JP5997409B1 - 両面露光装置及び両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ワークを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクと第２マスクとの位置合わせと、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを可能とする。【解決手段】第１マスクＭ１をｘｙ平面に沿って移動可能とするとともにｘｙ平面に沿って回転可能とする第１マスクテーブル１００と、第２マスクＭ２をｘｙ平面に沿って移動可能とするとともにｘｙ平面に沿って回転可能とする第２マスクテーブル２００とを有し、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００とは別にｘｙ平面に沿って移動及び回転可能であり、かつ、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動したり回転したりすると、第１マスクテーブルとともにｘｙ平面に沿って移動したり回転したりする。【選択図】図１

Description

本発明は、両面露光装置及び両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法に関する。

露光対象となるワーク（回路基板など）の第１面と、当該第１面とは反対側の第２面とをそれぞれ露光する両面露光装置は広く使用されている。このような両面露光装置において、ワークの第１面の側に配置されている第１マスクと、ワークの第２面の側に配置されている第２マスクとの位置合わせを行った後に、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う場合には、第１マスク及び第２マスクの位置関係を保持したまま、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う必要がある。

このように、第１マスク及び第２マスクの位置関係を崩すことなく、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う方法としてしては、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行った後に、まずは、第１マスクを所定量だけ移動させたり回転させたりして、当該第１マスクとワークとの位置合わせを行い、続いて、第１マスクの移動量に応じた移動量又は回転量だけ第２マスクを移動させたり回転させたりして、当該第２マスクとワークとの位置合わせを行うというような方法が一例として挙げられる。

具体的には、第１マスクが取り付けられている第１マスクテーブル及び第２マスクが取り付けられている第２マスクテーブルの駆動を制御する制御装置によって、まずは、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行うために、第１マスクテーブル及び第２マスクテーブルに対する制御を行った後に、第１マスクとワークとの位置合わせを行うために第１マスクテーブルに対して制御を行う。その後、第１マスクとワークとの位置合わせ制御に用いた制御データ（第１マスクとワークとの位置合わせ制御の結果としての移動量及び回転量）に基づいて、第２マスクとワークとの位置合わせを行うために、第２マスクテーブルに対する制御を行う。

このような位置合わせ制御は、いわばソフトウエア的な制御であり、位置合わせ制御のための制御プログラムを構築しておくことで実現できる。しかしながら、このようなソフトウエア的な制御においては、第１マスクとワークとの位置合わせ制御に用いた制御データが適切に設定されたとしても、第１マスクテーブルの駆動機構の動作と第２マスクテーブルの駆動機構の動作との間に物理的な誤差が生じる場合もある。

このため、第１マスクとワークとの位置合わせ制御に用いた制御データに基づいて、第２マスクとワークとの位置合わせを行うと、当初に位置合わせした状態の第１マスクと第２マスクとの間に位置ずれが生じてしまう場合もあり、結局は、第１マスクと第２マスクとが高精度に位置合わせされない状態となってしまうこととなる。

一方、上記したようなソフトウエア的な制御でではなく、機械的な動作によって、第１マスク及び第２マスクの位置関係を崩すことなく、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを可能とした両面露光装置も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。

特許文献１に記載されている両面露光装置は、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行った後に、位置合わせを行った状態の第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う際には、第１マスク及び第２マスクを個々に移動させたり回転させたりするのではなく、ワークの側を平面上で移動させたり回転させたりするものである。このようにすることによって、第１マスクと第２マスクとの位置関係を保持したまま、位置合わせを行った状態の第１マスク及び第２マスクと、ワークとの位置合わせを行うことができる。

特開２０１３−１４２７７８号公報

しかしながら、特許文献１に記載されている両面露光装置のように、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う際に、ワークの側を移動させる方法は、ワークの種類によっては、好ましくない場合もある。例えば、長尺シート状のワークが送りロールから巻き取りロールへと進行するような、いわゆるロール・トゥー・ロール（roll to roll）方式の両面露光装置においては、ワークの側を平面上で移動させたり回転をさせたりすることは、ワークの側を平面上で移動させたり回転をさせたりするための機構をワークの送り機構に組み込む必要があるため、ワークの送り機構が複雑となり、また、ワークの側を平面上で移動させたり回転をさせたりすると、ワークに撚れや捻じれを発生させる要因ともなり得る。このように、ワークに撚れや捻じれが発生すると、高品質な両面露光が行えない場合もあるといった課題がある。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ワークを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクと第２マスクとの位置合わせと、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせとを可能とする両面露光装置及び両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法を提供することを目的とする。

［１］本発明の両面露光装置は、露光対象となるワークの第１面を第１マスクによって露光し、当該第１面とは反対側の第２面を第２マスクによって露光する両面露光装置であって、前記第１面及び前記第２面に平行な面を、直交するｘ軸及びｙ軸を含むｘｙ平面としたとき、前記第１マスクを前記ｘｙ平面に沿って移動可能とするとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能とする第１マスクテーブルと、前記第２マスクを前記ｘｙ平面に沿って移動可能とするとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能とする第２マスクテーブルと、を有し、前記第２マスクテーブルは、前記第１マスクテーブル上に載置され、当該第１マスクテーブル上で当該第１マスクテーブルとは別に前記ｘｙ平面に沿って移動可能であるとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能となっており、前記第１マスクテーブルが前記ｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブルとともに前記ｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ移動し、前記第１マスクテーブルが前記ｘｙ平面に沿って回転すると、当該第１マスクテーブルとともに前記ｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ回転することを特徴とする。

このように、本発明の露光装置は、第２マスクテーブルは、第１マスクテーブル上に載置されていて、当該第１マスクテーブル上で当該第１マスクテーブルとは別にｘｙ平面に沿って移動可能であるとともにｘｙ平面に沿って回転可能となっており、第１マスクテーブルがｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブルとともにｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブルがｘｙ平面に沿って回転すると、当該第１マスクテーブルとともにｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ回転する。

本発明の露光装置はこのような構成となっているため、ワークを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクと第２マスクとの位置合わせと、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせとが可能となる。これにより、ワークの側を平面上で移動させたり回転をさせたりするための機構をワークの送り機構に組み込む必要がないため、ワークの送り機構を複雑化することがなくなり、また、ワークに撚れや捻じれを発生させることがないため、高品質な両面露光が可能となる。

また、本発明の露光装置によれば、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行った後に、第１マスクと第２マスクとの位置関係を保持したまま、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行うことができることは勿論、第１マスクとワークとの位置合わせを行った後に、第１マスクとワークとの位置関係を保持したまま、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行うということもできる。

［２］本発明の両面露光装置においては、前記ワークの第１面の側に設けられ、前記第１マスクを着脱自在に取り付け可能な第１マスク取り付けプレートと、前記ワークの第２面の側に設けられ、前記第２マスクを着脱自在に取り付け可能な第２マスク取り付けプレートと、を有し、前記第１マスク取り付けプレートは、前記第１マスクテーブルに立設されている支持部材を介して当該第１マスクテーブルに固定されており、前記第２マスク取り付けプレートは、前記第２マスクテーブルに立設されている支持部材を介して当該第２マスクテーブルに固定されていることが好ましい。

このような構成となっているため、第１マスク取り付けプレートは、第１マスクテーブルがｘｙ平面に沿って移動すると、第１マスクテーブルとともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブルがｘｙ平面に沿って回転すると第１マスクテーブルとともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ回転する。これにより、第１マスクのｘｙ平面に沿った移動が可能となるとともにｘｙ平面に沿った回転が可能となる。同様に、第２マスク取り付けプレートは、第２マスクテーブルがｘｙ平面に沿って移動すると、第２マスクテーブルとともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ移動し、第２マスクテーブルがｘｙ平面に沿って回転すると第２マスクテーブルとともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ回転する。これにより、第２マスクのｘｙ平面に沿った移動が可能となるとともにｘｙ平面に沿った回転が可能となる。

［３］本発明の両面露光装置においては、前記ｘｙ平面に沿って移動可能とは、前記ｘ軸に沿って移動可能であるとともに前記ｙ軸に沿って移動可能であり、前記ｘｙ平面に沿って回転可能とは、前記ｘｙ平面に垂直なｚ軸周りに回転可能であることが好ましい。

これにより、第１マスクテーブル及び第２マスクテーブルを駆動するための駆動機構は、直交する２軸（ｘ軸及びｙ軸）への移動（往復移動）と、ｘｙ平面に垂直なｚ軸周りの回転（時計方向及び反時計方向）とが可能となるような駆動機構とすればよいため、駆動機構を単純化することができる。

［４］本発明の両面露光装置においては、前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うためのマスク位置合わせマークが、前記第１マスクと前記第２マスクとにそれぞれ設けられているとともに、前記第１マスク及び前記第２マスクと前記ワークとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークが、前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクと前記ワークとにそれぞれ設けられていることが好ましい。

これにより、第１マスクと第２マスクとの位置合わせが可能となるとともに、第１マスク及び前記第２マスクとワークとの位置合わせが可能となる。

［５］本発明の両面露光装置においては、前記マスク位置合わせマーク及びワーク位置合わせマークを撮像可能な撮像装置と、当該撮像装置によって得られた撮像データに基づいて、前記第１マスクと前記第２マスクとにそれぞれに設けられている前記マスク位置合わせマークが一致するように前記第２マスクテーブルを制御するとともに、前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクと前記ワークとにそれぞれ設けられている前記ワーク位置合わせマークが一致するように前記第１マスクテーブルを制御する機能を有する位置合わせ制御装置と、をさらに有することが好ましい。

このような撮像装置及び位置合わせ制御装置を有することによって、ワークを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクと第２マスクとの位置合わせと、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせとが可能となる。例えば、第２マスクを第１マスクに高精度に位置合わせすることができるとともに、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを高精度に行った後において、ワークを移動させることなく第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを高精度に行うことができる。

［６］本発明の両面露光装置においては、前記撮像装置を移動させるための制御が可能な撮像装置移動制御装置をさらに有し、当該撮像装置移動制御装置は、少なくとも露光時においては、前記撮像装置がワークにおける露光対象領域から外れた位置となるように前記撮像装置を移動させるように制御する機能を有することが好ましい。

これにより、撮像装置は、露光時においてはワークにおける露光対象領域から外れる位置となるため、露光を行う際において、撮像装置が光源からの光を遮ってしまうことを防ぐことができる。

［７］本発明の両面露光装置においては、前記マスク位置合わせマークは、前記第１マスクにおいては、当該第１マスク上の互いに離間した所定位置にｍ箇所（ｍは２以上の整数とする。）設けられており、前記第２マスクにおいては、当該第２マスク上の互いに離間した所定位置に、前記第１マスクのｍ箇所に設けられているマスク位置合わせマークに対応してｍ箇所設けられており、前記ワーク位置合わせマークは、前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクにおいては、当該マスク上の互いに離間した所定位置にｎ箇所（ｎは２以上の整数とする。）設けられており、前記ワークにおいては、当該ワーク上の互いに離間した所定位置に、前記マスク上のｎ箇所に設けられているワーク位置合わせマークに対応してｎ箇所設けられている、ことが好ましい。

マスク位置合わせマークが、第１マスクと第２マスクとにおいてこのように設けられていることによって、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを高精度に行うことができる。また、ワーク位置合わせマークが、第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクとワークとにおいてこのように設けられていることによって、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを高精度に行うことができる。

［８］本発明の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法は、露光対象となるワークの第１面を第１マスクによって露光し、当該第１面とは反対側の第２面を第２マスクによって露光する両面露光装置において、前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うとともに、前記第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法であって、前記両面露光装置としては、前記[１]〜[７]のいずれかに記載の両面露光装置を用い、前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うとともに、前記第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う工程として、前記第２マスクテーブルに対して前記ｘｙ平面に沿った移動及び前記ｘｙ平面に沿った回転の少なくとも一方を行わせることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置合わせするマスク位置合わせ工程と、前記第１マスクテーブルに対してｘｙ平面に沿った移動及び回転の少なくとも一方を行わせることにより、前記第１マスクと前記ワークとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程と、を有することを特徴とする。

本発明の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法によれば、両面露光装置としては、前記［１］〜［７］のいずれかに記載の両面露光装置を用いているため、前記［１］〜［７］に記載の両面露光装置が有する効果と同様の効果が得られる。

［９］本発明の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法においては、前記マスク位置合わせ工程を行った後に前記マスク・ワーク位置合わせ工程を行うことが好ましい。

当該ワークとの位置合わせ方法は、まずは、第１マスクと第２マスクとの位置合わせ（マスク位置合わせ工程）を行った後に、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせ（マスク・ワーク位置合わせ工程）を行うものであり、マスク位置合わせ工程と、マスク・ワーク位置合わせ工程とをこの順序で行うことによって、第１マスクと第２マスクとの位置関係を保持したまま、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行うことができる。

［１０］本発明の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法においては、前記マスク・ワーク位置合わせ工程を行った後に前記マスク位置合わせ工程を行うこともできる。

当該マスクとワークとの位置合わせ方法は、まずは、第１マスクとワークとの位置合わせ（マスク・ワーク位置合わせ工程）を行った後に、第１マスクと第２マスクとの位置合わせ(マスク位置合わせ工程)を行うものであり、マスク位置合わせ工程と、マスク・ワーク位置合わせ工程とをこの順序で行うことによって、第１マスクとワークとの位置関係を保持したまま、第１マスクと第２マスクとの位置合わせを行うことができる。

実施形態に係る両面露光装置１０を説明するために示す斜視図である。 実施形態に係る両面露光装置１０を説明するために示す正面図である。 第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転について説明するために示す図である。 第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせ及び第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせについて説明するために示す図である。 実施形態に係る両面露光装置１０における位置合わせ制御装置５００及び撮像装置移動制御装置６００について説明するために示す図である。 マスクとワークとの位置合わせを行う際の各工程を説明するためのフローチャートである。 実施形態に係る両面露光装置１０の変形例を説明するために示す図である。 マスクとワークとの位置合わせを行う際の各工程の順序を入れ替えた場合のフローチャートを示す図である。 マスク同士の位置合わせを行う際とマスクとワークとの位置合わせを行う際とにおいて各位置合わせマークのうちの一部の位置合わせマークを共用する場合を説明するために示す図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は、実施形態に係る両面露光装置１０を説明するために示す斜視図である。
図２は、実施形態に係る両面露光装置１０を説明するために示す正面図である。なお、図２は一部が断面図として示されている。

実施形態に係る両面露光装置１０は、図１及び図２に示すように、露光対象となるワークＷの第１面Ｗａを第１マスクＭ１によって露光し、当該第１面Ｗａとは反対側の第２面Ｗｂを第２マスクＭ２によって露光する両面露光装置である。また、実施形態に係る両面露光装置１０においては、ワークＷは長尺シート状のものであるとし、当該長尺シート状のワークＷは、送りロール（図示せず）から巻き取りロール（図示せず。）に向かって進行して行く、いわゆるロール・トゥー・ロール（roll to roll）方式の両面露光装置であるとする。また、ワークＷは例えばフレキシブル回路基板などであり、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２は、それぞれが矩形をなす透明の板材（例えばガラス板など）からなり、それぞれ所定のパターン（回路パターンとする。）が形成されている。

なお、実施形態においては、ワークＷの第１面Ｗａ及び第２面Ｗｂに平行な面を、直交する２軸（ｘ軸及びｙ軸）を含むｘｙ平面とし、ｘ軸はワークＷの進行方向に沿っており、ｙ軸はワークＷの進行方向に直交する方向に沿っているものとして説明する。

以下、実施形態に係る両面露光装置１０の構成について詳細に説明する。
実施形態に係る両面露光装置１０は、第１マスクＭ１をｘｙ平面に沿って移動可能とするとともにｘｙ平面に沿って回転可能とする第１マスクテーブル１００と、第２マスクＭ２をｘｙ平面に沿って移動可能とするとともにｘｙ平面に沿って回転可能とする第２マスクテーブル２００とを有している。なお、「ｘｙ平面に沿って移動可能」とは、ｘ軸に沿って移動可能であるとともにｙ軸に沿って移動可能であることを指しており、「ｘｙ平面に沿って回転可能」とは、ｘｙ平面に垂直なｚ軸周りに回転可能であることを指している。

また、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００上に載置され、当該第１マスクテーブル１００上で当該第１マスクテーブル１００とは別にｘｙ平面に沿って移動可能であるとともにｘｙ平面に沿って回転可能となっている。また、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面上で当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って回転すると当該第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面上で当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ回転する。

具体的には、第１マスクテーブル１００がｘ軸に沿って一方向に所定量だけ移動すると、第２マスクテーブル２００もｘ軸に沿って一方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｘ軸に沿って他方向に所定量だけ移動すると、第２マスクテーブル２００もｘ軸に沿って他方向に同量だけ移動する。また、第１マスクテーブル１００がｙ軸に沿って移動した場合も同様である。すなわち、第１マスクテーブル１００がｙ軸に一方向に所定量だけ移動すると、第２マスクテーブル２００もｙ軸に沿って一方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｙ軸に沿って他方向に所定量だけ移動すると、第２マスクテーブル２００もｙ軸に沿って他方向に同量だけ移動する。

また、第１マスクテーブル１００がｚ軸周りに時計方向に所定量だけ回転すると、第２マスクテーブル２００も時計方向に同量だけ回転し、第１マスクテーブル１００がｚ軸周りに反時計方向に所定量だけ回転すると、第２マスクテーブル２００も反時計方向に同量だけ回転する。

このように、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００とは別にｘｙ平面に沿った移動とｘｙ平面に沿った回転が可能となっており、また、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動すると、第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って回転すると、第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面上で同方向に同量だけ回転することとなる。なお、図１及び図２においては、第１マスクテーブル１００及び第２マスクテーブル２００を駆動させるための駆動機構などについては図示が省略されている。

ここで、第１マスクテーブル１００及び第２マスクテーブル２００についてさらに説明する。まずは、第１マスクテーブル１００について説明する。第１マスクテーブル１００は、平面形状が大まかには矩形をなし、当該第１マスクテーブル１００のほぼ中央部には第１光源３１０からの光を通過させるための空間部１０１が形成されている。

このような第１マスクテーブル１００の４隅には、それぞれ支持部材としての支柱１１１が立設されており、各支柱１１１の先端部には第１マスクＭ１を着脱自在に取り付け可能な第１マスク取り付けプレート１２０が固定されている。なお、第１マスク取り付けプレート１２０は、ワークＷの第１面の側に設けられている。そして、第１マスク取り付けプレート１２０のほぼ中央部には第２光源３２０からの光を通過させるための空間部１２１が形成されており、当該空間部１２１には、第１マスクＭ１が当該空間部１２１を覆うように着脱自在に取り付けられる。

第１マスク取り付けプレート１２０は、第１マスクテーブル１００にこのように固定されているため、当該第１マスク取り付けプレート１２０は、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動すると、第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って回転すると、第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ回転する。これにより、第１マスクＭ１のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転は、第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転によって行われることとなる。

また、第１マスク取付けプレート１２０は、図示しない駆動機構によって、ｚ軸に沿った方向（図１及び図２においては上下方向）に往復動可能となっている。このため、第１マスクＭ１とワークＷとの間隔を調整することができる。

続いて、第２マスクテーブル２００について説明する。第２マスクテーブル２００も第１マスクテーブル１００と同様に、平面形状が大まかには矩形をなしているが、第１マスクテーブル１００よりも小サイズとなっており、第２マスクテーブル２００の４つの縁部（辺）と第１マスクテーブル１００のそれぞれ対応する縁部（辺）との間には所定のスペースが設けられた状態で第１マスクテーブル１００上に載置されている。また、第２マスクテーブル２００のほぼ中央部には、第１光源３１０からの光を通過させるための空間部２０１が形成されている。

このような第２マスクテーブル２００の４隅には、それぞれ支持部材としての支柱２１１が立設されており、各支柱２１１の先端部には第２マスクＭ２を取り付けるための第２マスク取り付けプレート２２０が固定されている。なお、第２マスク取り付けプレート２２０は、ワークＷの第２面の側に設けられている。そして、第２マスク取り付けプレート２２０のほぼ中央部には第１光源３１０からの光を通過させるための空間部２２１が形成されており、当該空間部２２１には、第２マスクＭ２が当該空間部２２１を覆うように着脱自在に取り付けられる。

ところで、実施形態に係る両面露光装置１０においては、第１マスク取り付けプレート１２０に設けられている空間部１２１と、第２マスク取り付けプレート２２０に設けられている空間部２２１とは、それぞれが同じサイズであるとする。

第２マスク取り付けプレート２２０は、第２マスクテーブル２００にこのように固定されているため、当該第２マスク取り付けプレート２２０は、第２マスクテーブル２００がｘｙ平面に沿って移動すると、第２マスクテーブル２００とともに同方向に同量だけ移動し、第２マスクテーブル２００がｘｙ平面に沿って回転すると、第２マスクテーブル２００とともに同方向に同量だけ回転する。これにより、第２マスクＭ２のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転は、第２マスクテーブル２００のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転によって行われることとなる。

また、第２マスク取付けプレート２２０は、図示しない駆動機構によって、ｚ軸に沿った方向（図１及び図２においては上下方向）に往復動可能となっている。このため、第２マスクＭ２とワークＷとの間隔を調整することができる。

ところで、第１マスク取付けプレート１２０と第２マスク取付けプレート２２０との間には、所定の間隔が設けられており、当該第１マスク取付けプレート１２０と第２マスク取付けプレート２２０との間にワークＷが介在される。

また、第１光源３１０及び第２光源３２０のうち、第１光源３１０は、第１マスクテーブル１００側において、当該第１光源３１０の光軸Ｌ１が水平方向となるように設けられている。そして、第１光源３１０からの光はミラー３３０によって９０度反射して、第２マスクＭ２を照射し、当該第２マスクＭ２に形成されている回路パターンをワークＷの第２面Ｗｂに結像させる。一方、第２光源３２０は、第１マスク取付けプレート１２０側において、当該第２光源３２０の光軸Ｌ２が水平方向となるように設けられている。そして、第２光源３２０からの光はミラー３４０によって９０度反射して、第１マスクＭ１を照射し、当該第１マスクＭ１に形成されている回路パターンをワークＷの第１面Ｗａに結像させる。

なお、第１マスク取付けプレート１２０側及び第２マスク取付けプレート２２０側における第１光源３１０及び第２光源３２０の配置の仕方などは、特に限定されるものではなく、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２それぞれに形成されている回路パターンをワークＷの第１面Ｗａ及び第２面Ｗｂに適切に結像できるようになっていればよい。

また、図１及び図２においては図示されていないが、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うための位置合わせマーク（マスク位置合わせマークという。）が、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とにそれぞれ設けられているとともに、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うための位置合わせマーク（ワーク位置合わせマークという。）が、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２の少なくとも一方のマスク（実施形態に係る両面露光装置１０においては、第１マスクＭ１とする。）とワークＷとにそれぞれ設けられている。これらマスク位置合わせマーク及びワーク位置合わせマークについては、図４により後述する。

また、同じく図１及び図２においては図示されていないが、マスク位置合わせマークとワーク位置合わせマークとを撮像可能な撮像装置と、当該撮像装置によって得られた撮像データに基づいて、第１マスクテーブル１００を制御するとともに、第２マスクテーブル２００を制御する位置合わせ制御装置が設けられている。これら撮像装置及び位置合わせ制御装置については、図４及び図５により後述する。

図３は、第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転について説明するために示す図である。なお、第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転を可能とするための駆動機構は、公知の技術を使用することができるため、図３においては、モーター以外の構成要素についての図示及び説明は省略し、かつ、模式化して示している。また、図３においては、第１マスクテーブル１００について説明するが、第２マスクテーブル２００もほぼ同様に実施することができる。

図３に示すように、第１マスクテーブル１００に駆動力を与えるための３個又は４個（実施形態に係る両面露光装置においては３個とする。）のモーター（サーボモーターとする。）Ｓｘ１１，Ｓｘ１２及びＳｙ１３が、第１マスクテーブル１００の４つの角部のうちの３つの角部付近に設けられていて、当該３個のモーターＳｘ１１，Ｓｘ１２及びＳｙ１３を選択的に動作させることにより、第１マスクテーブル１００をｘｙ平面に沿った往復移動（ｘ軸に沿った往復移動及びｙ軸に沿った往復移動）を可能とするとともに、ｘｙ平面に沿った回転（ｚ軸周りの時計方向又は反時計方向の回転）を可能とする。

具体的には、モーターＳｘ１１又はモーターＳｘ１２を正方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００をｘ軸に沿って一方向（図３における左方向（ｘ’方向））に移動させることができ、モーターＳｘ１１又はモーターＳｘ１２を逆方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００をｘ軸に沿って図示の他方向（図３における右方向（ｘ方向））に移動させることができる。

また、モーターＳｙ１３を正方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００をｙ軸に沿って図示の一方向（図３における下方向（ｙ’方向））に移動させることができ、モーターＳｙ１３を逆方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００をｙ軸に沿って図示の他方向（図３における上方向（ｙ方向））に移動させることができる。

また、モーターＳｘ１１，モーターＳｘ１２及びモーターＳｙ１３を同時に同量だけ正方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００を当該第１マスクテーブル１００の図示しない中心（空間部１０１の中心）を仮想的な回転軸として、ｚ軸周りに反時計方向（ａ’方向）に回転させることができ、モーターＳｘ１１，モーターＳｘ１２及びモーターＳｙ１３を同時に同量だけ逆方向に回転させることにより、第１マスクテーブル１００を当該第１マスクテーブル１００の図示しない中心（空間部１０１の中心）を仮想的な回転軸として、ｘｙ平面に沿ってｚ軸周りに時計方向（ａ方向）に回転させることができる。

なお、第１マスクテーブル１００を第１マスクテーブルのｘｙ平面に沿って移動させた後に、当該第１マスクテーブル１００をｘｙ平面に沿って所定量だけ回転させる際には、第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った移動量を保持した状態でｘｙ平面に沿って所定量だけ回転する。また、第１マスクテーブル１００をｘｙ平面に沿って所定量だけ回転させた後に、当該第１マスクテーブル１００をｘｙ平面に沿って所定量だけ移動させる際には、第１マスクテーブル１００のｘｙ平面に沿った回転量を保持した状態でｘｙ平面に沿って所定量だけ移動する。

また、ｘｙ平面に沿った移動すなわちｘ軸に沿った方向への移動又はｙ軸に沿った方向への移動を行う際の移動範囲（往復移動範囲）及びｘｙ平面に沿った回転を行う際の回転量（時計方向又は反時計方向の回転角度範囲）は、あまり大きいものではなく、実施形態に係る両面露光装置１０においては、往復移動範囲としては、例えば、０〜１０ｍｍ程度でよく、回転角度範囲としては、例えば、０〜１０度程度でよい。但し、往復移動範囲及び回転角度範囲は当該範囲に限定されるものではない。

また、図３においては、モーターは３個とした場合が例示されているが、モーターを４個として、第１マスクテーブル１００の４つの角部付近にそれぞれモーターを設けるようにしてもよい。

また、第２マスクテーブル２００も同様に、当該第２マスクテーブル２００に駆動力を与えるための３個又は４個（３個とする。）のモーター（サーボモータ）が設けられており、当該３個のモーター（図示は省略するがモーターＳｘ２１，Ｓｘ２２及びＳｙ２３とする。）が、第１マスクテーブル１００と同様に、第２マスクテーブル２００の４つの角部のうちの３つの角部付近に設けられていて、当該３個のモーターＳｘ２１，Ｓｘ２２及びＳｙ２３を選択的に動作させることにより、第２マスクテーブル１００をｘｙ平面に沿った往復移動（ｘ軸及びｙ軸の少なくとも一方に沿った往復移動）を可能とするとともに、ｘｙ平面に沿った回転（ｚ軸周りの時計方向又は反時計方向の回転）を可能とする。

次に、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせ及び第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせについて説明する。

図４は、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせ及び第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせについて説明するために示す図である。なお、図４は位置合わせについて説明するために必要な構成要素のみを取り出し、かつ、模式的に示す図である。図４（ａ）は斜視図であり、図４（ｂ）は上方からｚ軸に沿って第１マスクＭ１を見た平面図である。

また、図４において、第１マスクＭ１上に描かれている破線矩形枠で囲まれる領域Ａ１は、第１マスク取り付けプレート１２０に設けられている空間部１２１（図１及び図２参照。）に対応する領域であり、第２マスクＭ２に描かれている破線矩形枠で囲まれる領域Ａ２は、第２マスク取り付けプレート２２０に設けられている空間部２２１（図１及び図２参照。）に対応する領域である。

第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２には、当該第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うためのマスク位置合わせマークがそれぞれ設けられている。当該マスク位置合わせマークは、第１マスクＭ１においては、当該第１マスクＭ１上の互いに離間した所定位置にｍ箇所（ｍは２以上の整数とする。）設けられている。一方、第２マスクＭ２においては、当該第２マスクＭ２上の互いに離間した所定位置に、第１マスクＭ１のｍ箇所に設けられているマスク位置合わせマークに対応してｍ箇所設けられている。

実施形態に係る両面露光装置１０においては、ｍ＝２として説明する。このため、第１マスクＭ１上に設けられている２箇所のマスク位置合わせマークを「マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２」とし、第２マスクＭ２上に設けられている２箇所のマスク位置合わせマークを「マスク位置合わせマークＰ３，Ｐ４」とする。

具体的には、第１マスクＭ１側においては、例えば、当該第１マスクＭ１の対角となる２つの角部の一方の角部の内側にマスク位置合わせマークＰ１が設けられており、他方の角部の内側にマスク位置合わせマークＰ２が設けられている。また、第２マスクＭ２側においては、第２マスクＭ２の対角となる２つの角部のうち、一方の角部（第１マスクＭ１においてマスク位置合わせマークＰ１が設けられている角部に対応する角部）の内側にマスク位置合わせマークＰ３が設けられており、他方の角部（第１マスクＭ１においてマスク位置合わせマークＰ２が設けられている角部に対応する角部）の内側にマスク位置合わせマークＰ４が設けられている。

そして、第１マスクＭ１のマスク位置合わせマークＰ１と第２マスクＭ２のマスク位置合わせマークＰ３とが一致し、かつ、第１マスクＭ１のマスク位置合わせマークＰ２と第２マスクＭ２のマスク位置合わせマークＰ４とが一致したときに、これら第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせが適切になされたものとする。

マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２は、第１マスクＭ１において、破線矩形枠で囲まれる領域Ａ１（空間部１２１に対応する領域）内で、かつ、ワークＷの第１面Ｗａにおける現時点における露光対象領域（図４（ｂ）において灰色で示す領域Ｂ１とする。）から外れた位置に設けられる。一方、マスク位置合わせマークＰ３，Ｐ４は、第２マスクＭ２において、破線矩形枠で囲まれる領域Ａ２（空間部２２１に対応する領域）内で、かつ、ワークＷの第２面Ｗｂにおける現時点における露光対象領域（第２面Ｗｂにおいても図４（ｂ）において灰色で示す領域Ｂ１とする。）から外れた位置に設けられる。なお、実施形態に係る両面露光装置１０においては、「露光対象領域から外れた位置」というは、ワークＷを図１及び図２に示すように取り付けた場合、当該ワークＷの幅方向から外れた位置であるとする。

また、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークが、第１マスクＭ１とワークＷとにそれぞれ設けられている。ワーク位置合わせマークは、第１マスクＭ１においては、当該第１マスクＭ１上の互いに離間した所定位置にｎ箇所（ｎは２以上の整数とする。）設けられている。一方、ワークＷにおいては、当該ワークＷの互いに離間した所定位置に、第１マスクＭ１のｎ箇所に設けられているワーク位置合わせマークに対応してｎ箇所設けられている。

なお、実施形態に係る両面露光装置１０においては、ｎ＝２として説明する。このため、第１マスクＭ１上に設けられている２箇所のワーク位置合わせマークを「ワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ６」とし、ワークＷ上に設けられている２箇所のマスク位置合わせマークを「ワーク位置合わせマークＰ７，Ｐ８」とする。

そして、第１マスクＭ１のワーク位置合わせマークＰ５とワークＷのワーク位置合わせマークＰ７とが一致し、かつ、第１マスクＭ１のワーク位置合わせマークＰ６とワークＷのワーク位置合わせマークＰ８とが一致したときに、これら第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせが適切になされたものとする。なお、これらワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ６は、第１マスクＭ１において、破線矩形枠で囲まれる領域Ａ１（空間部１２１に対応する領域）内に設けられる。

ところで、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置が一致しているか否かの判断及び第１マスクＭ１とワークＷとの位置が一致しているか否かの判断は、各位置合わせマーク（マスク位置合わせマークＰ１〜Ｐ４及びワーク位置合わせマークＰ５〜Ｐ８）を撮像装置Ｃによって撮像して得られた撮像データに基づいて行う。

実施形態に係る両面露光装置１０においては、撮像装置Ｃは、マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ３及びワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ７を時間差を有して撮像するための撮像装置Ｃ１と、マスク位置合わせマークＰ２，Ｐ４及びワーク位置合わせマークＰ６，Ｐ８を時間差を有して撮像するための撮像装置Ｃ２とを有している。

具体的には、撮像装置Ｃ１（カメラＣ１ともいう。）は、第１マスクＭ１に設けられているマスク位置合わせマークＰ１と第２マスクＭ２に設けられているマスク位置合わせマークＰ３とを撮像するとともに、第１マスクＭ１に設けられているワーク位置合わせマークＰ５とワークＷに設けられているワーク位置合わせマークＰ７とを撮像するための撮像装置であり、撮像装置Ｃ２（カメラＣ２ともいう。）は、第１マスクＭ１に設けられているマスク位置合わせマークＰ２と第２マスクＭ２に設けられているマスク位置合わせマークＰ４とを撮像するとともに、第１マスクＭ１に設けられているワーク位置合わせマークＰ６とワークＷに設けられているワーク位置合わせマークＰ８とを撮像するための撮像装置である。

なお、カメラＣ１は、マスク位置合わせマークＰ１及びマスク位置合わせマークＰ３の撮像と、ワーク位置合わせマークＰ５及びワーク位置合わせマークＰ７の撮像とを時間差を有して行い、カメラＣ２は、マスク位置合わせマークＰ２及びマスク位置合わせマークＰ４の撮像と、ワーク位置合わせマークＰ６及びワーク位置合わせマークＰ８の撮像とを時間差を有して行う。このため、カメラＣ１，Ｃ２は、ｘｙ平面に沿った移動と、ｚ軸周りの回転と、ｚ軸に沿った上下動とが可能となっている。カメラＣ１，Ｃ２のｘｙ平面に沿った移動と、ｚ軸に周りの回転と、ｚ軸に沿った上下動とを可能とするための移動機構は、公知の技術によって実現可能であるため、図示及び説明は省略する。

図５は、実施形態に係る両面露光装置１０における位置合わせ制御装置５００及び撮像装置移動制御装置６００について説明するために示す図である。位置合わせ制御装置５００は、図５に示すように、第１マスクテーブル１００のモーターＳｘ１１，Ｓｘ１２及びＳｙ１３を制御することによって第１マスクテーブル１００を駆動制御する第１マスクテーブル駆動制御部５１０と、第２マスクテーブル２００のモーター（図示されていないモーターＳｘ２１，Ｓｘ２２及びＳｙ２３）を制御することによって第２マスクテーブル２００を駆動制御する第２マスクテーブル駆動制御部５２０と、撮像装置Ｃ（カメラＣ１，Ｃ２）からの撮像データに基づいて、第１マスクテーブル駆動制御部５１０及び第２マスクテーブル駆動制御部５２０の少なくとも一方に対して制御データ与える制御部５３０とを有している。

このように構成されているマスク位置合わせ制御装置５００は、カメラＣ１，Ｃ２によって得られた撮像データに基づいて、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とにそれぞれに設けられているマスク位置合わせマークが一致（マスク位置合わせマークＰ１とＰ３とが一致し、かつ、マスク位置合わせマークＰ２とＰ４とが一致）するように第２マスクテーブル２００を制御するとともに、第１マスクＭ１とワークＷとにそれぞれ設けられているワーク位置合わせマークが一致（ワーク位置合わせマークＰ５とＰ７とが一致し、かつ、ワーク位置合わせマークＰ６とＰ８とが一致）するように第１マスクテーブル１００を制御する機能を有している。

具体的には、カメラＣ１，Ｃ２によって得られた撮像データは制御部５３０に与えられ、制御部５３０においては、当該撮像データに基づいて、マスク位置合わせマークＰ１とＰ３とが一致し、かつ、マスク位置合わせマークＰ２とＰ４とが一致するように第２マスクテーブル駆動制御部５２０に対して制御データを与える。第２マスクテーブル駆動制御部５２０においては、制御部５３０からの制御データに基づいてモーターＳｘ２１，Ｓｘ２２及びＳｙ２３を選択的に駆動する。これにより、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うことができる。

マスク位置合わせマークＰ１とＰ３とが一致し、かつ、マスク位置合わせマークＰ２とＰ４とが一致した後においては、カメラＣ１，Ｃ２を移動させて、ワーク位置合わせマークＰ５及びワーク位置合わせマークＰ７の撮像を行うとともに、ワーク位置合わせマークＰ６及びワーク位置合わせマークＰ８の撮像を行う。ここで、カメラＣ１，Ｃ２によって得られた撮像データは制御部５３０に与えられ、制御部５３０においては、当該撮像データに基づいて、ワーク位置合わせマークＰ５とＰ７とが一致し、かつ、ワーク位置合わせマークＰ６とＰ８とが一致するように第１マスクテーブル駆動制御部５１０に対して制御データを与える。第１マスクテーブル駆動制御部５１０においては、制御部５３０からの制御データに基づいてモーターＳｘ１１，Ｓｘ１２及びＳｙ１３を選択的に駆動する。これにより、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行うことができる。

このような位置合わせ制御装置５００によって、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うことができるとともに、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行うことができる。なお、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行う際には、第２マスクＭ２も第１マスクＭ１と同量だけ同方向に移動したり回転したりするため、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせがなされた状態で、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行えば、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置関係を保持したまま、第２マスクＭ２もワークＷに対して位置合わせされることとなる。

これは、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００上に載置され、当該第１マスクテーブル１００上で当該第１マスクテーブル１００とは別にｘｙ平面に沿って移動可能であるとともにｘｙ平面に沿って回転可能となっており、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ移動し、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って回転すると当該第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００とともに当該第１マスクテーブル１００と同方向に同量だけ回転する構成となっているためである。

続いて、撮像装置移動制御装置６００について説明する。撮像装置移動制御装置６００は、カメラＣ１，Ｃ２を移動させるための移動機構部６１０と、当該移動機構部６１０を制御するための移動制御部６２０とを有している。当該撮像装置移動制御装置６００は、少なくとも露光時においては、撮像装置としてのカメラＣ１，Ｃ２がワークＷにおける露光対象領域Ｂ１（図４(ｂ)参照。）から外れた位置となるようにカメラＣ１，Ｃ２を移動させるように制御する機能を有する。これにより、カメラＣ１，Ｃ２は、ワークＷにおける露光対象領域Ｂ１から外れる位置となるため、露光を行う際において、カメラＣ１，Ｃ２が光源３１０，３２０からの光を遮ってしまうことを防ぐことができる。

なお、実施形態に係る両面露光装置１０においては、カメラＣ１，Ｃ２がマスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置に存在している状態では、カメラＣ１，Ｃ２は露光対象領域Ｂ１から外れた位置となるものとしている。従って、カメラＣ１，Ｃ２を矢印ｙ−ｙ’方向に移動可能となるようにしておき、露光時においては、カメラＣ１，Ｃ２を矢印ｙ’方向に移動させて、マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置にまで移動させるように制御する。

以上説明したように、実施形態に係る両面露光装置１０においては、第２マスクテーブル２００は、第１マスクテーブル１００上に載置されていて、当該第１マスクテーブル１００上で当該第１マスクテーブル１００とは別にｘｙ平面に沿って移動可能であるとともにｘｙ平面に沿って回転可能となっており、第１マスクテーブル１００がｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面に沿って移動し、第１マスクテーブルが１００ｘｙ平面に沿って回転すると、当該第１マスクテーブル１００とともにｘｙ平面に沿って回転する。

実施形態に係る両面露光装置１０がこのような構成となっているため、ワークＷの第１面Ｗａの側に配置されている第１マスクＭ１と第２面Ｗｂの側に配置されている第２マスクＭ２との位置合わせを行った後に、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせ行う際において、ワークＷを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置関係を保持したまま、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせが可能となる。これにより、ワークＷの側を平面上で移動させたり回転をさせたりするための機構をワークの送り機構に組み込む必要がないため、ワークの送り機構を複雑化することがなくなり、また、ワークＷに撚れや捻じれを発生させることがないため、高品質な両面露光が可能となる。

次に、実施形態に係る両面露光装置１０におけるマスクとワークとの位置合わせ方法について説明する。

図６は、マスクとワークとの位置合わせを行う際の各工程を説明するためのフローチャートである。まず、第１マスクＭ１を第１マスク取り付けプレート１２０に取り付けるとともに第２マスクＭ２を第２マスク取り付けプレート２２０に取り付ける（ステップＳ１）。

そして、第１マスクテーブル１００上において、第２マスクテーブル１００に対してｘｙ平面に沿った移動及びｘｙ平面に沿った回転の少なくとも一方を行わせることにより、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とを位置合わせするマスク位置合わせ工程を行う（ステップＳ２）。実施形態に係る両面露光装置１０におけるマスクとワークとの位置合わせ方法においては、マスク位置合わせ工程を行う際には、ワークＷは第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との間に配置されていないものとする。但し、ワークＷを第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との間に配置した状態であっても当該マスク位置合わせ工程は実施可能である。

マスク位置合わせ工程を行う際の位置合わせ制御は、カメラＣ１，Ｃ２からの撮像データに基づいて、位置合わせ制御装置５００が行う。このとき、カメラＣ１，Ｃ２は、マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置で撮像を行う。なお、位置合わせ制御装置５００が行う位置合わせ制御については前述した通りであるため、ここではその説明は省略する。当該マスク位置合わせ工程を行うことにより、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせがなされる。

続いて、第１マスクテーブル１００に対してｘｙ平面に沿った移動及び回転の少なくとも一方を行わせることにより、第１マスクＭ１とワークＷとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程を行う（ステップＳ３）。マスク・ワーク位置合わせ工程を行う際においては、ワークＷは第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との間に配置されている状態とする。また、カメラＣ１，Ｃ２は、マスク位置合わせマークＰ５，Ｐ６を撮像可能な位置に移動している。

また、マスク・ワーク位置合わせ工程を行う際の位置合わせ制御は、マスク位置合わせ工程の場合と同様、カメラＣ１，Ｃ２からの撮像データに基づいて、位置合わせ制御装置５００が行う。位置合わせ制御装置５００が行う第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせ制御については前述した通りであるため、ここではその説明は省略する。当該マスク・ワーク位置合わせ工程を行うことにより、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせがなされる。

以上のマスク位置合わせ工程及びマスク・ワーク位置合わせ工程を順次行うことによって、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせが行われるとともに、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置関係を保持したまま、第１マスクＭ１とワークＷ及び第２マスクＭ２とワークＷとがそれぞれ位置合わせされたこととなる。

そして、所定のタイミングで光源３１０，３２０を点灯させることにより、第１マスクＭ１に形成されている回路パターンがワークＷの第１面Ｗａの適正な位置に露光され、また、第２マスクＭ２に形成されている回路パターンがワークＷの第２面Ｗｂの適正な位置に露光される。なお、露光を行う際には、カメラＣ１，Ｃ２は、撮像装置移動制御装置６００によって、露光対象領域Ｂ１から外れた位置（ワークＷにおけるＢ１から外れた位置であり、実施形態に係る両面露光装置１０においては、マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置）となるように制御されている。

ところで、実施形態に係る両面露光装置１０においては、長尺シート状のワークＷをロール・トゥー・ロール（roll to roll）方式によって一方向に進行させる過程で、両面露光を行う場合を例示しているため、一方向に進行されて行くワークＷの長手方向に沿って設定されている複数の露光対象領域のうちの個々の露光対象領域が順次、両面露光装置１０の第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２に対向する位置となる。

このとき、ある１つの露光対象領域を露光した後に、次の露光対象領域が第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２に対向する位置となったときに、その都度、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせと、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせとを行う場合には、図６に示すフローチャートにおいて、ステップＳ３が終了したら、図６の破線Ｒ１で示すようにステップＳ２に戻る処理を行う。これによって、個々の露光対象領域において、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせと、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせとを行うことができる。

また、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせ（ステップＳ２）によって得られた第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置関係を固定させておけば、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせをその都度行わずに、図６に示すフローチャートにおいて、個々の露光対象領域ごとに図６の破線Ｒ２で示すようにステップＳ３を繰り返し行うことが可能である。これによって、個々の露光対象領域においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２の位置関係を保持したまま、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせとを行うことができる。

実施形態に係る両面露光装置１０におけるマスクとワークとの位置合わせ方法においても、両面露光装置としては、上記実施形態に係る両面露光装置１０を用いているため、実施形態に係る両面露光装置１０と同様の効果が得られる。

なお、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能となるものである。たとえば、下記に示すような変形実施も可能である。

（１）上記実施形態においては、マスク位置合わせ用マーク及びワーク位置合わせ用マークを撮像するためのカメラＣ１，Ｃ２は、第１マスクＭ１側に設けた場合を例示したが、第２マスクＭ２側に設けるような構成としてもよい。また、第１マスクＭ１側及び第２マスクＭ２側の両方にカメラを設けて、それぞれのカメラから得られた撮像画像データに基づいて第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うとともに第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うようにしてもよい。

（２）上記実施形態においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とのマスク位置合わせと、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせとを同じカメラＣ１，Ｃ２を用いて時間差を有して行うようにした場合を例示したが、第１マスクＭ１に設けられている２箇所のマスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２（第２マスクＭ２においては、マスク位置合わせマークＰ３，Ｐ４）それぞれに対応して２台のカメラを設けるようにするとともに、第１マスクＭ１に設けられている２箇所のワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ６（ワークＷにおいては、ワーク位置合わせマークＰ７，Ｐ８）それぞれに対応して２台のカメラを設けるようにして、それぞれのカメラからの撮像データに基づいて第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とのマスク位置合わせと、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行うようにしてもよい。この場合も、露光時においては各カメラを露光対処領域から外れた位置となるように退避させるための制御を行う。

（３）第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ６は、マスク側においては第１マスクＭ１に設けるようにしたが、第２マスクＭ２に設けるようにしてもよく、また、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２の両方に設けるようにしてもよい。なお、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークＰ５，Ｐ６を第２マスクＭ２に設ける場合においても、ワークＷとの間の位置合わせを行う際には、第１マスクテーブル１００の移動によって第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行う。

（４）上記実施形態においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うためのマスク位置合わせマークは、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２においてそれぞれ２箇所ずつとしたが、２箇所に限られるものではなく、３箇所以上としてもよい。同様に、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークは、第１マスクＭ１及びワークＷにおいてそれぞれ２箇所ずつとしたが、２箇所に限られるものではなく、３箇所以上としてもよい。

（５）上記実施形態においては、水平方向に置かれたワークＷに対して、上下それぞれの方向から光を照射して当該ワークを露光するように構成されている両面露光装置を例示したが、このような両面露光装置に限られるものではなく、例えば、垂直方向に置かれたワークＷに対して左右それぞれの方向から光を照射して当該ワークを露光するように構成されている両面露光装置であってもよい。

（６）図１及び図２に示す両面露光装置１０の構成は、一例であって、図１及び図２に示すような構成に限られるものではなく、例えば、図７に示すような構成としてもよい。

図７は、実施形態に係る両面露光装置１０の変形例を説明するために示す図である。なお、図７は実施形態に係る両面露光装置１０の変形例（両面露光装置１０’とする。）の正面図であり、これは、図２に対応するものである。なお、図７において２及び図１と同一構成要素には同一符号が付されている。なお、図７においては、ワークＷを当該両面露光装置１０’に取り付けたときに、当該ワークＷの図示下面側を第１面Ｗａとし、当該ワークＷの図示上面側を第２面Ｗｂとする。

両面露光装置１０’は、基本的には実施形態に係る両面露光装置１０とほぼ同様の構成となっているが、図７に示すように、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置が実施形態に係る両面露光装置１０と逆となる構成になっている。但し、上記したように、図７においては、ワークＷの図示下面側を第１面Ｗａとし、当該ワークＷの図示上面側を第２面Ｗｂとしているため、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置が実施形態に係る両面露光装置１０と逆となる構成となっているが、第１マスクＭ１はワークＷの第１面Ｗａの側に位置し、第２マスクＭ２はワークＷの第２面Ｗａの側に位置している。

このような構成とするために、両面露光装置１０’においては、第２マスクテーブル２００の空間部２０１を実施形態に係る両面露光装置１０における第２マスクテーブル２００の空間部２０１よりも十分大きく取り、当該空間部２０１を貫くように、第１マスクテーブル１００の所定位置に支柱１１１を立設し、当該支柱１１１の先端部に第１マスク取り付けプレート１２０を固定している。なお、第１マスク取り付けプレート１２０は、ワークＷの第１面Ｗａの側に位置するように設けられ、当該第１マスク取り付けプレート１２０に第１マスクＭ１が取り付けられる。

一方、第２マスクテーブル２００の隅部には支柱２１１を立設し、当該支柱２１１の先端部に第２マスク取り付けプレート２２０を固定している。なお、第２マスク取り付けプレート２２０は、ワークＷの第２面Ｗｂの側に位置するように設けられ、当該第２マスク取り付けプレート２２０に第２マスクＭ２が取り付けられる。

両面露光装置１０’は、図７に示すように、第１マスクＭ１がワークＷの第１面Ｗａの側に位置し、第２マスクＭ２がワークＷの第２面Ｗｂの側に位置するような構成となっている。このように、両面露光装置１０’においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置が実施形態に係る両面露光装置１０と逆になっているが、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせ及び第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２と第２マスクＭ２との位置合わせのための動作などについては、実施形態に係る両面露光装置１０と同様に実施でき、それによって、実施形態に係る両面露光装置１０と同様の効果を得ることができる。

（７）上記実施形態においては、マスクとワークとの位置合わせを行う際における手順としては、図６に示したように、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とを位置合わせするマスク位置合わせ工程を行い（ステップＳ２）、その後、第１マスクＭ１とワークＷとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程を行う（ステップＳ３）ようにしたが、これに限られるものではなく、各工程の順序を入れ替えてもよい。すなわち、第１マスクＭ１とワークＷとを位置合わせする工程（マスク・ワーク位置合わせ工程）を行った後に、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とを位置合わせする工程（マスク位置合わせ工程）を行うにようにしてもよい。

図８は、マスクとワークとの位置合わせを行う際の各工程の順序を入れ替えた場合のフローチャートを示す図である。図８に示すように、第１マスクＭ１を第１マスク取り付けプレート１２０に取り付けるとともに第２マスクＭ２を第２マスク取り付けプレート２２０に取り付ける工程をステップＳ１１として行った後において、第１マスクＭ１とワークＷとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程をステップＳ１２として行い、その後、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２を位置合わせするマスク位置合わせ工程をステップＳ１３として行う。このような順序としても図６の場合と同様の効果が得られる。なお、図８に示すマスク・ワーク位置合わせ工程（ステップＳ１２）及びマスク位置合わせ工程（ステップＳ１３）におけるそれぞれの位置合わせ制御については、基本的には、上記実施形態において説明した位置合わせ制御と同様に実施できる。

図８に示すような手順による位置合わせを行う場合においても、長尺シート状のワークＷをロール・トゥー・ロール（roll to roll）方式によって一方向に進行させる過程で、両面露光を行う場合においては、個々の露光対象領域が順次、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２に対向する位置となるが、この場合、図８に示すフローチャートにおいて、ステップＳ１３が終了したら、図８の破線Ｒ１で示すようにステップＳ１２に戻る処理を行う。これによって、個々の露光対象領域において、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせと、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせとを行うことができる。

また、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせ（ステップＳ１２）によって得られた第１マスクＭ１とワークＷとの位置関係を固定させておけば、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせをその都度行わずに、図８に示すフローチャートにおいて、個々の露光対象領域ごとに図８の破線Ｒ２で示すようにステップＳ１３を繰り返し行うことが可能である。これによって、個々の露光対象領域においては、第１マスクＭ１とワークＷとの位置関係を保持したまま、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせとを行うことができる。

（８）上記実施形態においては、マスク位置合わせマーク及びワーク位置合わせマークの形状は、それぞれ丸い点形状とした場合を例示したが、丸い点状形に限られるものではなく、３角形や四角形などの多角形、星形など種々の変形実施が可能である。

（９）上記実施形態においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うためのマスク位置合わせマークを設けるとともに、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークとを設けて、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行うとともに、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせを行うようにした場合を例示したが、マスク同士の位置合わせを行う際とマスクとワークとの位置合わせを行う際とにおいて各位置合わせマークのうちの一部の位置合わせマークを共用することも可能である。

図９は、マスク同士の位置合わせを行う際とマスクとワークとの位置合わせを行う際とにおいて各位置合わせマークのうちの一部の位置合わせマークを共用する場合を説明するために示す図である。図９（ａ）は第１マスクＭ１、第２マスクＭ２及びワークＷを例えば図４に示すように配置したときの第１マスクＭ１、第２マスクＭ２及びワークＷのそれぞれ一部をｘ軸に沿って切断した場合の断面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）を第１マスクＭ１側から見た平面図である。

なお、図９においては、第１マスクＭ１、第２マスクＭ２、ワークＷ及び位置合わせマークなどは誇張して描かれている。また、上記実施形態においては、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせを行う位置合わせマークを「マスク位置合わせマーク」とし、第１マスクＭ１及び第２マスクとワークＷとの位置合わせを行うための位置合わせマークを「ワーク位置合わせマーク」としたが、図９においては、これらを総称して「位置合わせマーク」として説明する。

図９に示すように、第１マスクＭ１に設けられる位置合わせマークＰ１１は、例えば、点状のマークとし、第２マスクＭ２に設けられる位置合わせマークＰ２１は、第１マスクＭ１に設けられる位置合わせマークＰ１１を包含可能な枠形状（図９においては円形状とする。）のマークとし、ワークＷに設けられる位置合わせマークＰ３１は、第２マスクＭ２に設けられている位置合わせマークＰ２１を包含可能な枠形状（図９においては円形状とする。）のマークである。なお、ワークＷに設けられている位置合わせマークＰ３１は内側が空間（孔）となっている。このような位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１，Ｐ３１は、第１マスクＭ１、第２マスクＭ２及びワークＷの所定位置にそれぞれ複数箇所（例えば２箇所）ずつ設けられる。

ここで、例えば、マスクＭ１とマスクＭ２との位置合わせを行う際には、第１マスクＭ１に設けられている位置合わせマークＰ１１とマスクＭ２に設けられている位置合わせマークＰ２１とが一致するように（位置合わせマークＰ１１が位置合わせマークＰ２１の中心に位置するように）位置合わせ制御する。そして、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせがなされた状態で、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせを行う際には、マスクＭ１に設けられている位置合わせマークＰ１１とワークＷに設けられている位置合わせマークＰ３１とが一致するように（位置合わせマークＰ１１が位置合わせマークＰ３１の中心に位置するように）位置合わせ制制御する。図９（ｂ）は第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせがなされた状態で、かつ、第１マスクＭ１とワークＷとの位置合わせがなされた状態を示している。

なお、図９に示すような位置合わせマークを採用した場合における位置合わせ制御は、図５に示すような位置合わせ制御装置５００によって行うことができる。すなわち、２箇所ずつに設けられている位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１，Ｐ３１をそれぞれ対応するカメラＣ１，Ｃ２で撮像して得られた撮像データに基づいて、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とにそれぞれ設けられている位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１が一致するように第２マスクテーブル２００を制御するとともに、第１マスクＭ１とワークＷとにそれぞれ設けられている位置合わせマークＰ１１，Ｐ３１が一致するように第１マスクテーブル１００を制御する。

図９に示すような位置合わせマークを採用した場合においても、ワークを移動させたり回転させたりすることなく、第１マスクと第２マスクとの位置合わせと、第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせとが可能となる。

このように、図９に示すような位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１，Ｐ３１を採用することによって、マスク同士の位置合わせを行う際とマスクとワークとの位置合わせを行う際とにおいて各位置合わせマークのうちの一部の位置合わせマークを共用することができる。例えば、上記実施形態において第１マスクＭ１のマスク位置合わせマークＰ１は、図９においては位置合わせマークＰ１１に相当し、同じく第２マスクＭ２のマスク位置合わせマークＰ３は、図９においては位置合わせマークＰ２１に相当する。また、上記実施形態において第１マスクＭ１のワーク位置合わせマークＰ５は、図９においては位置合わせマークＰ１１に相当し、同じくワークＷのワーク位置合わせマークＰ７は、図９においては位置合わせマークＰ３１に相当することとなる。このように、図９に示す第１マスクＭ１の位置合わせマークＰ１１は、マスク同士の位置合わせを行う際とマスクとワークとの位置合わせを行う際とにおいて共用の位置合わせマークとして機能する。

なお、この場合、位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１，Ｐ３１は、第１マスクＭ１、第２マスクＭ２及びワークＷにおいて、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２との位置合わせと、第１マスクＭ１及び第２マスクＭ２とワークＷとの位置合わせとをこれら位置合わせマークＰ１１，Ｐ２１，Ｐ３１によって行うことができるような位置に設けられる。

図９に示すような位置合わせマークを採用した場合においても、撮像装置Ｃ（カメラＣ１，Ｃ２）を移動させるための制御が可能な撮像装置移動制御装置６００（図５参照。）を有し、当該撮像装置移動制御装置６００は、少なくとも露光時においては、撮像装置Ｃ（カメラＣ１，Ｃ２）がワークＷにおける露光対象領域Ｂから外れた位置に撮像装置Ｃ（カメラＣ１，Ｃ２）を移動させるように制御する。また、図９に示すような位置合わせマークを採用した場合においても、第１マスクＭ１と第２マスクＭ２とを位置合わせするマスク位置合わせ工程及び第１マスクＭ１とワークＷとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程は、図６に示すような順序であってもよく、また、図８に示すような順序であってもよい。

（１０）上記実施形態においては、長尺シート状のワークＷを一方向に進行させながら順次、両面露光して行く、いわゆるロール・トゥー・ロール方式の両面露光装置を例示したが、このような両面露光装置に限られるものではなく、短尺シート状のワークＷを１枚１枚露光する両面露光装置であってもよい。

（１１）上記実施形態においては、撮像装置（カメラＣ１，Ｃ２）を露光領域から外れ位置とする際においては、撮像装置（カメラＣ１，Ｃ２）をマスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置に移動させる場合を例示したが、露光対象領域Ｂ１から外れた位置であれば、必ずしも、マスク位置合わせマークＰ１，Ｐ２を撮像可能な位置でなくてもよい。例えば、撮像装置をロボットアームなどに取り付けて自在に移動可能とすれば、撮像装置を露光対象領域Ｂ１から外れた任意の位置に移動させることができる。

（１２）上記実施形態においては、第１マスクＭ１は図１及び図２に示すように第１マスク取り付けプレート１２０の上面側に取り付けるとともに、第２マスクＭ２は図１及び図２に示すように第２マスク取り付けプレート２２０の下面側に取り付けるような構成とした場合を例示したが、これに限られるものではなく、第１マスクＭ１は第１マスク取り付けプレート１２０の下面側に取り付けるとともに、第２マスクＭ２は第２マスク取り付けプレート２２０の上面に取り付けるような構成であってもよい。このことは、図７に示す両面露光装置の変形例（両面露光装置１０’）においても同様である。すなわち、両面露光装置１０’においては、第１マスクＭ１は第１マスク取り付けプレート１２０の上面側に取り付けるとともに、第２マスクＭ２は第２マスク取り付けプレート２２０の下面側に取り付けるような構成であってもよい。

１０・・・両面露光装置、１００・・・第１マスクテーブル、１０１，１２１、２０１，２２１・・・空間部、１１１，２１１・・・支柱（支持部材）、１２０・・・第１マスク取り付けプレート、２００・・・第２マスクテーブル、２２０・・・第２マスク取り付けプレート、３１０・・・第１光源、３２０・・・第２光源、３３０，３４０・・・ミラー、５００・・・位置合わせ制御装置、５１０・・・第１マスクテーブル駆動制御部、５２０・・・第２マスクテーブル駆動制御部、５３０・・制御部、Ｃ（Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４）・・・撮像装置（カメラ）、Ｌ１，Ｌ２・・・光軸、Ｍ１・・・第１マスク、Ｍ２・・・第２マスク、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４・・・マスク位置合わせマーク、Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７，Ｐ８・・・ワーク位置合わせマーク、Ｓｘ１１、Ｓｘ１２，Ｓｙ１３，Ｓｘ２１、Ｓｘ２２，Ｓｙ２３・・・モーター（サーボモーター）、Ｗ・・・ワーク、Ｗａ・・・ワークの第１面、Ｗｂ・・・ワークの第２面

Claims (10)

1. 露光対象となるワークの第１面を第１マスクによって露光し、当該第１面とは反対側の第２面を第２マスクによって露光する両面露光装置であって、
   前記第１面及び前記第２面に平行な面を、直交するｘ軸及びｙ軸を含むｘｙ平面としたとき、
   前記第１マスクを前記ｘｙ平面に沿って移動可能とするとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能とする第１マスクテーブルと、
   前記第２マスクを前記ｘｙ平面に沿って移動可能とするとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能とする第２マスクテーブルと、
   を有し、
   前記第２マスクテーブルは、
   前記第１マスクテーブル上に載置され、当該第１マスクテーブル上で当該第１マスクテーブルとは別に前記ｘｙ平面に沿って移動可能であるとともに前記ｘｙ平面に沿って回転可能となっており、前記第１マスクテーブルが前記ｘｙ平面に沿って移動すると、当該第１マスクテーブルとともに前記ｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ移動し、前記第１マスクテーブルが前記ｘｙ平面に沿って回転すると、当該第１マスクテーブルとともに前記ｘｙ平面上で当該第１マスクテーブルと同方向に同量だけ回転することを特徴とする両面露光装置。
2. 請求項１に記載の両面露光装置において、
   前記ワークの第１面の側に設けられ、前記第１マスクを着脱自在に取り付け可能な第１マスク取り付けプレートと、
   前記ワークの第２面の側に設けられ、前記第２マスクを着脱自在に取り付け可能な第２マスク取り付けプレートと、
   を有し、
   前記第１マスク取り付けプレートは、前記第１マスクテーブルに立設されている支持部材を介して当該第１マスクテーブルに固定されており、前記第２マスク取り付けプレートは、前記第２マスクテーブルに立設されている支持部材を介して当該第２マスクテーブルに固定されていることを特徴とする両面露光装置。
3. 請求項１又は２に記載の両面露光装置において、
   前記ｘｙ平面に沿って移動可能とは、前記ｘ軸に沿って移動可能であるとともに前記ｙ軸に沿って移動可能であり、前記ｘｙ平面に沿って回転可能とは、前記ｘｙ平面に垂直なｚ軸周りに回転可能であることを特徴とする両面露光装置。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の両面露光装置において、
   前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うためのマスク位置合わせマークが、前記第１マスクと前記第２マスクとにそれぞれ設けられているとともに、前記第１マスク及び前記第２マスクと前記ワークとの位置合わせを行うためのワーク位置合わせマークが、前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクと前記ワークとにそれぞれ設けられていることを特徴とする両面露光装置。
5. 請求項４に記載の両面露光装置において、
   前記マスク位置合わせマーク及びワーク位置合わせマークを撮像可能な撮像装置と、
   当該撮像装置によって得られた撮像データに基づいて、前記第１マスクと前記第２マスクとにそれぞれに設けられている前記マスク位置合わせマークが一致するように前記第２マスクテーブルを制御するとともに、前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクと前記ワークとにそれぞれ設けられている前記ワーク位置合わせマークが一致するように前記第１マスクテーブルを制御する機能を有する位置合わせ制御装置と、
   をさらに有することを特徴とする両面露光装置。
6. 請求項５に記載の両面露光装置において、
   前記撮像装置を移動させるための制御が可能な撮像装置移動制御装置をさらに有し、当該撮像装置移動制御装置は、少なくとも露光時においては、前記撮像装置がワークにおける露光対象領域から外れた位置となるように前記撮像装置を移動させるように制御する機能を有することを特徴とする両面露光装置。
7. 請求項４〜６のいずれかに記載の両面露光装置において、
   前記マスク位置合わせマークは、
   前記第１マスクにおいては、当該第１マスク上の互いに離間した所定位置にｍ箇所（ｍは２以上の整数とする。）設けられており、前記第２マスクにおいては、当該第２マスク上の互いに離間した所定位置に、前記第１マスクのｍ箇所に設けられているマスク位置合わせマークに対応してｍ箇所設けられており、
   前記ワーク位置合わせマークは、
   前記第１マスク及び第２マスクの少なくとも一方のマスクにおいては、当該マスク上の互いに離間した所定位置にｎ箇所（ｎは２以上の整数とする。）設けられており、前記ワークにおいては、当該ワーク上の互いに離間した所定位置に、前記マスク上のｎ箇所に設けられているワーク位置合わせマークに対応してｎ箇所設けられている、ことを特徴とする両面露光装置。
8. 露光対象となるワークの第１面を第１マスクによって露光し、当該第１面とは反対側の第２面を第２マスクによって露光する両面露光装置において、前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うとともに、前記第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法であって、
   前記両面露光装置としては、請求項１〜７のいずれかに記載の両面露光装置を用い、
   前記第１マスクと前記第２マスクとの位置合わせを行うとともに、前記第１マスク及び第２マスクとワークとの位置合わせを行う工程として、
   前記第２マスクテーブルに対して前記ｘｙ平面に沿った移動及び前記ｘｙ平面に沿った回転の少なくとも一方を行わせることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置合わせするマスク位置合わせ工程と、
   前記第１マスクテーブルに対してｘｙ平面に沿った移動及び回転の少なくとも一方を行わせることにより、前記第１マスクと前記ワークとを位置合わせするマスク・ワーク位置合わせ工程と、
   を有することを特徴とする両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法。
9. 請求項８に記載の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法において、
   前記マスク位置合わせ工程を行った後に前記マスク・ワーク位置合わせ工程を行うことを特徴とする両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法。
10. 請求項８に記載の両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法において、
    前記マスク・ワーク位置合わせ工程を行った後に前記マスク位置合わせ工程を行うことを特徴とする両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法。