JPH03297156A - カセット内の基板検出装置 - Google Patents
カセット内の基板検出装置Info
- Publication number
- JPH03297156A JPH03297156A JP2100667A JP10066790A JPH03297156A JP H03297156 A JPH03297156 A JP H03297156A JP 2100667 A JP2100667 A JP 2100667A JP 10066790 A JP10066790 A JP 10066790A JP H03297156 A JPH03297156 A JP H03297156A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cassette
- optical sensor
- detection
- absence
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 51
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 25
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 2
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体ウェハ等の基板を多段に収納したカセ
ットから基板を取り出したり、あるいはカセットへ基板
を収納したりする際に、カセット内の各段に収納されて
いる基板を検出する装置に関する。
ットから基板を取り出したり、あるいはカセットへ基板
を収納したりする際に、カセット内の各段に収納されて
いる基板を検出する装置に関する。
〈従来の技術〉
従来、この種の基板検出装置として、次のようなものが
ある。
ある。
例えば、基板を収納したカセットを、カセノト内の基板
収納溝のピンチと同じピッチで間欠的に昇降し、所定位
置に固定設置された光センサによってカセット内の谷溝
の基板の有無を検出していくような基板検出装置がある
。
収納溝のピンチと同じピッチで間欠的に昇降し、所定位
置に固定設置された光センサによってカセット内の谷溝
の基板の有無を検出していくような基板検出装置がある
。
この装置によれば、カセットを昇降させる際に、カセッ
トが振動するためカセット内に付着していた塵埃が離脱
して基板に付着したり、あるいは基板収納溝の内壁と基
板端部とが擦れあって塵埃が発生するといった不都合が
ある。
トが振動するためカセット内に付着していた塵埃が離脱
して基板に付着したり、あるいは基板収納溝の内壁と基
板端部とが擦れあって塵埃が発生するといった不都合が
ある。
このような不都合を解消するために、カセットを固定設
置して、基板検出用の光センサをカセットに沿って上下
に間欠送りすることによって、カセットを動かさずにカ
セット内の基板の有無を検出する装置も提案実施されて
いる。
置して、基板検出用の光センサをカセットに沿って上下
に間欠送りすることによって、カセットを動かさずにカ
セット内の基板の有無を検出する装置も提案実施されて
いる。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上述した何れの基板検出装置によっても
、カセットの溝ピ・ンチに合わせて、カセットあるいは
光センサを高精度に間欠送りする必要があるので、パル
スモータ等を使った高精度の間欠送り機構を備える必要
があり、結果として装置構造が複雑になるという問題点
がある。
、カセットの溝ピ・ンチに合わせて、カセットあるいは
光センサを高精度に間欠送りする必要があるので、パル
スモータ等を使った高精度の間欠送り機構を備える必要
があり、結果として装置構造が複雑になるという問題点
がある。
また、カセットあるいは光センサを間欠送りしながら基
板を検出するので、カセット内の各溝全てについて基板
の有無を検出するのに相当の時間を要し、その結果、カ
セットからの基板の取り出しや収納に要する時間が長く
なるという不都合がある。
板を検出するので、カセット内の各溝全てについて基板
の有無を検出するのに相当の時間を要し、その結果、カ
セットからの基板の取り出しや収納に要する時間が長く
なるという不都合がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、カセット内の谷溝における基板の有り無しの情報を
迅速に、かつ、比較的簡単に得ることができるカセット
内の基板検出装置を従供することを目的としている。
て、カセット内の谷溝における基板の有り無しの情報を
迅速に、かつ、比較的簡単に得ることができるカセット
内の基板検出装置を従供することを目的としている。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。
な構成をとる。
即ち、本発明は、固定設置されたカセットに沿って光セ
ンサを昇降移動させることによって、カセットの各溝内
の基板の有無を検出するカセット内の基板検出装置であ
って、 カセットを挟んで対向配置された投光素子と受光素子と
からなる光センサを一体に昇降させる光センサ昇降機構
と、 カセットの基板収納溝に対応するピッチで形成された複
数個の被検出部位をもったピッチ部材およびタイミング
検出センサからなり、これらが前記光センサ昇降機構の
動きに連動して相対移動することにより、前記光センサ
による基板検出タイミングを与えるタイミング信号発生
手段と、カセット内の基板収納溝に対応したアドレス領
域に各収納溝内の基板有り無しの情報を記憶する記憶手
段と、 前記タイミング信号発生手段からの基板検出タイミング
信号を計数することによって記憶手段に書き込みアドレ
スを設定するとともに、基板検出タイミング信号を与え
られたときに基板検出用光センサからの検出信号を取込
み、その検出信号から得られた基板有り無し情報を前記
設定されたアドレス領域に書き込むメモリ制御手段と、
を備えたものである。
ンサを昇降移動させることによって、カセットの各溝内
の基板の有無を検出するカセット内の基板検出装置であ
って、 カセットを挟んで対向配置された投光素子と受光素子と
からなる光センサを一体に昇降させる光センサ昇降機構
と、 カセットの基板収納溝に対応するピッチで形成された複
数個の被検出部位をもったピッチ部材およびタイミング
検出センサからなり、これらが前記光センサ昇降機構の
動きに連動して相対移動することにより、前記光センサ
による基板検出タイミングを与えるタイミング信号発生
手段と、カセット内の基板収納溝に対応したアドレス領
域に各収納溝内の基板有り無しの情報を記憶する記憶手
段と、 前記タイミング信号発生手段からの基板検出タイミング
信号を計数することによって記憶手段に書き込みアドレ
スを設定するとともに、基板検出タイミング信号を与え
られたときに基板検出用光センサからの検出信号を取込
み、その検出信号から得られた基板有り無し情報を前記
設定されたアドレス領域に書き込むメモリ制御手段と、
を備えたものである。
〈作用〉
本発明による作用は次のとおりである。
光センサ昇腎機構は、固定設置されたカセットに沿って
、基板検出用の投光素子と受光素子とを一体的に連続的
に移動させる。このとき、光センサ昇降機構の動きに連
動して、タイミング信号発生手段のピッチ部材とタイミ
ング検出センサとが相対移動することにより、タイミン
グ検出センサは前記基板検出用の光センサの検出タイミ
ング信号を間欠的に出力する。メモリ制御手段は、この
検出タイミング信号を計数することによって、記憶手段
に書き込みアドレスを設定するとともに、前記検出タイ
ミングを与えらるごとに、光センサの検出信号を取り込
み、その検出信号から得られた基板有り無しの情報を、
前記設定されたアドレス領域に順に書き込んでいく。
、基板検出用の投光素子と受光素子とを一体的に連続的
に移動させる。このとき、光センサ昇降機構の動きに連
動して、タイミング信号発生手段のピッチ部材とタイミ
ング検出センサとが相対移動することにより、タイミン
グ検出センサは前記基板検出用の光センサの検出タイミ
ング信号を間欠的に出力する。メモリ制御手段は、この
検出タイミング信号を計数することによって、記憶手段
に書き込みアドレスを設定するとともに、前記検出タイ
ミングを与えらるごとに、光センサの検出信号を取り込
み、その検出信号から得られた基板有り無しの情報を、
前記設定されたアドレス領域に順に書き込んでいく。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
本装置の詳細な構成を説明する前に、第4図および第5
図を参照して、本装置が使用される半導体製造装置の一
例を簡単に説明する。
図を参照して、本装置が使用される半導体製造装置の一
例を簡単に説明する。
第4図に示した装置は、半導体ウェハ等の基板にフォト
レジスト等をコーティングして熱処理するための装置で
あり、大きく分けて、カセットCから基板Wを取り出し
たり、カセットC内へ基板Wを搬入するための基板搬入
・搬出ユニット1と、カセッl−Cから取り出された基
板Wに所要の処理を施すプロセスユニット2とから構成
されている。
レジスト等をコーティングして熱処理するための装置で
あり、大きく分けて、カセットCから基板Wを取り出し
たり、カセットC内へ基板Wを搬入するための基板搬入
・搬出ユニット1と、カセッl−Cから取り出された基
板Wに所要の処理を施すプロセスユニット2とから構成
されている。
第4図、および第5図の平面図に示すように、i板搬入
・搬出ユニット1のカセット設置台3の上には、基板W
を多段に収納する複数個のカセットCが設置されており
、このカセット設置台3の内部に本実施例に係る基板検
出装置の要部が設けられている。基板搬入・搬出ユニッ
ト1には、カセット設置台3に沿って水平移動する基板
取り出し機構4が設けられている。
・搬出ユニット1のカセット設置台3の上には、基板W
を多段に収納する複数個のカセットCが設置されており
、このカセット設置台3の内部に本実施例に係る基板検
出装置の要部が設けられている。基板搬入・搬出ユニッ
ト1には、カセット設置台3に沿って水平移動する基板
取り出し機構4が設けられている。
基板取り出し機構4は、昇降および前後動(第5図にお
ける上下方向)可能な基板吸着アーム5があり、この基
板吸着アーム5によって各カセットC内の溝に収納され
た基板Wを取り出したり、あるいはカセットC内に処理
済みの基板Wを収納したりするようになっている。
ける上下方向)可能な基板吸着アーム5があり、この基
板吸着アーム5によって各カセットC内の溝に収納され
た基板Wを取り出したり、あるいはカセットC内に処理
済みの基板Wを収納したりするようになっている。
基板取り出し機構4には、基板吸着アーム5によって取
り出された基板Wを支持する昇降自在な3本の支持ピン
6□〜61、および前記支持ピン61〜63に支持され
た基板Wの中心位置合わせを行う位置合わせ板り、1t
などが備えられている0位置合わせ板71,7gの上に
は、基板Wの外径と略同−曲率になるように配列された
複数本の突起8があり、位置合わせ板71.7□が水平
往復動することにより、前記突起8が基板Wの周辺に当
接・離間して、基板Wの中心位置合わせを行うようにな
っている。
り出された基板Wを支持する昇降自在な3本の支持ピン
6□〜61、および前記支持ピン61〜63に支持され
た基板Wの中心位置合わせを行う位置合わせ板り、1t
などが備えられている0位置合わせ板71,7gの上に
は、基板Wの外径と略同−曲率になるように配列された
複数本の突起8があり、位置合わせ板71.7□が水平
往復動することにより、前記突起8が基板Wの周辺に当
接・離間して、基板Wの中心位置合わせを行うようにな
っている。
基板取り出し機構4によって、カセットCから取り出さ
れて、位置合わせされた基板Wは、基板取り出し機構4
によって基板受渡し位置(第4図におけるP位置)に移
送された後、プロセスユニット2に備えられた基板搬送
機構9に受は渡される。
れて、位置合わせされた基板Wは、基板取り出し機構4
によって基板受渡し位置(第4図におけるP位置)に移
送された後、プロセスユニット2に備えられた基板搬送
機構9に受は渡される。
基板搬送機構9は、Uの字状の基板支持アーム】0に基
板Wを載置した状態で基板Wを搬送し、プロセスユニッ
ト2に備えられたスピンナ一部111.112や、熱処
理部12.〜12.に基板Wを順にセツティングしてい
く、プロセスユニット2で処理された基板Wは、前記基
板受渡し位置Pにおいて、基板搬送機構9から基板取り
出し機構4へ受は渡された後、基板取り出し機構4によ
ってカセットC内に戻される。
板Wを載置した状態で基板Wを搬送し、プロセスユニッ
ト2に備えられたスピンナ一部111.112や、熱処
理部12.〜12.に基板Wを順にセツティングしてい
く、プロセスユニット2で処理された基板Wは、前記基
板受渡し位置Pにおいて、基板搬送機構9から基板取り
出し機構4へ受は渡された後、基板取り出し機構4によ
ってカセットC内に戻される。
以上のような半導体製造装置に備えられた基板検出装置
の一例を、第1図ないし第3図を参照して説明する。第
1図は基板検出装置の一部破断正面図、第2図は第1図
の■−■矢視断面図、第3図は第2図の■−■矢視断面
図である。
の一例を、第1図ないし第3図を参照して説明する。第
1図は基板検出装置の一部破断正面図、第2図は第1図
の■−■矢視断面図、第3図は第2図の■−■矢視断面
図である。
カセット設置台3に載置された各カセットCには、昇降
自在なコの字状のブラケット21が付設されており、こ
のブラケット21の先端部にカセットC内に収納された
基板Wを検出するための投光素子22および受光素子2
3からなる光センサ24が取り付けられている。なお、
投光素子22および受光素子23は、その光軸が水平方
向に対して若干傾斜した角度(例えば、2〜3度)で取
り付けられることによって、投光素子22からの照射光
を基板Wの厚み以下にまで絞り込まなくても、基板Wの
有無によって遮光・透光状態が得られるようになってい
る。
自在なコの字状のブラケット21が付設されており、こ
のブラケット21の先端部にカセットC内に収納された
基板Wを検出するための投光素子22および受光素子2
3からなる光センサ24が取り付けられている。なお、
投光素子22および受光素子23は、その光軸が水平方
向に対して若干傾斜した角度(例えば、2〜3度)で取
り付けられることによって、投光素子22からの照射光
を基板Wの厚み以下にまで絞り込まなくても、基板Wの
有無によって遮光・透光状態が得られるようになってい
る。
第2図に示すように、カセット設置台3の下方には、ブ
ラケット21に一体に取り付けられた光センサ24を昇
降させるための光センサ昇降機構25がある。光センサ
昇降機構25は、支持板20に垂直方向に並設支持され
たロッドレスシリンダ26とガイド棒27とを備え、こ
れらに摺動自在に嵌入された可動部材28をカセット設
置台3を貫通する縦部材29を介してブラケット21に
連結した構成になっている。ロッドレスシリンダ26の
上下端がらエアーを供給してロッドレスシリンダ26内
の図示しない磁石を上下動させると、これに伴って可動
部材28が上下動することにより、ブラケット21に取
り付けられた光センサ24がカセットCに沿って昇降す
るようになっている。なお、光センサ昇降機構25は、
上述のようなロッドレスシリンダ26に限らず、通常の
エアーシリンダや、モータによる螺子送りl!構などで
構成することも可能である。
ラケット21に一体に取り付けられた光センサ24を昇
降させるための光センサ昇降機構25がある。光センサ
昇降機構25は、支持板20に垂直方向に並設支持され
たロッドレスシリンダ26とガイド棒27とを備え、こ
れらに摺動自在に嵌入された可動部材28をカセット設
置台3を貫通する縦部材29を介してブラケット21に
連結した構成になっている。ロッドレスシリンダ26の
上下端がらエアーを供給してロッドレスシリンダ26内
の図示しない磁石を上下動させると、これに伴って可動
部材28が上下動することにより、ブラケット21に取
り付けられた光センサ24がカセットCに沿って昇降す
るようになっている。なお、光センサ昇降機構25は、
上述のようなロッドレスシリンダ26に限らず、通常の
エアーシリンダや、モータによる螺子送りl!構などで
構成することも可能である。
可動部材28には、櫛歯状のピンチ部材30が上下方向
に連結されている。ピッチ部材30には、被検出部位と
してのスリット31が、カセットCの収納溝と同しピッ
チで同数だけ形成されている。ピンチ部材30の各スリ
ット31を検出するために、フォトインクラブタのよう
なタイミング検出センサ32が支持板20に取り付けら
れている。上述したピッチ部材30およびタイミング検
出センサ32は、本発明におけるタイミング全体手段に
相当する。
に連結されている。ピッチ部材30には、被検出部位と
してのスリット31が、カセットCの収納溝と同しピッ
チで同数だけ形成されている。ピンチ部材30の各スリ
ット31を検出するために、フォトインクラブタのよう
なタイミング検出センサ32が支持板20に取り付けら
れている。上述したピッチ部材30およびタイミング検
出センサ32は、本発明におけるタイミング全体手段に
相当する。
第6図は、上述した基板検出装置の制御系の構成の概略
を示したブロック図である。
を示したブロック図である。
基板検出用の光センサ24、タイミング検出センサ32
、および光センサ昇降機構25は入出力インターフエイ
ス33を介してCPU34に接続されている。
、および光センサ昇降機構25は入出力インターフエイ
ス33を介してCPU34に接続されている。
CP U34は、本発明におけるメモリ制御手段に相当
するもので、光センサ24およびタイミング検出センサ
32からの検出信号に基づき、記憶手段としてメモリ3
5に基板有り無し情報を書き込んでいく。
するもので、光センサ24およびタイミング検出センサ
32からの検出信号に基づき、記憶手段としてメモリ3
5に基板有り無し情報を書き込んでいく。
以下、第7図に示したフローチャートを参照して、本実
施例装置の動作を説明する。
施例装置の動作を説明する。
ステップS1:カセットC内の基板検出に先立って、C
PLJ34は内部カウンタの計数値Nを初期値に設定す
る。ここでは、計数値Nをr□jにセットしている。
PLJ34は内部カウンタの計数値Nを初期値に設定す
る。ここでは、計数値Nをr□jにセットしている。
ステップS2:光センサ具陳機構25に光センサ24の
上昇指令を出す。なお、ここでは、光センサ24の初期
位置がカセ・ントCの下端に設定されている。光センサ
24の上昇指令が出されると、光センサ昇*i構25の
ロッドレスシリンダ26が駆動され、光センサ24が取
り付けられたブラケット21が、カセットCの下端から
上端に向けて連続的に駆動されるとともに、ピッチ部材
30がこれに伴って上昇する。
上昇指令を出す。なお、ここでは、光センサ24の初期
位置がカセ・ントCの下端に設定されている。光センサ
24の上昇指令が出されると、光センサ昇*i構25の
ロッドレスシリンダ26が駆動され、光センサ24が取
り付けられたブラケット21が、カセットCの下端から
上端に向けて連続的に駆動されるとともに、ピッチ部材
30がこれに伴って上昇する。
ステップS3:CPU34は、光センサ24の上昇指令
を出した後、タイミング検出センサ32が透光状態にな
ったかどうか、すなわち、ピッチ部材30のスリット3
1を検出したかどうかを監視する。
を出した後、タイミング検出センサ32が透光状態にな
ったかどうか、すなわち、ピッチ部材30のスリット3
1を検出したかどうかを監視する。
ステップS4ニスリツト31を検出すると、計数(1!
N(始動時には初期価「0」)に「1」を加算して、基
板有り無し情報を書き込むためのメモリ35のアドレス
Aを指定する。N=iのときに指定されるアドレスA、
は、カセットCの下から1段目の基板収納溝に対応して
いる。
N(始動時には初期価「0」)に「1」を加算して、基
板有り無し情報を書き込むためのメモリ35のアドレス
Aを指定する。N=iのときに指定されるアドレスA、
は、カセットCの下から1段目の基板収納溝に対応して
いる。
ステップS5.S6:次に、光センサ24からの検出信
号を取り込み、現在の計数値N(=1)に対応するメモ
リ35のアドレスA+GJ域に、光センサ24の検出信
号から得られた基板有り無しの情報を書き込む。ここで
は、基板有りの場合、「1」を、基板無しの場合、「0
」が書き込まれる。
号を取り込み、現在の計数値N(=1)に対応するメモ
リ35のアドレスA+GJ域に、光センサ24の検出信
号から得られた基板有り無しの情報を書き込む。ここで
は、基板有りの場合、「1」を、基板無しの場合、「0
」が書き込まれる。
ステップS7二次に、計数(INが、カセットCの段数
に応じて定められた数値N0になっているかどうかを判
断する。計数値NがNoになっていれば、カセットC内
の全ての溝について基板の有り無しを確認したことにな
るので、処理を終了する。計数NがNoでない場合は、
ステップS8に進む。
に応じて定められた数値N0になっているかどうかを判
断する。計数値NがNoになっていれば、カセットC内
の全ての溝について基板の有り無しを確認したことにな
るので、処理を終了する。計数NがNoでない場合は、
ステップS8に進む。
ステップS8:ここでは、ステップS3で検出されたス
リット31を通過したかどうかを確認している。すなわ
ち、タイミング検出センサ32が遮光状態になっていれ
ば、ステップS3で検出したスリット31を通過したこ
とになるので、ステップS3に戻って、次のスリット3
1が検出されたかどうかを監視し、以下、同様の処理を
繰り返す。
リット31を通過したかどうかを確認している。すなわ
ち、タイミング検出センサ32が遮光状態になっていれ
ば、ステップS3で検出したスリット31を通過したこ
とになるので、ステップS3に戻って、次のスリット3
1が検出されたかどうかを監視し、以下、同様の処理を
繰り返す。
以上のようにして、カセットC内の全ての溝について、
基板有り無しの情報が、メモリ35の所定のアドレス領
域に書き込まれる。
基板有り無しの情報が、メモリ35の所定のアドレス領
域に書き込まれる。
第4図に示した半導体製造装置では、あるカセットCか
ら基板Wが取り出されている間に、他のカセッ)Cにつ
いて、上述のような基板検出処理を行うことにより、各
カセットC内の基板有り無し情報を予め採取している。
ら基板Wが取り出されている間に、他のカセッ)Cにつ
いて、上述のような基板検出処理を行うことにより、各
カセットC内の基板有り無し情報を予め採取している。
そして、基板取り出し機構4によって、次のカセットC
内の基板を取り出すときには、メモリ35に記憶された
当該カセットCの基板有り無し情報を順に読み出して、
基板Wが入っているカセットC内の溝を特定し、その溝
の位置にまで基板吸着アーム5を連続的に昇降させて、
基板Wの取り出しを行う。
内の基板を取り出すときには、メモリ35に記憶された
当該カセットCの基板有り無し情報を順に読み出して、
基板Wが入っているカセットC内の溝を特定し、その溝
の位置にまで基板吸着アーム5を連続的に昇降させて、
基板Wの取り出しを行う。
このように予め光センサ24を連続的に昇降させて、カ
セットCの基板有り無し情報を採取し、その採取した情
報をもとに基板吸着アーム5を駆動するようにすれば、
光センサを間欠送りしながらカセットC内の谷溝ごとに
基板の有り無しを確認して基板を取り出すという従来手
法に比較して、基板の取り出しに要する時間が短縮され
、この種の半導体製造装置の処理速度の向上を図ること
ができる。
セットCの基板有り無し情報を採取し、その採取した情
報をもとに基板吸着アーム5を駆動するようにすれば、
光センサを間欠送りしながらカセットC内の谷溝ごとに
基板の有り無しを確認して基板を取り出すという従来手
法に比較して、基板の取り出しに要する時間が短縮され
、この種の半導体製造装置の処理速度の向上を図ること
ができる。
なお、本発明は次のように変形実施することも可能であ
る。
る。
(1)実施例では基板Wにフォトレジストを塗布する装
置を例にとって説明したが、本発明はその他の半導体製
造装置にも適用することができる。
置を例にとって説明したが、本発明はその他の半導体製
造装置にも適用することができる。
また、基板は半導体ウェハに限らず、液晶表示器用の基
板など、カセットに収容される種々の基板の検出に用い
ることができる。
板など、カセットに収容される種々の基板の検出に用い
ることができる。
(2)実施例では、光センサ24の具陳に伴ってピッチ
部材30を動かし、固定設置されたタイミング検出セン
サ32でピッチ部材30のスリット31を検出したが、
これはピッチ部材30を固定設置し、タイミング検出セ
ンサ32を移動させるものであってもよい。
部材30を動かし、固定設置されたタイミング検出セン
サ32でピッチ部材30のスリット31を検出したが、
これはピッチ部材30を固定設置し、タイミング検出セ
ンサ32を移動させるものであってもよい。
(3)また、本発明におけるタイミング発生手段は、実
施例のようなスリット31が形成されたピンチ部材30
に限定されず、例えば、カセッ)Cの溝に対応した突起
をピッチ部材に形成し、この突起を近接スインチなどで
検出するようにしてもよい。
施例のようなスリット31が形成されたピンチ部材30
に限定されず、例えば、カセッ)Cの溝に対応した突起
をピッチ部材に形成し、この突起を近接スインチなどで
検出するようにしてもよい。
(4)さらに、カセットCが他の装置に移送される際に
、実施例装置のメモリ35に書き込まれた基板有り無し
情報を、前記カッセトCの移送に伴って、次の装置に伝
送して利用するようにしてもよい 〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明に係るカセット
内の基板検出装置によれば、固定設置されたカセットに
沿って、基板検出用の光センサを連続的に移動させ、こ
の光センサの動きに連動させて、ピンチ部材とタイミン
グ検出センサを相対移動させることにより、カセット内
の谷溝に基板が収納されているかどうかを検出し、その
情報を記憶手段にカセットの溝に対応つけて記憶してい
るので、従来装置のように光センサを高精度で間欠送り
する必要がなく、装置の構造を簡単にすることができる
。
、実施例装置のメモリ35に書き込まれた基板有り無し
情報を、前記カッセトCの移送に伴って、次の装置に伝
送して利用するようにしてもよい 〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明に係るカセット
内の基板検出装置によれば、固定設置されたカセットに
沿って、基板検出用の光センサを連続的に移動させ、こ
の光センサの動きに連動させて、ピンチ部材とタイミン
グ検出センサを相対移動させることにより、カセット内
の谷溝に基板が収納されているかどうかを検出し、その
情報を記憶手段にカセットの溝に対応つけて記憶してい
るので、従来装置のように光センサを高精度で間欠送り
する必要がなく、装置の構造を簡単にすることができる
。
また、光センサを連続送りしてカセット内の基板の有り
無しを検出しているから、カセット内の基板のを無の検
出を短時間に行うことができる。
無しを検出しているから、カセット内の基板のを無の検
出を短時間に行うことができる。
第1図ないし第7図は本発明の一実施例に係り、第1図
はカセット内の基板検出装置を示した一部破断正面図、
第2図は第1図の■−■矢視断面図、第3図は第2図の
■−■矢視断面図、第4図は実施例装置を使用した半導
体製造装置の一例を示した外観斜視図、第5図は第4図
示の装置の基板搬入・搬出ユニットの平面図、第6図は
実施例装置の制御系の概略構成を示したブロック図、第
7図は動作フローチャートである。 C・・・カセット W・・・基板25・・・光
センサ具陳機構 34・・・CPU (メモリ制御手段)35・・・メモ
リ(記憶手段)
はカセット内の基板検出装置を示した一部破断正面図、
第2図は第1図の■−■矢視断面図、第3図は第2図の
■−■矢視断面図、第4図は実施例装置を使用した半導
体製造装置の一例を示した外観斜視図、第5図は第4図
示の装置の基板搬入・搬出ユニットの平面図、第6図は
実施例装置の制御系の概略構成を示したブロック図、第
7図は動作フローチャートである。 C・・・カセット W・・・基板25・・・光
センサ具陳機構 34・・・CPU (メモリ制御手段)35・・・メモ
リ(記憶手段)
Claims (1)
- (1)固定設置されたカセットに沿って光センサを昇降
移動させることによって、カセットの各溝内の基板の有
無を検出するカセット内の基板検出装置であって、 カセットを挟んで対向配置された投光素子と受光素子と
からなる光センサを一体に昇降させる光センサ昇降機構
と、 カセットの基板収納溝に対応するピッチで形成された複
数個の被検出部位をもったピッチ部材およびタイミング
検出センサからなり、これらが前記光センサ昇降機構の
動きに連動して相対移動することにより、前記光センサ
による基板検出タイミングを与えるタイミング信号発生
手段と、カセット内の基板収納溝に対応したアドレス領
域に各収納溝内の基板有り無しの情報を記憶する記憶手
段と、 前記タイミング信号発生手段からの基板検出タイミング
信号を計数することによって記憶手段に書き込みアドレ
スを設定するとともに、基板検出タイミング信号を与え
られたときに基板検出用光センサからの検出信号を取込
み、その検出信号から得られた基板有り無し情報を前記
設定されたアドレス領域に書き込むメモリ制御手段と、 を備えたことを特徴とするカセット内の基板検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100667A JPH03297156A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | カセット内の基板検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100667A JPH03297156A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | カセット内の基板検出装置 |
Related Child Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9698097A Division JP2865642B2 (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | フォトレジスト処理装置 |
JP9698197A Division JP2911428B2 (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | 基板処理装置 |
JP9697997A Division JP3241292B2 (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | 基板処理装置 |
JP9697897A Division JP3034482B2 (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | カセットからの基板取り出し装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03297156A true JPH03297156A (ja) | 1991-12-27 |
Family
ID=14280133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2100667A Pending JPH03297156A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | カセット内の基板検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03297156A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5480223A (en) * | 1993-06-03 | 1996-01-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fluid pressure control device |
US5906469A (en) * | 1995-11-22 | 1999-05-25 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting and conveying substrates in cassette |
US7219676B2 (en) * | 2002-09-03 | 2007-05-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate detecting apparatus |
JP2007311832A (ja) * | 2007-09-03 | 2007-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板検出方法 |
JP2011140366A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Muratec Automation Co Ltd | 搬送車システム |
-
1990
- 1990-04-16 JP JP2100667A patent/JPH03297156A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5480223A (en) * | 1993-06-03 | 1996-01-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fluid pressure control device |
US5906469A (en) * | 1995-11-22 | 1999-05-25 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting and conveying substrates in cassette |
US7219676B2 (en) * | 2002-09-03 | 2007-05-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate detecting apparatus |
JP2007311832A (ja) * | 2007-09-03 | 2007-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板検出方法 |
JP4570102B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2010-10-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板検出方法 |
JP2011140366A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Muratec Automation Co Ltd | 搬送車システム |
CN102753458A (zh) * | 2010-01-06 | 2012-10-24 | 村田机械株式会社 | 输送车系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102376612B (zh) | 基板搬运装置、基板搬运方法和记录程序的记录介质 | |
US5264918A (en) | Method and device for detecting the center of a wafer | |
US8755935B2 (en) | Substrate holder positioning method and substrate processing system | |
CN101000311A (zh) | 缺陷检查装置及缺陷检查方法 | |
TW200903696A (en) | Probe apparatus | |
JP2005156539A (ja) | ガラス基板のエッジ部分の破損検出装置及びその方法 | |
TW442884B (en) | Probe system | |
JPH09186220A (ja) | 搬送装置及び搬送方法 | |
US6027301A (en) | Semiconductor wafer testing apparatus with a combined wafer alignment/wafer recognition station | |
JPH03297156A (ja) | カセット内の基板検出装置 | |
KR100478556B1 (ko) | 부품장착장치와 부품장착방법, 및 부품장착 패널용인식장치, 액정 패널용 부품장착장치 및 액정 패널용부품장착방법 | |
JPH05198662A (ja) | プローブ装置及び同装置におけるアライメント方法 | |
JPH0536767A (ja) | プローブ装置 | |
JP2911428B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3034482B2 (ja) | カセットからの基板取り出し装置 | |
JPS587055B2 (ja) | プロキシミテイ・アライナ−におけるギヤツプ設定装置 | |
JP3241292B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2865642B2 (ja) | フォトレジスト処理装置 | |
JP2575243B2 (ja) | 基板収納容器内の基板検出装置 | |
JPH08264619A (ja) | 搬送装置及びこの搬送装置を有する検査装置 | |
JP2906094B2 (ja) | プローブ装置 | |
JP2002009137A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH04280445A (ja) | プロービング装置、プロービング方法およびプローブカード | |
JP2501613B2 (ja) | ウエハプロ―バ | |
CN109031893A (zh) | 掩膜板存放区定位装置 |