TWI616729B - 雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法 - Google Patents

雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法 Download PDF

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Abstract

本發明係揭示一種雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法，其能夠在不移動和不轉動工件的情況下，將第一遮罩與第二遮罩、第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準。其具有使第一遮罩可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第一遮罩台；以及使第二遮罩可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第二遮罩台，其中，第二遮罩台能夠在第一遮罩臺上除第一遮罩台之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，並且，當第一遮罩台沿xy平面移動和轉動時，隨第一遮罩台一同沿xy平面移動和轉動。

Description

雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法
本發明有關於雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法。
以往，對作為光刻對象的工件(電路基板等)的第一面、與該第一面相反側的第二面分別進行光刻的雙面光刻裝置已被廣泛使用。在這樣的雙面光刻裝置中，在將配置於工件的第一面側的第一遮罩與配置於工件的第二面側的第二遮罩進行對準後，再將第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準時，需要在第一遮罩與第二遮罩的位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準。
像這樣，作為使第一遮罩與第二遮罩的位置關係保持不變來進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準的對準方法，可列舉的一例為：在將第一遮罩與第二遮罩進行對準後，先將第一遮罩按預先設定的量移動和轉動後，使該第一遮罩與工件進行對準，接著，在根據第一遮罩的移動量或轉動量來移動和轉動第二遮罩，從而使該第二遮罩與工件進行對準。
像這樣的對準控制，也就是軟體(Software)控制，其藉由預先構築用於進行對準控制的控制軟體來得以實現。然而，在像這樣的軟體控制過程中，即使是在用於將第一遮罩與工件進行對準控制的控制資料被恰當地設定的情況下，有時也會發生第一遮罩台(Table)驅動構造的運作與第二遮罩台驅動構造的運作間產生物理性偏差的情況。
因此，如果根據用於將第一遮罩與工件進行對準控制的控制資料，從而將第二遮罩與工件進行對準的話，有可能會在當初已完成對準的第一遮罩與第二遮罩之間產生位置偏移，其結果就是，第一遮罩與第二遮罩無法高精度的完成對準。
另一方面，也有能夠在不使用上述的軟體控制，而是利用機械的運作保持第一遮罩與第二遮罩的位置關係不變，來完成第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準的雙面光刻裝置被提出(例如，參照專利文獻1)。
專利文獻1中記載的雙面光刻裝置為：在將第一遮罩與第二遮罩的進行對準後，在將已完成對準的第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準時，不將第一遮罩和第二遮罩分別移動和轉動，而是將工件一側在平面上進行移動和轉動。藉由這樣，就能夠在保持第一遮罩與第二遮罩的位置關係不變的情況下，將已完成對準的第一遮罩以及第二遮罩，與工件進行對準。
先行技術文獻
專利文獻1：特開2013-142778號公報
但是，如專利文獻1中記載的雙面光刻裝置般，在將第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準時，使用將工件一側進行移動的方法，但這種方法根據工件種類的不同，有時會有不理想的情況產生。例如，像長條片狀的工件從輸送輥推進至收卷輥，也就是在被稱為卷對卷(Roll to Roll)方式的雙面光刻裝置中，如果要將工件一側在平面上進行移動和轉動的話，由於需要將用於將工件一側在平面上進行移動和轉動的構造組配進工件的輸送構造中，因此工件的輸送構造就會變得複雜，而且，一旦將工件一側在平面上進行移動和轉動，就 有可能成為工件褶皺或扭曲的成因。這樣，就存在有一旦工件產生褶皺或扭曲，就無法進行高品質的雙面光刻的課題。
本發明鑒於以上課題，以提供一種不將工件移動和轉動，同時又能夠將第一遮罩與第二遮罩、第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準的雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法為目的。
(1)本發明的雙面光刻裝置是將作為光刻對象的工件的第一面藉由第一遮罩進行光刻，將與該第一面相反側的第二面藉由第二遮罩進行光刻，其特徵在於，在將與第一面以及第二面相平行的面定為包含有垂直相交的x軸以及y軸的xy平面時，包括：使第一遮罩可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第一遮罩台；以及使第二遮罩可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第二遮罩台，其中，第二遮罩台安裝在第一遮罩臺上，並且能夠在該第一遮罩臺上除該第一遮罩台之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，並且當第一遮罩台沿xy平面移動時，隨該第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台沿xy平面轉動時，隨該第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。
像這樣，本發明的光刻裝置為第二遮罩台被載置在第一遮罩臺上，能夠在該第一遮罩臺上除該第一遮罩台之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，當第一遮罩台沿xy平面移動時，隨該第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台沿xy平面轉動時，隨該第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。
由於本發明的光刻裝置是上述這樣的構成，因此能夠在不移動和不轉動工件的情況下，能夠將第一遮罩與第二遮罩、第一遮罩以及第二遮罩與 工件進行對準。藉由這樣，就沒有必要將用於在工件一側的平面上進行移動和轉動的構造組配進工件的輸送構造中，也就不會使工件的輸送構造複雜化，另外，由於不會使工件產生褶皺或扭曲，因此就能夠進行高品質的雙面光刻。
另外，根據本發明的光刻裝置，不但能夠在第一遮罩與第二遮罩進行對準後，在第一遮罩與第二遮罩位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準，更能夠在第一遮罩與工件進行對準後，在第一遮罩與工件位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩與第二遮罩的對準。
(2)在本發明的雙面光刻裝置中，最好是具有：設置在工件的第一面側，並且能夠將第一遮罩自如地安裝和卸下的第一遮罩安裝板(Plate)；以及設置在工件的第二面側，並且能夠將第二遮罩自如地安裝和卸下的第二遮罩安裝板，其中，第一遮罩安裝板藉由垂直設置於第一遮罩臺上的支撐部件從而被固定在第一遮罩臺上，第二遮罩安裝板藉由垂直設置於第二遮罩臺上的支撐部件從而被固定在第二遮罩臺上。
由於是上述這樣的構成，因此當第一遮罩台沿xy平面移動時，第一遮罩安裝板會隨第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台沿xy平面轉動時，第一遮罩安裝板會隨第一遮罩台一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。藉由這樣，就能夠實現第一遮罩沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動。同樣的，當第二遮罩台沿xy平面移動時，第二遮罩安裝板會隨第二遮罩台一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第二遮罩台沿xy平面轉動時，第二遮罩安裝板會隨第二遮罩台一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。藉由這樣，就能夠實現第二遮罩沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動。
(3)在本發明的雙面光刻裝置中，可沿xy平面移動最好是指，可沿x軸移動的同時可沿y軸移動；可沿xy平面轉動最好是指，能夠在與xy平面相垂直的z軸周圍轉動。
藉由這樣，由於只要將用於驅動第一遮罩台以及第二遮罩台的驅動構造設置為能夠朝垂直相交的兩個軸(x軸以及y軸)移動(往返移動)、以及能夠在與xy平面垂直的z軸周圍轉動(順時針轉動以及逆時針轉動)即可，因此就能夠使驅動構造單純化。
(4)在本發明的雙面光刻裝置中，最好是：用於第一遮罩與第二遮罩對準的遮罩對準標記(Mark)被分別設置於第一遮罩和第二遮罩上，同時，用於第一遮罩以及第二遮罩與工件對準的工件對準標記被分別設置於第一遮罩以及第二遮罩中至少一方的遮罩上和工件上。
藉由這樣，在進行第一遮罩與第二遮罩對準的同時，更能夠進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準。
(5)在本發明的雙面光刻裝置中，最好是進一步包括：能夠對遮罩對準標記以及工件對準標記進行攝像的攝像裝置；以及具備根據藉由該攝像裝置獲得的攝像資料，控制第二遮罩台使分別被設置於第一遮罩與第二遮罩處的遮罩對準標記一致，同時，控制第一遮罩台使分別被設置於第一遮罩以及第二遮罩中至少一方的遮罩處與工件處的工件對準標記一致功能的對準控制裝置。
藉由具備像這樣的攝像裝置以及對準控制裝置，就能夠在不移動和不轉動工件的情況下，進行第一遮罩與第二遮罩、第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準。例如，能夠將第二遮罩高精度地與第一遮罩對準，同時，在完成 第一遮罩與第二遮罩高精度地對準後，在不移動工件的情況下進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的高精度對準。
(6)在本發明的雙面光刻裝置中，最好是：進一步具有能夠控制用於移動攝像裝置的攝像裝置移動控制裝置，並且該攝像裝置移動控制裝置具備，至少在光刻時控制攝像裝置移動從而使攝像裝置位於離開工件上的光刻物件區域的位置上的功能。
藉由這樣，由於攝像裝置在光刻時位於離開工件上的光刻物件區域的位置上，因此在進行光刻時，就能夠防止攝像裝置遮擋來自於光源的光。
(7)在本發明的雙面光刻裝置中，最好是：遮罩對準標記在第一遮罩上的相互隔開的規定位置上設置m處(m為大於等於2的整數)，並且在第二遮罩上的相互隔開的規定位置上與第一遮罩上設置的m處遮罩對準標記相對應地設置m處；工件對準標記在第一遮罩以及第二遮罩中至少一方的遮罩上的相互隔開的規定位置上設置n處(n為大於等於2的整數)，並且在工件上的相互隔開的規定位置上與遮罩上設置的n處工件對準標記相對應地設置n處。
遮罩對準標記藉由像這樣被設置在第一遮罩和第二遮罩上，就能夠高精度地進行第一遮罩與第二遮罩的對準。另外，工件對準標記藉由像這樣被設置在第一遮罩以及第二遮罩中至少一方的遮罩與工件上，就能夠高精度地進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準。
(8)本發明的雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法是在將作為光刻物件的工件的第一面藉由第一遮罩進行光刻，並且將與該第一面相反側的第二面藉由第二遮罩進行光刻的雙面光刻裝置中，在進行第一遮罩與第二遮罩對準的同時，進行第一遮罩以及第二遮罩與工件對準，其特徵在於：作為雙面 光刻裝置，使用(1)至(7)中任意一個所記載的雙面光刻裝置，並且作為在進行第一遮罩與第二遮罩對準的同時，進行第一遮罩以及第二遮罩與工件對準的步驟，包括：遮罩對準步驟，藉由對第二遮罩台進行沿xy平面的移動以及沿xy平面的轉動中的至少一方來進行第一遮罩與第二遮罩的對準；以及遮罩.工件對準步驟，藉由對第一遮罩台進行沿xy平面的移動以及轉動中的至少一方來進行第一遮罩與工件的對準。
根據本發明的雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法，由於作為雙面光刻裝置，使用的是(1)至(7)中任意一個所記載的雙面光刻裝置，因此能夠獲得與(1)至(7)中所記載的雙面光刻裝置所具有的效果相同的效果。
(9)在本發明的雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法中，最好是在進行遮罩對準步驟後進行遮罩與工件對準步驟。
該與工件的對準方法是先將第一遮罩與第二遮罩進行對準(遮罩對準步驟)後，再將第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準(遮罩與工件對準步驟)，藉由將遮罩對準步驟、遮罩與工件對準步驟按此順序進行，就能夠在第一遮罩與第二遮罩位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩以及第二遮罩與工件的對準。
(10)在本發明的雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法中，也能夠在進行遮罩與工件對準步驟後，進行遮罩對準步驟。
該遮罩與工件的對準方法是先將第一遮罩與工件進行對準(遮罩與工件對準步驟)後，再將第一遮罩與第二遮罩進行對準(遮罩對準步驟)，藉由將遮罩對準步驟、遮罩與工件對準步驟按此順序進行，就能夠在第一遮罩與工件位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩與第二遮罩的對準。
10、10’‧‧‧雙面光刻裝置
100‧‧‧第一遮罩台
101、121、201、221‧‧‧空間部
111、211‧‧‧支柱
120‧‧‧第一遮罩安裝板
200‧‧‧第二遮罩台
220‧‧‧第二遮罩安裝板
310‧‧‧第一光源
320‧‧‧第二光源
330、340‧‧‧反射鏡
500‧‧‧對準控制裝置
510‧‧‧第一遮罩台驅動控制部
520‧‧‧第二遮罩台驅動控制部
530‧‧‧控制部
C、C1、C2、C3、C4‧‧‧攝像裝置(攝像機)
L1、L2‧‧‧光軸
M1‧‧‧第一遮罩
M2‧‧‧第二遮罩
P1、P2、P3、P4‧‧‧遮罩對準標記
P11、P21、P31‧‧‧對準標記
P5、P6、P7、P8‧‧‧工件對準標記
S1至S3、S11至S13‧‧‧步驟
Sx11、Sx12、Sy13、Sx21、Sx22、Sy23‧‧‧電機(伺服電機)
W‧‧‧工件
Wa‧‧‧工件的第一面
Wb‧‧‧工件的第二面
第1圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的說明用斜視圖。
第2圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的說明用正面圖。
第3圖是第一遮罩台100沿xy平面移動以及沿xy平面轉動的說明圖。
第4圖是第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準以及第一遮罩M1與工件W的對準的說明圖。
第5圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中的對準控制裝置500以及攝像裝置移動控制裝置600的說明圖。
第6圖是遮罩與工件進行對準時的各步驟的流程說明圖。
第7圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的變形例的說明圖。
第8圖是遮罩與工件進行對準時將各步驟順序替換後的流程說明圖。
第9圖是遮罩之間進行對準時與遮罩與工件進行對準時共用各對準標記中的一部分對準標記時的說明圖。
以下，對本發明的實施方式進行說明。
第1圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的說明用斜視圖。
第2圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的說明用正面圖。另外，第2圖中有一部分作為截面圖展示。
實施形態所涉及的雙面光刻裝置10如第1圖以及第2圖所示，將作為光刻對象的工件W的第一面Wa藉由第一遮罩M1進行光刻，將與該第一面Wa相反側的第二面Wb藉由第二遮罩M2進行光刻。另外在實施形態所涉及的雙面光刻裝置10中，工件W定為長條片狀物，該長條片狀的工件W自輸送輥(未圖示)向 收卷輥行進，即定為卷對卷方式的雙面光刻裝置。另外，工件W例如為柔性(Flexible)電路基板等，第一遮罩M1以及第二遮罩M2分別由形成為矩形的透明板材(例如玻璃板等)組成，並且分別形成有規定的圖形(定為電路圖形)。
再有，在實施方式中，將與工件W的第一面Wa以及第二面Wb相平行的面定為包含有垂直相交的兩個軸(x軸以及y軸)的平面，x軸定為沿工件W的行進方向，y軸定為沿與工件W的行進方向垂直相交的方向來進行說明。
以下，對實施方式所涉及的雙面光刻裝置10進行詳細說明。
實施方式所涉及的雙面光刻裝置10包括：使第一遮罩M1可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第一遮罩台100；以及使第二遮罩M2可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第二遮罩台200，另外，「可沿xy平面移動」是指，可沿x軸移動的同時沿y軸移動；「可沿xy平面轉動」是指，可在與xy平面垂直的z軸周圍轉動。
另外，第二遮罩台200載置在第一遮罩台100上，並且能夠在該第一遮罩台100上除該第一遮罩台100之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動。另外，當第一遮罩台100沿xy平面移動時，第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台100沿xy平面轉動時，第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。
具體來說，當第一遮罩台100沿x軸向一個方向移動規定的量時，第二遮罩台200也沿x軸向一個方向移動相同的量；當第一遮罩台100沿x軸向另一個方向移動規定的量時，第二遮罩台200也沿x軸向另一個方向移動相同的量。另外，當第一遮罩台100沿y軸移動時也同樣如此。即：當第一遮罩台100沿y軸向一個方向移動規定的量時，第二遮罩台200也沿y軸向一個方向移動相同的 量；當第一遮罩台100沿y軸向另一個方向移動規定的量時，第二遮罩台200也沿y軸向另一個方向移動相同的量。
另外，當第一遮罩台100在y軸周圍順時針轉動規定的量時，第二遮罩台200也在y軸周圍順時針轉動相同的量；當第一遮罩台100在y軸周圍逆時針轉動規定的量時，第二遮罩台200也在y軸周圍逆時針轉動相同的量。
像這樣，第二遮罩台200就能夠除第一遮罩台100之外沿xy平面移動和沿xy平面轉動，並且，當第一遮罩台100沿xy平面移動時，就會隨第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台100沿xy平面轉動時，就會隨第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。再有，在第1圖以及第2圖中，用於驅動第一遮罩台100以及第二遮罩台200的驅動構造的圖示被省略。
下面，將進一步地就第一遮罩台100以及第二遮罩台200進行說明。首先，對第一遮罩台100進行說明。第一遮罩台100的平面形狀大致呈矩形，並且該第一遮罩台100的幾乎中央部形成有用來透過來自於第一光源310的光的空間部101。
在這樣的第一遮罩台100的四個角落處，分別垂直設置有作為支撐部件的支柱111，各支柱111的前端部固定有可將第一遮罩M1自如裝卸的第一遮罩安裝板120。第一遮罩安裝板120被設置在工件W的第一面側。還有，第一遮罩安裝板120的幾乎中央部形成有用來透過來自於第二光源320的光的空間部121，該空間部121處可自如裝卸地安裝有第一遮罩M1來覆蓋該空間部121。
由於第一遮罩安裝板120像這樣被固定在第一遮罩台100上，因此該第一遮罩安裝板120能夠在當第一遮罩台100沿xy平面移動時，隨第一遮罩台 100一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，並且當第一遮罩台100沿xy平面轉動時，隨第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。藉由這樣，第一遮罩M1的沿xy平面的移動以及沿xy平面的轉動，就依靠第一遮罩台100的沿xy平面的移動以及沿xy平面的轉動來進行。
另外，第一遮罩安裝板120更藉由未圖示的驅動構造，可沿z軸方向(在第1圖以及第2圖中為上下方向)往返移動。因此，能夠對第一遮罩M1與工件W之間的間隔進行調整。
接著，對第二遮罩台200進行說明，第二遮罩台200也與第一遮罩台100同樣，在平面形狀上大致呈矩形，但是在尺寸上要小於第一遮罩台100，並且第二遮罩台200在其四個邊緣部(邊)與第一遮罩台100分別對應的邊緣部(邊)之間在設置有規定的間隔的狀態下被載置在第一遮罩台100上。另外，第二遮罩台200的幾乎中央部形成有用來透過來自於第一光源310的光的空間部201。
在這樣的第二遮罩台200的四個角落處，分別垂直設置有作為支撐部件的支柱211，各支柱211的前端部固定有可將第二遮罩M2自如裝卸的第二遮罩安裝板220。第二遮罩安裝板220被設置在工件W的第二面側。還有，第二遮罩安裝板320的幾乎中央部形成有用來透過來自於第一光源310的光的空間部221，該空間部221處可自如裝卸地安裝有第二遮罩M2來覆蓋該空間部221。
不過，在實施方式所涉及的雙面光刻裝置中，被設置在第一遮罩安裝板120上的空間部121，與被設置在第二遮罩安裝板220上的空間部221分別被定位相同尺寸。
由於第二遮罩安裝板220像這樣被固定在第二遮罩台200上，因此該第二遮罩安裝板220能夠在當第二遮罩台200沿xy平面移動時，隨第二遮罩台 200一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，並且當第二遮罩台200沿xy平面轉動時，隨第二遮罩台200一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。藉由這樣，第二遮罩M2的沿xy平面的移動以及沿xy平面的轉動，就依靠第二遮罩台200的沿xy平面的移動以及沿xy平面的轉動來進行。
另外，第二遮罩安裝板220更藉由未圖示的驅動構造，可沿z軸方向(在第1圖以及第2圖中為上下方向)往返移動。因此，能夠對第二遮罩M2與工件W之間的間隔進行調整。
不過，在第一遮罩安裝板120與第二遮罩安裝板220之間設置有規定的間隔，並且在第一遮罩安裝板120與第二遮罩安裝板220之間更介入有工件W。
另外，在第一光源310以及第二光源320中，第一光源310被設置為：在第一遮罩台100側，該第一光源310的光軸L1呈水準方向。並且，來自於第一光源310的光藉由反射鏡(Mirror)330折射90度後，對第二遮罩M2進行照射，從而使形成於該第二遮罩M2上的電路圖形在工件W的第二面Wb上成像。另一方面，第二光源320被設置為：在第一遮罩安裝板120側，該第二光源320的光軸L2呈水準方向。並且，來自於第二光源320的光藉由反射鏡340折射90度後，對第一遮罩M1進行照射，從而使形成於該第一遮罩M1上的電路圖形在工件W的第一面Wa上成像。
再有，第一遮罩安裝板120側以及第二遮罩安裝板220側的第一光源310以及第二光源320的配置方法並沒有被特別地限定，只要是能夠將分別形成於第一遮罩M1以及第二遮罩M2上的電路圖型適宜地成像在工件W的第一面Wa以及第二面Wb上即可。
另外，雖然在第1圖以及第2圖中並未圖示，但用於第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的對準標記(也就是遮罩對準標記)被分別設置於第一遮罩M1和第二遮罩M2上，同時，用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W對準的對準標記(也就是工件對準標記)被分別設置於第一遮罩M1以及第二遮罩M2中至少一方的遮罩(在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中定為第一遮罩M1)與工件W上。關於這些遮罩對準標記以及工件對準標記，將根據第4圖進行後述。
另外，同樣雖然在第1圖以及第2圖中並未圖示，但設置有可對遮罩對準標記和工件對準標記進行攝像的攝像裝置；以及根據藉由該攝像裝置獲得的攝像資料，從而對第一遮罩台100進行控制的同時，對第二遮罩台200進行控制的對準控制裝置。關於這些攝像裝置以及對準控制裝置，將根據第4圖以及第5圖進行後述。
第3圖是第一遮罩台100沿xy平面移動以及沿xy平面轉動的說明圖。另外，用於使第一遮罩台100沿xy平面移動以及沿xy平面轉動的驅動構造由於可以使用公知的技術，因此在第3圖中，省略了關於電機之外的構成要素的圖示以及說明，並且以模式化標示。另外，雖然在第3圖中對第一遮罩台100進行說明，但第二遮罩台200也可以幾乎同樣的方式實施。
如第3圖所示，用來給第一遮罩台100提供驅動力的三個或是四個(在實施方式所涉及的雙面光刻裝置中定為三個)電機(定為伺服電機(Servo motors))Sx11、Sx12、以及Sy13分別被設置在第一遮罩台100的四個角部中的三個角部附近，藉由選擇性地運行該三個電機Sx11、Sx12、以及Sy13，就能夠使第一遮罩台100在沿xy平面往返移動(沿x軸往返移動以及沿y軸往返移動)的同時，沿xy平面轉動(在z軸周圍順時針轉動或逆時針轉動)。
具體來說，藉由使電機Sx11或電機Sx12正方向轉動，就能夠使第一遮罩台100沿x軸向一個方向(第3圖中的左方向(x’方向))移動；藉由使電機Sx11或電機Sx12反方向轉動，就能夠使第一遮罩台100沿x軸向圖示的另一個方向(第3圖中的右方向(x方向))移動。
另外，藉由使電機Sy13正方向轉動，就能夠使第一遮罩台100沿y軸向一個方向(第3圖中的下方向(y’方向))移動；藉由使電機Sy13反方向轉動，就能夠使第一遮罩台100沿y軸向圖示的另一個方向(第3圖中的上方向(y方向))移動。
另外，藉由使電機Sx11、Sx12、以及Sy13同時正方向轉動相同的量，就能夠使第一遮罩台100以該第一遮罩台100未圖示的中心(空間部101的中心)為假設的轉動軸，在z軸周圍以逆時針方向(a’方向)轉動；藉由使電機Sx11、Sx12、以及Sy13同時反方向轉動相同的量，就能夠使第一遮罩台100以該第一遮罩台100未圖示的中心(空間部101的中心)為假設的轉動軸，沿xy平面在z軸周圍以順時針方向(a方向)轉動。
再有，要使第一遮罩台100沿該第一遮罩台的xy平面移動後，使該第一遮罩台100沿xy平面轉動規定的量時，則在保持第一遮罩台100的沿xy平面的移動量的狀態下沿xy平面轉動規定的量。另外，要使第一遮罩台100沿xy平面轉動規定的量後，使該第一遮罩台100沿xy平面移動規定的量時，則在保持第一遮罩台100的沿xy平面的轉動量的狀態下沿xy平面移動規定的量。
另外，沿xy平面的移動也就是沿x軸方向或是沿y軸方向進行移動時的移動範圍(往返移動範圍)以及沿xy平面轉動時的轉動量(順時針方向或逆時針方向的轉動角度範圍)並不太大，在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，作 為往返移動範圍，例如為0至10mm程度即可，作為轉動角度範圍，例如為0至10度程度即可。不過，往返移動範圍以及轉動角度範圍並不被限定。
在第3圖中，雖然以電機為三個作為示例，但是也可以是在第一遮罩台100的四個角部附近分別設置電機。
另外，第二遮罩台200也同樣設置有用來給第二遮罩台200提供驅動力的三個或是四個(定為三個)電機(伺服電機)，該三個電機(圖示雖省略但定為Sx21、Sx22、以及Sy23)與第一遮罩台100同樣分別被設置在第二遮罩台200的四個角部中的三個角部附近，藉由選擇性地運行該三個電機Sx21、Sx22、以及Sy23，就能夠使第二遮罩台200在沿xy平面往返移動(沿x軸往返移動以及沿y軸往返移動)的同時，沿xy平面轉動(在z軸周圍順時針轉動或逆時針轉動)。
接下來，就第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準以及第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W的對準進行說明。
第4圖是第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準以及第一遮罩M1與工件W的對準的說明圖。第4圖中僅將用於就對準進行說明所必要的構成要素標示出，並模式化的進行圖示。其中，第4圖(a)為斜視圖，第4圖(b)為從上方沿z軸俯瞰第一遮罩M1的平面圖。
另外，在第4圖中，第一遮罩M1上被矩形虛線所包圍的區域A1為對應被設置在第一遮罩安裝板120上的空間部121(參照第1圖以及第2圖)的區域，第二遮罩M2上被矩形虛線所包圍的區域A2為對應被設置在第二遮罩安裝板220上的空間部221(參照第1圖以及第2圖)的區域。
第一遮罩M1以及第二遮罩M2上分別設有用於該第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準標記。該遮罩對準標記在第一遮罩M1上的相互隔開 的規定位置上設置m處(m為大於等於2的整數)。在第二遮罩M2上的相互隔開的規定位置上與第一遮罩M1上設置的m處遮罩對準標記相對應地設置m處。
在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，以m=2進行說明。因此，將第一遮罩M1上設置的兩處遮罩對準標記定為「遮罩對準標記P1、P2」；將第二遮罩M2上設置的兩處遮罩對準標記定為「遮罩對準標記P3、P4」。
具體來說，在第一遮罩M1側，例如，在該第一遮罩M1的對角的兩個角部中的一方的角部的內側設置有遮罩對準標記P1；在另一方的角部的內側設置有遮罩對準標記P2。另外，在第二遮罩M2側，在第二遮罩M2的對角的兩個角部中的，一方的角部(對應第一遮罩M1上設置有遮罩對準標記P1的角部的角部)的內側設置有遮罩對準標記P3；另一方的角部(對應第一遮罩M1上設置有遮罩對準標記P2的角部的角部)的內側設置有遮罩對準標記P4。
當第一遮罩M1的遮罩對準標記P1與第二遮罩M2的遮罩對準標記P3一致，並且，當第一遮罩M1的遮罩對準標記P2與第二遮罩M2的遮罩對準標記P4一致時，則定為第一遮罩M1與第二遮罩M2被適宜地進行了對準。
遮罩對準標記P1、P2被設置在：第一遮罩M1上被虛線矩形框所包圍的區域A1(對應空間部121的區域)內，並且是離開工件W的第一面Wa上的當前光刻物件區域(第4圖(b)中以灰色標記的區域B1)。另一方面，遮罩對準標記P3、P4被設置在：第二遮罩M2上被虛線矩形框所包圍的區域A2(對應空間部221的區域)內，並且是離開工件W的第二面Wb上的當前光刻物件區域(第二面Wb上同樣為第4圖(b)中以灰色標記的區域B1)。再有，在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，將「離開光刻物件區域的位置」定為：當將工件W如第1圖以及第2圖所示般安裝時，離開該工件W的寬度方向的位置。
另外，用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W對準的工件對準標記，被分別設置在第一遮罩M1和工件W上。工件對準標記在第一遮罩M1上的相互隔開的規定位置上設置有n處(n為大於等於2的整數)，並且在工件上的相互隔開的規定位置上與第一遮罩M1上設置的n處工件對準標記相對應地設置有n處。
在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，以n=2進行說明。因此，將第一遮罩M1上設置的兩處工件對準標記定為「工件對準標記P5、P6」；將第二遮罩M2上設置的兩處工件對準標記定為「工件對準標記P7、P8」。
當第一遮罩M1的工件對準標記P5與工件W的工件對準標記P7一致，並且，當第一遮罩M1的工件對準標記P6與工件W的工件對準標記P8一致時，則定為第一遮罩M1與工件W被適宜地進行了對準。再有，這些工件對準標記P5、P6被設置在第一遮罩M1上的被虛線矩形框所包圍的區域A1(對應空間部121的區域)內。
不過，第一遮罩M1與第二遮罩M2的位置是否一致以及第一遮罩M1與工件W的位置是否一致，則是根據攝像裝置對各個對準標記(遮罩對準標記P1至P4以及工件對準標記P5至P8)進行攝像後獲得的攝像資料來進行判斷。
在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，攝像裝置C具有：用於對遮罩對準標記P1、P3以及對工件對準標記P5、P7有時間差地進行攝像的攝像裝置C1；以及用於對遮罩對準標記P2、P4以及對工件對準標記P6、P8有時間差地進行攝像的攝像裝置C2。
具體來說，攝像裝置C1(也稱為攝像機(Camera)C1)是用於對設置在第一遮罩M1上的遮罩對準標記P1與設置在第二遮罩M2上的遮罩對準標記P3 進行攝像的同時，對設置在第一遮罩M1上的工件對準標記P5與設置在工件W上的工件對準標記P7進行攝像的裝置；攝像裝置C2(也稱為攝像機C2)是用於對設置在第一遮罩M1上的遮罩對準標記P2與設置在第二遮罩M2上的遮罩對準標記P4進行攝像的同時，對設置在第一遮罩M1上的工件對準標記P6與設置在工件W上的工件對準標記P8進行攝像的裝置。
再有，攝像機C1有時間差地對遮罩對準標記P1以及遮罩對準標記P3，並且對工件對準標記P5以及工件對準標記P7進行攝像；攝像機C2有時間差地對遮罩對準標記P2以及遮罩對準標記P4，並且對工件對準標記P6以及工件對準標記P8進行攝像。因此，攝像機C1、C2能夠：沿xy平面移動、在z軸周圍轉動、以及沿z軸上下移動。用於使攝像機C1、C2沿xy平面移動、在z軸周圍轉動、以及沿z軸上下移動的驅動構造由於可以藉由公知的技術來實現，因此省略了圖示以及說明。
第5圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中的對準控制裝置500以及攝像裝置移動控制裝置600的說明圖。對準控制裝置500如第5圖所示，包括：第一遮罩台驅動控制部510，藉由控制第一遮罩台100的電機Sx11、Sx12、以及Sy13從而對第一遮罩台100進行驅動；第二遮罩台驅動控制部520，藉由控制第二遮罩台200的電機(未圖示的Sx21、Sx22、以及Sy23)從而對第二遮罩台200進行驅動；以及控制部530，根據來自於攝像裝置C(攝像機C1、C2)的攝像資料，向第一遮罩台驅動控制部510以及第二遮罩台驅動控制部520中的至少一方提供控制資料。
被像上述這樣構成的對準控制裝置500具有如下功能：根據獲得的來自於攝像機C1、C2的攝像資料，控制第二遮罩台200從而使分別設置在第一 遮罩M1和第二遮罩M2上的遮罩對準標記一致(遮罩對準標記P1與P3一致，並且遮罩對準標記P2與P4一致)的同時，控制第一遮罩台100從而使分別設置在第一遮罩M1和工件W上的工件對準標記一致(工件對準標記P5與P7一致，並且工件對準標記P6與P8一致)。
具體來說，藉由攝像機C1、C2獲得的攝像資料被提供給控制部530後，控制部530根據該攝像資料向第二遮罩台驅動控制部520提供控制資料從而使遮罩對準標記P1與P3一致，並且遮罩對準標記P2與P4一致。第二遮罩台驅動控制部520則根據控制資料對電機Sx21、Sx22、以及Sy23進行選擇性地驅動。藉由這樣，就能夠進行第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準。
遮罩對準標記P1與P3一致，並且遮罩對準標記P2與P4一致後，移動攝像機C1、C2，對工件對準標記P5以及工件對準標記P7進行攝像的同時，對工件對準標記P6以及工件對準標記P8進行攝像。此時，再將藉由攝像機C1、C2獲得的攝像資料提供給控制部530後，控制部530根據該攝像資料向第一遮罩台驅動控制部510提供控制資料從而使工件對準標記P5與P7一致，並且工件對準標記P6與P8一致。第一遮罩台驅動控制部510則根據來自於控制部530的控制資料對電機Sx11、Sx12、以及Sy13進行選擇性地驅動。藉由這樣，就能夠進行第一遮罩M1與工件W的對準。
藉由這樣的對準控制裝置500，就能夠對第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準的同時，對第一遮罩M1與工件W進行對準。再有，在進行第一遮罩M1與工件W的對準時，由於第二遮罩M2也會與第一遮罩M1同方向移動和轉動相同的量，因此在第一遮罩M1與第二遮罩M2完成對準的狀態下，來進行第一遮 罩M1與工件W的對準的話，第二遮罩M2便會在第一遮罩M1與第二遮罩M2位置關係保持不變的情況下，被與工件W對準。
而這，正是由於如下構成所帶來的結果：第二遮罩台200載置在第一遮罩台100上，並且能夠在該第一遮罩台100上除該第一遮罩台100之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，當第一遮罩台100沿xy平面移動時，則第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台100沿xy平面轉動時，則第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。
接下來，對攝像裝置移動控制裝置600進行說明。攝像裝置移動控制裝置600具有：用於使攝像機C1、C2移動的移動構造部610；以及用於控制該移動構造部610的移動控制部620。該攝像裝置移動控制裝置600更具備至少在光刻時控制攝像機C1、C2移動從而使攝像機C1、C2的位置位於離開工件W上的光刻物件區域B1的位置上的功能。藉由這樣，由於攝像機C1、C2的位置位於離開工件W上的光刻物件區域B1的位置上，因此在進行光刻時，就能夠防止攝像機C1、C2遮擋來自於光源310、320的光。
再有，在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，是設定為：攝像機C1、C2位於可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置上的狀態時，攝像機C1、C2位於離開光刻物件區域B1的位置上。因此，預先使攝像機C1、C2可在箭頭y一y’方向上移動，在光刻時，控制攝像機C1、C2先朝y’方向移動後，再移動至可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置。
如上述說明，在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，第二遮罩台200載置在第一遮罩台100上，並且能夠在該第一遮罩台100上除該第一遮罩台 100之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，當第一遮罩台100沿xy平面移動時，則第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向移動相同的量，當第一遮罩台100沿xy平面轉動時，則第二遮罩台200隨該第一遮罩台100一同在xy平面上以相同方向轉動相同的量。
正因為實施方式所涉及的雙面光刻裝置10為這樣的構成，所以在配置於工件W的第一面Wa側的第一遮罩M1與配置第二面Wb側的第二遮罩M2完成對準後，在進行第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W的對準時，能夠在不使工件W移動和轉動的情況下，在第一遮罩M1與第二遮罩M2位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W的對準。藉由這樣，就沒有必要將用於在工件W一側的平面上進行移動和轉動的構造組配進工件的輸送構造中，也就不會使工件的輸送構造複雜化，另外，由於不會使工件W產生褶皺或扭曲，因此能夠實現高品質的雙面光刻。
接下來，對實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中的遮罩與工件的對準方法進行說明。
第6圖是遮罩與工件進行對準時的各步驟的流程說明圖。首先，將第一遮罩M1安裝至第一遮罩安裝板120的同時，將第二遮罩M2安裝至第二遮罩安裝板220(步驟S1)。
並且，在第一遮罩台100上，藉由對第二遮罩台200進行沿xy平面移動以及沿xy平面轉動中的至少一方，來進行第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準步驟(步驟S2)。在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中的遮罩與工件的對準方法中，在進行遮罩對準步驟時，工件W未被配置在第一遮罩M1與第二遮 罩M2之間。不過，即便是在將工件W配置在第一遮罩M1與第二遮罩M2之間的狀態下，也能夠實施該遮罩對準步驟。
進行遮罩對準步驟時的控制，是由對準控制裝置500根據來自於攝像機C1、C2的攝像資料進行的。此時，攝像機C1、C2在可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置上進行攝像。再有，由於對準控制裝置500所進行的對準控制如前所述，因此其說明在此處省略。藉由進行該遮罩對準步驟，就會將第一遮罩M1與第二遮罩M2對準。
接下來，藉由對第一遮罩台100進行沿xy平面移動以及沿xy平面轉動中的至少一方，來進行第一遮罩M1與工件W對準的遮罩與工件對準步驟(步驟S3)。在進行遮罩與工件對準步驟時，定為工件W被配置在第一遮罩M1與第二遮罩M2之間的狀態。另外，攝像機C1、C2已移動至可對遮罩對準標記P5、P6進行攝像的位置上。
另外，進行遮罩與工件對準步驟時的控制，與遮罩對準步驟一樣，也是由對準控制裝置500根據來自於攝像機C1、C2的攝像資料進行的。由於對準控制裝置500所進行的第一遮罩M1與工件W的對準控制如前所述，因此其說明在此處省略。藉由進行該遮罩與工件對準步驟，就會將第一遮罩M1與工件W對準。
藉由依次進行上述的遮罩對準步驟以及遮罩與工件對準步驟，在第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準的同時，在第一遮罩與第二遮罩位置關係保持不變的情況下，第一遮罩M1與工件W以及第二遮罩M2與工件W就會被分別對準。
而且，藉由在規定的時間點點亮光源310、320，第一遮罩M1上形成的電路圖型就會在工件W的第一面Wa的合適的位置上被光刻；第二遮罩M2上形成的電路圖型就會在工件W的第二面Wb的合適的位置上被光刻。再有，在進行光刻時，攝像機C1、C2被藉由攝像裝置移動控制裝置600控制為位於離開光刻物件區域B1的位置上(在工件W上為位於離開B1的位置上，並且在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中為可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置上)上。
在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中，由於是以使長條片狀的工件W以卷對卷方式在一個方向上行進的過程中來進行雙面光刻的情況來作為示例的，因此沿在一個方向上行進的工件W的長度方向設定的多個光刻物件區域中的每個光刻物件區域依次位於與雙面光刻裝置10的第一遮罩M1以及第二遮罩M2相對的位置上。
此時，在對某一個光刻物件進行光刻後，在下一個光刻物件位於與第一遮罩M1以及第二遮罩M2相對的位置上時，每當第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準、第一遮罩M1與工件W進行對準時，在第6圖中所示的流程中，一旦步驟S3結束後，就會如第6圖中的虛線R1所示進行返回步驟S2的處理。藉由這樣，就能夠在每個光刻物件區域上，進行第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準，以及第一遮罩M1與工件W的對準。
另外，只要將藉由第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準(步驟S2)獲得的第一遮罩M1與第二遮罩M2位置關係進行固定，就能夠在不需要每次都對第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準的情況下，在第6圖中所示的流程中，如第6圖中虛線R2所示般對每個光刻物件區域重複進行步驟S3。藉由這樣，就能夠在 每個光刻物件區域上，在第一遮罩M1與第二遮罩M2位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩M1與工件W的對準。
在實施方式所涉及的雙面光刻裝置10中遮罩與工件的對準方法中，由於作為雙面光刻裝置，使用的也是實施方式所涉及雙面光刻裝置10，因此能夠獲得與實施方式所涉及的雙面光刻裝置10同樣的效果。
再有，本發明不限於上述實施方式，只要不脫離本發明主旨範圍的情況下可實施各種變形。例如，可實施如下的變形。
(1)在上述實施方式中，用於對遮罩對準標記以及工件對準標記進行攝像的攝像機C1、C2雖然以設置在第一遮罩M1側時為例進行了說明，但是也可以為攝像機C1、C2設置在第二遮罩M2側的構成。另外，也可以是在第一遮罩M1側以及第二遮罩M2側都設置攝像機，從而根據從各處的攝像機獲得的攝像圖像資料來對第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準的同時，對第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W進行對準。
(2)在上述實施方式中，第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準、以及第一遮罩M1與工件W的對準，雖然以使用相同的攝像機C1、C2有時間差地進行攝像來進行示例說明，但是也可以分別對應設置在第一遮罩M1上的兩處遮罩對準標記P1、P2(在第二遮罩M2上則為遮罩對準標記P3、P4)設置兩台攝像機，同時，分別對應設置在第一遮罩M1上的兩處工件對準標記P5、P6(在工件W上則為工件對準標記P7、P8)設置兩台攝像機，從而根據從各處的攝像機獲得的攝像資料來進行第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準、以及第一遮罩M1與工件W的對準。此情況下，在光刻時控制各個攝像機進行回避使其位於離開光刻物件區域的位置上。
(3)在上述實施方式中，用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W進行對準的工件對準標記P5、P6雖然在遮罩側是設置在了第一遮罩M1上，但是也可以設置在第二遮罩M2上，也可以在第一遮罩M1以及第二遮罩M2上都進行設置。再有，即便是用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W進行對準的工件對準標記P5、P6設置在第二遮罩M2上時，在進行與工件W之間的對準時，也是藉由第一遮罩台100的移動來進行第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W的對準。
(4)在上述實施方式中，用於第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準標記雖然在第一遮罩M1以及第二遮罩M2上分別設置有兩處，但是不限於兩處，也可以是大於等於三處。同樣的，用於第一遮罩M1與工件W對準的工件對準標記雖然在第一遮罩M1以及工件W上分別設置有兩處，但是不限於兩處，也可以是大於等於三處。
(5)在上述實施方式中，雖然是以如下構成的雙面光刻裝置進行了示例說明：對水準方向放置的工件W分別從上下方向進行光照射從而對該工件進行光刻。但是不限於此，例如可以是如下構成的雙面光刻裝置：對垂直方向放置的工件W分別從左右方向進行光照射從而對該工件進行光刻。
(6)第1圖以及第2圖所示的雙面光刻裝置10的構成僅為一例，其構成並不限於第1圖以及第2圖所示的構成，例如，也可以為第7圖所示的構成。
第7圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的變形例的說明圖。 再有，第7圖是實施方式所涉及的雙面光刻裝置10的變形例(定為雙面光刻裝置10’)的正面圖，並且是與第2圖對應的圖。第7圖中與第1圖相同的構成要素被附上了同一符號。還有，在第7圖中，在將工件W安裝至該雙面光刻裝置10’時，將 該工件W的圖示下麵側定為第一面Wa，將該工件W的圖示上面側定為第二面Wb。
雙面光刻裝置10’基本上與實施方式涉及的雙面光刻裝置10為幾乎同樣的構成，不過如第7圖所示，第一遮罩M1與第二遮罩M2的位置是與實施方式涉及的雙面光刻裝置10相反的構成。如上述般，由於在第7圖中，將該工件W的圖示下麵側定為第一面Wa，將該工件W的圖示上面側定為第二面Wb，因此第一遮罩M1與第二遮罩M2的位置是與實施方式涉及的雙面光刻裝置10相反的構成，但是第一遮罩M1仍然位於工件W的第一面Wa側，第二遮罩M2仍然位於工件W的第二面Wb側。
由於設為了這樣的構成，因此在雙面光刻裝置10’中所得到的第二遮罩台200的空間部201就相較於實施方式涉及的雙面光刻裝置10中的第二遮罩台200的空間部201變得足夠的大，並且在第一遮罩台100的規定位置上垂直設置支柱111使其貫穿該空間部201，在該支柱111的前端部固定第一遮罩安裝板120。再有，第一遮罩安裝板120被設置為位於工件W的第一面Wa側，並且在該第一遮罩安裝板120上安裝有第一遮罩M1。
另一方面，在第二遮罩台200的角落部垂直設置有支柱211，該支柱211的前端部固定有第二遮罩安裝板220。再有，第二遮罩安裝板220被設置為位於工件W的第二面Wb側，並且在該第二遮罩安裝板220上安裝有第二遮罩M2。
雙面光刻裝置10’如第7圖所示，構成為：第一遮罩M1位於工件W的第一面Wa側；第二遮罩M2位於工件W的第二面Wb側。像這樣，在雙面光刻裝置10’中，雖然第一遮罩M1與第二遮罩M2的位置與與實施方式涉及的雙面光刻裝置10相反，但是在用於第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準以及第一遮罩M1 以及第二遮罩M2與工件W的對準的運作上說，能夠實施與實施方式涉及的雙面光刻裝置10同樣的方式，藉由這樣，就能夠獲得與實施方式涉及的雙面光刻裝置10同樣的效果。
(7)在上述實施方式中，作為在進行遮罩與工件的對準時的順序，如第6圖所示，是先進行第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準步驟(步驟S2)，然後，再進行第一遮罩M1與工件W對準的遮罩與工件對準步驟(步驟S3)，但是並不限於此順序，也可以將各步驟的順序進行替換。即，也可以是在先進行第一遮罩M1與工件W對準的步驟(遮罩與工件對準步驟)後，再進行第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的步驟(遮罩對準步驟)。
第8圖是遮罩與工件進行對準時將各步驟順序替換後的流程說明圖。如第8圖所示，將第一遮罩M1安裝至第一遮罩安裝板120上的同時將第二遮罩M2安裝至第二遮罩安裝板220上的步驟作為步驟S11進行後，將第一遮罩M1與工件W對準的遮罩與工件對準步驟作為步驟S12進行，然後，將第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準步驟作為步驟S13進行。即便是這樣的順序也能夠獲得與第6圖同樣的效果。再有，關於如第8圖所示的遮罩與工件對準步驟(步驟S12)以及遮罩對準步驟(步驟S13)中的各個對準控制，基本上能夠與上述實施方式中所說明的對準控制同樣來實施。
即使是以第8圖所示的順序進行對準時，在使長條片狀的工件W以卷對卷方式在一個方向上行進的過程中來進行雙面光刻的情況下，每個光刻物件區域依次會位於與第一遮罩M1以及第二遮罩M2相對的位置上，此情況下在第8圖所示的流程圖中，當步驟S13結束後，會如第8圖中虛線R1所示般返回步驟
S12進行處理。藉由這樣，就能夠在每個光刻物件區域上，進行第一遮罩M1與工件W的對準，和第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準。
另外，只要將藉由第一遮罩M1與工件W的對準(步驟S12)獲得的第一遮罩M1與工件W位置關係進行固定，就能夠在不需要每次都對第一遮罩M1與工件W進行對準的情況下，在第8圖所示的流程中，如第8圖中虛線R2所示般對每個光刻物件區域重複進行步驟S13。藉由這樣，就能夠在每個光刻物件區域上，在第一遮罩M1與工件W位置關係保持不變的情況下，進行第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準。
(8)在上述實施方式中，遮罩對準標記以及工件對準標記的形狀分別以定為圓點形狀為示例，但是其並且不限於圓點形狀，可以實施三角形或四角形等的多角形、星形等的各種變形。
(9)在上述實施方式中，是以在設置用於第一遮罩M1與第二遮罩M2對準的遮罩對準標記的同時，設置用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W對準的工件對準標記，從而進行第一遮罩M1與第二遮罩M2的對準的同時，進行第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W的對準為示例，但是在進行遮罩之間的對準時和進行遮罩與工件的對準時，也能夠共用各對準標記中的一部分對準標記。
第9圖是遮罩之間進行對準時與遮罩與工件進行對準時共用各對準標記中的一部分對準標記時的說明圖。其中，第9圖(a)為例如將第一遮罩M1、第二遮罩M2以及工件W如第4圖所示般進行配置時，將第一遮罩M1、第二遮罩M2以及工件W的各自一部分沿x軸進行切割後的截面圖，第9圖(b)則是從第一遮罩M1側觀看第9圖(a)時的平面圖。
再有，在第9圖中，第一遮罩M1、第二遮罩M2、工件W以及對準標記等是被誇張後標示的。另外，在上述實施方式中，雖然將用於第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準的標記定為「遮罩對準對準標記」；將用於第一遮罩M1以及第二遮罩M2與工件W進行對準的標記定為「工件對準對準標記」，但是在第9圖中，則將這些總稱為「對準標記」來進行說明。
如第9圖所示，設置在第一遮罩M1上的對準標記P11例如定為點狀標記，設置在第二遮罩M2上的對準標記P21定為能夠包含設置在第一遮罩M1上的對準標記P11的框形(在第9圖中定為圓形)標記，設置在工件W上的對準標記P31的內側為中空(孔)。像這樣的對準標記P11、P21、P31在第一遮罩M1、第二遮罩M2以及工件W上的規定位置上被分別設置有多處(例如兩處)。
此處，例如在第一遮罩M1與第二遮罩M2進行對準時，進行對準控制使設置在第一遮罩M1上的對準標記P11與設置在第二遮罩M2上的對準標記P21一致(對準標記P11位於對準標記P21的中心)。然後，在第一遮罩M1與第二遮罩M2完成對準的狀態下，在進行第一遮罩M1與工件W的對準時，進行對準控制使設置在第一遮罩M1上的對準標記P11與設置在工件W上的對準標記P31一致(對準標記P11位於對準標記P31的中心)。第9圖(b)展示的就是第一遮罩M1與第二遮罩M2完成對準，並且，第一遮罩M1與工件W完成對準的狀態。
再有，採用第9圖中所示發熱對準標記時的對準控制，能夠藉由第5圖所示的對準控制裝置500來進行。即，根據對分別設置有兩處的對準標記P11、P21、P31利用分別對應的攝像機C1、C2進行攝像後獲得的攝像資料，控制第二遮罩台200從而使分別設置在第一遮罩M1和第二遮罩M2上的對準標記 P11、P21一致的同時，控制第一遮罩台100從而使分別設置在第一遮罩M1和工件W上的對準標記P11、P31一致。
即使是在採用第9圖所示的對準標記的情況下，也能夠在不移動和不轉動工件的情況下，能夠將第一遮罩與第二遮罩、第一遮罩以及第二遮罩與工件進行對準。
像這樣，藉由採用第9圖所示的對準標記P11、P21、P31，就能夠在遮罩之間進行對準時和遮罩與工件進行對準時共用各對準標記中的一部分對準標記。例如，在上述實施方式中第一遮罩M1的遮罩對準標記P1則相當於第9圖中的對準標記P11，同樣的，第二遮罩M2的遮罩對準標記P3則相當於第9圖中的對準標記P21。還有，在上述實施方式中第一遮罩M1的工件對準標記P5則相當於第9圖中的對準標記P11，同樣的，工件W的工件對準標記P7則相當於第9圖中的對準標記P31。像這樣，第9圖所示的對準標記P11就在遮罩之間進行對準時和遮罩與工件進行對準時作為共用的對準標記發揮了功能。
該情況下，對準標記P11、P21、P31被設置在第一遮罩M1、第二遮罩M2、以及工件W上，藉由這些對準標記P11、P21、P31能夠對第一遮罩M1與第二遮罩M2、第二遮罩M2以及第二遮罩M2與工件W進行對準的位置上。
即使是在採用第9圖所示的對準標記的情況下，也具有可控制攝像裝置C(攝像機C1、C2)移動的攝像裝置移動控制裝置600(參照第5圖)，該攝像裝置移動控制裝置600至少在光刻時控制攝像裝置C(攝像機C1、C2)移動從而使攝像裝置C(攝像機C1、C2)位於離開工件W上的光刻物件區域B的位置上。另外，即使是在採用第9圖所示的對準標記的情況下，進行第一遮罩M1與第二遮罩M2 對準的遮罩對準步驟以及進行第一遮罩M1與工件W對準的工件對準步驟，可以是按第6圖所示的順序進行，也可以是按第8圖所示的順序進行。
(10)在上述實施方式中，雖然是以一邊使長條片狀的工件W在一個方向上行進，一邊依次進行雙面光刻，也就是以卷對卷方式的雙面光刻裝置來作為示例的，但是並不限於這樣的雙面光刻裝置，也可以是對短條片狀的工件W一片一片來進行光刻的雙面光刻裝置。
(11)在上述實施方式中，雖然在將攝像裝置(攝像機C1、C2)設為位於離開光刻區域的位置上時，是以使攝像裝置(攝像機C1、C2)移動至位於可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置上來作為示例的，但是只要是位於離開光刻物件B1的位置上，就不必一定是要位於可對遮罩對準標記P1、P2進行攝像的位置上。例如，只要是將攝像裝置安裝在機械臂等上並可自在地移動，就能夠將攝像裝置移動至光刻物件區域B1外的任意位置上。
(12)在上述實施方式中，雖然是以第一遮罩M1如第1圖以及第2圖所示安裝在第一遮罩安裝板120的上方面側，同時，第二遮罩M2如第1圖以及第2圖所示安裝在第二遮罩安裝板220的下方面側的構成來進行示例的，但並不限於此，也可以是將第一遮罩M1安裝在第一遮罩安裝板120的下方面側，同時，第二遮罩M2安裝在第二遮罩安裝板220的上方面側的構成。這種情況在第7圖所示的雙面光刻裝置的變形例(雙面光刻裝置10’)中也一樣。即，在雙面光刻裝置10’中，也可以是第一遮罩M1安裝在第一遮罩安裝板120的上方面側，同時，第二遮罩M2安裝在第二遮罩安裝板220的下方面側的構成。
10‧‧‧雙面光刻裝置
100‧‧‧第一遮罩台
101、121、201、221‧‧‧空間部
111、211‧‧‧支柱
120‧‧‧第一遮罩安裝板
200‧‧‧第二遮罩台
220‧‧‧第二遮罩安裝板
310‧‧‧第一光源
320‧‧‧第二光源
330、340‧‧‧反射鏡
L1、L2‧‧‧光軸
M1‧‧‧第一遮罩
M2‧‧‧第二遮罩
W‧‧‧工件
Wa‧‧‧工件的第一面

Claims (10)

  1. 一種雙面光刻裝置，將作為光刻對象的工件的第一面藉由第一遮罩進行光刻，將與該第一面相反側的第二面藉由第二遮罩進行光刻，其中在將與該第一面以及該第二面相平行的面定為包含有垂直相交的x軸以及y軸的xy平面時，該雙面光刻裝置包括：第一遮罩台，使該第一遮罩可沿該xy平面移動的同時可沿該xy平面轉動；以及第二遮罩台，使該第二遮罩可沿該xy平面移動的同時可沿該xy平面轉動；其中，該第二遮罩台安裝在該第一遮罩臺上，並且能夠在該第一遮罩臺上除該第一遮罩台之外沿該xy平面移動的同時沿該xy平面轉動，當該第一遮罩台沿該xy平面移動時，隨該第一遮罩台一同在該xy平面上以相同方向移動相同的量，當該第一遮罩台沿該xy平面轉動時，隨該第一遮罩台一同在該xy平面上以相同方向轉動相同的量。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之雙面光刻裝置，其更包含：第一遮罩安裝板，被設置在該工件的該第一面側，並且能夠將該第一遮罩自如地安裝和卸下；以及第二遮罩安裝板，被設置在該工件的該第二面側，並且能夠將該第二遮罩自如地安裝和卸下；其中，該第一遮罩安裝板藉由垂直設置於該第一遮罩臺上的支撐部件從而被固定在該第一遮罩臺上，該第二遮罩安裝板藉 由垂直設置於該第二遮罩臺上的支撐部件從而被固定在該第二遮罩臺上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之雙面光刻裝置，其中可沿該xy平面移動是指可沿該x軸移動的同時可沿該y軸移動，可沿該xy平面轉動是指可在與該xy平面相垂直的z軸周圍轉動。
  4. 如申請專利範圍第1項中之任意一項所述之雙面光刻裝置，其中用於該第一遮罩與該第二遮罩對準的遮罩對準標記，被分別設置於該第一遮罩和該第二遮罩上，同時，用於該第一遮罩以及該第二遮罩與該工件對準的工件對準標記被分別設置於該第一遮罩以及該第二遮罩中至少一方的遮罩上和該工件上。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之雙面光刻裝置，其更包括：攝像裝置，能夠對該遮罩對準標記以及該工件對準標記進行攝像；以及對準控制裝置，具備根據藉由該攝像裝置獲得的攝像資料，控制該第二遮罩台使分別被設置於該第一遮罩與該第二遮罩處的該遮罩對準標記一致，同時，控制該第一遮罩台使分別被設置於該第一遮罩以及該第二遮罩中至少一方的遮罩處與該工件處的該工件對準標記一致的功能。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之雙面光刻裝置，其更包括能夠控制用於移動該攝像裝置的攝像裝置移動控制裝置，該攝像裝置移動控制裝置具備至少在光刻時控制該攝像裝置移動從而使該攝像裝置位於離開該工件上的光刻物件區域的位置上的功能。
  7. 如申請專利範圍第4至6項中之任意一項所述之雙面光刻裝置，其中該遮罩對準標記在該第一遮罩上的相互隔開的規定位置上設置有m處，m為大於等於2的整數，並且在該第二遮罩上的相互隔開的規定位置上與該第一遮罩上設置的m處遮罩對準標記相對應地設置有m處，該工件對準標記在該第一遮罩以及該第二遮罩中至少一方的遮罩上的相互隔開的規定位置上設置有n處，n為大於等於2的整數，並且在該工件上的相互隔開的規定位置上與該遮罩上設置的n處工件對準標記相對應地設置有n處。
  8. 一種雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法，在將作為光刻物件的工件的第一面藉由第一遮罩進行光刻，將與該第一面相反側的第二面藉由第二遮罩進行光刻的雙面光刻裝置中，在進行該第一遮罩與該第二遮罩對準的同時，進行該第一遮罩以及該第二遮罩與該工件對準，該雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法使用如申請專利範圍第1至7項中之任意一項所述之雙面光刻裝置來作為該雙面光刻裝置，作為在進行該第一遮罩與該第二遮罩對準的同時，進行該第一遮罩以及該第二遮罩與該工件對準的步驟，包括：遮罩對準步驟，藉由對該第二遮罩台進行沿該xy平面的移動以及沿該xy平面的轉動中的至少一方來進行該第一遮罩與該第二遮罩的對準；以及遮罩與工件對準步驟，藉由對該第一遮罩台進行沿該xy平面的移動以及轉動中的至少一方來進行該第一遮罩與該工件的對準。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法，其中在進行該遮罩對準步驟後進行該遮罩與工件對準步驟。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法，其中在進行該遮罩工件對準步驟後，進行該遮罩對準步驟。
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