CN109656104B - 一种基板曝光方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种基板曝光方法及装置,包括:在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板;将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光;将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向,从而使得第一目标基板和第二目标基板能够以相同的接片角度进入到下个制程当中,减少下游设备接片时对角度的调整时间,提高生产效率。
Description
【技术领域】
本申请涉及液晶面板行业,更具体地说,涉及一种基板曝光方法及装置。
【背景技术】
在液晶面板制作工艺中,曝光制程是很重要的一环节,曝光效果的好坏直接影响液晶面板质量。
目前,常见的曝光制程一般采用单线单曝光机完成,比如缓存台按照曝光角度(如0度)承接上游机械手臂传送的玻璃基板进行暂存后,由下游机械手臂将该玻璃基板传送至曝光机和边缘曝光机以进行曝光,完成曝光制程后再按照显影角度(如180度)传送给显影设备,以便进行下一显影制程。而为提升产能,很多厂家采用单线双曝光机进行曝光,也即缓存台同时接收两个玻璃基板,该两个玻璃基板按照不同路径,利用不同曝光机进行曝光后传递至同一边缘曝光机,每条路径的曝光方式和单线单曝光机方式类似。但是,由于两条路径中的玻璃基板采用同一下游机械手臂传递至边缘曝光机,故当下游机械手臂将第一个玻璃基板以0度传送至边缘曝光机后,需要返回抓取第二个玻璃基板,且在抓取后若要成功传送至边缘曝光机,下游机械手臂不可避免的会旋转180度进行方向调整,从而导致第二个玻璃基板是以180度传递给边缘曝光机。
综上所述,现有单线双曝光机的曝光制程只能以不同角度将两块玻璃基板传递至边缘曝光机,致使边缘曝光机在接收到玻璃基板进行最终曝光后,需要额外进行角度调整才能传递至显影设备,增加了边缘曝光机的制程时长。
【发明内容】
本申请的目的在于提供一种基板曝光方法,能有效降低边缘曝光机的制程时长,提高曝光效率。
为了解决上述问题,本申请实施例提供了一种基板曝光方法,包括:
在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板;
将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光;
将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;
利用所述机械手臂抓取所述旋转后的第二目标基板,并控制所述机械手臂旋转,以使所述第二目标基板具有所述第一预设接片方向,之后将所述第二目标基板传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光。
进一步地,在将所述第一目标基板或第二目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光后,所述基板曝光方法还包括:
控制所述边缘曝光机旋转,以使所述第一目标基板或第二目标基板具有第二预设接片方向;
将所述第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
进一步地,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
进一步地,所述将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,包括:将所述第一目标基板传送至旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第一曝光机进行第一次曝光;
所述将所述第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,包括:将所述第二目标基板传送至所述旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第二曝光机进行第一次曝光。
进一步地,所述控制所述机械手臂旋转,以使所述第二目标基板具有所述第一预设接片方向,包括:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180之间的和值,作为目标角度;
控制所述机械手臂旋转至所述目标角度。
本申请实施例还提供了一种基板曝光装置,包括:
接收模块,以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板;
旋转模块,用于对所述第一目标基板进行旋转;
第一曝光模块,用于对所述第一目标基板进行第一次曝光;
第二曝光模块,用于对所述第二目标基板进行第一次曝光;
缓存模块,用于对第一次曝光后的所述第二目标基板暂存,并控制所述缓存模块旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;
抓取模块,抓取所述旋转后的第二目标基板,并进行旋转,以使所述第二目标基板具有所述第一预设接片方向;
边缘曝光模块,利用抓取模块平移所述第一目标基板和所述第二目标基板至边缘曝光模块进行第二次曝光;
进一步地,在将所述第一目标基板或第二目标基板在边缘曝光模块进行第二次曝光后,所述基板曝光装置还包括:
控制模块,控制所述第一目标基板或第二目标基板在所述曝光模块内旋转,使所述第一目标基板或第二目标具有第二预设接片方向;
显影模块,对所述第一目标基板或第二目标基板进行显影。
进一步地,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
进一步地所述将所述第一目标基板传送至第一曝光模块进行第一次曝光,包括:将所述第一目标基板传送至旋转模块;经所述旋转模块传递至所述第一曝光模块进行第一次曝光;
所述将所述第二目标基板传送至第二曝光模块进行第二次曝光,包括:将所述第二目标基板传送至所述旋转模块;经所述旋转模块传递至所述第二曝光模块进行第一次曝光。
进一步地所述控制所述抓取模块旋转,以使所述第二目标基板具有所述第一预设接片方向,包括:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180之间的和值,作为目标角度;
控制所述抓取模块旋转至所述目标角度。
本申请提供的基板曝光方法及装置,通过在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板,然后将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光;与此同时,将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;最后利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向,从而使得第一目标基板和第二目标基板能够以相同的接片角度进入到下个制程当中,减少下游设备接片时对角度的调整时间,提高生产效率。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的基板曝光方法的流程示意图。
图2为本发明实施例提供的曝光制程中基板接片角度变化示意图。
图3为本发明实施例提供的基板曝光装置的结构示意图。
图4为本发明实施例提供的基板曝光装置的另一结构示意图。
【具体实施方式】
为使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
一种基板曝光方法,包括:在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板,将所述第一目标基板平移至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板平移至边缘曝光机进行第二次曝光,将第二目标基板平移至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板平移至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向,利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向。
请参见图1,图1是本申请实施例提供的基板曝光方法的流程示意图,该基板曝光方法具体流程可以如下:
101.在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板。
本实施例中,该预设接片方向可以人为提前设定,通常取决于曝光所需的接片角度,比如当曝光所需接片角度为0度或90度时,该预设接片方向可以为0度或90度所在的方向。该第一目标基板和第二目标基板可以为玻璃基板。
102.将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光。
本实施例中,将该第一目标基板传送至第一曝光机或者边缘曝光机为平移式传送,即不会改变第一目标基板原有放置角度。在实际操作过程中,该传送可以借助机械手臂或者传送带来完成。
例如,上述步骤“将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光”具体可以包括:
将所述第一目标基板传送至旋转盘;
经所述旋转盘传递至所述第一曝光机进行第一次曝光。
在实施例中,该旋转盘通常为旋转玻璃,当接收到第一目标基板时,旋转盘会以旋转的方式将其传送至第一曝光机,此时,若第一预设接片方向与曝光所需接片角度的方向一致,则该旋转盘的旋转可以为360度、720度等,使第一目标基板保持原有放置角度,若第一预设接片方向与曝光所需接片角度的方向不一致,则可以根据第一预设接片方向对应的角度和曝光所需接片角度之间的差值确定调整角度,按照该调整角度对第一目标基板进行角度调整,如以0度所在方向为第一预设接片方向,且曝光所需接片角度为90度,则旋转盘在旋转传递过程中,需控制该第一目标基板的放置角度由0度变换为90度。
103.将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向。
例如,上述步骤“将所述第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光”具体可以包括:
将所述第二目标基板传送至所述旋转盘;
经所述旋转盘传递至所述第二曝光机进行第一次曝光。
在实施例中,同样的,和第一目标基板的传送过程类似,该旋转盘在传送该第二目标基板的过程中,可以是保持原有方向传送,也可以是变换方向传送,具体取决于第一预设接片方向和曝光角度,此处不再赘述。
需要指出的是,步骤102和步骤103中第一目标基板和第二目标基板的第一次曝光操作可以同时执行,比如通过不同机械手臂同时传送至第一曝光机和第二曝光机,或者,也可以先后执行,比如通过同一机械手臂先将第一目标基板传送至第一曝光机,再返回抓取第二目标基板传送至第二曝光机。
104.利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向。
例如,上述步骤104具体可以包括:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180度之间的和值,作为目标角度;
控制所述旋转台旋转至所述目标角度,以使所述第二目标基板具有目标接片方向。
本实施例中,安装机械手臂底座的空间位置位于第一曝光机和第二曝光机之间,机械手臂抓取的侧边正对第一曝光机,背对第二曝光机,当第一目标基板完成第一次曝光后,机械手臂传送第一目标基板至边缘曝光机,随后,机械手臂返回至旋转台反向抓取在旋转台完成旋转的第二目标基板,对第二目标基板旋转180度后,按照传送第一目标基板至边缘曝光机的路径,对第二目标基板进行传送至边缘曝光机,进行第二目标基板的第二次曝光。
例如,在完成第二次曝光后,需要进一步对第一目标基板或第二目标基板进行显影制程,也即在将第一目标基板或第二目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光之后,该方法还可以包括:
控制所述边缘曝光机旋转,以使所述第一目标基板或第二目标基板具有第二预设接片方向;
将所述第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
本实施例中,由于现有显影设备和曝光设备所需的接片角度不同,比如0度和180度,因此,在曝光制程完成后,需要先将第一目标基板或第二目标基板调整到所需的显影角度之后,才能传送至显影设备进行显影。当然,容易理解的是,若显影设备和曝光设备所需的接片角度相同,则在曝光制程完成后,可以无需控制边缘曝光机旋转,直接传送至显影设备即可。
进一步地,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
本实施例中,该第一预设接片方向和第二预设接片方向互为方向是指显影设备和曝光设备所需的接片角度相差180度,此时,该边缘曝光机在对第一目标基板或第二目标基板进行二次曝光后,需要进一步旋转180度,或者540度等,才能将第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
由上述可知,本实施例提供的基板曝光方法,通过在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板,之后将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,并利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光,与此同时,将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;最后利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向,从而使得第一目标基板和第二目标基板能够以相同的接片角度进入到下个制程当中,减少下游设备接片时对角度的调整时间,进而提高生产效率。
如图2所述,图2是本申请实施例提供的曝光制程中基板接片角度变化示意图,其中将以第一预设接片方向为0度所在方向,显影设备所需接片角度为180度为例对双路径曝光流程进行描述,该双路径曝光流程详细步骤可以如下。
第一路径包括以下步骤:缓存台以0度接收第一目标基板,机械手臂以0度将第一目标基板送至旋转盘,经由旋转盘传送至第一曝光机(此时,第一曝光机的接片角度为0度)进行第一次曝光,第一次曝光完成后经机械手臂传送至边缘曝光机(此时,边缘曝光机的接片角度为0度)进行二次曝光,第二次曝光完成后,边缘曝光机旋转180度,以180度将第一目标基板传送至显影设备,以便进行下一显影制程。
第二路径包括以下步骤:缓存台以0度接收第二目标基板,机械手臂以0度将第二目标基板送至旋转盘,经由旋转盘传送至第二曝光机(此时,第一曝光机的接片角度为0度)进行第一次曝光,第一次曝光完成后经机械手臂传送第二目标基板至缓存台,对第二目标基板进行旋转180度,随后机械手臂反向旋转第二目标基板180度后传送至边缘曝光机(此时,边缘曝光机的接片角度为0度)进行二次曝光,经边缘曝光机旋转180度,以180度传送至显影设备,以便进行下一显影制程。
根据上述实施例所描述的方法,本实施例将从基板曝光装置的方面进一步进行描述,
请参阅图3,图3具体描述了本申请实施例提供的基板曝光装置,该装置可以包括
(1)接收模块10
接收模块10,用于在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板。
本实施例中,该预设接片方向可以人为提前设定,通常取决于曝光所需的接片角度,比如当曝光所需接片角度为0度或90度时,该预设接片方向可以为0度或90度所在的方向。该第一目标基板和第二目标基板可以为玻璃基板。
(2)第一曝光模块20
第一曝光模块20,用于将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光。
本实施例中,将该第一目标基板传送至第一曝光机或者边缘曝光机通常为平移式传送,也即不会改变第一目标基板原有放置角度。在实际操作过程中,该传送可以借助机械手臂或者传送带来完成。
例如,上述步骤“将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光”具体可以包括:
将所述第一目标基板传送至旋转盘;
经所述旋转盘传递至所述第一曝光机进行第一次曝光。
在实施例中,该旋转盘通常为旋转玻璃,当接收到第一目标基板时,旋转盘会以旋转的方式将其传送至第一曝光机,此时,若第一预设接片方向与曝光所需接片角度的方向一致,则该旋转盘的旋转可以为360度、720度等,使第一目标基板保持原有放置角度,若第一预设接片方向与曝光所需接片角度的方向不一致,则可以根据第一预设接片方向对应的角度和曝光所需接片角度之间的差值确定调整角度,按照该调整角度对第一目标基板进行角度调整,如以0度所在方向为第一预设接片方向,且曝光所需接片角度为90度,则旋转盘在旋转传递过程中,需控制该第一目标基板的放置角度由0度变换为90度。
(3)第二曝光模块30
第二曝光模块30,用于将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向。
例如,上述第二曝光模块30具体可以用于:
将所述第二目标基板传送至所述旋转盘;
经所述旋转盘传递至所述第二曝光机进行第一次曝光。
在实施例中,同样的,和第一目标基板的传送过程类似,该旋转盘在传送该第二目标基板的过程中,可以是保持原有方向传送,也可以是变换方向传送,具体取决于第一预设接片方向和曝光角度,此处不再赘述。
需要指出的是,第一曝光模块20和第二曝光模块30中第一目标基板和第二目标基板的第一次曝光操作可以同时执行,比如通过不同机械手臂同时传送至第一曝光机和第二曝光机,或者,也可以先后执行,比如通过同一机械手臂先将第一目标基板传送至第一曝光机,再返回抓取第二目标基板传送至第二曝光机。
(4)传送模块40
传送模块40,用于利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向。
例如,上述传送模块40具体可以包括:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180读之间的和值,作为目标角度;
控制所述旋转台旋转至所述目标角度,以使所述第二目标基板具有目标接片方向。
本实施例中,安装机械手臂底座的空间位置位于第一曝光机和第二曝光机之间,机械手臂抓取的侧边正对第一曝光机,背对第二曝光机,当第一目标基板完成第一次曝光后,机械手臂传送第一目标基板至边缘曝光机,随后,机械手臂返回至旋转台反向抓取在旋转台完成旋转的第二目标基板,对第二目标基板旋转180度后,按照传送第一目标基板至边缘曝光机的路径,对第二目标基板进行传送至边缘曝光机,进行第二目标基板的第二次曝光。
例如,在完成曝光制程后,需要进一步对第一目标基板和第二目标基板进行显影,也即请参见图4,该基板曝光装置还可以包括显影模块50,用于:
在将第一目标基板或第二目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光之后,控制所述边缘曝光机旋转,以使所述第一目标基板或第二目标基板具有第二预设接片方向;
将所述第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
本实施例中,由于现有显影设备和曝光设备所需的接片角度不同,比如0度和180度,因此,在曝光制程完成后,需要先将第一目标基板或第二目标基板调整到所需的显影角度之后,才能传送至显影设备进行显影。当然,容易理解的是,若显影设备和曝光设备所需的接片角度相同,则在曝光制程完成后,可以无需控制边缘曝光机旋转,直接传送至显影设备即可。
进一步地,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
本实施例中,该第一预设接片方向和第二预设接片方向互为方向是指显影设备和曝光设备所需的接片角度相差180度,此时,该边缘曝光机在对第一目标基板或第二目标基板进行二次曝光后,需要进一步旋转180度,或者540度等,才能将第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
具体实施时,以上各个单元可以作为独立的实体来实现,也可以进行任意组合,作为同一或若干个实体来实现,以上各个单元的具体实施可参见前面的方法实施例,在此不再赘述。
由上述可知,本实施例提供的基板曝光装置,通过在接收模块10以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板,然后第一曝光模块20将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光,接着,第二曝光模块30将将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向,最后,传送模块40,将所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向,从而使得第一目标基板和第二目标基板能够以相同的接片角度进入到下个制程当中,减少下游设备接片时对角度的调整时间,提高生产效率。
由于以上模板所发出的指令,可以执行本发明实施例所提供的任一种基板曝光方法中的步骤,因此,可以实现本发明实施例所提供的任一种基板曝光方法所能实现的有益效果,详见前面的实施例,在此不再赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种基板曝光方法,其特征在于,包括:
在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板;
将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光;
将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;
利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向;
控制所述边缘曝光机旋转,以使所述第一目标基板或第二目标基板具有第二预设接片方向;
将所述第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
2.根据权利要求1所述的基板曝光方法,其特征在于,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
3.根据权利要求1所述的基板曝光方法,其特征在于,
所述将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,包括:将所述第一目标基板传送至旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第一曝光机进行第一次曝光;
所述将所述第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,包括:将所述第二目标基板传送至所述旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第二曝光机进行第一次曝光。
4.根据权利要求1所述的基板曝光方法,其特征在于,所述控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,包括:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180度之间的和值,作为目标角度;
控制所述旋转台旋转至所述目标角度,以使所述第二目标基板具有目标接片方向。
5.一种基板曝光装置,其特征在于,包括:
接收模块,用于在缓存台以第一预设接片方向接收第一目标基板和第二目标基板;
第一曝光模块,用于将所述第一目标基板传送至第一曝光机进行第一次曝光,之后利用机械手臂将第一次曝光后的所述第一目标基板传送至边缘曝光机进行第二次曝光;
第二曝光模块,用于将第二目标基板传送至第二曝光机进行第一次曝光,之后将第一次曝光后的所述第二目标基板传送至所述缓存台,并控制所述缓存台旋转,以使所述第二目标基板具有目标接片方向,所述目标接片方向和所述第一预设接片方向互为反向;
传送模块,用于利用所述机械手臂返回抓取所述旋转后的第二目标基板,并传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光,其中在抓取过程中所述机械手臂带动所述第二目标基板反向旋转,所述第二目标基板由目标接片方向恢复为第一预设接片方向;以及
显影模块,用于在将所述第一目标基板或第二目标基板传送至所述边缘曝光机进行第二次曝光后,控制所述边缘曝光机旋转,以使所述第一目标基板或第二目标基板具有第二预设接片方向;将所述第一目标基板或第二目标基板传送至显影设备进行显影。
6.根据权利要求5所述的基板曝光装置,其特征在于,所述第一预设接片方向和第二预设接片方向互为反向。
7.根据权利要求5所述的基板曝光装置,其特征在于,
所述第一曝光模块具体用于:将所述第一目标基板传送至旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第一曝光机进行第一次曝光;
所述第二曝光模块具体用于:将所述第二目标基板传送至所述旋转盘;经所述旋转盘传递至所述第二曝光机进行第一次曝光。
8.根据权利要求5所述的基板曝光装置,其特征在于,所述第二曝光模块具体用于:
确定所述第一预设接片方向对应的初始接片角度;
计算所述初始接片角度和180度之间的和值,作为目标角度;
控制所述旋转台旋转至所述目标角度,以使所述第二目标基板具有目标接片方向。
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