JP2015079109A - 露光装置における位置制御方法および位置制御装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】パターンの再現性向上とフォトマスクの破損防止とを共に満足させる。【解決手段】露光前の準備となる初期設定において、アクチュエータ21(21A〜21D)によって、ワークWに対してフォトマスク11、12を所定荷重で密着させた状態で、上下のマスクフレーム1と2間の隙間G1〜G4が検出されて、検出された隙間G1〜G4がコントローラUに記憶される。初期設定終了後は、記憶されている隙間G1〜G4となる位置まで下マスクフレーム2をアクチュエータ21A〜21Dによって駆動した状態で、露光光源装置31、32が作動されてワークWに対する露光が行われ、この作業が新たなワークWに対して順次行われる。フォトマスク11、12が交換された際には、初期設定が新たに行われる。【選択図】 図3
Description
本発明は、露光装置における位置制御方法および位置制御装置に関するものである。
露光対象となるワークに対してフォトマスクを密着させた状態で露光を行うことにより、フォトマスクに形成されたパターン(電子回路)をワークに転写することが行われている。特に、スマートフォン、パーソナルコンピュータ、ナビゲーション装置等のディスプレイにおいて、ワークをフィルムシート状として静電容量式のタッチパネルを構成する場合に、フォトマスクを用いた露光が行われることが多い(特許文献1参照)。
ところで、ワークに対してフォトマスクを密着させる際に、ワークに対してフォトマスクを全体的に適正な密着力でもって密着させないと、露光により得られた電子回路のパターンに「ぼけ」や「ゆがみ」を生じる原因となる。また、ガラス製のフォトマスクの場合、密着力(押しつけ力)が強すぎると、フォトマスクが破損してしまう原因ともなる。
このため、フォトマスクを交換したり、ワークの種類(特に厚さに影響を与える種類の変更)が変更される毎に、目視によって、ワークに対するフォトマスクの密着性が適正となるように手動調整しているが、この手動調整に相当の時間を要することになっていた(段取り替えに多大な時間を要する)。また、手動調整であるので、調整がうまくいかない場合も往々にして生じ、このため、上述したパターンの再現性悪化やフォトマスク破損等の問題を生じやすいものであった。
とりわけ、最近ではフォトマスクに形成されるパターンの微細化が進んでいるため、微細寸法での隙間調整が要求されるようになっており、手動調整に限界をきたすことにもなってきているのが実情である。
本発明は以上のような事情を勘案してなされたもので、その目的は、パターンの再現性向上とフォトマスクの破損防止とを共に満足できるようにした露光装置における位置制御方法および位置制御装置を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明による位置制御方法にあっては次のような解決手法を採択してある。すなわち、請求項1に記載のように、
露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクが接近、離間されるように該マスクフレームを駆動するためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置用の位置制御方法であって、
露光前の準備として、前記アクチュエータによって前記ワークに対して前記フォトマスクを所定荷重で密着させた状態で、基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を記憶させる第1ステップと、
前記第1ステップで記憶されている隙間となる位置まで前記マスクフレームを前記アクチュエータによって駆動する第2ステップと、
前記第2ステップの後、ワークに対する露光を行う第3ステップと、
新たに露光対象となる多数の前記ワークに対して、前記第1ステップを経ることなく前記第2ステップおよび前記第3ステップを実行することにより、多数の前記ワークに対する露光を順次行う第4ステップと、
を備えているようにしてある。
露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクが接近、離間されるように該マスクフレームを駆動するためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置用の位置制御方法であって、
露光前の準備として、前記アクチュエータによって前記ワークに対して前記フォトマスクを所定荷重で密着させた状態で、基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を記憶させる第1ステップと、
前記第1ステップで記憶されている隙間となる位置まで前記マスクフレームを前記アクチュエータによって駆動する第2ステップと、
前記第2ステップの後、ワークに対する露光を行う第3ステップと、
新たに露光対象となる多数の前記ワークに対して、前記第1ステップを経ることなく前記第2ステップおよび前記第3ステップを実行することにより、多数の前記ワークに対する露光を順次行う第4ステップと、
を備えているようにしてある。
上記解決手法によれば、露光前の準備として、第1ステップにおいて、ワークとフォトマスクとを、適正な密着性を得るための設定値となる所定荷重でもって密着させた状態として、このときの基準位置に対するマスクフレームの隙間が検出、記憶される。そして、実際の露光に際しては、記憶されている隙間となるようにマスクフレームを精度よく位置制御された状態で露光が行われるので、ワークに対して転写されるパターンが、フォトマスクに形成されたパターンを忠実に再現したものとなって、パターンの再現性を高めることができる。また、所定荷重での密着により、フォトマスクを強く押圧し過ぎてしまう事態も防止されて、フォトマスクの破損が確実に防止されることになる。
上記解決手法を前提とした好ましい態様は、請求項2〜請求項9に記載のとおりである。すなわち、
前記第3ステップの後、前記隙間がわずかに大きくなるように前記マスクフレームを前記アクチュエータにより駆動する第5ステップと、
前記第5ステップの後、前記フォトマスクの全周囲がシールされた状態で該フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする第6ステップと、
をさらに備え、
前記第6ステップの後に、前記第3ステップでの露光が実行される、
ようにしてある(請求項2対応)。この場合、真空引きによって、ワークとフォトマスクとの全面的な密着性を向上させることができる。また、真空引きの際には、あらかじめ所定荷重での密着状態からわずかに隙間を大きくしておくことにより、ワークとフォトマスクとの間を十分に真空引きすることができ、ワークとフォトマスクとの全面的な密着性をより一層向上させる上で好ましいものとなる。
前記第3ステップの後、前記隙間がわずかに大きくなるように前記マスクフレームを前記アクチュエータにより駆動する第5ステップと、
前記第5ステップの後、前記フォトマスクの全周囲がシールされた状態で該フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする第6ステップと、
をさらに備え、
前記第6ステップの後に、前記第3ステップでの露光が実行される、
ようにしてある(請求項2対応)。この場合、真空引きによって、ワークとフォトマスクとの全面的な密着性を向上させることができる。また、真空引きの際には、あらかじめ所定荷重での密着状態からわずかに隙間を大きくしておくことにより、ワークとフォトマスクとの間を十分に真空引きすることができ、ワークとフォトマスクとの全面的な密着性をより一層向上させる上で好ましいものとなる。
前記フォトマスクが交換されたときまたは前記ワークの種類が変更されたときに、前記第1ステップが実行される、ようにしてある(請求項3対応)。この場合、ワークとフォトマスクとの密着性が大きく変化される可能性の高いときに第1ステップを実行させて、請求項1に対応した効果を確実に得る上で好ましいものとなる。
前記第1ステップの前に、前記所定荷重よりも小さい荷重となる初期荷重でもって前記ワークに対して前記フォトマスクを密着させて、このときの前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を原点位置として記憶する第7ステップをさらに備え、
前記第1ステップでは、前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記記憶されている原点位置となる隙間との差が許容範囲内であることを条件として、前記第2ステップの実行が許可される、
ようにしてある(請求項4対応)。この場合、あらかじめ小さな初期荷重で、ワークとフォトマスクとが密着された位置を原点位置となる隙間として記憶しておき、その後に大きな所定荷重での密着を行った際に検出される隙間が、原点位置となる隙間に対して許容範囲外であるときは、第2ステップを実行させないようにして、不良品の発生を未然にかつより確実に防止する上で好ましいものとなる。
前記第1ステップでは、前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記記憶されている原点位置となる隙間との差が許容範囲内であることを条件として、前記第2ステップの実行が許可される、
ようにしてある(請求項4対応)。この場合、あらかじめ小さな初期荷重で、ワークとフォトマスクとが密着された位置を原点位置となる隙間として記憶しておき、その後に大きな所定荷重での密着を行った際に検出される隙間が、原点位置となる隙間に対して許容範囲外であるときは、第2ステップを実行させないようにして、不良品の発生を未然にかつより確実に防止する上で好ましいものとなる。
前記アクチュエータが3個以上設けられて、前記第1ステップでは、該各アクチュエータ付近においてそれぞれ前記隙間が検出されて、各アクチュエータに対応させて複数の隙間が記憶され、
前記第2ステップにおいて、前記各アクチュエータに対応して記憶されている隙間となる位置まで該各アクチュエータを駆動した状態で、前記ワークに対する露光が行われる、
ようにしてある(請求項5対応)。この場合、1つの平面が少なくとも3点で決定されることに基づいて、ワークに対するフォトマスクの密着性を点ではなく面として把握して、請求項1〜請求項3に対応した効果をより一層十分に発揮させる上で好ましいものとなる。
前記第2ステップにおいて、前記各アクチュエータに対応して記憶されている隙間となる位置まで該各アクチュエータを駆動した状態で、前記ワークに対する露光が行われる、
ようにしてある(請求項5対応)。この場合、1つの平面が少なくとも3点で決定されることに基づいて、ワークに対するフォトマスクの密着性を点ではなく面として把握して、請求項1〜請求項3に対応した効果をより一層十分に発揮させる上で好ましいものとなる。
前記アクチュエータが,前記マスクフレームの少なくとも4隅に設けられて、前記第1ステップで記憶される隙間の数が少なくとも4つとされている、ようにしてある(請求項6対応)。この場合、マスクフレームの少なくとも4隅についての隙間を適正にして、請求項4に対応した効果をより一層十分に発揮させる上で好ましいものとなる。
前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出する隙間センサを有し、
前記第1ステップにおいて、記憶される隙間が前記隙間センサでの検出値とされ、
前記第2ステップにおいて、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶された隙間となるように前記アクチュエータがフィードバック制御される、
ようにしてある(請求項7対応)。この場合、マスクフレームの位置をフィードバック制御によって精度の高いものとして、前記各請求項に対応した効果を十分に発揮させる上で好ましいものとなる。
前記第1ステップにおいて、記憶される隙間が前記隙間センサでの検出値とされ、
前記第2ステップにおいて、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶された隙間となるように前記アクチュエータがフィードバック制御される、
ようにしてある(請求項7対応)。この場合、マスクフレームの位置をフィードバック制御によって精度の高いものとして、前記各請求項に対応した効果を十分に発揮させる上で好ましいものとなる。
前記アクチュエータがサーボモータとされ、
前記第1ステップでは、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2ステップでは、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項8対応)。この場合、サーボモータを有効に利用して、第1ステップでの所定荷重の付与制御と、第2ステップでの記憶されている隙間にするための位置制御とを行うことができる。
前記第1ステップでは、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2ステップでは、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項8対応)。この場合、サーボモータを有効に利用して、第1ステップでの所定荷重の付与制御と、第2ステップでの記憶されている隙間にするための位置制御とを行うことができる。
前記フォトマスクが、上マスクフレームに保持された上フォトマスクと、下マスクフレームに保持された下フォトマスクとの上下一対有し、
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記隙間が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔とされ、
前記基準位置が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方に設定されている、
ようにしてある(請求項9対応)。この場合、ワークの上面および下面のそれぞれにパターンを転写することができる。また、上下のマスクフレームは剛性が高い一方、基準位置をいずれか一方のマスクフレームに設定しておくことにより、第1ステップで記憶される隙間の適正が極めて高いものとなり、この結果第2ステップでの位置制御を極めて精度のよいものとすることができる。
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記隙間が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔とされ、
前記基準位置が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方に設定されている、
ようにしてある(請求項9対応)。この場合、ワークの上面および下面のそれぞれにパターンを転写することができる。また、上下のマスクフレームは剛性が高い一方、基準位置をいずれか一方のマスクフレームに設定しておくことにより、第1ステップで記憶される隙間の適正が極めて高いものとなり、この結果第2ステップでの位置制御を極めて精度のよいものとすることができる。
前記目的を達成するため、本発明における位置制御装置あっては次のような解決手法を採択してある。すなわち、請求項10に記載のように、
露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクを接近、離間させるためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置における位置制御装置であって、
基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出する隙間センサと、
前記ワークに対して前記フォトマスクが所定荷重で密着されるように前記アクチュエータを駆動制御する第1駆動制御手段と、
前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されているときに、前記隙間センサで検出される隙間を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段で記憶されている隙間となるように、前記アクチュエータを駆動制御する第2駆動制御手段と、
を備えているようにしてある。上記解決手法によれば、請求項1に対応した方法を実行するための装置が提供される。
露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクを接近、離間させるためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置における位置制御装置であって、
基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出する隙間センサと、
前記ワークに対して前記フォトマスクが所定荷重で密着されるように前記アクチュエータを駆動制御する第1駆動制御手段と、
前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されているときに、前記隙間センサで検出される隙間を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段で記憶されている隙間となるように、前記アクチュエータを駆動制御する第2駆動制御手段と、
を備えているようにしてある。上記解決手法によれば、請求項1に対応した方法を実行するための装置が提供される。
上記解決手法を前提とした好ましい態様は、請求項11以下に記載のとおりである。
前記第2駆動制御手段による駆動後に、前記隙間がわずかに大きくなるように前記アクチュエータを駆動制御する第3駆動制御手段と、
少なくとも前記第3駆動制御手段による駆動制御された状態で、前記フォトマスクの全周囲をシールするシール手段と、
前記第3駆動制御手段による駆動制御の後に、前記シール手段でのシールが行われている状態で、前記フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする吸引手段と、
をさらに備え、
前記吸引手段による真空引きが行われた後に露光が実行される、
ようにしてある(請求項11対応)。この場合、請求項2に対応した方法を実行するための装置が提供される。
少なくとも前記第3駆動制御手段による駆動制御された状態で、前記フォトマスクの全周囲をシールするシール手段と、
前記第3駆動制御手段による駆動制御の後に、前記シール手段でのシールが行われている状態で、前記フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする吸引手段と、
をさらに備え、
前記吸引手段による真空引きが行われた後に露光が実行される、
ようにしてある(請求項11対応)。この場合、請求項2に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記フォトマスクが交換されたときまたは前記ワークの種類が変更されたときに、前記第1駆動制御手段による駆動制御の実行と、前記記憶手段による隙間の記憶とが新たに行われる、ようにしてある(請求項12対応)。この場合、請求項3に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記所定荷重よりも小さい荷重となる初期荷重でもって前記ワークに対して前記フォトマスクを密着させて、このときの前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を原点位置として記憶する第2記憶手段をさらに備え、
前記第1駆動制御手段によって、前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記第2記憶手段に記憶されている隙間との差が所定範囲内であることを条件として、前記第2駆動制御手段の駆動制御を許可する駆動条件設定手段と、
をさらに備えているようにしてある(請求項13対応)。この場合、請求項4に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記第1駆動制御手段によって、前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記第2記憶手段に記憶されている隙間との差が所定範囲内であることを条件として、前記第2駆動制御手段の駆動制御を許可する駆動条件設定手段と、
をさらに備えているようにしてある(請求項13対応)。この場合、請求項4に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記アクチュエータが、少なくとも3個以上設けられ、
前記隙間センサが、前記各アクチュエータ付近において該各アクチュエータ毎に設けられ、
前記第1駆動制御手段が、前記各アクチュエータについてそれぞれ、前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されるように駆動制御し、
前記記憶手段が、各アクチュエータ毎に前記隙間を記憶するようにされ、
前記第2駆動制御手段が、前記各隙間センサで検出される隙間が前記記憶手段で記憶されている各アクチュエータ毎の隙間となるように、該各アクチュエータをフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項14対応)。この場合、請求項5および請求項7に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記隙間センサが、前記各アクチュエータ付近において該各アクチュエータ毎に設けられ、
前記第1駆動制御手段が、前記各アクチュエータについてそれぞれ、前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されるように駆動制御し、
前記記憶手段が、各アクチュエータ毎に前記隙間を記憶するようにされ、
前記第2駆動制御手段が、前記各隙間センサで検出される隙間が前記記憶手段で記憶されている各アクチュエータ毎の隙間となるように、該各アクチュエータをフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項14対応)。この場合、請求項5および請求項7に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記アクチュエータおよび前記隙間センサが、前記マスクフレームの少なくとも4隅にそれぞれ設けられている、ようにしてある(請求項14対応)。この場合、請求項5に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記アクチュエータがサーボモータとされ、
前記第1駆動制御手段が、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2駆動制御手段が、前記隙間センサでの検出される隙間が前記記憶手段に記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項16対応)。この場合、請求項7および請求項8に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記第1駆動制御手段が、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2駆動制御手段が、前記隙間センサでの検出される隙間が前記記憶手段に記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ようにしてある(請求項16対応)。この場合、請求項7および請求項8に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記フォトマスクが、上マスクフレームに保持された上フォトマスクと、下マスクフレームに保持された下フォトマスクとの上下一対有し、
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方が固定式とされると共に、他方が前記アクチュエータによって駆動される移動式とされ、
前記隙間センサが、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔を検出する、
ようにしてある(請求項17対応)。この場合、請求項9に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方が固定式とされると共に、他方が前記アクチュエータによって駆動される移動式とされ、
前記隙間センサが、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔を検出する、
ようにしてある(請求項17対応)。この場合、請求項9に対応した方法を実行するための装置が提供される。
前記隙間センサが、上マスクフレームと前記下マスクフレームとのうち固定式とされた方のマスクフレームに取付けられている、ようにしてある(請求項18対応)。この場合、隙間センサを固定式のマスクフレームに取付けておくことにより、移動されるマスクフレームに取付ける場合に比して、取付構造の簡単化や、安定して精度よく隙間を検出する上で好ましいものとなる。
本発明によれば、ワークとフォトマスクとの密着性を常に適正なものとして、パターンの再現性を向上できると共にフォトマスクの破損を防止することができる。
図1、図2において、1は上マスクフレーム、2は上マスクフレーム1の下方に配設された下マスクフレームである。上マスクフレーム1の下面には、上フォトマスク11が着脱可能に保持されている。また、下マスクフレーム2の上面には、下フォトマスク12が着脱自在に保持されている。
図中、Fは床面に設置されたフレームであり、上マスクフレーム1は、フレームFに固定保持された固定式とされている。一方、下マスクフレーム2は、フレームFに固定されたアクチュエータとしてのサーボモータ21により、上下方向に変位(移動)可能とされている。実施形態では、サーボモータ21は、シリンダ式でかつ電動式とされて、そのシリンダ21aがフレームFに固定される一方、そのピストン21bが下マスクフレーム2に固定されている。なお、ピストン21bをフレームFに固定する一方、シリンダ21aを下マスクフレーム2に固定するようにしてもよい。
各マスクフレーム1および2は、それぞれ、略方形の環状とされて、その中央部にフォトマスク11あるいは12が臨む開口部1aあるいは2aが形成されている。そして、前記アクチュエータ21は、下マスクフレーム2の4隅に配置されて、合計4個設けられている。なお、図1では、4個のサーボモータ21を区別するために、A、B、C、Dの符号を付記して区別して示してあるが、以下の説明で各サーボモータ21同士を区別する必要のないときは、A〜Dの符号を付記することなく単に符号21でもって示すものとする。
上マスクフレーム1の上方には、上露光用光源装置31が配設される一方、下マスクフレーム2の下方には下露光用光源装置32が配設されている。各露光光源装置31、32は、既知のように光源(ランプ)と投影レンズ等を有して、それぞれフレームFに固定保持されている。そして、上露光用光源31からの照射光(露光)は、平行光とされて、上記開口部1aを通して上フォトマスク11に対して直交方向から照射される。また、上露光用光源31からの照射光(露光)は、平行光とされて、開口部2aを通して下フォトマスク12に直交方向から照射される。
上マスクフレーム1には、その4隅、つまり上方から見た平面視においてサーボモータ21付近の位置において、合計4個の隙間センサ41が設けられている。なお、図1では、4個の隙間センサ41を区別するために、A、B、C、Dの符号を付記して区別して示してあるが、以下の説明で各隙間センサ41同士を区別する必要のないときは、A〜Dの符号を付記することなく単に符号41でもって示すものとする。
隙間センサ41は、上マスクフレーム1に対する下マスクフレーム2の隙間(上下方向隙間)を検出するためのもので、実施形態ではシリンダ式のデジタルセンサとされている。すなわち、隙間センサ41のシリンダ部41aが上マスクフレーム1に固定され、そのピストンつまり接触端子41bが、上マスクフレーム1の下面よりも下方に伸びている。これにより、接触端子41bは、下マスクフレーム2の上昇に応じて、下マスクフレーム2によって上方へと押圧変位される。なお、隙間センサ41は、1μm単位でもって、上マスクフレーム1に対する下マスクフレーム2の隙間を検出可能とされている。
上下のフォトマスク11と12との間には、露光対象となるワークWが位置される。実施形態では、ワークWは、フィルムシート状とされて、ロール・ツー・ロール方式で図2中左方から右方へと間欠的に搬送されるようになっている。図2では、露光前となるワークWが巻かれた送りロールが符号51で示され、露光された後のワークWが巻かれた巻き取りロールが符号52で示される。なお、各ロール51、52は、図1、図3では図示を略してある。
図4は、下マスクフレーム2の上マスクフレーム1に対する位置決め制御用の制御系統例を示す。この図4において、Uは、マイクロコンピュータを利用して構成されたコントローラ(制御ユニット)である。このコントローラUには、各隙間センサ41(41A〜41D)からの隙間検出信号が入力される。また、コントローラUによって、サーボモータ21(21A〜21D)が制御される。また、コントローラUは、ワークWの搬送用のアクチュエータ53(図2参照)の駆動制御を行う。
コントローラUには、さらに、初期設定指令用のスイッチMSからの指令信号が入力されるようになっている。このスイッチMSは、マニュアル操作されるもので、少なくともフォトマスク11、12を交換した際に操作されて、コントローラUに初期設定を行わせる指令信号を出力するものである。
ここで、フォトマスク11、12が交換されたときに、スイッチMSが操作されることによりコントローラUによって行われる初期設定について説明する。まず、図2に示すように,下マスクフレーム2が下降位置にある状態で、ワークWを上下のフォトマスク11と12との間に位置させる。この後、各サーボモータ21の駆動制御を行うが、このときの駆動制御はトルク制御とされる。すなわち、下マスクフレーム2を上昇させて、所定荷重(例えばサーボモータ21の最大トルクの70〜90%のトルクで、実施形態では80%のトルク)でもって、上下のフォトマスク11と12とでワークWを密着挟持する状態とする。図3は、この密着挟持状態を示すものとなる。なお、初期設定の事前段階での調整(例えば装置を工場から出荷する前の状態での最終調整)において、上下のマスクフレーム1と2の平行度の調整や、各サーボモータ21A〜21Dを最大トルク値に対する所定割合(例えば80%)のトルク値としたときに、上記所定荷重が得られるように、各サーボモータ21A〜21D間での発生トルク調整等が行われているものである。
上記所定荷重は、上下のフォトマスク11と12とが適切にワークWに密着された状態である。すなわち、密着させるための荷重が、大き過ぎもせずまた小さ過ぎもしない適度な大きさの荷重とされる。これにより、後述するワークWへ露光を行った際に、ワークWに転写されるパターンにゆがみやぼけが生じてしまうことが防止される。また、荷重が大き過ぎることによるフォトマスク11や12の破損が防止される。とりわけ、4カ所という1つの平面を規定するのに必要な3カ所以上の箇所でもってそれぞれ所定荷重で押圧した状態とするので、各フォトマスク11と12との全面に渡って、適切な荷重でもってワークWに密着させることができる。
上記所定荷重でもってワークWに対して上下のフォトマスク11と12とが密着されている状態で、各隙間センサ41で検出される隙間が、コントローラUに装備された記憶手段(例えば不揮発性メモリ)に記憶される。すなわち、隙間センサ41Aで検出された隙間G1と、隙間センサ41Bで検出された隙間G2と、隙間センサ41Cで検出された隙間G3と。隙間センサ41Dで検出された隙間G4とが、コントローラUに記憶される。そして、隙間G1〜G4は、隙間センサ41A〜41Dに対応したサーボモータ21〜21Dに対応させて記憶される。
隙間G1〜G4がコントローラUに記憶されると、初期設定終了とされる。初期設定が終了したことは、それぞれ図示を略すが、ランプ、ブザー等を作動させることにより、あるいはディスプレイに初期設定終了の表示を行うことにより行われる。
初期設定終了後は、ワークWを1ピッチ(露光単位長さ)毎に間欠送りしつつ、露光が順次行われる。ワークWへ順次露光する際には、コントローラUに記憶されている隙間G1〜G4となるように下マスクフレーム2の上下方向位置を調整した状態で行われる。すなわち、下マスクフレーム2が図2に示す下降位置にある状態から、サーボモータ21を駆動制御して下マスクフレーム2を上昇させ、記憶されている隙間G1〜G4となった位置でサーボモータ21(下マスクフレーム2)を停止させる。隙間G1〜G4へ駆動制御する場合は、精度のよい位置制御とされる。この状態で、ワークWへの上下のフォトマスク11、12の密着度合い(密着のための押圧程度)、前述した初期設定時に得られたのと同様の適切なものとされる。
記憶されている隙間G1〜G4となるように各サーボモータ21A〜21Dを駆動制御する場合(4軸制御する場合)、隙間センサ41A〜41Dで検出される実際の隙間が、記憶されている隙間G1〜G4となるようにフィードバック制御される。これにより、実際の隙間が記憶されている隙間G1〜G4となる状態を確保するのに、フィードフォワード制御(見込み制御)する場合に比して精度のよいものとなり、また不用意に強く押圧し過ぎてしまう事態をより確実に防止する上でも好ましいものとなる。
次に、図5のフローチャートを参照しつつ、コントローラUの制御例について説明するが、以下の説明でQはステップを示す。また、実施形態では、スイッチMSが、フォトマスク11、12の交換のときに加えて、ワークWのロールが新たに変更される場合にも操作されるようにしてある。すなわち、ワークWの種類変更(特に基板や塗布膜の厚さの変更)のときは勿論のこと、同じワークWであってもロット(ロット番号)が異なるときは、前述した初期設定を新たに行うようにしてある。
以上のことを前提として、先ずQ1において、フォトマスク11、12が交換されたときであるか否かが判別される(スイッチMSの操作の有無による判別)。このQ1の判別でNOのときは、Q2において、ワークW(のロール)が変更されたか否かが判別される。このQ2の判別でNOのときは、Q1に戻る。
Q1の判別でYESのとき、あるいはQ2の判別でYESのときは、それぞれ、Q3〜Q5の処理によって、初期設定が行われる。すなわち、まずQ3において、ワークWを、上下のフォトマスク11と12とにより所定荷重でもって挟持する状態とする(サーボモータ21のトルク制御)。この後、Q4において、各隙間センサ41A〜41Dで検出された隙間G1〜G4が検出される。そして、Q5において、検出された隙間G1〜G4が,対応するサーボモータ21A〜21Dと対応づけて記憶される。
Q5の後、Q6において,一旦下マスクフレーム2を下降させた後、記憶されている隙間G1〜G4となる位置まで下マスクフレーム2を上昇させる(隙間センサ41A〜41Dでの検出隙間を用いた、サーボモータ21A〜21Dに対するフィードバック制御による位置制御)。この後、Q7において、露光光源装置31、32を作動させて、ワークWに対する露光が行われる。
Q7の後、Q8において、下マスクフレーム2を下降させた後、ワークWを1ピッチ分送り操作する。この後Q9において、記憶されている隙間G1〜G4となるように、下マスクフレーム2を上昇させる(Q6対応)。この後、Q10において、露光が行われる(Q7対応)。
Q10の後、Q11において、ロールが終了したか否かが判別される(送りロール51から供給するワークWが無くなったか否かの判別)。このQ11の判別でNOのときは、Q8以降の処理が繰り返される。また、Q11の判別でYESのときは、初期設定を新たに行わせるべく、Q1に戻るが、このとき、下マスクフレーム2は下降された状態とされ、またロール51を交換すべきことを報知することもできる(ランプ、ブザーによる報知や、ディスプレイでの交換要求の表示)。なお、図5では、隙間G1〜G4を新たに設定することを前提とした制御例を示しているために、Q2の判別でNOのときはQ1に戻るようにしているが、一旦G1〜G4の設定が終了した後は次にG1〜G4の設定が必要になるまでは、Q2の判別でNOのときはQ8に移行させて、ワークWに対して順次露光を行うようにされるものである。
図6、図7は、本発明の第2の実施形態を示すものであり、前記実施形態と同一構成要素には同一符号を付してその重複した説明は省略する。本実施形態では、露光の前に、あらかじめワークWとフォトマスク11、12との間を真空引きするようにしてある。すなわち、下マスクフレーム2(の上面)には、上昇されたときに上マスクフレーム1(の下面)に当接するシール部材61を取付けてある。シール部材61は、方形の環状とされて、フォトマスク11、12の全周囲を取り囲むようにしてある。また、下マスクフレーム2には、シール部材61の内方側において、吸引孔62が形成されている。そして、吸引孔62が、真空引き用のポンプ63に接続されている。ポンプ63は、図4に示すコントローラUによるその駆動が制御される。なお、シール部材61は、上マスクフレーム1に取付けておくこともでき、上下のマスクフレーム1、2にそれぞれ設けるようにしてもよい。また、ポンプ63に連なる吸引孔62は、フォトマスク11、12の周方向に間隔をあけて複数個設けるようにしてもよい。
図6は、上下のマスクフレーム1と2との隙間が、コントローラUに記憶されている隙間となっている状態が示される。この状態から、コントローラUがサーボモータ21A〜21Dを駆動制御して、上下のマスクフレーム1と2との隙間が上記記憶されている隙間よりもわずかに大きくされる(例えば、記憶隙間よりも50μm〜150μmだけ大きくされる)。この後、ポンプ63が駆動されて、ワークWとフォトマスク11、12との間が真空引きされる。この真空引きにより、ワークWに対するフォトマスク11、12の密着性が全面的に向上される。そして、所定の真空度にまで真空引きされた状態で、露光が実行される。
図7は、上記制御を行うためのフローチャートの要部を示すものであり、図5におけるQ5とQ6の間、およびQ9とQ10との間で実行されるステップを示してある。すなわち、Q22において、したマスクフレーム2がわずかに下降される。この後、Q22において、ポンプ63による真空引きが行われる。
ここで、変形例(第3の実施形態)として、次のような位置制御を行うようにしてもよい。すなわち、初期設定の際に、前述した所定荷重での密着工程の前に、サーボモータ21A〜21Dを低トルク(例えば最大出力トルクの20〜30%程度のトルクで初期荷重に相当)でもって、ワークWを上下のフォトマスク11と12で挟持させ、このときに隙間センサ41A〜41D検出される隙間を0点位置としてコントローラUの記憶手段に別途記憶させておく(フォトマスク面を基準とする原点位置の確定)。そして、初期荷重よりも大きな荷重となる前述した所定荷重で挟持した際に、隙間センサ21A〜21Dで検出される隙間と上記原点位置として記憶されている隙間との差が所定の許容範囲(許容誤差範囲)内にあるときに、前述した隙間G1〜G4をコントローラUに記憶させるようにしてもよい。この場合、上記許容範囲外の隙間が検出されたときには、警報装置を作動させるようにしてもよい(Q4、Q6、Q9での処理の際に警報の可能性)。なお、警報装置が作動されたときは、すみやかに下マスクフレーム2を下降させるのが、フォトマスク破損防止等の上で好ましいものとなる。警報装置が作動されたときは、所定荷重を変更して再度初期設定を行うことになる。
また、初期設定において隙間G1〜G4が検出、記憶された後、1つのワークWについて実際に隙間G1〜G4とした状態で試しの露光を行って、露光されたワークWの製品検査を行って(パターンの再現性の確認)、検査結果が良好な場合にQ8以降の処理を行わせるようにしてもよい(検査結果が不良のときは、不良内容に応じて所定荷重を変更して初期設定をしなおす)。
以上実施形態について説明したが、本発明は、実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載された範囲において適宜の変更が可能である。上マスクフレーム1を移動式とする一方、下マスクフレーム2を固定式としてもよく、また各マスクフレーム1、2共に移動式としてもよい。ワークWは、フィルムシート状(可撓性を有するいわゆるフレキシブルシート)に限らず、ガラス基板等、適宜のものとすることができる。露光は、上下同時におこなってもよく、また上下のいずれか一方の露光を先に行い、他方を後に行うようにしてもよい。マスクフレーム1、2(つまりフォトマスク11、12)は、上または下のいずれか一方のみを有するものであってもよい(ワークWに対して片面露光)。図1〜図5の実施形態において、第2の実施形態となる図6、図7に示す場合と同様に、フォトマスク11、12の全周囲をシールしつつ真空引きした後、露光を行うようにしてもよい(記憶されている隙間となった状態での真空引き実行)。
アクチュエータ(サーボモータ21)は適宜の形式のものを用いることができ、同様に隙間センサ41も適宜の形式のものを用いることができる。隙間センサ41の数は適宜設定できるが、1つの平面を規定する最小限の3個以上とするのが好ましい。また、アクチュエータの数も適宜数とすることができる。隙間センサ41は、アクチュエータに対応して設定するのが好ましく、例えば、アクチュエータとしてのサーボモータ21を、例えば、21Aと21Bとの間および21Cと21Dとの間にも設けた合計6個とした場合、各アクチュエータに対応して隙間センサ41の合計6個設けておくのが好ましい。勿論、アクチュエータの数と隙間センサとの数を相違させた設定とすることもできる。隙間センサ41で検出する隙間の基準位置としては、適宜設定できるが、マスクフレームとワークWを挟んで当該マスクフレームと対向する面を有する部材(実施形態では、他方のマスクフレーム)のいずれか一方に設けておくのが好ましい。
ワークWは、1枚毎に個々独立していて、1枚毎にフォトマスクに対して投入されるものであってもよい。初期設定は、フォトマスク11、12が交換された際には必ず行うが、例えば、ワークWの種類が同じでも、ロット(ロット番号)が相違する場合は微妙にその厚さが相違してくる可能性もあることから、このような厚さ相違の可能性が考えられる際には、初期設定を行うようにしてもよい。初期設定は、マニュアル操作による指令に限らず、例えばフォトマスク11、12の交換を自動検出して、この自動検出した際に自動的に初期設定を行わないせるようにしてもよい。勿論、本発明の目的は、明記されたものに限らず、実質的に好ましいあるいは利点として表現されたものを提供することをも暗黙的に含むものである。
本発明は、例えばタッチパネル等を製造する際の露光装置用として好適である。
1:上マスクフレーム
2:下マスクフレーム
11:上フォトマスク
12:下フォトマスク
21(21A〜21D):サーボモータ(アクチュエータ)
31:上露光用光源装置
32:下露光用光源装置
41(41A〜41D):隙間センサ
51:送りローラ
52:巻き取りローラ
53:アクチュエータ(搬送用)
61:シール部材
62:吸引孔
63:ポンプ(真空引き用)
F:フレーム
W:ワーク
MS:スイッチ(初期設定指令用)
U:コントローラ
2:下マスクフレーム
11:上フォトマスク
12:下フォトマスク
21(21A〜21D):サーボモータ(アクチュエータ)
31:上露光用光源装置
32:下露光用光源装置
41(41A〜41D):隙間センサ
51:送りローラ
52:巻き取りローラ
53:アクチュエータ(搬送用)
61:シール部材
62:吸引孔
63:ポンプ(真空引き用)
F:フレーム
W:ワーク
MS:スイッチ(初期設定指令用)
U:コントローラ
Claims (18)
- 露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクが接近、離間されるように該マスクフレームを駆動するためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置用の位置制御方法であって、
露光前の準備として、前記アクチュエータによって前記ワークに対して前記フォトマスクを所定荷重で密着させた状態で、基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を記憶させる第1ステップと、
前記第1ステップで記憶されている隙間となる位置まで前記マスクフレームを前記アクチュエータによって駆動する第2ステップと、
前記第2ステップの後、ワークに対する露光を行う第3ステップと、
新たに露光対象となる多数の前記ワークに対して、前記第1ステップを経ることなく前記第2ステップおよび前記第3ステップを実行することにより、多数の前記ワークに対する露光を順次行う第4ステップと、
を備えていることを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1において、
前記第3ステップの後、前記隙間がわずかに大きくなるように前記マスクフレームを前記アクチュエータにより駆動する第5ステップと、
前記第5ステップの後、前記フォトマスクの全周囲がシールされた状態で該フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする第6ステップと、
をさらに備え、
前記第6ステップの後に、前記第3ステップでの露光が実行される、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1または請求項2において、
前記フォトマスクが交換されたときまたは前記ワークの種類が変更されたときに、前記第1ステップが実行される、ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項において、
前記第1ステップの前に、前記所定荷重よりも小さい荷重となる初期荷重でもって前記ワークに対して前記フォトマスクを密着させて、このときの前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を原点位置として記憶する第7ステップをさらに備え、
前記第1ステップにおいて前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記記憶されている原点位置となる隙間との差が所定範囲内であることを条件として、前記第2ステップの実行が許可される、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか1項において、
前記アクチュエータが3個以上設けられて、前記第1ステップでは、該各アクチュエータ付近においてそれぞれ前記隙間が検出されて、各アクチュエータに対応させて複数の隙間が記憶され、
前記第2ステップにおいて、前記各アクチュエータに対応して記憶されている隙間となる位置まで該各アクチュエータを駆動した状態で、前記ワークに対する露光が行われる、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項5において、
前記アクチュエータが,前記マスクフレームの少なくとも4隅に設けられて、前記第1ステップで記憶される隙間の数が少なくとも4つとされている、ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか1項において、
前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出する隙間センサを有し、
前記第1ステップにおいて、記憶される隙間が前記隙間センサでの検出値とされ、
前記第2ステップにおいて、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶された隙間となるように前記アクチュエータがフィードバック制御される、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか1項において、
前記アクチュエータがサーボモータとされ、
前記第1ステップでは、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2ステップでは、前記隙間センサで検出される隙間が前記第1ステップで記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項1ないし請求項8のいずれか1項において、
前記フォトマスクが、上マスクフレームに保持された上フォトマスクと、下マスクフレームに保持された下フォトマスクとの上下一対有し、
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記隙間が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔とされ、
前記基準位置が、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方に設定されている、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 露光対象となるワークに対して、マスクフレームに保持されたフォトマスクを接近、離間させるためのアクチュエータを備えて、該ワークに対して該フォトマスクを密着させた状態で露光を行うようにした露光装置における位置制御装置であって、
基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出する隙間センサと、
前記ワークに対して前記フォトマスクが所定荷重で密着されるように前記アクチュエータを駆動制御する第1駆動制御手段と、
前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されているときに、前記隙間センサで検出される隙間を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段で記憶されている隙間となるように、前記アクチュエータを駆動制御する第2駆動制御手段と、
を備えていることを特徴とする露光装置における位置制御装置。 - 請求項10において、
前記第2駆動制御手段による駆動後に、前記隙間がわずかに大きくなるように前記アクチュエータを駆動制御する第3駆動制御手段と、
少なくとも前記第3駆動制御手段による駆動制御された状態で、前記フォトマスクの全周囲をシールするシール手段と、
前記第3駆動制御手段による駆動制御の後に、前記シール手段でのシールが行われている状態で、前記フォトマスクと前記ワークとの密着面を真空引きする吸引手段と、
をさらに備え、
前記吸引手段による真空引きが行われた後に露光が実行される、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御装置。 - 請求項10または請求項11において、
前記フォトマスクが交換されたときまたは前記ワークの種類が変更されたときに、前記第1駆動制御手段による駆動制御の実行と、前記記憶手段による隙間の記憶とが新たに行われる、ことを特徴とする露光装置における位置制御装置。 - 請求項10ないし請求項12のいずれか1項において、
前記所定荷重よりも小さい荷重となる初期荷重でもって前記ワークに対して前記フォトマスクを密着させて、このときの前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間を検出すると共に、該検出された隙間を原点位置として記憶する第2記憶手段をさらに備え、
前記第1駆動制御手段によって、前記所定荷重で密着させたときに検出される前記基準位置に対する前記マスクフレームの隙間と前記第2記憶手段に記憶されている隙間との差が所定範囲内であることを条件として、前記第2駆動制御手段の駆動制御を許可する駆動条件設定手段と、
をさらに備えていることを特徴とする露光装置用の位置制御方法。 - 請求項10ないし請求項13のいずれか1項において、
前記アクチュエータが、少なくとも3個以上設けられ、
前記隙間センサが、前記各アクチュエータ付近において該各アクチュエータ毎に設けられ、
前記第1駆動制御手段が、前記各アクチュエータについてそれぞれ、前記ワークに対して前記フォトマスクが前記所定荷重で密着されるように駆動制御し、
前記記憶手段が、各アクチュエータ毎に前記隙間を記憶するようにされ、
前記第2駆動制御手段が、前記各隙間センサで検出される隙間が前記記憶手段で記憶されている各アクチュエータ毎の隙間となるように、該各アクチュエータをフィードバック制御する、
ことを特徴とする露光装置における位置制御装置。 - 請求項14において、
前記アクチュエータおよび前記隙間センサが、前記マスクフレームの少なくとも4隅にそれぞれ設けられている、ことを特徴とする露光装置における位置制御装置。 - 請求項10ないし請求項15のいずれか1項において、
前記アクチュエータがサーボモータとされ、
前記第1駆動制御手段が、前記サーボモータをトルク制御することにより前記所定荷重での密着を行わせ、
前記第2駆動制御手段が、前記隙間センサでの検出される隙間が前記記憶手段に記憶されている隙間となるように前記サーボモータの位置をフィードバック制御する、
ことを特徴とする露光装置用の位置制御装置。 - 請求項10ないし請求項16のいずれか1項において、
前記フォトマスクが、上マスクフレームに保持された上フォトマスクと、下マスクフレームに保持された下フォトマスクとの上下一対有し、
前記ワークの上面に対して前記上フォトマスクによって露光が行われ、該ワークの下面に対して前記下フォトマスクによって露光が行われ、
前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとのいずれか一方が固定式とされると共に、他方が前記アクチュエータによって駆動される移動式とされ、
前記隙間センサが、前記上マスクフレームと前記下マスクフレームとの間の間隔を検出する、
ことを特徴とする露光装置における位置制御装置。 - 請求項17において、
前記隙間センサが、上マスクフレームと前記下マスクフレームとのうち固定式とされた方のマスクフレームに取付けられている、ことを特徴とする露光装置における位置制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013215975A JP2015079109A (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 露光装置における位置制御方法および位置制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013215975A JP2015079109A (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 露光装置における位置制御方法および位置制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015079109A true JP2015079109A (ja) | 2015-04-23 |
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ID=53010570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013215975A Pending JP2015079109A (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 露光装置における位置制御方法および位置制御装置 |
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JP (1) | JP2015079109A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5997409B1 (ja) * | 2016-05-26 | 2016-09-28 | 株式会社 ベアック | 両面露光装置及び両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法 |
KR20190064472A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
-
2013
- 2013-10-17 JP JP2013215975A patent/JP2015079109A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5997409B1 (ja) * | 2016-05-26 | 2016-09-28 | 株式会社 ベアック | 両面露光装置及び両面露光装置におけるマスクとワークとの位置合わせ方法 |
KR20190064472A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
KR102652832B1 (ko) | 2017-11-30 | 2024-03-29 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
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