CN104395833A - 曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光装置，其具备：基板保持载物台(110)，可保持基板(W)并往复移动及升降；曝光载物台(320)，保持掩模板(310)，使图案面(M2)与基板(W)的感光面(M1)相面对；掩模除尘部(120)，与基板保持载物台(110)一起前进，通过推压掩模板(310)的图案面(M2)的方向的力(第1方向的力)而与图案面(M2)的表面接触，一边旋转一边除尘；及基板除尘部(210)，通过基板保持载物台(110)前进，而利用推压基板(W)的感光面(M1)的方向的力(第2方向的力)与基板(W)的感光面(M1)接触，一边旋转一边除尘。根据本发明的曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模的表面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。

Description

曝光装置

技术领域

本发明涉及一种曝光装置，使基板的感光面和形成有图案的掩模板相面对，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。

背景技术

以往已知有各种曝光装置，作为使基板的感光面和形成有图案的掩模板相面对的状态，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。在这种曝光装置中，不只是对基板的感光面进行除尘，对掩模板与基板相面对的掩模侧的面(称为掩模板的图案面)进行除尘也很重要。这是因为在掩模板的图案面上存在尘埃时，则曝光时尘埃会与形成在掩模上的图案一起被转印，发生该基板成为次品的不良现象。

为了防止发生这种不良现象，以往提出有一种曝光装置，不只是基板的感光面，还能实现掩模板的图案面的除尘(例如参照专利文献1)。

图8是为了说明专利文献1所记载的曝光装置900而示出的图。如图8所示，专利文献1中公开的曝光装置900(以下称为现有的曝光装置900)具有：基板供给载物台901；定位载物台902；曝光载物台903；搬出载物台904；基板保持载物台905；作为基板除尘部的基板除尘辊907，对基板906的感光面进行除尘；及作为掩模除尘部的掩模除尘辊909，对掩模板908的图案面进行除尘。

基板保持载物台905具有可在图8的沿z轴的方向上升降的吸附板910。吸附板910是对成为曝光对象的基板906进行吸附、吸附解除的部件，可与基板保持载物台905一起在沿x轴的方向上往复移动。

基板除尘辊907被安装在定位载物台902上，虽然沿x轴的位置固定，但是可向沿z轴的方向进行升降动作。另一方面，掩模除尘辊909被安装在基板保持载物台905上，可与基板保持载物台905一起沿x轴前进，且能够向沿z轴的方向进行升降动作。另外，基板除尘辊907及掩模除尘辊909的升降动作通过图8中未图示的驱动机构而进行。

在这种现有的曝光装置900中，使成为曝光对象的基板906被载放在基板供给载物台901上的状态为初始状态时，则在该初始状态中，基板除尘辊907处于下降的状态(被收纳在定位载物台902内的状态)，掩模除尘辊909处于上升的状态(被收纳在基板保持载物台905内部的状态)。另外，在该初始状态中，基板保持载物台905位于与基板供给载物台901相对的位置，吸附板910已上升。因此，吸附板910位于从载放在基板供给载物台901上的基板906离开的位置。

在这种初始状态中，首先，吸附板910从基板保持载物台905下降并吸附保持基板906，该吸附板910上升。在该状态下，基板保持载物台905沿x轴向图8的右侧方向前进。然后，当基板保持载物台905到达定位载物台902上时，吸附板910下降并将基板906载放在定位载物台902上，吸附板910解除基板906的吸附并上升。

然后，定位载物台902进行基板906的定位。另一方面，基板除尘辊907通过驱动机构而上升，处于从定位载物台902向上方突出的状态，并且掩模除尘辊909通过驱动机构而下降，处于从基板保持载物台905向下方突出的状态。其后，吸附板910下降并吸附基板906而上升。此时，如图8所示，基板除尘辊907与基板906相比位于前进方向的前方侧，掩模除尘辊909与掩模板908相比位于前进方向的后方侧。

在该状态下，基板保持载物台905沿x轴进一步前进，由此被吸附板910吸附保持的基板906也与基板保持载物台905一起前进。此时，基板除尘辊907与基板906的感光面接触，基板906在该状态下前进。由此，基板906的感光面通过基板除尘辊907而被除尘。

另一方面，掩模除尘辊909与基板保持载物台905一起前进。此时，由于掩模除尘辊909与掩模板908的表面接触并前进，因此掩模板的图案面通过掩模除尘辊909而被除尘。

其后，当基板保持载物台905到达曝光载物台903上时，吸附板910下降而使基板906与曝光载物台903的掩模板908的表面密接之后，吸附板910上升，基板保持载物台905沿x轴向相反方向(图示的左侧方向)返回。

如此，在基板保持载物台905向曝光载物台903进行前进动作的过程中，可以通过基板除尘辊907及掩模除尘辊909进行基板906的除尘及掩模板908的除尘。

专利文献1：日本国特许第2847808号公报

在现有的曝光装置900中，基板除尘辊907及掩模除尘辊909设置用于使该基板除尘辊907及掩模除尘辊909升降的驱动机构，通过该驱动机构，使基板除尘辊907及掩模除尘辊909升降，并且通过该驱动机构，用规定的推压力与基板906的感光面及掩模板908的表面以适当的推压力接触。另外，作为驱动机构，例如例示有气缸等。

如此，在现有的曝光装置900中，需要设置用于使基板除尘辊907及掩模除尘辊909升降的驱动机构，另外，虽然专利文献1中并未明示，但是需要进行使基板除尘辊907及掩模除尘辊909升降时的时序控制、推压力控制等。因此，为了进行这种控制而需要编写控制程序，并且还需要控制装置，进行依照该控制程序的控制。如此，在现有的曝光装置900中存在如下课题，用于进行基板及掩模板的图案面除尘的机构整体变得复杂。

另外，在现有的曝光装置900中，在基板保持载物台905沿x轴前进的过程中，反复进行使吸附板910升降并对基板906进行吸附、吸附解除的动作。

即进行如下动作，吸附板910吸附载放在基板供给载物台901上的基板906之后，当基板保持载物台905到达定位载物台902上时，吸附板910在定位载物台902上下降并解除吸附，将基板906载放在定位载物台902上之后再次上升，定位结束后，吸附板910再次下降而吸附基板906并上升，其后，当基板保持载物台905到达曝光载物台903上时，吸附板910在曝光载物台903上下降并解除吸附，将基板906载放在曝光载物台903上之后再次上升。

如此，现有的曝光装置900需要进行如下动作，即在基板保持载物台905前进的动作的基础上，吸附板910在定位载物台902上及曝光载物台903上等每次进行升降动作，且进行对基板906进行吸附、吸附解除的动作。因此，现有的曝光装置900将基板供给载物台901的基板906搬运至曝光载物台903之前需要较多的时间，在使大量的基板高速曝光时留有课题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而进行的，其所要解决的技术问题是提供一种曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模板的图案面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。

[1]本发明的曝光装置是使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，具有：基板保持载物台，在保持所述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；曝光载物台，将所述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持，使所述基板保持载物台沿x轴朝向所述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压所述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压所述基板的感光面的方向为第2方向时，具备：掩模除尘部，安装在从所述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与所述基板保持载物台一起向前方侧前进而在所述第1方向的力作用的状态下对所述掩模板的图案面进行除尘；基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比所述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比所述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过所述基板保持载物台从所述初始位置向前方侧前进而在所述第2方向的力作用的状态下对所述基板的感光面进行除尘；基板保持载物台驱动机构部，用于使所述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；及基板保持载物台控制装置，通过控制所述基板保持载物台驱动机构部而控制所述基板保持载物台的往复移动及升降。

根据本发明的曝光装置，由于不需要用于使掩模除尘部及基板除尘部升降的驱动机构，而且，不需要进行使掩模除尘部及基板除尘部升降时的时序控制、推压力控制等，因此也不需要用于进行这种控制的控制装置。由此，根据本发明的曝光装置，可以简化用于对掩模板的图案面及基板的感光面进行除尘的机构整体。

另外，根据本发明的曝光装置，由于基板保持载物台在持续保持基板的状态下前进，因此在基板保持载物台前进的过程中，不进行解除保持基板或保持基板这样的动作便能将基板搬运至曝光载物台。由此，根据本发明的曝光装置，可以缩短将基板搬运至曝光载物台所需的时间，可以使大量的基板高速曝光。

[2]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部处于与所述掩模板的图案面接触的状态时，吸收从所述掩模板给予的与所述第1方向的力相抗衡的力，并伴随所述基板保持载物台的前进而进行对所述掩模板的图案面除尘的动作，所述基板除尘部处于与所述基板的感光面接触的状态时，吸收从所述基板给予的与所述第2方向的力相抗衡的力，并伴随所述基板保持载物台的前进而进行对所述基板的感光面除尘的动作。

如此，掩模除尘部处于与掩模板的图案面接触的状态时，吸收从掩模板给予的与第1方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台的前进而对掩模板的图案面进行除尘。另外，基板除尘部处于与基板的感光面接触的状态时，吸收从基板给予的与第2方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台的前进而对所述基板的图案面进行除尘。

因此，掩模除尘部及基板除尘部能够分别以恰当的推压力与掩模板的图案面及基板的感光面接触。由此，不需要进行使掩模除尘部及基板除尘部升降时的时序控制、推压力控制等，也不需要用于进行这种控制的控制装置。

[3]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部呈至少在表面具有粘附力的辊状，所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下旋转的动作。

由此，可以高效且切实地对掩模板的图案面进行除尘。

[4]在本发明的曝光装置中，优选还具备辅助掩模除尘部，呈至少在表面具有比所述掩模除尘部所具有的粘附力强的粘附力的辊状，在与所述掩模除尘部的表面接触的状态下与所述掩模除尘部的旋转一起旋转。

通过设置这种辅助掩模除尘部，可以使附着于掩模除尘部的尘埃附着于辅助掩模除尘部侧，可以长时间使用掩模除尘部，能够使掩模除尘部的维护变得容易。

[5]在本发明的曝光装置中，优选所述基板除尘部呈至少在表面具有粘附力的辊状，所述基板除尘部对所述基板的感光面进行除尘的动作是在与所述基板的感光面接触的状态下旋转的动作。

由此，可以高效且切实地对基板的感光面进行除尘。

[6]在本发明的曝光装置中，优选还具备辅助基板除尘部，呈至少在表面具有比所述基板除尘部所具有的粘附力强的粘附力的辊状，在与所述基板除尘部的表面接触的状态下与所述基板除尘部的旋转一起旋转。

通过设置这种辅助基板除尘部，可以使附着于基板除尘部的尘埃附着于辅助基板除尘部侧，可以长时间使用基板除尘部，能够使基板除尘部的维护变得容易。

[7]在本发明的曝光装置中，优选所述基板保持载物台保持所述基板，使所述基板的感光面沿z轴朝向上方，所述曝光载物台保持所述掩模板，使所述掩模板的图案面沿z轴朝向下方。

如此，通过基板的感光面朝向上方配置，并且掩模板的图案面朝向下方配置，从而可以高效且稳定地进行使基板保持于基板保持载物台的动作以及保持基板的基板保持载物台前进的动作。

即，将基板载放于基板保持载物台时，例如从层叠有很多成为曝光对象的基板的储料器等通过吸附而取出一张一张基板，并进行将所取出的基板载放于基板保持载物台的动作时，可以有效地进行从储料器取出基板以及将基板载放于基板保持载物台的动作。另外，其后由于基板保持载物台前进时，基板以重力施加在基板保持载物台的上面上的状态载放，因此基板保持载物台可以稳定地搬运基板。

[8]在本发明的曝光装置中，优选所述第1方向的力是基于弹簧弹性力的力，所述掩模除尘部被安装在所述基板保持载物台的所述突出部上，通过该弹簧的弹性力而作用所述第1方向的力，所述第2方向的力是该基板除尘部通过自身的重量而要自由落下的力，所述基板除尘部被安装在所述基板除尘部支撑板上，在沿z轴的方向上以规定量自由滑动。

如此，在本发明的曝光装置中，掩模除尘部通过弹簧的弹性力而与掩模板的图案面接触，基板除尘部通过该基板除尘部的重量而以自由落下的力与基板接触。因此，不需要用于使掩模除尘部及基板除尘部升降的驱动机构等，而且，不再需要进行使掩模除尘部及基板除尘部升降时的时序控制、接触时的推压力控制等。另外，由于掩模除尘部通过弹簧的弹性力而与掩模板的图案面接触，基板除尘部通过该基板除尘部的重量而以自由落下的力与基板接触，因此掩模除尘部及基板除尘部的高度方向(沿z轴的方向)的位置设定不需要高精度地进行调节，可以减轻基板除尘部及掩模除尘部的调节作业。

[9]在本发明的曝光装置中，优选在从所述基板的感光面和所述基板除尘部离开的状态到所述基板除尘部开始所述基板的感光面的除尘的期间内，所述基板保持载物台控制装置进行的控制是控制所述基板保持载物台驱动机构部，使所述基板保持载物台沿x轴仅前进规定量，并沿z轴仅移动规定量，以使所述基板除尘部与所述基板的感光面中的前方侧端部附近的平面部接触。

通过基板保持载物台控制装置进行这种控制，从而伴随基板保持载物台向前方侧前进而基板向前方侧前进时，不会产生基板除尘部将基板的前方侧端部推向沿x轴的后方侧的动作。因此，可以防止基板的位置偏移，另外，还可以防止基板的前方侧端部破损。

[10]在本发明的曝光装置中，优选还具备导向部，沿y轴设置在所述掩模板的后方侧端部，对在第1方向的力作用的状态下向前方侧前进而来的所述掩模除尘部给予与所述第1方向的力相抗衡的力，并将该掩模除尘部引导至所述掩模板的图案面。

通过设置这种导向部，可以将掩模除尘部引导至掩模板的图案面，而避免掩模除尘部与掩模板的后方侧端部直接抵接。即，掩模除尘部在推压掩模板的图案面的方向的力(第1方向的力)作用的状态下对掩模板的图案面进行除尘。因此，虽然掩模板以向厚度方向突出的状态被安装于曝光载物台时，掩模除尘部与掩模板的后方侧端部抵接而将掩模板推向前方侧，掩模板有可能会发生位置偏移，但是在本发明中，设置有导向板，将掩模除尘部引导至掩模板的图案面。由此，由于可以将掩模除尘部引导至掩模板的图案面，而避免掩模除尘部与掩模板的后方侧端部直接抵接，因此掩模除尘部不会将掩模板推向前方侧，可以防止掩模板的位置偏移，并防止掩模板的后方侧端部破损。

[11]在本发明的曝光装置中，优选在从所述掩模板的图案面和所述掩模除尘部离开的状态到所述掩模除尘部开始所述掩模板的图案面的除尘的期间内，所述基板保持载物台控制装置进行的控制是控制所述基板保持载物台驱动机构部，使所述基板保持载物台沿x轴仅前进规定量，并沿z轴仅移动规定量，以使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的后方侧端部附近的平面部接触。

通过基板保持载物台控制装置进行这种控制，从而伴随基板保持载物台向前方侧前进而掩模除尘部向前方侧前进时，不会产生掩模除尘部将掩模板的后方侧端部推向沿x轴的前方侧的动作。由此，可以防止掩模板的位置偏移，另外，还可以防止掩模板的后方侧端部破损。

[12]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部安装在所述基板保持载物台上，当所述基板保持载物台处于所述初始位置时，其与所述基板除尘部相比位于后方侧。

通过这种构成，可以防止曝光装置大型化。即，由于掩模除尘部被安装在从基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的位置上，因此假使是掩模除尘部与基板除尘部相比位于沿x轴的前方侧这样的配置时，则在基板保持载物台处于初始位置(开始前进前的位置)时，需要安装在从基板保持载物台的前方侧端部向前方侧较大突出的位置上。

如此，安装在从基板保持载物台的前方侧端部向前方侧较大突出的位置上时，则在变为基板保持载物台向前方侧前进而到达曝光部下方的状态(基板的感光面与掩模板的图案面相面对的状态)时，成为掩模除尘部的位置向沿x轴的前方侧较大突出的位置。因此，需要使曝光装置框体的沿x轴方向的长度更大，从而曝光装置整体大型化。与此相对，如本发明的曝光装置这样，通过成为掩模除尘部以与基板除尘部相比位于后方侧的方式被安装在基板保持载物台上的构成，从而可以防止曝光装置整体大型化。

[13]本发明的曝光装置是使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，具有：基板保持载物台，在保持所述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；曝光载物台，将所述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持，使所述基板保持载物台沿x轴朝向所述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压所述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压所述基板的感光面的方向为第2方向时，具备：掩模除尘部，安装在从所述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与所述基板保持载物台一起向前方侧前进，而在与所述掩模板的图案面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对所述掩模板的图案面进行除尘；基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比所述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比所述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过所述基板保持载物台从所述初始位置向前方侧前进，而在与所述基板的感光面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对所述基板的感光面进行除尘；基板保持载物台驱动机构部，用于使所述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；及基板保持载物台控制装置，通过控制所述基板保持载物台驱动机构部而控制所述基板保持载物台的往复移动及升降。

根据本发明的曝光装置，可得到[1]所记载的本发明的曝光装置所具有的效果中对应的效果。

附图说明

图1是为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A而示出的图。

图2是表示对实施方式1所涉及的曝光装置10A中的基板保持载物台进行控制的基板保持载物台控制装置500的构成的图。

图3是为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A的动作而示出的图。

图4是为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A的动作而示出的图。

图5是为了说明实施方式2所涉及的曝光装置10B而示出的图。

图6是为了说明实施方式3所涉及的曝光装置10C而示出的图。

图7是为了说明实施方式3所涉及的曝光装置10A的动作的主要部分而示出的图。

图8是为了说明专利文献1所记载的曝光装置900而示出的图。

符号说明

10A、10B、10C-曝光装置；100-基板供给·回收部；110-基板保持载物台；120-掩模除尘辊(掩模除尘部)；131-突出部；132-掩模除尘部支撑板；134-弹簧；140-基板保持载物台驱动机构部；200-基板除尘机构部；210-基板除尘辊(基板除尘部)；220-基板除尘部支撑板；221-长孔；240-辅助基板除尘辊(辅助基板除尘部)；300-曝光部；310-掩模板；320-曝光载物台；330-L字配件；340-导向部；341-导向板；341a-导向板的水平片；341b-导向板的倾斜片；342-导向板安装部；400-曝光装置框体；500-基板保持载物台控制装置；M1-感光面；M2-图案面；W-基板。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行说明。

(实施方式1)

图1是为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A而示出的图。另外，图1是模式化表示实施方式1所涉及的曝光装置10A的图，对于为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A而不是特别必要的构成部件则省略图示。另外，由于图1是模式图，因此并不是将实际的构成部件的尺寸以同一比率进行缩小，有时也夸张地画出或更加缩小地画出。

如图1所示，实施方式1所涉及的曝光装置10A具有：基板供给·回收部100，供给曝光前的基板W并回收曝光后的基板W；基板除尘机构部200，对基板W的感光面M1进行除尘；曝光部300，通过使基板W的感光面M1曝光而在基板W上转印图案；曝光装置框体400，收纳上述各构成部件；及基板保持载物台控制装置500，设置在曝光装置框体400的内部或外部。另外，虽然曝光装置框体400的内部为尽可能被净化的空间，但是即便这样有时也存在尘埃。

基板供给·回收部100具有：基板保持载物台110；掩模除尘部120；掩模除尘保持架130，安装有掩模除尘部120；及基板保持载物台驱动机构部140，能够使基板保持载物台110在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且能够沿与xy平面正交的z轴升降。

另外，在本说明书中，使基板保持载物台110沿x轴朝向曝光部300的掩模板310(在后面说明)的一侧为前方侧，使与前方侧相反一侧为“后方侧”而进行说明。

基板保持载物台110在使基板W的感光面M1沿z轴朝向上方的状态下对该基板W进行定位并进行真空吸附，可在沿x轴的方向上往复移动。另外，图1中的基板保持载物台110的位置是该基板保持载物台110开始向曝光部300前进之前的位置，使该位置为初始位置。另外，基板W的感光面M1是指在基板W上涂布有光致抗蚀剂等的面，光致抗蚀剂处于已经干燥的状态。

掩模除尘部120安装在基板保持载物台110上。具体而言，其安装在掩模除尘保持架130上，而该掩模除尘保持架130突出设置于基板保持载物台110的前方侧端部(称为前端部)，其与基板保持载物台110一起前进并对被保持于曝光部300的掩模板310的图案面M2进行除尘。

另外，掩模除尘部120呈在表面具有粘附力的辊状。在实施方式1所涉及的曝光装置10A中使用令具有粘附力的构件(例如具有粘附力的橡胶等)形成为辊状的部件。

如此，由于掩模除尘部120呈辊状，因而也将掩模除尘部120称为“掩模除尘辊120”。另外，虽然掩模除尘辊120是具有粘附力的部件，但是其粘附力呈能够粘附去除掩模板310的图案面M2上存在的尘埃的程度，其为不会对掩模板310的图案面M2造成不良影响程度的粘附力。

掩模除尘保持架130具有：突出部131，从基板保持载物台110向前方侧突出；掩模除尘部支撑板132，将掩模除尘辊120支撑为自由旋转；导轨133，对掩模除尘辊120的升降进行导向；及弹簧134，施加推压掩模板310的图案面M2的方向(为第1方向)的力(为第1方向的力)。另外，掩模除尘辊120不是通过动力进行旋转，而是以空转的方式被支撑在掩模除尘部支撑板132上。

掩模除尘部支撑板132位于突出部131的前端部，其被安装为通过导轨133的导向而以规定量自由升降。另外，弹簧134介于掩模除尘部支撑板132和突出部131之间。因此，在掩模除尘部支撑板132上作用有由弹簧134的弹性力产生的第1方向的力(推压掩模板310的图案面M2的方向的力)，由此，在掩模除尘辊120上也同样作用有由弹簧134的弹性力产生的第1方向的力(推压掩模板310的图案面M2的方向的力)。

如此，由于掩模除尘辊120通过第1方向的力(弹簧的弹性力)与掩模板310的图案面M2接触，因此可以吸收由掩模板310给予的与第1方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台110的前进而对掩模板310的图案面M2进行除尘。

另外，第1方向的力的强度可通过调节弹簧134的弹性力等而进行调节。另外，作为用于在掩模除尘辊120上作用第1方向的力的构件，不限于弹簧，也可以使用其它构件。例如，也可以是通过气缸等相对于掩模除尘辊120给予第1方向的压力的构成。

基板保持载物台驱动机构部140具有：x轴往复移动驱动机构部141，用于使基板保持载物台110沿x轴往复移动；及z轴升降驱动机构部145，用于使基板保持载物台110沿z轴升降。

x轴往复移动驱动机构部141具有：基板保持载物台固定台142，固定基板保持载物台110；及第1滚珠螺杆143，用于使基板保持载物台固定台142沿x轴进行往复动作。z轴升降驱动机构部145具有：升降台146，固定于基板保持载物台固定台142；及第2滚珠螺杆147，用于使升降台146沿z轴升降。

如此构成的基板保持载物台驱动机构部140可以通过使第1滚珠螺杆143向顺时针方向或逆时针方向旋转，而使基板保持载物台固定台142及z轴升降驱动机构部145整体沿x轴向前方侧或后方侧前进。

例如，使第1滚珠螺杆143向顺时针方向旋转时，则可以使基板保持载物台固定台142及z轴升降驱动机构部145整体沿x轴向后方侧前进，使第1滚珠螺杆143向逆时针方向旋转时，则可以使基板保持载物台固定台142及z轴升降驱动机构部145整体沿x轴向前方侧前进。由此，可以使固定在基板保持载物台固定台142上的基板保持载物台110沿x轴往复移动。

另外，通过使z轴升降驱动机构部145的第2滚珠螺杆147向顺时针方向或逆时针方向旋转，则可以使升降台146上升或下降。例如，使第2滚珠螺杆147向顺时针方向旋转时则升降台146下降，基板保持载物台固定台142也与升降台146一起下降。另一方面，使第2滚珠螺杆147向逆时针方向旋转时则升降台146上升，基板保持载物台固定台142也与升降台146一起上升。由此，可以使固定在基板保持载物台固定台142上的基板保持载物台110沿z轴升降。

另外，由于第1滚珠螺杆143需要使基板保持载物台110从图1的位置移动至曝光部300的位置，因此其从曝光装置框体400内的大致右端附近配设至左端附近。另一方面，由于基板保持载物台110的升降量不那么大而升降台146的移动量较少，因此第2滚珠螺杆147与第1滚珠螺杆143相比时则呈短尺寸。

另外，第1滚珠螺杆143及第2滚珠螺杆147的配设位置不限于图1所示的位置，例如，第1滚珠螺杆143也可以配设在接近曝光装置框体400底面的位置上。另外，x轴往复移动驱动机构部141及z轴升降驱动机构部145不限于如图1所示的构成，而可以采用各种构成。

然而，基板保持载物台驱动机构部140通过基板保持载物台控制装置500(参照图2)而被控制，由此可以控制基板保持载物台110。

图2是表示基板保持载物台控制装置500的构成的图。如图2所示，基板保持载物台控制装置500具有：第1滚珠螺杆驱动部(伺服马达等)510，驱动第1滚珠螺杆143；存储部550，储存用于控制基板保持载物台110的前进及升降的控制程序及用户的设定信息等各种信息；前进控制部520，根据存储部550所储存的信息来控制第1滚珠螺杆驱动部510，由此控制基板保持载物台110向前方侧或后方侧前进；第2滚珠螺杆驱动部(伺服马达等)530，驱动第2滚珠螺杆147；及升降控制部540，根据存储部550所储存的信息来控制第2滚珠螺杆驱动部530，由此控制基板保持载物台110的升降。

由于基板保持载物台控制装置500如此构成，因而可以控制基板保持载物台110的前进及升降。例如，可实现如下控制，使基板保持载物台110仅下降规定量，使基板保持载物台110在下降后的状态下向前方侧仅前进规定量之后，使基板保持载物台110仅上升规定量，使基板保持载物台110在上升后的状态下再次向前方侧仅前进规定量。

返回图1进行说明。基板除尘机构部200具有：基板除尘部210，用于对基板W的感光面M1进行除尘；及基板除尘部支撑板220，用于安装基板除尘部210。另外，虽未图示，但是基板除尘机构部200具有静电消除部，消除基板W所带有的静电。

基板除尘部210与掩模除尘部(掩模除尘辊120)一样，呈在表面具有粘附力的辊状，在实施方式1所涉及的曝光装置10A中使用令具有粘附力的构件(例如具有粘附力的橡胶等)形成为辊状的部件。

如此，由于基板除尘部210呈辊状，因而也将基板除尘部210称为“基板除尘辊210”。另外，虽然基板除尘辊210是具有粘附力的部件，但是与掩模除尘辊120一样，其粘附力呈能够粘附去除基板W的感光面M1上存在的尘埃的程度，其为不会对基板W的感光面M1造成不良影响程度的粘附力。

基板除尘部支撑板220支撑基板除尘辊210的两端，使基板除尘辊210自由旋转，并且以规定量自由上下移动。作为将基板除尘辊210支撑为以规定量自由上下移动的方法，可以例示如下方法，即在基板除尘部支撑板220上，在沿z轴的方向上形成较长的孔(称为长孔)221，通过该长孔221支撑基板除尘辊210。另外，基板除尘辊210不是通过动力进行旋转，而是以空转的方式被支撑在基板除尘部支撑板220上。

由于基板除尘辊210被如此支撑在基板除尘部支撑板220上，因此在基板除尘辊210上作用通过该基板除尘辊210自身的重量而要自由落下的力。通过基板除尘辊210自身的重量而要自由落下的力作为推压基板W的感光面M1的方向(为第2方向)的力(为第2方向的力)而发挥作用。即，基板除尘辊210在第2方向的力作用的状态下被支撑在基板除尘部支撑板220上。

由此，在基板除尘辊210与基板W的感光面M1接触的状态下，该基板除尘辊210通过第2方向的力(也称为自重)而与基板W的感光面M1接触。如此，由于基板除尘辊210通过第2方向的力(自重)而与基板W的感光面M1接触，因此可以吸收由基板W给予的与第2方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台110的前进而对基板W的感光面M1进行除尘。

另外，虽然该基板除尘辊210是通过自重而向基板的感光面M1给予推压力的部件，但是例如也可以与掩模除尘辊120一样，作为向基板除尘辊210给予由弹簧等产生的弹性力的构成，而向基板W的感光面M1给予推压力。

基板除尘辊210被安装在基板除尘部支撑板220上，与曝光部300相比位于沿x轴的后方侧。另外，基板保持载物台110处于初始位置(图1所示的位置)时，与掩模除尘辊120相比位于沿x轴的前方侧。即，掩模除尘辊120和基板除尘辊210的配置关系呈如下配置，当基板保持载物台110处于初始位置(图1所示的位置)时，掩模除尘辊120与基板除尘辊210相比位于沿x轴的后方侧。

如此，在基板保持载物台110处于初始位置(图1的位置)时，呈掩模除尘辊120与基板除尘辊210相比位于沿x轴的后方侧这样的配置作为一个理由可以列举如下情况。

即，通过在基板保持载物台110处于初始位置(图1的位置)时，呈掩模除尘辊120与基板除尘辊210相比位于沿x轴的后方侧这样的配置，从而突出部131沿x轴的方向的长度L不需要过长。

与此相对，如果在基板保持载物台110处于初始位置(图1的位置)时，呈掩模除尘辊120与基板除尘辊210相比位于沿x轴的前方侧这样的配置，则需要使突出部131沿x轴的方向的长度L(参照图1)较长。

如果使突出部131的长度L较长，则在基板保持载物台110到达曝光部300下方的状态(基板W的感光面M1与掩模板310的图案面M2相面对的状态)时，掩模除尘辊120的位置成为从沿x轴的前方侧较大突出的位置。因此，需要使曝光装置框体400的沿x轴方向的长度更大，从而产生曝光装置整体大型化这样的不良现象。这种不良现象可以通过在基板保持载物台110处于初始位置(图1的位置)时，呈掩模除尘辊120与基板除尘辊210相比位于沿x轴的后方侧这样的配置而得到防止。

然而，掩模除尘辊120及基板除尘辊210可相对于掩模除尘部支撑板132及基板除尘部支撑板220自由装拆。因此，可以容易地进行附着在掩模除尘辊120及基板除尘辊210上的尘埃的除去、掩模除尘辊120及基板除尘辊210的清洗、掩模除尘辊120及基板除尘辊210其自身的交换等。

曝光部300具有：未图示的光源；掩模板310；曝光载物台320，以图案面M2与基板W的感光面M1相面对的方式安装掩模板310；及导向部340，将前进而来的掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2。另外，虽未图示，但是曝光部300上设置有静电消除部，消除掩模板310等所带有的静电。

掩模板310由透明玻璃等的透光性构件构成，具有规定的厚度。另外，虽然掩模板310的厚度没有特别限定，但是例如具有2mm至7mm左右的厚度。

另外，掩模板310安装在曝光载物台320的下面侧。具体而言，掩模板310通过沿x轴平行设置的2根L字配件330(图1中仅示出一个L字配件)而使掩模板310的端部(沿x轴观察时的左右两侧的端部)支撑在曝光载物台320的下面侧上。由此，掩模板310在通过L字配件330从曝光载物台320悬挂的状态下而被安装。

掩模板310被如此安装于曝光载物台320时，掩模板310处于如下状态，在从曝光载物台320向掩模板310的厚度方向(下方)以掩模板310的厚度部分以上的突出量突出的状态下而被安装。

另外，掩模板310在相对于曝光载物台320的下面被定位的状态下被安装于L字配件330。此时，虽然掩模板310以不容易发生位置偏移的方式被安装于L字配件330，但是假使规定以上的力向前进方向施加在掩模板310后方侧的端部上时，则掩模板310有时也可能向前进方向发生位置偏移。

导向部340以沿y轴的方式设置在掩模板310的后方侧端部。导向部340将前进而来的掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2，其具有：导向板341，由水平片341a和倾斜片341b构成；及导向板安装部342，用于将导向板341安装于曝光载物台320。

这种构成的导向部340在将导向板341的水平片341a固定于导向板安装部342的状态下，在掩模板310的后方侧端部以沿y轴的方式将导向板安装部342安装于曝光载物台320时，导向板341的倾斜片341b处于从导向板安装部342向斜上方突出的状态。

从后方侧沿x轴观察如此安装的导向部340时，导向板341的倾斜片341b以覆盖掩模板310的后方侧端部的方式沿y轴而被安装。

另外，优选导向部340被安装为处于水平片341a向下方突出的状态，以在导向板341的水平片341a和掩模板310之间形成0.1mm至0.3mm左右的台阶。

这种构成的导向部340用于在掩模除尘辊120向掩模板310前进而来时，掩模除尘辊120不会与掩模板310的后方侧端部直接抵接，而是将掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2。

另外，导向部340中的导向板341既可以是由覆盖掩模板310的后方侧端部整体这样的1张板构成的部件，也可以是由水平片341a和倾斜片341b构成的细板状的部件沿y轴隔开规定间隔排列多个而成的部件。

图3及图4是为了说明实施方式1所涉及的曝光装置10A的动作而示出的图。图3(a)至图3(c)及图4(a)至图4(c)是各工序图。另外，图3及图4是为了主要说明实施方式1所涉及的曝光装置10A的掩模除尘辊120及基板除尘辊210的动作而示出的图。因此，在图1所示的构成部件中也有省略符号的部件，另外，图1所示的构成部件中基板保持载物台驱动机构部140等省略图示。另外，用于使基板保持载物台110前进及升降的控制可以通过图2所示的基板保持载物台控制装置500来进行。

图3(a)是表示成为处理对象的基板W被定位并被保持于基板保持载物台110的状态的图，其与图1一样，是基板保持载物台110处于初始位置时的状态。

基板保持载物台110处于初始位置时，基板保持载物台110沿x轴的位置与基板除尘辊210相比位于后方侧，沿z轴方向的位置被设定为，使基板保持载物台110的上面110a和掩模板310的下面310a的间隔d1处于5mm至15mm左右的范围。在实施方式1所涉及的曝光装置10A中，间隔d1被设定于9mm。

如此，基板保持载物台110处于初始位置时，掩模除尘辊120沿x轴的位置(为掩模除尘辊120的旋转轴沿x轴的位置)x1与基板除尘辊210相比位于后方侧。

另外，掩模除尘辊120沿z轴的位置(为掩模除尘辊120的圆周上的上方侧顶点P1沿z轴的位置)z1与掩模板310的下面310a沿z轴的位置z2相比处于稍(例如0.3mm至2mm左右)高的位置。

另一方面，基板除尘辊210沿x轴的位置固定，沿z轴的位置(为基板除尘辊210的圆周上的下方侧顶点P2沿z轴的位置)位于与基板保持载物台110的上面110a的位置z3成为大致相同的高度。

另外，掩模除尘辊120和基板除尘辊210的位置关系呈如下位置关系，基板保持载物台110在处于初始位置时直接沿x轴向前方侧前进时，由图3(a)可知，掩模除尘辊120与基板除尘辊210抵接。

基板保持载物台110从如图3(a)所示的初始位置开始动作。首先，基板保持载物台110暂时沿z轴仅下降规定量(参照图3(b))。即，基板保持载物台110沿x轴向前方侧前进时，基板保持载物台110下降至掩模除尘辊120不与基板除尘辊210抵接的位置(参照图3(b))。

基板保持载物台110从图3(b)的状态沿x轴向前方侧前进。然后，在掩模除尘辊120经过基板除尘辊210下侧后的规定位置使基板保持载物台110上升(参照图3(c))。即，使基板保持载物台110沿x轴前进并使基板保持载物台110沿z轴上升，以使基板除尘辊210与基板W的感光面M1中的前方侧端部(称为前端部)附近的平面部(上面部)接触。

用于基板保持载物台110进行这种动作的针对基板保持载物台110的控制是通过基板保持载物台控制装置500而进行的。通过基板保持载物台110进行这种动作，从而基板W的感光面M1处于与基板除尘辊210接触的状态(参照图3(c))。

如此，通过基板W的感光面M1处于与基板除尘辊210抵接的状态，从而其后基板保持载物台110向前方前进时，不会产生基板除尘辊210将基板W的前端部推向后方侧的动作。因此，可以防止基板W的位置偏移，另外，还可以防止基板W的前端部破损。

另外，基板保持载物台110上升时的上升量为基板W将基板除尘辊210稍稍推起的程度。由此，基板除尘辊210处于通过自重与基板W接触的状态。另外，此时掩模除尘辊120如图3(c)所示，处于与设置于曝光部300的导向部340中的导向板341的倾斜片341b抵接的状态。

然后，基板保持载物台110从图3(c)所示的状态向前方前进时，基板除尘辊210在基板W的感光面M1上进行旋转动作。此时的动作与基板除尘辊210一边旋转一边向基板W的后方侧移动的动作相同，基板保持载物台110进一步前进时，结果基板除尘辊210进行一边旋转一边向基板W的进一步后方侧移动的动作。由此，基板W的感光面M1通过基板除尘辊210而被除尘。

另外，虽然基板除尘辊210是具有粘附力的部件，但是由于其粘附力呈能够粘附去除基板W的感光面M1上存在的尘埃的程度，因此不会对基板W的感光面M1造成不良影响。

然而，在基板除尘辊210与基板W的感光面M1接触的状态下，该基板除尘辊210通过第2方向的力(自重)而与基板W的感光面M1接触，并且，由于以规定量自由上下移动，因此可以吸收由基板W给予的与第2方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台110的前进而对基板W的感光面M1进行除尘。因此，不需要特别进行基板除尘辊210与基板W的感光面M1接触时的相对于基板W的推压力等的控制。

另一方面，掩模除尘辊120与基板保持载物台110的前进一起前进。因此，从与导向板341的倾斜片341b抵接的状态，以被导向板341的倾斜片341b压住的状态向前方侧前进。即，由于掩模除尘辊120通过弹簧134的弹性力而被给予朝向上方的力(第1方向的力)，因此在推压导向板341的倾斜片341b的状态下一边旋转一边向前方侧前进，最终到达掩模板310的图案面M2。

如此，由于掩模除尘辊120通过导向部340的导向而被引导至掩模板310的图案面M2，因此掩模除尘辊120不与掩模板310的后方侧端部直接抵接便被引导至掩模板310的图案面M2。因此，掩模除尘辊120不会再将掩模板310推向前进方向，可以防止掩模板310的位置偏移，并且可以防止掩模板310的后方侧端部破损。

然后，掩模除尘辊120在第1方向的力作用的状态下如图4(a)所示，在与掩模板310的图案面M2接触的状态下一边旋转一边进一步前进。由此，可以使掩模板310的图案面M2上存在的尘埃附着在掩模除尘辊120侧，由此，可以对掩模板310的图案面M2进行除尘。

另外，虽然掩模除尘辊120是具有粘附力的部件，但是由于其粘附力呈粘附去除掩模板310的图案面M2上存在的尘埃的程度，因此不会对形成在掩模板310的图案面M2上的图案等造成不良影响。

然而，由于在掩模除尘辊120与掩模板310的图案面M2接触的状态下，该掩模除尘辊120通过第1方向的力(弹簧134的弹性力)而与掩模板310的图案面M2接触，因此可以吸收由掩模板310给予的与第1方向的力相抗衡的力，并伴随基板保持载物台110的前进而对掩模板310的图案面M2进行除尘。因此，不需要特别进行掩模除尘辊120与掩模板310的图案面M2接触时的相对于掩模板310的推压力等的控制。

通过掩模除尘辊120及基板除尘辊210进行图3(c)及图4(a)所示的动作，从而可以对掩模板310的图案面M2进行除尘，并且可以对基板W的感光面M1进行除尘。另外，掩模除尘辊120对掩模板310的图案面M2的除尘和基板除尘辊210对基板W的感光面M1的除尘大致同时进行。

其后，基板保持载物台110到达预先设定的规定位置(曝光位置)(参照图4(b))。此时，处于在基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2之间设有规定间隔的状态。之后，基板保持载物台110从该状态上升，如图4(c)所示，基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2的间隔成为所希望的间隔。另外，在实施方式1所涉及的曝光装置10A中，基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2并未密接，而是设置存在微小空隙(例如1/100mm至4/100mm左右)程度的间隔。

如此，通过在基板W的感光面M1和掩模板的图案面之间设置微小的空隙(例如1/100mm至4/100mm左右)，从而即使在基板W侧除尘后还残存有微少的尘埃，也能够防止残存的尘埃附着于掩模板310的图案面M2。其相反的情况也一样。

然后，在图4(c)的状态下，照射光而进行曝光。另外，在进行曝光时，基板W相对于掩模板310的图案面M2的位置被恰当地设定。曝光结束后，在该曝光位置上基板保持载物台110下降至规定位置(例如图4(b)所示的位置)，沿x轴向后方侧前进，返回至规定位置(例如掩模除尘辊120的旋转轴沿x轴的x1位置)，并在x1位置上升，从而处于初始位置(与图3(a)相同的位置)。其后，从基板保持载物台110取走曝光结束后的基板W，在该基板保持载物台110上载放接下来应进行曝光的基板W，并进行图3(a)至图3(c)及图4(a)至图4(c)的工序，依次进行返回图3(a)的动作。

另外，进行图3(a)至图3(c)及图4(a)至图4(c)的工序而返回图3(a)的一系列动作被连续执行，该一系列动作所需的时间是秒单位(例如几秒至十几秒左右)的时间。

如以上说明的那样，根据实施方式1所涉及的曝光装置10A，可以通过基板除尘辊210进行基板W的感光面M1的除尘，并且可以通过掩模除尘辊120进行掩模板310的图案面M2的除尘。而且，对基板W的感光面M1进行除尘的动作以及对掩模板310的图案面M2进行除尘的动作在基板保持载物台110向曝光部300前进的过程中大致同时自动进行。因此，几乎不会对处于初始位置的基板保持载物台110向曝光部300前进并进行曝光后，返回初始位置这样的原本进行的曝光动作造成影响，可以大致保持原本的曝光动作速度。

另外，在实施方式1所涉及的曝光装置10A中，掩模除尘辊120及基板除尘辊210呈如下结构，通过一个方向的作用力而与掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1接触。即，掩模除尘辊120呈通过弹簧134的弹性力而与掩模板310的图案面M2接触的结构，基板除尘辊210呈通过自重而与基板W的表面接触的结构。

因此，不需要用于使掩模除尘辊120及基板除尘辊210升降的驱动机构。另外，由于不需要进行使掩模除尘辊120及基板除尘辊210升降时的时序控制、推压力控制等，因此也不需要用于进行这种控制的控制装置。由此，根据实施方式1所涉及的曝光装置10A，可以简化用于对掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1进行除尘的机构整体。

另外，由于是这种结构，因此掩模除尘辊120及基板除尘辊210的高度方向(沿z轴的方向)的位置不需要高精度地进行调节，可以减轻掩模除尘辊120及基板除尘辊210的调节作业。

另外，根据实施方式1所涉及的曝光装置10A，由于基板保持载物台110在持续保持基板W的状态下前进，因此在基板保持载物台110前进的过程中，不需要进行解除保持基板W或保持基板W这样的动作便能将基板W搬运至曝光载物台320。由此，根据实施方式1所涉及的曝光装置10A，可以缩短将基板W搬运至曝光载物台320所需的时间，可以使大量的基板高速曝光。

另外，根据实施方式1所涉及的曝光装置10A，设置有导向部340，将掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2。因此，可以将掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2，而避免掩模除尘辊120与掩模板310的后方侧端部直接抵接。因此，掩模除尘辊120不会将掩模板310推向前方侧，可以防止掩模板310的位置偏移，并且可以防止掩模板310的后方侧端部破损。

另外，在实施方式1所涉及的曝光装置10A中，在曝光部300使基板W的感光面M1曝光时，在基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2的间隔处设有微小空隙的状态下进行曝光。因此，例如即使在基板W的感光面M1上残存有未除去的尘埃，也能够防止该尘埃附着在掩模板310的图案面M2上的不良现象。

(实施方式2)

图5是为了说明实施方式2所涉及的曝光装置10B而示出的图。如图5所示，实施方式2所涉及的曝光装置10B与实施方式1所涉及的曝光装置10A的不同之处在于设置有辅助基板除尘部240(称为辅助基板除尘辊240)，除去附着于基板除尘辊210的尘埃。因此，在图5中，对与实施方式1所涉及的曝光装置10A相同的构成部件标注相同符号，省略相同构成部件的说明。

由于辅助基板除尘辊240用于除去附着于基板除尘辊210的尘埃，因此优选由粘附力比基板除尘辊210大的构件形成。辅助基板除尘辊240例如可以优选使用将粘胶带卷成辊状的部件。

这种辅助基板除尘辊240被旋转自如地支撑于基板除尘部支撑板220，处于始终接触于基板除尘辊210的状态。具体而言，在基板除尘部支撑板220上形成长孔222，通过该长孔222而将辅助基板除尘辊240支撑为自由旋转。

另外，辅助基板除尘辊240也与掩模除尘辊120及基板除尘辊210一样，不是通过动力进行旋转，而是以空转的方式被支撑在基板除尘部支撑板220上。因此，辅助基板除尘辊240通过基板除尘辊210的旋转而旋转。由此，可以使附着于基板除尘辊210的尘埃附着于辅助基板除尘辊240侧，可以一定程度除去附着于基板除尘辊210的尘埃。

即，如图4(a)所示，由于基板除尘辊210进行一边旋转一边对基板W的感光面M1进行除尘的动作时，辅助基板除尘辊240一边与基板除尘辊210接触一边伴随基板除尘辊210的旋转而旋转，因此可以使附着于基板除尘辊210的尘埃附着于辅助基板除尘辊240。

由于实施方式2所涉及的曝光装置10B具有这种辅助基板除尘辊240，因此除实施方式1所涉及的曝光装置10A中得到的效果以外，可以使附着于基板除尘辊210的尘埃一定程度附着于辅助基板除尘辊240侧。由此，可以长时间使用基板除尘辊210，可以使基板除尘辊210的维护变得容易。

另外，由于辅助基板除尘辊240是将粘胶带卷成辊状的部件，因而在辅助基板除尘辊240上附着规定量的尘埃之后，仅将粘胶带切下规定长度(例如一周程度)。由此，辅助基板除尘辊240可以再次使附着于基板除尘辊210的尘埃附着于辅助基板除尘辊240侧。

(实施方式3)

在上述各实施方式中，虽然通过导向部340的导向而将掩模除尘辊120引导至掩模板310的图案面M2，由此防止掩模板310的位置偏移、掩模板310的后方侧端部破损，但是在实施方式3所涉及的曝光装置10C中，不设置导向部340便能防止掩模板310的位置偏移、掩模板310的后方侧端部破损。以下，说明实施方式3所涉及的曝光装置10C。

图6是为了说明实施方式3所涉及的曝光装置10C而示出的图。实施方式3所涉及的曝光装置10C原则上呈与实施方式1所涉及的曝光装置10A一样的构成。因此，在实施方式3所涉及的曝光装置10C中，对与实施方式1所涉及的曝光装置10A相同的构成部件标注相同符号。

如图6所示，实施方式3所涉及的曝光装置10C未在曝光部300上设置导向部340。即，在实施方式3所涉及的曝光装置10C中，不设置导向部340便能防止掩模板310的位置偏移、掩模板310的后方侧端部破损。

图7是为了说明实施方式3所涉及的曝光装置10C的动作而示出的图。另外，实施方式3所涉及的曝光装置10C中与实施方式1所涉及的曝光装置10A的不同之处在于实施方式1所涉及的曝光装置10A中的从图3(b)所示的状态变为图3(c)所示的状态时的基板保持载物台110的动作。因此，在图7中，对从图3(b)所示的状态变为图3(c)所示的状态时的基板保持载物台110的动作进行说明。另外，图7(a)对应于图3(b)，图7(b)对应于图3(c)。

基板保持载物台110从图7(a)所示的状态，即掩模板310的图案面M2与掩模除尘辊120离开以及基板W的感光面M1与基板除尘辊210离开的状态，沿x轴向前方侧前进，掩模除尘辊120在经过基板除尘辊210下侧后的规定位置上升(参照图7(b))。

此时的基板保持载物台控制装置500的控制是以使基板保持载物台110沿x轴仅前进规定量并沿z轴仅上升规定量的方式控制基板保持载物台驱动机构部140，以使掩模除尘辊120与掩模板310的图案面M2中的后方侧端部附近的平面部(下面部)接触，并且使基板除尘辊210与基板W的感光面M1中的前方侧端部附近的平面部(上面部)接触。

基板保持载物台控制装置500通过进行这种控制，而从掩模板310的图案面M2与掩模除尘辊120离开的状态变为掩模除尘辊120与掩模板310的图案面直接接触的状态，并且从基板W的感光面M1与基板除尘辊210离开的状态变为基板除尘辊210与基板W的感光面M1直接接触的状态。

如此，掩模除尘辊120处于与掩模板310的图案面直接接触的状态，并且基板除尘辊210处于与基板W的感光面M1直接接触的状态，由此，其后基板保持载物台110进一步向前方前进时，不会产生掩模除尘辊120将掩模板310推向前方侧的动作。另外，不会产生基板除尘辊210将基板W前端部推向后方侧的动作。因此，可以防止掩模板310及基板W的位置偏移，另外，还可以防止掩模板310的后方侧端部及基板W的前方侧端部破损。

另外，如图7(b)所示，为了在掩模除尘辊120处于与掩模板310的图案面接触的状态时，使基板W的感光面M1处于与基板除尘辊210接触的状态，只要适当设定基板除尘辊210和基板保持载物台110的位置关系即可。即，以在掩模除尘辊120处于与掩模板310的图案面接触的状态时，使基板W的感光面M1与基板除尘辊210抵接的方式，适当设定基板除尘辊210和基板保持载物台110的位置关系即可。

另外，在实施方式3中，虽然在使掩模除尘辊120处于与掩模板310的图案面直接接触的状态的同时，使基板除尘辊210处于与基板W的感光面M1直接接触的状态，但是也可以使掩模除尘辊120处于与掩模板310的图案面直接接触的状态。另外，虽然在实施方式3中，对实施方式1所涉及的曝光装置10A的情况进行了说明，但是在实施方式2所涉及的曝光装置10B中也可以进行应用。

另外，本发明不限于上述的实施方式，可以在不脱离本发明主旨的范围内实施各种变形。例如，也可以实施如下所示的变形。

(1)在上述各实施方式中，虽然对掩模除尘辊120及基板除尘辊210作为由掩模除尘辊120及基板除尘辊210整体具有粘附力的构件构成的部件而进行了说明，但是并不限于此，也可以是仅掩模除尘辊120及基板除尘辊210表面具有粘附力的部件。例如，既可以是在由合成树脂等形成的圆筒体的表面缠绕具有粘附力的构件的形式，另外，也可以是在圆筒体的表面形成有粘附层的形式。

(2)在上述各实施方式中，虽然作为基板保持载物台110的初始位置，将图3(a)所示的位置作为基板保持载物台的初始位置，但是并不限于此，基板保持载物台110的初始位置可通过曝光装置整体的结构、动作而进行各种设定，而并未特别限定。例如，也可以使图3(b)所示的位置为基板保持载物台110的初始位置。

(3)在上述各实施方式中，虽然例示了基板W的感光面M1朝上配置且掩模板310的图案面M2朝下配置的曝光装置，但是并不限于此，也可以是相反的配置。即，也可以是基板W的感光面M1朝下配置且掩模板310的图案面M2朝上配置的曝光装置，此时，只要掩模除尘辊120呈通过自重而与掩模板310的图案面M2接触的结构，而基板除尘辊210呈通过弹簧的弹性力而与基板W的感光面M1接触的结构即可。

(4)在上述各实施方式中，虽然例示了在曝光部300中使基板W的感光面M1曝光时，在基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2之间设置有微小空隙的状态下进行曝光的情况，但是不必一定在基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2之间设置微小的空隙，也可以在使基板W的感光面M1和掩模板310的图案面M2密接的状态下进行曝光。

(5)在上述实施方式2中，虽然在基板除尘辊210侧设置辅助基板除尘辊240，但是如果空间富裕，则也可以在掩模除尘辊120侧设置辅助基板除尘辊240，另外，也可以在掩模除尘辊120及基板除尘辊210双方分别设置辅助基板除尘辊240。

(6)在上述各实施方式中，虽然例示了作为掩模除尘部及基板除尘部，分别使用由具有粘附力的构件构成的辊(掩模除尘辊120及基板除尘辊210)，并通过掩模除尘辊120及基板除尘辊210的粘附力对掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1上存在的尘埃进行除尘的情况，但是并不限于此。例如，掩模除尘部及基板除尘部也可以是利用真空吸引而进行除尘的形式。如此，将掩模除尘部及基板除尘部利用真空吸引进行除尘时的曝光装置作为本发明的曝光装置的变形例而进行说明。

本发明的曝光装置的变形例是一种使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使前述基板的感光面曝光的曝光装置，其具备：基板保持载物台，在保持前述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；曝光载物台，将前述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持；掩模除尘部，使前述基板保持载物台沿x轴朝向前述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压前述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压前述基板的感光面的方向为第2方向时，则其安装在从前述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与前述基板保持载物台一起向前方侧前进，而在与前述掩模板的图案面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对前述掩模板的图案面进行除尘；基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比前述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比前述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过前述基板保持载物台从前述初始位置向前方侧前进，而在与前述基板的感光面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对前述基板的感光面进行除尘；基板保持载物台驱动机构部，用于使前述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；及基板保持载物台控制装置，通过控制前述基板保持载物台驱动部而控制前述基板保持载物台的往复移动及升降。

另外，即使掩模除尘部及基板除尘部是利用真空吸引而进行除尘的部件，曝光装置的整体构成也可以是与上述各实施方式中说明的曝光装置10A、10B、10C一样的构成。另外，在下述的说明中，使利用真空吸引而进行除尘的掩模除尘部及基板除尘部为吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部。

在将这种吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部例如应用于图1所示的曝光装置的情况下则简单地进行说明。

吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部在掩模板310及基板W的宽度方向(图1中沿轴的方向)上具有细长的吸引口。上述吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部安装在与掩模除尘辊120及基板除尘辊210相同的位置上。此时，吸引式掩模除尘部的吸引口朝上，以能够与掩模板310的图案面M2相对，吸引式基板除尘部的吸引口朝下，以能够与基板W的感光面M1相对。

而且，进行除尘时，只要进行与图3及图4大致同样的动作即可。但是，由于吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部相对于掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1分别在非接触的状态下进行除尘，因此控制基板保持载物台110，使吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部各自的吸引口相对于掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1具有规定的空隙。

另外，由于吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部相对于掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1分别在非接触的状态下进行除尘，因此不需要如掩模除尘辊120及基板除尘辊210那样，通过弹簧134的弹性力与掩模板310的图案面M2接触，或者通过自重与基板W的感光面M1接触的结构。

即使通过使用这种吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部，也能够与上述各实施方式一样，在保持基板W的基板保持载物台110前进至曝光部300的过程中对掩模板310的图案面M2及基板W的感光面M1进行除尘。

Claims (13)

1.一种曝光装置，是使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

基板保持载物台，在保持所述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；

曝光载物台，将所述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持，

使所述基板保持载物台沿x轴朝向所述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压所述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压所述基板的感光面的方向为第2方向时，具备：

掩模除尘部，安装在从所述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与所述基板保持载物台一起向前方侧前进而在所述第1方向的力作用的状态下对所述掩模板的图案面进行除尘；

基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比所述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比所述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过所述基板保持载物台从所述初始位置向前方侧前进而在所述第2方向的力作用的状态下对所述基板的感光面进行除尘；

基板保持载物台驱动机构部，用于使所述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；

及基板保持载物台控制装置，通过控制所述基板保持载物台驱动机构部而控制所述基板保持载物台的往复移动及升降。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模除尘部处于与所述掩模板的图案面接触的状态时，吸收从所述掩模板给予的与所述第1方向的力相抗衡的力，并伴随所述基板保持载物台的前进而进行对所述掩模板的图案面除尘的动作，

所述基板除尘部处于与所述基板的感光面接触的状态时，吸收从所述基板给予的与所述第2方向的力相抗衡的力，并伴随所述基板保持载物台的前进而进行对所述基板的感光面除尘的动作。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模除尘部呈至少在表面具有粘附力的辊状，

所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下旋转的动作。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，还具备辅助掩模除尘部，呈至少在表面具有比所述掩模除尘部所具有的粘附力强的粘附力的辊状，

在与所述掩模除尘部的表面接触的状态下与所述掩模除尘部的旋转一起旋转。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述基板除尘部呈至少在表面具有粘附力的辊状，

所述基板除尘部对所述基板的感光面进行除尘的动作是在与所述基板的感光面接触的状态下旋转的动作。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，还具备辅助基板除尘部，呈至少在表面具有比所述基板除尘部所具有的粘附力强的粘附力的辊状，

在与所述基板除尘部的表面接触的状态下与所述基板除尘部的旋转一起旋转。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述基板保持载物台保持所述基板，使所述基板的感光面沿z轴朝向上方，所述曝光载物台保持所述掩模板，使所述掩模板的图案面沿z轴朝向下方。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述第1方向的力是基于弹簧弹性力的力，所述掩模除尘部被安装在所述基板保持载物台的所述突出部上，通过该弹簧的弹性力而作用所述第1方向的力，

所述第2方向的力是该基板除尘部通过自身的重量而要自由落下的力，所述基板除尘部被安装在所述基板除尘部支撑板上，在沿z轴的方向上以规定量自由滑动。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，在从所述基板的感光面和所述基板除尘部离开的状态到所述基板除尘部开始所述基板的感光面的除尘的期间内，所述基板保持载物台控制装置进行的控制是控制所述基板保持载物台驱动机构部，

使所述基板保持载物台沿x轴仅前进规定量，并沿z轴仅移动规定量，以使所述基板除尘部与所述基板的感光面中的前方侧端部附近的平面部接触。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，还具备导向部，沿y轴设置在所述掩模板的后方侧端部，对在第1方向的力作用的状态下向前方侧前进而来的所述掩模除尘部给予与所述第1方向的力相抗衡的力，并将该掩模除尘部引导至所述掩模板的图案面。

11.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，在从所述掩模板的图案面和所述掩模除尘部离开的状态到所述掩模除尘部开始所述掩模板的图案面的除尘的期间内，所述基板保持载物台控制装置进行的控制是控制所述基板保持载物台驱动机构部，

使所述基板保持载物台沿x轴仅前进规定量，并沿z轴仅移动规定量，以使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的后方侧端部附近的平面部接触。

12.根据权利要求1至11中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模除尘部安装在所述基板保持载物台上，当所述基板保持载物台处于所述初始位置时，其与所述基板除尘部相比位于后方侧。

13.一种曝光装置，是使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

基板保持载物台，在保持所述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；

曝光载物台，将所述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持，

使所述基板保持载物台沿x轴朝向所述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压所述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压所述基板的感光面的方向为第2方向时，具备：

掩模除尘部，安装在从所述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与所述基板保持载物台一起向前方侧前进，而在与所述掩模板的图案面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对所述掩模板的图案面进行除尘；

基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比所述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比所述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过所述基板保持载物台从所述初始位置向前方侧前进，而在与所述基板的感光面之间具有规定空隙的状态下一边吸引一边对所述基板的感光面进行除尘；

基板保持载物台驱动机构部，用于使所述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；

及基板保持载物台控制装置，通过控制所述基板保持载物台驱动机构部而控制所述基板保持载物台的往复移动及升降。