内部の位置に挿入可能なフレーム形状を有する基準プレートを備えていてもよい。かかる露光装置において、第１の基板保持部および第２の基板保持部は、基板が変位可能な状態で、基板を保持してもよい。基準プレートの所定部位と、第１の基板保持部および第２の基板保持部の所定部位とが、第１の基板保持部および第２の基板保持部に保持された各々の基板の外周で接触した状態で、基板は、第１の露光位置および第２の露光位置に配置されてもよい。

かかる形態の露光装置によれば、第１の移動部および第２の移動部のそれぞれが、精度良く第１の基板保持部および第２の基板保持部を移動させる機構でなくても、第１の露光位置および第２の露光位置において、露光ヘッドに対して、基板を保持する第１の基板保持部および第２の基板保持部を、精度良く、所定の位置に配置することができる。その結果、コストを低減できる。また、移動可能に構成された第１の基板保持部および第２の基板保持部を軽量化できるので、基板の搬送速度を増大させることが可能となり、生産性が向上する。しかも、第１の移動部および第２の移動部の高度な移動精度を確保するための、強固な基礎構造が必要なくなり、露光装置を小型化できるとともに、コストを低減できる。

本発明の第４の形態として、第１の形態の露光装置が備える、第１の移動部および第２の移動部の各々は、第１の基板保持部および第２の基板保持部が第１の方向に沿って移動可能に構成されてもよい。この場合、第４の形態としての露光装置は、上述した第３の形態を備えていてもよい。かかる露光装置は、第３の形態と同様の効果を奏する。

本発明の第５の形態として、第３または第４の形態の露光装置が備える基準プレートには、相互に嵌合する一対の位置決め構成の一方が形成されていてもよい。第１の基板保持部および第２の基板保持部のうちの、第１の基板保持部および第２の基板保持部にそれぞれ保持された基板よりも外側の位置には、位置決め構成の他方が形成されていてもよい。第１の基板保持部および第２の基板保持部に保持された基板は、一対の位置決め構成が嵌合した状態で、第１の露光位置および第２の露光位置に配置されてもよい。

かかる形態の露光装置によれば、第１の移動部および第２の移動部のそれぞれが、精度良く第１の基板保持部および第２の基板保持部を移動させる機構でなくても、第１の方向に直交する面における基板の位置が正確に位置決めされる。したがって、第３の形態および第４の形態と同様の効果を奏する。

本発明の第６の形態として、第１ないし第５のいずれかの形態の露光装置は、第２の方向に沿って移動可能に構成され、第１の露光位置および第２の露光位置に配置された基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部を備えていてもよい。また、露光部は、検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、露光を行ってもよい。

かかる形態の露光装置によれば、基板に付与された位置合わせマークを読み取って、その情報をもとに、基板の位置や形状を正確に認識し、基板の位置や形状に応じて補正された露光データに基づいて、好適な露光を行える。第１の露光位置および第２の露光位置の一方に配置された基板の露光中に、他方の基板に対して、その位置や形状を検出する態様とすれば、生産性が低下することもない。

本発明の第７の形態として、第６の形態の露光装置が備えるガイドは、露光ヘッドの第２の方向に沿った移動と、検出部の第２の方向に沿った移動との両方に兼用のガイドとして設けられてもよい。かかる形態の露光装置によれば、露光装置を小型化できる。

本発明の第８の形態として、第１ないし第７のいずれかの形態の露光装置は、基板を搬送する第１の搬送部と、第１の搬送部と第１の待機位置との間で基板を搬送する第２の搬送部と、第１の搬送部と第２の待機位置との間で基板を搬送する第３の搬送部とを備えていてもよい。かかる形態の露光装置によれば、基板を一連の流れで効率的に連続処理でき、生産性が向上する。

本発明の第９の形態として、第１ないし第８のいずれかの形態の露光装置は、露光ヘッドと、第１の露光位置および第２の露光位置に配置された基板の露光面との距離を測定する測定部を備えていてもよい。また、この露光装置は、露光ヘッドを第１の方向に沿って移動させる第３の移動部を備えていてもよい。第３の移動部は、測定部の測定結果に応じて、露光ヘッドと露光面との距離を調節してもよい。かかる形態の露光装置によれば、平滑では無い基板の露光面に対しても、常に安定して焦点を結ぶことができる。

本発明の第１０の形態として、第１ないし第９のいずれかの形態の露光装置が備える露光ヘッドは、複数の露光ユニットを有していてもよい。かかる形態の露光装置によれば、複数の露光ユニットに分けることで、各露光ユニットの走査幅が小さくなる。つまり、露光ユニットに使用するレンズの径を小さくできるので、低コスト化できる。

本発明の第１１の形態は、露光装置によって基板を露光する露光方法として提供される。かかる露光方法は、露光装置を用意する第１の工程を備える。用意される露光装置には、基板の露光面が第１の方向を向いた状態で基板が配置される第１の露光位置と、基板の露光面が、第１の方向を向いた状態、かつ、第１の露光位置に配置された基板の露光面と、第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、基板が配置される第２の露光位置とが設定されている。また、当該露光装置は、第１の露光位置と第２の露光位置との間を第２の方向に沿って移動可能な露光ヘッドを備え、第１の露光位置に配置された基板と、第２の露光位置に配置された基板とを、露光ヘッドの第２の方向に沿った移動によって、選択的に露光する。また、露光方法は、第１の露光位置に配置された第１の基板に対する露光処理が終了するまでに、第１の基板と異なる第２の基板を第２の露光位置に配置する第２の工程と、第２の露光位置に配置された第２の基板に対する露光処理が終了するまでに、第２の基板とは異なる第３の基板を第１の露光位置に配置する第３の工程とを備える。かかる露光方法によれば、第１の形態の露光装置と同様の効果を奏する。

かかる第１１の形態において、第１の工程で用意する露光装置は、第１の露光位置および第２の露光位置に配置された基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部をさらに備えていてもよい。また、露光装置は、検出部による検出結果に基づいて、露光データを補正して、露光を行ってもよい。この場合、第２の工程では、第１の露光位置に配置された第１の基板に対する露光処理が終了するまでに、第２の基板を第２の露光位置に配置するとともに、第２の露光位置に配置された第２の基板に対して、検出部による検出を行ってもよい。さらに、当該第２の基板の検出に加えて、当該検出結果に基づく露光データの補正までを行ってもよい。同様に、第３の工程では、第２の露光位置に配置された第２の基板に対する露光処理が終了するまでに、第３の基板を第１の露光位置に配置するとともに、第１の露光位置に配置された第３の基板に対して、検出部による検出を行ってもよい。さらに、当該第３の基板の検出に加えて、当該検出結果に基づく露光データの補正までを行ってもよい。

上述した形態は、一例に過ぎず、上述した種々の形態の各要素は、本願に記載された課題の少なくとも一部を解決できる範囲、あるいは、本願に記載された効果の少なくとも一部を奏する範囲において、適宜、組合せ、または、省略が可能である。例えば、本発明は、以下に示す第１２ないし第１４の形態としても提供され得る。第２ないし第１０のいずれかの形態は、第１２ないし第１４の形態にも適用可能である。

本発明の第１２の形態は、露光装置として提供される。この露光装置は、基板を保持する第１の基板保持部を備え、待機位置と、基板の露光面が第１の方向を向いた状態で基板が配置される露光位置との間で、第１の基板保持部を移動させる第１の移動部と、基板を保持する第２の基板保持部を備え、待機位置と、露光位置との間で、第２の基板保持部を移動させる第２の移動部と、露光ヘッドを備え、第１の方向と直交する第２の方向に沿って露光ヘッドを移動させながら、露光位置に配置された基板の露光面を露光する露光部とを備える。

かかる形態の露光装置によれば、露光済みの基板の露光位置からの排出と、新たな基板の露光位置への配置とを同時に行うことができる。したがって、露光以外の動作に要する時間を短くでき、生産性が向上する。

本発明の第１３の形態は、露光装置として提供される。この露光装置は、基板を保持する基板保持部を備え、基板保持部に保持された基板の露光面が第１の方向を向いた状態で基板が露光位置に配置されるまで、基板保持部を移動させる移動部と、露光ヘッドを備え、第１の方向に直交する第２の方向に露光ヘッドを移動させながら、露光位置に配置された基板の露光面を露光する露光部と、露光ヘッドを第２の方向に沿って移動させるために第２の方向に沿って配置されたガイドが設けられたベース部材と、ベース部材に取り付けられた基準プレートであって、基板を、露光位置としての、基準プレートの内部の位置に挿入可能なフレーム形状を有する基準プレートと、を備える。かかる露光装置において、移動部は、基板保持部が第１の方向に沿って移動可能に構成される。基板保持部は、基板が変位可能な状態で、基板を保持する。基準プレートの所定部位と、基板保持部の所定部位とが、基板保持部に保持された基板の外周で接触した状態で、基板は、露光位置に配置される。

かかる形態の露光装置によれば、移動部が、精度良く基板保持部を移動させる機構でなくても、露光位置において、露光ヘッドに対して、基板を保持する基板保持部を精度良く、所定の位置に配置することができる。その結果、コストを低減できる。また、移動可能に構成された基板保持部を軽量化できるので、基板の搬送速度を増大させることが可能となり、生産性が向上する。しかも、移動部の高度な移動精度を確保するための、強固な基礎構造が必要なくなり、露光装置を小型化できるとともに、コストを低減できる。

本発明の第１４の形態は、露光装置として提供される。この露光装置は、基板を保持する基板保持部を備え、基板保持部に保持された基板の露光面が第１の方向を向いた状態で基板が露光位置に配置されるまで、基板保持部を移動させる移動部と、露光ヘッドを備え、第１の方向に直交する第２の方向に露光ヘッドを移動させながら、露光位置に配置された基板の露光面を露光する露光部と、露光ヘッドを第２の方向に沿って移動させるために第２の方向に沿って配置されたガイドが設けられたベース部材と、ベース部材に取り付けられた基準プレートであって、基板を、露光位置としての、基準プレートの内部の位置に挿入可能なフレーム形状を有する基準プレートと、を備える。かかる露光装置において、移動部は、基板保持部が第１の方向に沿って移動可能に構成される。基板保持部は、基板が変位可能な状態で、基板を保持する。基準プレートには、相互に嵌合する一対の位置決め構成の一方が形成される。基板保持部のうちの、基板保持部に保持された基板よりも外側の位置には、位置決め構成の他方が形成される。基準プレートおよび基板保持部に形成された一対の位置決め構成が嵌合した状態で、基板は、露光位置に配置される。

かかる形態の露光装置によれば、移動部が、精度良く基板保持部を移動させる機構でなくても、第１の方向に直交する面における基板の位置が正確に位置決めされる。したがって、第１３の形態と同様の効果を奏する。

本発明の実施例としての露光装置２０の全体構成を示す説明図である。露光装置２０のうちの露光部１１０の周辺の構成を示す説明図である。第１の移動部５０ａの構成を示す説明図である。基板を第１の露光位置Ｐ２１に配置する動作を示す説明図である。露光装置２０の動作の流れを示す説明図である。露光装置２０の動作の流れを示す説明図である。露光装置２０の動作の流れを示すタイミングチャート図である。第２実施例としての露光装置２２０の構成を示す説明図である。露光装置２２０を水平方向から見た説明図である。

Ａ．第１実施例：
図１は、本発明の実施例としての露光装置２０の全体構成を示す。露光装置２０は、表面に感光層を有する基板の露光面に対し、電気回路などの２次元パターンを表す露光データに基づいて、露光を行うことによって、当該パターンを基板上に形成する。本実施例では、露光装置２０は、基板の両面に対してパターンを形成する。図１に示すように、露光装置２０は、第１の搬送部３０、第２の搬送部４０ａ、第３の搬送部４０ｂ、第１の移動部５０ａ、第２の移動部５０ｂ、ベース部材８０、基準プレート９０ａ，９０ｂ、検出部１００ａ，１００ｂ、露光部１１０を備えている。

本願では、基板の表面を露光するための専用の構成には、符号の末尾に「ａ」を付している。また、基板の裏面を露光するための専用の構成には、符号の末尾に「ｂ」を付している。一方、表面の露光および裏面の露光に共通する構成には、「ａ」および「ｂ」を付していない。つまり、図１では、第２の搬送部４０ａ、第１の移動部５０ａ、基準プレート９０ａおよび検出部１００ａは、表面の露光用の構成である。第３の搬送部４０ｂ、第２の移動部５０ｂ、基準プレート９０ｂおよび検出部１００ｂは、裏面露光用の構成である。また、第１の搬送部３０、ベース部材８０および露光部１１０は、共通の構成である。以下では、表面を露光するための専用の構成を表面処理系列とも呼び、基板の裏面を露光するための専用の構成を裏面処理系列とも呼ぶ。

第１の搬送部３０は、基板を露光処理の流れに沿って、基板を一定の方向に搬送する。本実施例では、第１の搬送部３０は、移動ステージ３１〜３４と、ガイドレール３６とを備えている。移動ステージ３１〜３４は、基板が載置された状態でガイドレール３６上を移動可能に構成される。移動ステージ３１〜３４の、基板の載置面には、微細な貫通穴が形成されている。この貫通穴を介して、載置面の反対側に向かって吸引が行われることにより、載置された基板は、載置面上に固定的に保持される。

第１の搬送部３０の搬送経路の途中には、第２の搬送部４０ａと、第３の搬送部４０ｂとが設置されている。移動ステージ３１は、未処理の基板Ｓ１を第２の搬送部４０ａの設置位置まで搬送する。第２の搬送部４０ａの設置位置では、基板Ｓ１が、移動ステージ３１から第２の搬送部４０ａに載せ替えられるとともに、表面のみが露光された基板Ｓ４が、第２の搬送部４０ａから移動ステージ３２に載せ替えられる。

移動ステージ３２に載置された基板は、第２の搬送部４０ａの設置位置と、第３の搬送部４０ｂの設置位置との間で、移動ステージ３３に載せ替えられる。この際、基板は、裏表が反転される。具体的には、移動ステージ３２，３３の載置面は、相互に向かい合う方向側を軸として、反対側が上方に回転可能に構成されている。移動ステージ３２，３３の載置面が９０°回転し、基板Ｓ４を間に挟んで向かい合って接触した状態において、移動ステージ３３において吸引が行われ、かつ、移動ステージ３２において吸引が解除されることにより、基板Ｓ４は、移動ステージ３２から移動ステージ３３に載せ替えられる。かかる移動ステージ３２および移動ステージ３３は、基板の表裏を反転させる反転装置３５として機能する。

移動ステージ３３は、反転された基板Ｓ４を、第３の搬送部４０ｂの設置位置まで搬送する。第３の搬送部４０ｂの設置位置では、基板Ｓ４が、移動ステージ３３から第３の搬送部４０ｂに載せ替えられるとともに、表面に次いで裏面が露光された基板Ｓ６が、第３の搬送部４０ｂから移動ステージ３４に載せ替えられる。なお、図１では、移動ステージ３３から第３の搬送部４０ｂに基板Ｓ４を載せ替えるためのスペースの分だけ、移動ステージ３４が下流側に退避した状態を示している。

第２の搬送部４０ａおよび第３の搬送部４０ｂは、同一の構成を有している。このため、以下では、第２の搬送部４０ａについてのみ説明する。第２の搬送部４０ａは、吸着機構４１ａと、ガイドレール４２ａとを備えている。吸着機構４１ａは、ガイドレール４２ａに沿って、第１の移動部５０ａの設置位置まで移動可能に構成される。また、吸着機構４１ａは、ガイドレール４２ａが延びる方向と直交し、水平方向に平行な方向を回転軸として、回転可能に構成される。また、吸着機構４１ａは、当該回転軸が上方に回動可能に構成される。

かかる第２の搬送部４０ａは、最も第１の搬送部３０側に移動した状態で、吸着機構４１ａの直下に停止した移動ステージ３１上の基板Ｓ１を吸着する。次に、第２の搬送部４０ａは、吸着機構４１ａを第１の移動部５０ａの方向に移動しながら、回転軸を上方に回動させつつ、基板Ｓ1が第１の移動部５０ａの方向を向くように吸着機構４１ａを回転させる。そして、第２の搬送部４０ａは、吸着機構４１ａが最も第１の移動部５０ａに近づいた状態において、鉛直方向に立てられた基板Ｓ１を第１の移動部５０ａに引き渡す。図１では、第３の搬送部４０ｂが、基板Ｓ５を第２の移動部５０ｂに引き渡している状態を示している。

かかる第２の搬送部４０ａは、上述した動作と逆の動作を行うことによって、表面が露光された基板Ｓ１を、第１の移動部５０ａから引き受け、移動ステージ３２に載せ替える。

第１の移動部５０ａおよび第２の移動部５０ｂは、同一の構成を有している。このため、以下では、主に、第１の移動部５０ａについてのみ説明する。第１の移動部５０ａは、第１の移動部第１系列６０ａと第１の移動部第２系列７０ａとを備えている。第１の移動部第１系列６０ａおよび第１の移動部第２系列７０ａは、二重化された構成であり、同一の機能を有している。

第１の移動部第１系列６０ａは、第１の基板保持部６８ａを備えている。第１の基板保持部６８ａは、基板を直接的に保持する保持部材６２ａと、保持部材６２ａを保持し、鉛直方向の両端側が、保持部材６２ａよりも大きく形成されたベース部材６１ａとを備えている。ベース部材６１ａおよび保持部材６２ａは、平板形状を有している。ベース部材６１ａのうちの保持部材６２ａよりも外側の部位には、２つの凹部６３ａが形成されている。かかる第１の移動部第１系列６０ａが、第２の搬送部４０ａとの間で、基板の受け渡しを行う位置を、第１の待機位置Ｐ１１とも呼ぶ。第１の移動部第１系列６０ａと第１の移動部第２系列７０ａとは、いずれも同一の第１の待機位置Ｐ１１で、基板の受け渡しを行う。同様に、第２の移動部５０ｂは、第２の待機位置Ｐ１２で、基板の受け渡しを行う。

第１の移動部第１系列６０ａは、第１の待機位置Ｐ１１と第１の露光位置Ｐ２１との間で、第１の基板保持部６８ａを移動させる。第１の露光位置Ｐ２１は、基板の表面の露光が行われる位置であり、その詳細は後述する。本実施例では、第１の基板保持部６８ａの移動方向は、第１の方向Ｄ１に沿った方向（第１の方向Ｄ１、または、第１の方向Ｄ１と反対の方向）および第２の方向Ｄ２である。第１の方向Ｄ１とは、第１の露光位置Ｐ２１に配置された基板の露光面が向く方向である。本実施例では、基板は、その露光面が水平方向（重力方向と直交する方向）を向くように第１の露光位置Ｐ２１に配置される。第２の方向Ｄ２は、第１の方向Ｄ１と直交する方向である。第２の方向Ｄ２は、本実施例では、水平方向に平行な方向である。第１の移動部第２系列７０ａについても、第１の移動部第１系列６０ａと同様の動作が可能である。

同様に、第２の移動部５０ｂは、第２の移動部第１系列６０ｂ（図１では図示していない）および第２の移動部第２系列７０ｂを備えている。第２の移動部第１系列６０ｂは、第２の待機位置Ｐ１２と第２の露光位置Ｐ２２との間で、第２の基板保持部６８ｂを移動させる。第２の露光位置Ｐ２２は、基板の裏面の露光が行われる位置であり、その詳細は後述する。同様に、第２の移動部第２系列７０ｂは、第２の待機位置Ｐ１２と第２の露光位置Ｐ２２との間で、第２の基板保持部６８ｂを移動させる。かかる第２の移動部５０ｂは、第１の移動部５０ａと左右対称の動作が可能である。

ベース部材８０は、略矩形に形成された基部８１と、基部８１のうちの第１の方向Ｄ１側に形成されたガイド部８２と、第１の方向Ｄ１と反対側に形成された壁部８３とを備えている。ガイド部８２は、第２の方向Ｄ２に沿って延びて形成されている。ガイド部８２の上部には、その両側が第１の方向Ｄ１に沿った方向に突出した凸部が形成されている。この凸部は、後述する検出部１００ａ，１００ｂおよび露光部１１０が第２の方向Ｄ２に移動するためのガイドとして機能する。壁部８３は、略矩形のフレーム形状に形成されている。壁部８３の内部には、第１の方向Ｄ１に貫通する、略矩形の貫通穴が形成されている。

図２は、図１に示した露光装置２０のうちの、露光部１１０の周辺の拡大図である。基準プレート９０ａ，９０ｂ、検出部１００ａ，１００ｂ、および露光部１１０については、図２を用いて以下に説明する。２つの基準プレート９０ａ，９０ｂは、略矩形のフレーム形状に形成されている。基準プレート９０ａ，９０ｂの内部には、第１の方向Ｄ１に貫通する、略矩形の貫通穴９１ａ，９１ｂが形成されている。基準プレート９０ａ，９０ｂは、その高さが壁部８３の貫通穴の高さに略等しく形成されている。かかる基準プレート９０ａ，９０ｂは、壁部８３の貫通穴に嵌めこまれた状態で、壁部８３に強固に固定されている。

この基準プレート９０ａ，９０ｂは、第１の方向Ｄ１に直交する面上に、第２の方向Ｄ２に並んで配置されている。本実施例では、基準プレート９０ａ，９０ｂは、わずかに離間して配置されている。基準プレート９０ａと基準プレート９０ｂとの離間距離は、貫通穴９１ａと貫通穴９１ｂとの間の、貫通穴が形成されていない領域の幅が、後述する露光部１１０の幅以上となる条件を満たすように設定される。本実施例では、当該離間距離は、この条件を満たす最小値に設定されている。この条件を満たすのであれば、基準プレート９０ａ，９０ｂは、離間せずに、相互に接して配置されていてもよい。この場合、基準プレートは、２つの貫通穴が形成された１つのプレートとして構成されてもよい。

基準プレート９０ａのうちの、第１の方向Ｄ１に直交する面の下部には、２つのエアシリンダ９２ａが設けられている。基準プレート９０ｂについても、同様に、２つのエアシリンダ９２ｂが設けられている。エアシリンダ９２ａ，９２ｂの役割は、後述する。

検出部１００ａおよび検出部１００ｂは、同一の構成を有している。このため、以下では、検出部１００ａについてのみ説明する。検出部１００ａは、第１の露光位置Ｐ２１における基板の、第１の方向Ｄ１に直交する面上での位置および形状を検出する。この検出部１００ａは、カメラ１０１ａ、支持部材１０２ａ、壁部１０３ａおよび移動体１０４ａを備えている。カメラ１０１ａは、基板上の所定位置に付された、位置合わせマークやパターンを光学的に読み取ることによって、読み取ったマーク等の座標位置に基づいて、第１の露光位置Ｐ２１に配置された基板の形状および配置位置を検出する（かかる動作を、以下では、基板計測とも呼ぶ）。支持部材１０２ａは、カメラ１０１ａを支持する。壁部１０３ａは、鉛直方向に延びて形成され、支持部材１０２ａを鉛直方向に移動可能に支持する。移動体１０４ａは、その上面で壁部１０３ａを支持し、ガイド部８２に沿って、第２の方向Ｄ２に移動する。つまり、本実施例の検出部１００ａは、カメラ１０１ａを鉛直方向および水平方向に移動可能に構成される。なお、検出部１００ａは、基板の位置と形状の少なくとも一方を検出するものであってもよい。また、本実施例では、カメラ１０１ａは１つであるが、検出部１００ａは、２以上のカメラを備えていてもよい。さらに、露光装置２０は、１つの露光位置に対して、２以上の検出部を備えていてもよい。こうすれば、同時に複数のマーク等を読み取って、多数のマークに基づいて検出を行うことができるので、生産性を損なうことなく、形状認識精度を向上できる。

露光部１１０は、露光ヘッド１１１、支持部１１２および移動体１１３を備えている。露光ヘッド１１１は、レーザ光源と、光ビームを偏向走査するポリゴンミラーとを有する複数の露光ユニットを備えている。支持部１１２は、鉛直方向に延びて形成され、第１の露光位置Ｐ２１に配置された基板の露光面の高さ全体にわたって配列された複数の露光ユニット、つまり、露光ヘッド１１１を支持する。移動体１１３は、その上面で支持部１１２を支持し、ガイド部８２に沿って、第２の方向Ｄ２に移動する。つまり、露光部１１０は、第２の方向Ｄ２に沿って移動可能によって、第１の露光位置Ｐ２１に配置された基板と、第２の露光位置Ｐ２２に配置された基板とを選択的に露光可能に構成される。なお、露光処理においては、露光ヘッドと基板との距離を一定に保つことが重要であり、露光部１１０は、第１の方向Ｄ１にぶれることなく精度良く移動することが望ましい。このため、露光部１１０は、強固な構造体としてのベース部材８０の一部としてのガイド部８２に沿って移動する構成とされている。

かかる露光部１１０の動作は、露光データを扱う画像処理ユニット（図示省略）によって制御される。この画像処理ユニットは、検出部１００ａ，１００ｂの検出結果に応じて露光データを補正し、補正データに基づいて、露光部１１０を制御する。そして、露光部１１０は、基準プレート９０ａ，９０ｂによって規定される、第２の方向Ｄ２における第１の露光位置Ｐ２１と第２の露光位置Ｐ２２との間の位置（以下、ホームポジションＨＰとも呼ぶ）から、検出部１００ａ，１００ｂのうちのいずれかの方向に移動しながら、補正データに基づく基板上の所要箇所に光ビームを照射する。

以上の説明からも明らかなように、本実施例では、検出部１００ａ，１００ｂおよび露光部１１０を移動させるためのガイド（ガイド部８２）が共通化されている。このため、露光装置２０を小型化できる。これらの駆動源としては、例えば、移動精度が高いリニアモータを利用できる。

図３は、第１の移動部５０ａの構成を示す。図３では、露光装置２０を、第２の移動部５０ｂから第１の移動部５０ａに向かう方向に見た状態を示している。ベース部材８０および基準プレート９０ａは、断面として示している。また、第１の搬送部３０、第３の搬送部４０ｂ、第２の移動部５０ｂ、検出部１００ａ，１００ｂは、図示を省略している。第１の移動部５０ａは、上述した第１の移動部第１系列６０ａおよび第１の移動部第２系列７０ａを備えている。第１の移動部第１系列６０ａと第１の移動部第２系列７０ａとは、同一の構成を有しており、上下に対称に配置されている。このため、以下では、第１の移動部第１系列６０ａについてのみ説明する。

第１の移動部第１系列６０ａは、上述した第１の基板保持部６８ａ（ベース部材６１ａおよび保持部材６２ａ）のほかに、支持部材６４ａ、バネ６５ａ、前後移動機構６６ａ、左右移動機構６７ａを備えている。支持部材６４ａは、弾性部材（ここではバネ）を介して、第１の基板保持部６８ａを支持する。具体的には、支持部材６４ａは、第１の基板保持部６８ａ側の面の上側および下側に設けられたバネ６５ａを介して、第１の基板保持部６８ａを主に水平方向（重力方向と直交する方向）に支持する。バネ６５ａの両端は、鉛直方向における同一の位置で、第１の基板保持部６８ａ（ベース部材６１ａ）と支持部材６４ａとに固定されている。また、図示は省略するが、支持部材６４ａは、吊りバネを介して、第１の基板保持部６８ａを鉛直方向に支持する。吊りバネの一端は、支持部材６４ａに固定され、他端は、一端よりも下方側でベース部材６１ａに固定されている。かかる構成によって、第１の基板保持部６８ａは、変位可能な状態で、つまり、位置に所定程度の自由度を有するフローティング状態で、支持部材６４ａに支持される。第１の基板保持部６８ａの変位は、バネの変位に起因し、その変位量は、わずかである。第１の基板保持部６８ａに保持される基板も、当然、フローティング状態で保持されることとなる。

前後移動機構６６ａは、第１の基板保持部６８ａを支持する支持部材６４ａを、第１の方向Ｄ１に沿った方向に前後移動させる。本実施例では、前後移動機構６６ａは、駆動機構として、ボールねじとモータとを備える。第１の基板保持部６８ａおよび支持部材６４ａの可動範囲は、第１の基板保持部６８ａが保持する基板を第１の露光位置Ｐ２１に配置可能となる位置を含む。また、当該可動範囲は、第１の基板保持部６８ａおよび支持部材６４ａが、第１の移動部第２系列７０ａの第１の基板保持部７８ａおよび支持部材７４ａと、干渉することなく第２の方向Ｄ２に交差可能となるように設定される。本実施例では、支持部材６４ａは、略Ｌ字状に形成されている。このため、両者が干渉しにくくなり、可動範囲を小さく設定できる。つまり、露光装置２０を小型化できる。左右移動機構６７ａは、第２の方向Ｄ２に延びて形成されたガイドに沿って、第１の基板保持部６８ａを支持する支持部材６４ａおよび前後移動機構６６ａを第２の方向Ｄ２に方向に左右移動させる。本実施例では、左右移動機構６７ａは、駆動機構として、ベルト、プーリおよびモータを備える。

基準プレート９０ａにおいて、エアシリンダ９２ａの設置位置の裏側には、当該裏側の面から位置決めピン９３ａが突出している。この位置決めピン９３ａは、ベース部材６１ａに構成された凹部６３ａとともに、位置決め構成として機能する。

本実施例においては、位置決めピン９３ａは、エアシリンダ９２ａによって、第１の方向Ｄ１に沿った方向に往復動可能に構成されている。このため、位置決めピン９３ａは、基準プレート９０ａの裏面よりも表側に収容される位置まで移動可能である。位置決めピン９３ａを基準プレート９０ａ内に収容した状態で、支持部材６４ａと支持部材７４ａとが第２の方向Ｄ２に交差する動作を行えば、第１の基板保持部６８ａが位置決めピン９３ａと干渉しにくくなるので、前後移動機構６６ａの可動範囲を小さくできる。

図４は、基板Ｓ３を第１の露光位置Ｐ２１に配置する動作を示す。図４では、第１の移動部第２系列７０ａが、基板Ｓ３を第１の露光位置Ｐ２１に移動させるものとして説明する。図４（Ａ）は、第１の基板保持部７８ａが、第２の方向Ｄ２に沿って、第１の待機位置Ｐ１１から基準プレート９０ａの背面まで移動した状態を示す。このとき、基板Ｓ３の位置は、基準プレート９０ａの貫通穴９１ａの、第１の方向Ｄ１と反対方向への投射範囲内に位置している。なお、この時点では、基板Ｓ３の位置に対して、高度な精度は求められない。

図４（Ｂ）は、第１の基板保持部７８ａが、図４（Ａ）に示した位置から、第１の露光位置Ｐ２１に基板が配置される位置まで移動した状態を示す。図示するように、第１の基板保持部７８ａは、保持部材７２ａの基板を保持している面側の平坦面と、基準プレート９０ａとが、保持部材７２ａに保持された基板Ｓ３の外周で接触するまで、第１の方向Ｄ１に移動している。本実施例では、保持部材７２ａと基準プレート９０ｂとは、基板Ｓ３の外周をすべて囲むように接触する。

ただし、接触の態様は、本実施例の態様に限らず、基準プレート９０ａの所定部位と、第１の基板保持部７８ａとが、基板Ｓ３の外周で接触するものであればよい。例えば、基準プレート９０ａに、保持部材７２ａ側に向かって同一の突出高さで突出する複数（例えば、３つ）の突出部が形成され、当該突出部が、保持部材７２ａの基板を保持している面側の平坦面と基板Ｓ３の外周で接触してもよい。かかる突出部は、基準プレート９０ａに代えて、保持部材７２ａに形成されていてもよい。あるいは、基準プレート９０ａと保持部材７２ａとの両方に突出部が形成され、これらが相互に接触してもよい。このように、基準プレート９０ａと第１の基板保持部７８ａとは、基板Ｓ３の外周に沿って、離間した複数箇所で接触していてもよい。かかる場合、接触箇所は、基板Ｓ３の外周に沿って、分散配置されていることが望ましい。

かかる接触状態において、基板Ｓ３は、基準プレート９０ａの貫通穴９１ａの内部に位置している。基板Ｓ３が配置されたこの位置が第１の露光位置Ｐ２１である。第１の露光位置Ｐ２１では、基準プレート９０ａと第１の基板保持部６８ａ（より具体的には、保持部材７２ａ）とが接触していることから、第１の露光位置Ｐ２１において、露光ヘッド１１１に対し、基板Ｓ３を保持する第１の基板保持部６８ａをＤ１方向に精度良く、所定の位置に配置される。

また、第１の基板保持部７８ａが第１の方向Ｄ１に移動する際には、位置決めピン９３ａが第１の方向Ｄ１と反対の方向に延びて、凹部７３ａと嵌合する。このため、第１の方向Ｄ１に直交する面方向における基板Ｓ３の位置が正確に位置決めされる。本実施例では、凹部７３ａの外縁は、面取り形状を有している。このため、位置決めピン９３ａを凹部７３ａの内部に導きやすくなっている。

かかる構成によれば、第１の移動部５０ａが、精度良く第１の移動部第１系列６０ａおよび第１の移動部第２系列７０ａを移動させる機構でなくても、露光ヘッド１１１に対して、第１の露光位置Ｐ２１において基板を保持する第１の基板保持部６８ａ（より具体的には、保持部材６２ａ，７２ａ）をＤ１に直交する面方向に精度良く、所定の位置に配置することができる。その結果、コストを低減できる。また、支持部材６４ａ，７４ａおよび第１の基板保持部６８ａ，７８ａを軽量化できるので、基板の搬送速度を増大させることが可能となり、生産性が向上する。しかも、第１の移動部５０ａの高度な移動精度を確保するための、強固な基礎構造が必要なくなり、露光装置２０を小型化できるとともに、コストを低減できる。

図５および図６は、露光装置２０の動作の流れを示す。図５（Ａ）は、初期状態の露光装置２０の状態を示す。図５および図６において、第２の方向Ｄ２のうちの、露光部１１０から検出部１００ａに向かう方向を第３の方向Ｄ３とも呼び、検出部１００ａから検出部１００ｂに向かう方向を第４の方向Ｄ４とも呼ぶ。

露光装置２０における動作が開始されると、まず、図５（Ｂ）に示すように、基準プレート９０ａに対して、露光部１１０と反対側に退避していた検出部１００ａは、第４の方向Ｄ４に移動する。この動作は、基板の所定箇所に付された位置合わせマークの位置まで検出部１００ａを事前に移動させておく動作である。本実施例では、位置合わせマークは、基板の４隅付近に付されている。次に、図５（Ｃ）に示すように、第２の搬送部４０ａおよび第１の移動部５０ａを介して、基準プレート９０ａの内部（第１の露光位置Ｐ２１）に基板Ｓ１が配置される。基板Ｓ１が配置されると、検出部１００ａは、図５（Ｃ）に示す位置、すなわち、基板の４隅付近の位置マークのうちの２つが付された第２の方向Ｄ２の位置で、位置合わせマークの検出を行う。本実施例では、検出部１００ａは、カメラ１０１ａを鉛直方向に移動させることによって、２つの位置合わせマークの検出を行う。上述したように、検出部１００ａが、基板の位置合わせマークの位置まで事前に移動しておくことによって、基板Ｓ１の配置後、無駄なく速やかに位置合わせマークの検出を行える。

次に、図５（Ｄ）に示すように、検出部１００ａは、第３の方向Ｄ３に移動して、基板Ｓ１に付された、残り２つの位置合わせマークの検出を行う。この検出結果に基づいて、露光データは補正され、補正データが生成される。次に、図５（Ｅ）に示すように、露光部１１０が、ホームポジションＨＰから第３の方向Ｄ３に向かって走査して、補正データに基づいて、基板Ｓ１の露光面を露光する。露光時には、検出部１００ａは、図５（Ａ）に示した初期位置まで退避する。露光が終了すると、露光部１１０は、ホームポジションＨＰまで戻る。また、露光された基板Ｓ１は、第１の待機位置Ｐ１１に移動される。この移動動作は、基板Ｓ１の露光時間中に第１の待機位置Ｐ１１に配置された基板Ｓ２を第１の露光位置Ｐ２１に移動させる動作と同時に行われる。つまり、基板Ｓ１と基板Ｓ２とは、第２の方向Ｄ２に交差するように移動される。

かかる図５（Ａ）〜図５（Ｅ）の動作は、第１の露光位置Ｐ２１で表面を露光された基板Ｓ１が、第２の搬送部４０ａ、第１の搬送部３０および第３の搬送部４０ｂを介して第２の待機位置Ｐ１２に配置されるまで、繰り返される。本実施例では、第１の露光位置Ｐ２１における２回の露光動作の間に、基板Ｓ１は、第２の待機位置Ｐ１２に配置される。

図６（Ｆ）は、第１の露光位置Ｐ２１において、基板Ｓ１，Ｓ２の露光が終了し、次いで、基板Ｓ３が第１の露光位置Ｐ２１に配置された状態を示す。露光部１１０は、ホームポジションＨＰに戻っている。このとき、第２の待機位置Ｐ１２には、最初に露光された基板Ｓ１が第２の待機位置Ｐ１２に配置されている。このため、基準プレート９０ｂに対して、露光部１１０と反対側に位置していた検出部１００ｂは、第４の方向Ｄ４に移動し、ホームポジションＨＰの付近に待機している。この待機位置は、上述したように、第２の露光位置Ｐ２２に配置された基板の２つの位置合わせマークを検出可能な位置である。

次に、図６（Ｇ）に示すように、露光部１１０が、ホームポジションＨＰから第３の方向Ｄ３に向かって走査して、基板Ｓ３の露光面を露光する。この露光動作の間に、第２の待機位置Ｐ１２に配置されていた基板Ｓ１は、第２の露光位置Ｐ２２に配置される。このとき、検出部１００ｂは、基板Ｓ１の２つの位置合わせマークの検出を行う。次に、図６（Ｈ）に示すように、検出部１００ｂは、第４の方向Ｄ４に移動して、基板Ｓ１について、残りの２つの位置合わせマークの検出を行う。この検出と、当該検出結果に基づく補正データの生成とは、図６（Ｇ）に示した基板Ｓ３の露光が終了するまでの期間に行われる。

基板Ｓ３の露光が終了すると、図６（Ｉ）に示すように、露光部１１０は、ホームポジションＨＰまで戻る。検出部１００ｂは、図５（Ａ）に示した位置に退避する。また、露光された基板Ｓ３は、第１の露光位置Ｐ２１から第１の待機位置Ｐ１１に移動され、代わりに、未処理の基板Ｓ４が、第１の待機位置Ｐ１１から第１の露光位置Ｐ２１に移動される。図６（Ｉ）では、基板Ｓ３が第１の露光位置Ｐ２１から移動された直後の状態を示している。

次に、図６（Ｊ）に示すように、露光部１１０が、ホームポジションＨＰから第４の方向Ｄ４に向かって走査して、基板Ｓ１の露光面（裏面）を露光する。この露光動作の間に、第１の待機位置Ｐ１１に配置されていた基板Ｓ４は、第１の露光位置Ｐ２１に配置されている。このとき、検出部１００ａは、基板Ｓ４の２つの位置合わせマークの検出を行う。そして、図６（Ｋ）に示すように、基板Ｓ１の露光が終了するまでの間に、検出部１００ａは、第４の方向Ｄ４に移動して、基板Ｓ４について、残りの２つの位置合わせマークの検出を終了する。当該検出結果に基づく補正データの生成も、基板Ｓ１の露光が終了するまでの間に行われる。

そして、基板Ｓ１の露光が終了すると、図６（Ｌ）に示すように、露光部１１０は、ホームポジションＨＰに戻る。また、第２の露光位置Ｐ２２に配置された基板Ｓ１は、第２の露光位置Ｐ２２から第２の待機位置Ｐ１２に移動される。

かかる図６（Ｆ）〜図６（Ｌ）の動作が繰り返されることによって、露光装置２０に供給される基板は、その表面と裏面との両方が、一連の流れの中で、１つの露光部１１０によって露光処理される。かかる１サイクルの間、露光部１１０は、基準プレート９０ａと基準プレート９０ｂとの間を往復移動し続ける。

図７は、図６（Ｆ）〜図６（Ｌ）に示した露光装置２０の動作の１サイクルについてのタイミングチャートである。図示するように、露光装置２０では、表面処理系列の第１の露光位置Ｐ２１で、第１の移動部第１系列６０ａが扱う基板に対して露光処理が行われる間（期間Ｔ１１，Ｔ１２）に、裏面処理系列において、第２の待機位置Ｐ１２から第２の露光位置Ｐ２２への未処理の基板の移動（期間Ｔ１１）と、第２の露光位置Ｐ２２から第２の待機位置Ｐ１２への処理済みの基板の移動（期間Ｔ１１）と、第２の露光位置Ｐ２２に新たに設置された、すなわち、次の露光工程で露光される基板についての基板計測（期間Ｔ１２）とが行われる。また、表面処理系列の第１の移動部第１系列６０ａが扱う基板の基板計測（期間Ｔ４２）と、露光部１１０のホームポジションＨＰへの移動（期間Ｔ４３）と、露光（期間Ｔ１１，１２）と、次の露光部１１０のホームポジションＨＰへの移動（期間Ｔ１３）とを行う期間内に、第１の移動部第２系列７０ａが扱う処理済みの基板についての第１の待機位置Ｐ１１から第１の搬送部３０への移動と、未処理の基板についての第１の搬送部３０から第１の待機位置Ｐ１１への移動とを行う入れ替え動作を行うことができる。検出部１００ａ，１１０ｂの退避動作は、露光部１１０のホームポジションＨＰへの移動動作と同一期間内に行われる（期間Ｔ１３，Ｔ２３，Ｔ３３，Ｔ４３）。また、図示は省略したが、基板計測に基づく露光データの補正は、露光部１１０のホームポジションＨＰへの移動動作と同一期間内に行われる。これらの点は、表面処理系列の第２の移動部第１系列６０ｂ、裏面処理系列の第２の移動部第１系列６０ｂ、第２の移動部第２系列７０ｂが各々扱う基板のいずれに着目しても同様である。

このように、露光装置２０は、露光処理後に露光部１１０をホームポジションＨＰに戻すのに要する以外の全期間において、露光処理を行うことができる。１つの基板に対する露光処理は、例えば、１２秒とすることができる。露光部１１０のホームポジションＨＰへの移動は、１回につき、例えば、２秒とすることができる。この場合、全工程の時間における露光処理が占める時間の割合は、約８６％にも及ぶ。

以上説明した露光装置２０によれば、第１の露光位置Ｐ２１と第２の露光位置Ｐ２２との間で交互に露光を行うことができる。したがって、一方の露光位置で露光を行っている時間を、他方の露光位置で既に露光された基板を排出するとともに、新たな基板を他方の露光位置に配置するための時間に割り当てることができる。このため、基板の生産性を向上できる。しかも、露光装置２０によれば、第１の露光位置Ｐ２１について、露光済みの基板の第１の露光位置Ｐ２１からの排出と、新たな基板の第１の露光位置Ｐ２１への配置とを同時に行うことができる。したがって、露光以外に要する時間が極めて短くなり、生産性を大幅に向上できる。また、１つの露光部１１０によって基板の両面を自動的に露光できるので、装置の低コスト化および小型化に資する。

Ｂ．第２実施例：
図８は、第２実施例としての露光装置２２０の構成を示す斜視図である。図９は、露光装置２２０を正面から見た状態を示す。第２実施例としての露光装置２２０は、基板が、その露光面が鉛直方向上方を向くように、第１の露光位置Ｐ２１および第２の露光位置Ｐ２２に配置される点と、それに付随する点とが、第１実施例の露光装置２０と異なる。以下では、第１実施例と異なる点についてのみ説明する。なお、図８および図９では、露光装置２２０の各構成要素には、第１実施例としての露光装置２０の各構成要素に付した符号を下二桁に含む符号を付して、説明を省略、または、簡略化する。

図８に示すように、露光装置２２０は、ベース部材２８０の上面に沿って移動する露光部３１０および検出部３００ａ，３００ｂを備えている。ベース部材２８０の内部には、基準プレート２９０ａ，２９０ｂが、第１の方向Ｄ１（鉛直方向上方を向く方向）を向いて、露光部３１０の移動方向に沿って並んで配置されている。基準プレート２９０ａ，２９０ｂの下方には、第１の移動部２５０ａおよび第２の移動部２５０ｂが配置される。第１の移動部２５０ａは、二重化された第１の移動部第１系列２６０ａおよび第１の移動部第２系列２７０ａを備えている。

第１の移動部第１系列２６０ａの支持部材２６４ａは、第２の方向Ｄ２（露光部３１０の移動方向と直交する方向）に延びて形成された左右移動機構２６７ａ，２７７ａの内側に、第１の基板保持部２６８ａが位置する状態で、第１の基板保持部２６８ａを支持する。第１の基板保持部２６８ａは、左右移動機構２６７ａによって、ベース部材２８０の内部と外部との間を、ベース部材２８０に形成された開口部を介して、第２の方向Ｄ２に移動可能に構成される。また、第１の基板保持部２６８ａは、前後移動機構２６６ａによって、第１の方向Ｄ１に沿った方向に移動可能に構成される。かかる構成によって、第１の基板保持部２６８ａは、第１の待機位置Ｐ１１と第１の露光位置Ｐ２１との間で移動可能に構成される。第１の移動部第２系列２７０ａは、第１の移動部第１系列２６０ａと同様の構成を備える。また、第２の移動部２５０ｂは、第１の移動部２５０ａと同様の構成を備える。

図９に示すように、第１の基板保持部２６８ａと第１の基板保持部２７８ａとは、鉛直方向の異なる位置に配置可能であるため、水平方向に交差するように同時に反対方向に移動することができる。

かかる露光装置２２０では、図８に示すように、吸着機構（図示省略）によって、基板Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４の位置の順に基板が載せ替えられて搬送される。つまり、露光装置２２０においては、第１実施例のガイドレール４２ａ，４２ｂに相当する構成を省略可能である。このため、露光装置２２０を小型化できる。

Ｃ．変形例：
Ｃ−１．変形例１：
露光装置２０は、基板の一方の面のみを露光する装置であってもよい。この場合、露光装置２０は、第１の露光位置Ｐ２１および第２の露光位置Ｐ２２で露光された基板を、それぞれ独立して排出する２つの搬送経路を有していてもよい。

Ｃ−２．変形例２：
露光装置２０における基板の搬送方向は、適宜設定可能である。例えば、第１の移動部５０ａが二重化されていない場合には、第１の移動部５０ａは、第１の方向Ｄ１に沿った方向のみに基板を搬送可能に構成されてもよい。この場合、第２の搬送部４０ａおよび第３の搬送部４０ｂを省略してもよい。例えば、第１の方向Ｄ１に交差する方向に沿って基板を搬送する第１の搬送部３０が基準プレート９０ａの背面側に設置され、吸着機構によって、第１の搬送部３０から、第１の搬送部３０の近傍、かつ、基準プレート９０ａの背面に設定された第１の待機位置Ｐ１１に基板を載せ替えてもよい。かかる構成によれば、第１の移動部５０ａは、第１の待機位置Ｐ１１から第２の待機位置Ｐ１２まで第１の方向Ｄ１に沿って基板を搬送するだけで、基板を第１の露光位置Ｐ２１に配置できる。

あるいは、第１の移動部５０ａおよび第２の移動部５０ｂが高度な移動精度で移動可能に構成されることによって、第１の露光位置および第２の露光位置において、露光ヘッド１１１に対して、第１の基板保持部６８ａおよび第２の基板保持部６８ｂを、精度良く、所定の位置に配置することができる場合には、第２の搬送部４０ａおよび第３の搬送部４０ｂに加えて、基準プレート９０ａ，９０ｂを省略してもよい。この場合、第１の基板保持部６８ａおよび第２の基板保持部６８ｂを第１の方向Ｄ１に移動させることによって、第１の露光位置Ｐ２１および第２の露光位置Ｐ２２に配置する必要が必ずしもない。このため、基板は、第２の方向Ｄ２のみに搬送されて、第１の待機位置Ｐ１１または第２の待機位置Ｐ１２から、これらの待機位置の第２の方向Ｄ２に沿った延長線上に設定された第１の露光位置Ｐ２１または第２の露光位置Ｐ２２に搬送されてもよい。

Ｃ−３．変形例３：
露光装置２０は、露光部１１０と、第１の露光位置Ｐ２１および第２の露光位置Ｐ２２に配置された基板の露光面との距離を測定する測定部を備えていてもよい。かかる測定部は、例えば、レーザ距離計を備えていてもよい。また、露光装置２０は、露光部１１０を第１の方向Ｄ１に沿って移動させる移動部を備えていてもよい。かかる移動部は、例えば、リニア走行機構であってもよい。この移動部は、測定部の測定結果に応じて、露光部１１０と基板の露光面との距離を調節してもよい。かかる構成によれば、平滑では無い基板の露光面に対しても、常に安定して焦点を結ぶことができる。

Ｃ−４．変形例４：
光源からの光を、基板の露光面の任意の領域に選択的に照射する手段は、ポリゴンミラーに限らず、種々の態様で実現可能である。例えば、当該手段は、ＤＭＤ（Digital Mirror Device）であってもよい。また、光源は、レーザ光源に限らず、種々の発光素子を利用可能である。例えば、光源は、ＵＶランプや、ＬＥＤなどであってもよい。

以上、いくつかの実施例に基づいて本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の組み合わせ、または、省略が可能である。

２０，２２０…露光装置
３０…第１の搬送部
３１〜３４…移動ステージ
３５…反転装置
３６…ガイドレール
４０ａ…第２の搬送部
４０ｂ…第３の搬送部
４１ａ，４１ｂ…吸着機構
４２ａ，４２ｂ…ガイドレール
５０ａ，２５０ａ…第１の移動部
５０ｂ，２５０ｂ…第２の移動部
６０ａ，２６０ａ…第１の移動部第１系列
６０ｂ，２６０ｂ…第２の移動部第１系列
７０ａ，２７０ａ…第１の移動部第２系列
７０ｂ，２７０ｂ…第２の移動部第２系列
６１ａ，７１ａ，７１ｂ，２６１ａ，２６１ｂ，２７１ａ，２７１ｂ…ベース部材
６２ａ，７２ａ，７２ｂ，２６２ａ，２６２ｂ，２７２ａ，２７２ｂ…保持部材
６３ａ，７３ａ，７３ｂ，２６３ａ，２６３ｂ，２７３ａ，２７３ｂ…凹部
６４ａ，７４ａ，２６４ａ，２６４ｂ，２７４ａ，２７４ｂ…支持部材
６５ａ，７５ａ，２６５ａ，２６５ｂ，２７５ａ，２７５ｂ…バネ
６６ａ，７６ａ，２６６ａ，２６６ｂ，２７６ａ，２７６ｂ…前後移動機構
６７ａ，７７ａ，２６７ａ，２６７ｂ，２７７ａ，２７７ｂ…左右移動機構
６８ａ，７８ａ，７８ｂ，２６８ａ，２７８ａ…第１の基板保持部
２６８ｂ，２７８ｂ…第２の基板保持部
８０，２８０…ベース部材
８１…基部
８２…ガイド部
８３…壁部
９０ａ，９０ｂ，２９０ａ，２９０ｂ…基準プレート
９１ａ，９１ｂ…貫通穴
９２ａ，９２ｂ…エアシリンダ
９３ａ…位置決めピン
１００ａ，１００ｂ，３００ａ，３００ｂ…検出部
１０１ａ…カメラ
１０２ａ…支持部材
１０３ａ…壁部
１０４ａ…移動体
１１０，３１０…露光部
１１１…露光ヘッド
１１２…支持部
１１３…移動体
Ｓ１〜Ｓ６…基板
Ｐ１１…第１の待機位置
Ｐ１２…第２の待機位置
Ｐ２１…第１の露光位置
Ｐ２２…第２の露光位置
Ｄ１…第１の方向
Ｄ２…第２の方向
Ｄ３…第３の方向
Ｄ４…第４の方向
ＨＰ…ホームポジション

Claims

基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持する第１の基板保持部を備え、第１の待機位置と、前記第１の基板保持部に保持された前記基板の露光面が第１の方向を向いた状態で該基板が配置される第１の露光位置との間で、前記第１の基板保持部を移動させる第１の移動部と、
前記基板を保持する第２の基板保持部を備え、前記第１の待機位置とは異なる第２の待機位置と、第２の露光位置であって、前記第２の基板保持部に保持された前記基板の露光面が、前記第１の方向を向いた状態、かつ、前記第１の露光位置に配置された前記基板の前記露光面と、前記第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、前記第２の基板保持部に保持された前記基板が配置される第２の露光位置との間で、前記第２の基板保持部を移動させる第２の移動部と、
前記第２の方向に沿って配置されたガイドに沿って、前記第１の露光位置と前記第２の露光位置との間を移動可能な露光ヘッドを備え、前記第１の露光位置に配置された前記基板と、前記第２の露光位置に配置された前記基板とを、前記露光ヘッドの前記第２の方向に沿った移動によって、選択的に露光する露光部と、
前記第２の方向に沿って移動可能に構成され、前記第１の露光位置および前記第２の露光位置に配置される前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部と
を備え、
前記露光部は、前記検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、前記露光を行う
露光装置。
請求項１に記載の露光装置であって、
前記第１の移動部および前記第２の移動部の各々は、前記第１の基板保持部または前記第２の基板保持部として、前記第１の方向に沿った方向、および、該第１の方向に交差する方向に移動可能に二重化された２つの基板保持部を備えた
露光装置。
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
前記ガイドは、前記露光ヘッドの前記第２の方向に沿った移動と、前記検出部の前記第２の方向に沿った移動との両方に兼用のガイドとして設けられた
露光装置。
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
さらに、前記基板を搬送する第１の搬送部と、
前記第１の搬送部と前記第１の待機位置との間で前記基板を搬送する第２の搬送部と、
前記第１の搬送部と前記第２の待機位置との間で前記基板を搬送する第３の搬送部と
を備えた露光装置。
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
さらに、前記露光ヘッドと、前記第１の露光位置および前記第２の露光位置に配置された前記基板の前記露光面との距離を測定する測定部と、
前記露光ヘッドを前記第１の方向に沿って移動させる第３の移動部と
を備え、
前記第３の移動部は、前記測定部の測定結果に応じて、前記露光ヘッドと前記露光面との距離を調節する
露光装置。
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記露光ヘッドは、複数の露光ユニットを有する
露光装置。
露光装置によって基板を露光する露光方法であって、
前記基板の露光面が第１の方向を向いた状態で該基板が配置される第１の露光位置と、前記基板の露光面が、前記第１の方向を向いた状態、かつ、前記第１の露光位置に配置された前記基板の前記露光面と、前記第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、前記基板が配置される第２の露光位置とが設定された露光装置であって、前記第１の露光位置と前記第２の露光位置との間を前記第２の方向に沿って移動可能な露光ヘッドを備え、前記第１の露光位置に配置された前記基板と、前記第２の露光位置に配置された前記基板とを、前記露光ヘッドの前記第２の方向に沿った移動によって、選択的に露光する露光装置を用意する第１の工程と、
前記第１の露光位置に配置された第１の基板に対する露光処理が終了するまでに、第１の基板と異なる第２の基板を前記第２の露光位置に配置する第２の工程と、
前記第２の露光位置に配置された前記第２の基板に対する露光処理が終了するまでに、前記第２の基板とは異なる第３の基板を前記第１の露光位置に配置する第３の工程と、
前記第２の方向に沿って移動可能に構成された検出部によって、前記第１の露光位置および前記第２の露光位置に配置される前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する第４の工程と、
前記検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、前記露光を行う第５の工程と
を備えた露光方法。
基板を露光する露光装置であって、
前記基板の露光面が第１の方向を向いた状態で該基板が配置される第１の露光位置に前記基板の露光対象領域を移動させる第１の移動部と、
第２の露光位置であって、前記基板の露光面が、前記第１の方向を向いた状態、かつ、前記第１の露光位置に配置された前記基板の前記露光面と、前記第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、前記基板が配置される第２の露光位置に前記基板の露光対象領域移動させる第２の移動部と、
前記第２の方向に沿って配置されたガイドに沿って、前記第１の露光位置と前記第２の露光位置との間を移動可能な露光ヘッドを備え、前記第１の露光位置に配置された前記基板の露光対象領域と、前記第２の露光位置に配置された前記基板の露光対象領域とを、前記露光ヘッドの前記第２の方向に沿った移動によって、選択的に露光する露光部と、
前記第２の方向に沿って移動可能に構成され、前記第１の露光位置および前記第２の露光位置に配置される前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部と
を備え、
前記露光部は、前記検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、前記露光を行う
露光装置。
基板を露光する露光装置であって、
第１の基板を保持する第１の基板保持部を備え、第１の待機位置と、前記第１の基板保持部に保持された前記第１の基板の露光面が第１の方向を向いた状態で該第１の基板が配置される露光位置との間で、前記第１の基板保持部を移動させる第１の移動部と、
第２の基板を保持する第２の基板保持部を備え、前記第１の待機位置とは異なる第２の待機位置と、前記第２の基板保持部に保持された前記第２の基板の露光面が前記第１の方向を向いた状態で該第２の基板が配置される前記露光位置との間で、前記第２の基板保持部を移動させる第２の移動部と、
前記第１の基板および前記第２の基板を露光する露光ヘッドを備える露光部であって、前記第１の基板と前記露光ヘッドとの間での相対移動によって該第１の基板を露光する処理と、前記第２の基板と前記露光ヘッドとの間での相対移動によって該第２の基板を露光する処理と、を選択的に実施する露光部と、
前記第１の基板および前記第２の基板と前記露光ヘッドとの間での前記相対移動の方向に沿って移動可能に構成され、前記第１の露光位置および前記第２の露光位置に配置される前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部と
を備え、
前記露光部は、前記検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、前記露光を行う
露光装置。
露光装置によって基板を露光する露光方法であって、
第１の基板の露光面が第１の方向を向いた状態で該第１の基板が配置される第１の待機位置と、第２の基板の露光面が、前記第１の方向を向いた状態、かつ、前記第１の待機位置に配置された前記第１の基板の前記露光面と、前記第１の方向と直交する第２の方向に並んだ状態で、前記第２の基板が配置される第２の待機位置と、が設定された露光装置であって、前記第１の基板および前記第２の基板を露光する露光ヘッドを備え、前記第１の基板と前記露光ヘッドとの間での相対移動によって該第１の基板を露光する処理と、前記第２の基板と前記露光ヘッドとの間での相対移動によって該第２の基板を露光する処理と、を選択的に実施する露光装置を用意する第１の工程と、
前記第１の基板に対する露光処理が終了するまでに、前記第２の基板を前記第２の待機位置に配置する第２の工程と、
前記第２の基板に対する露光処理が終了するまでに、第３の基板を前記第１の待機位置に配置する第３の工程と、
前記第１の基板および前記第２の基板と前記露光ヘッドとの間での前記相対移動の方向に沿って移動可能に構成された検出部によって、前記第１の待機位置および前記第２の待機位置に配置される前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する第４の工程と、
前記検出部による検出結果に応じて補正された露光データに基づいて、前記露光を行う第５の工程と
を備えた露光方法。