CN108628108A - 承载装置和曝光机 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种承载装置和曝光机,其中承载装置包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台,以及一换位结构;设置在第一预设高度范围的承载台,以及多个设置在第二预设高度范围的承载台,用于承载掩膜版;换位结构,用于在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后,从多个设置在第二预设高度范围的承载台中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对设置在第一预设高度范围的承载台和目标承载台,进行位置互换。该方案在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后,将其与目标承载台进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度的承载台,从而降低了掩膜版的损坏率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种承载装置和曝光机。
背景技术
在液晶显示技术领域,光刻工艺过程中需要曝光机,通过带有图形的掩膜版对待曝光的基板进行曝光。
曝光机中包括多个从上至下设置的承载台,用于盛放掩膜版。假设曝光机包括5个承载台,则需要使用掩膜版台车通过螺旋升降装置,将掩膜版放至相应的承载台。此过程中,需要掩膜版台车对掩膜版以及承载台进行精确对位,否则易发生掩膜版被划伤的情况。
发明内容
本发明的目的在于提供一种承载装置和曝光机,可以降低掩膜版放置过程中,掩膜版的损坏率。
本发明实施例提供了一种承载装置,应用于曝光机,包括:一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台,以及一换位结构;
所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,用于承载掩膜版;
所述换位结构,用于在掩膜版放入之前,判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版,如承载了掩膜版,则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
在一些实施例中,所述换位结构包括机械臂;
所述机械臂,用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
在一些实施例中,所述换位结构还包括定位器;
所述定位器,用于限定所述机械臂的高度范围,以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
在一些实施例中,所述换位结构还包括缓存区;
所述缓存区,用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台时,存放所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台。
在一些实施例中,所述承载装置还包括传感器,所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接;
所述传感器,用于在掩膜版放入之前,检测所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,是否承载掩膜版;
所述换位结构,用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版,且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后,对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
本发明实施例还提供了一种曝光机,包括承载装置,所述承载装置包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台,以及一换位结构;
所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,用于承载掩膜版;
所述换位结构,用于在掩膜版放入之前,判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版,如承载了掩膜版,则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
在一些实施例中,所述换位结构包括机械臂;
所述机械臂,用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
在一些实施例中,所述换位结构还包括定位器;
所述定位器,用于限定所述机械臂的高度范围,以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
在一些实施例中,所述换位结构还包括缓存区;
所述缓存区,用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台时,存放所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台。
在一些实施例中,所述承载装置还包括传感器,所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接;
所述传感器,用于在掩膜版放入之前,检测所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,是否承载掩膜版;
所述换位结构,用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版,且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后,对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
本发明实施例的承载装置和曝光机,在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后,将其与目标承载台进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度的承载台,从而降低了掩膜版的损坏率。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1为本发明实施例提供的承载装置的结构示意图。
图2为现有的承载装置的结构示意图。
图3为本发明实施例提供的承载装置放入掩膜版的场景示意图。
图4为本发明实施例提供的换位结构的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。
在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
本发明实施例提供了一种曝光机,该曝光机包括承载装置。请参照图1,图1为本发明实施例提供的承载装置的结构示意图。如图1所示,承载装置10包括一设置在第一预设高度范围的承载台100、多个设置在第二预设高度范围的承载台101,以及一换位结构102。
其中,该设置在第一预设高度范围的承载台100,以及该多个设置在第二预设高度范围的承载台101,均用于承载掩膜版。如图2所示,在现有的承载装置20中,包括从上至下依次排列的五个承载台201。当通过人工操作台车,将掩膜版放入两个处于较高位置的承载台201时,由于受承载台201宽度以及高度的限制,凭借肉眼难以将掩膜版,准确对位放入两个处于较高位置的承载台201,故可能造成掩膜版划伤。在本发明实施例中,可以预先选取方便人工对位的高度范围,设置为第一预设高度范围,比如图2中,可以将较低位置的两个承载台201所处的高度范围,设置为第一预设高度范围。剩余不方便人工对应的高度范围,设置为第二预设高度范围。
如图1所示,换位结构102用于在掩膜版放入之前,判断设置在第一预设高度范围的承载台100是否承载了掩膜版,如果承载了掩膜版,则从多个设置在第二预设高度范围的承载台101中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对设置在第一预设高度范围的承载台100和目标承载台,进行位置互换,以使设置在第一预设高度范围的承载台100具有空间,可以存放掩膜版。如果没有承载掩膜版,则直接将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
具体的,假设第一预设高度范围h1为40-50米,第二预设高度范围h2为10-39米,以及51-80米。则如图3所示,承载装置中设置在40-50米的承载台为承载台a,设置在10-39米,以及51-80米的承载台为b、c、d以及e。初始时,承载装置中的承载台a、b、c以及e中均承载了掩膜版,只有承载台d未承载掩膜版。当有新的掩膜版需要放入承载装置10时,换位结构102确定设置在40-50米的承载台a承载了掩膜版,因此从设置在10-39米,以及51-80米的承载台b、c、d以及e中,选取未承载掩膜版的承载台d作为目标承载台,将承载台d和承载台a进行位置互换。此时,承载台d设置在40-50米,故换位结构102将新的掩膜版放入设置在40-50米的承载台d。这样即可以保证将掩膜版,放入设置在方便人工对位的高度范围的承载台,从而避免了掩膜版被划伤,降低了掩膜版的损害率。
在一些实施例中,如图4所示,换位结构102包括机械臂1021。该机械臂1021用于取放设置在第一预设高度范围的承载台100,以及目标承载台。
在一些实施例中,如图4所示,换位结构102还包括定位器1022,定位器1022用于限定机械臂1021的高度范围,以使机械臂1021取放设置在第一预设高度范围的承载台100,以及目标承载台。结合图3和图4所示,当使用机械表1021取承载台e时,定位器1022可以将机械臂1021,抬高至与承载台e持平的高度,以便于机械臂1021取出承载台e。具体的,如图4所示,定位器1022包括螺旋升降器。
在一些实施例中,换位结构102还包括缓存区,该缓存区用于在机械臂1021取出设置在第一预设高度范围的承载台100,或目标承载台时,暂时存放设置在第一预设高度范围的承载台100,或目标承载台。
在一些实施例中,如图1所示,承载装置10还包括传感器103,传感器103分别与设置在第一预设高度范围的承载台100、多个设置在第二预设高度范围的承载台101电性连接。
具体的,传感器103用于检测设置在第一预设高度范围的承载台100,以及多个设置在第二预设高度范围的承载台101是否承载掩膜版。当传感器103检测到设置在第一预设高度范围的承载台100承载了掩膜版,且传感器103检测到目标承载台未承载掩膜版后,换位结构102将设置在第一预设高度范围的承载台100和目标承载台的位置互换。
本发明实施例的承载装置和曝光机,在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后,将其与目标承载台进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度的承载台,从而降低了掩膜版的损坏率。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种承载装置,应用于曝光机,其特征在于,包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台,以及一换位结构;
所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,用于承载掩膜版;
所述换位结构,用于在掩膜版放入之前,判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版,如承载了掩膜版,则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
2.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,所述换位结构包括机械臂;
所述机械臂,用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
3.根据权利要求2所述的承载装置,其特征在于,所述换位结构还包括定位器;
所述定位器,用于限定所述机械臂的高度范围,以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
4.根据权利要求2所述的承载装置,其特征在于,所述换位结构还包括缓存区;
所述缓存区,用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台时,存放所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台。
5.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,所述承载装置还包括传感器,所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接;
所述传感器,用于在掩膜版放入之前,检测所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,是否承载掩膜版;
所述换位结构,用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版,且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后,对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
6.一种曝光机,其特征在于,包括承载装置,所述承载装置包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台,以及一换位结构;
所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,用于承载掩膜版;
所述换位结构,用于在掩膜版放入之前,判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版,如承载了掩膜版,则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中,获取未承载掩膜版的目标承载台,并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
7.根据权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述换位结构包括机械臂;
所述机械臂,用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
8.根据权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述换位结构还包括定位器;
所述定位器,用于限定所述机械臂的高度范围,以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述目标承载台。
9.根据权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述换位结构还包括缓存区;
所述缓存区,用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台时,存放所述设置在第一预设高度范围的承载台,或所述目标承载台。
10.根据权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述承载装置还包括传感器,所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接;
所述传感器,用于在掩膜版放入之前,检测所述设置在第一预设高度范围的承载台,以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台,是否承载掩膜版;
所述换位结构,用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版,且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后,对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台,进行位置互换,以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810377953.8A CN108628108A (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 承载装置和曝光机 |
PCT/CN2019/083168 WO2019206014A1 (zh) | 2018-04-25 | 2019-04-18 | 承载装置和曝光机 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810377953.8A CN108628108A (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 承载装置和曝光机 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108628108A true CN108628108A (zh) | 2018-10-09 |
Family
ID=63694446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810377953.8A Pending CN108628108A (zh) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | 承载装置和曝光机 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108628108A (zh) |
WO (1) | WO2019206014A1 (zh) |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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