JP3011806B2

JP3011806B2 - 角状被処理体のフォトレジスト除去装置

Info

Publication number: JP3011806B2
Application number: JP3302450A
Authority: JP
Inventors: 伝大森
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1991-10-22
Filing date: 1991-10-22
Publication date: 2000-02-21
Anticipated expiration: 2015-02-21
Also published as: JPH05114555A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、角状被処理体のフォト
レジスト除去装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスを製造する工程
において、パターンの微細加工を行うためのリソグラフ
ィ技術は重要であるが、このリソグラフィ技術のフォト
レジスト塗布工程においてスピンコータ等により円形の
半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストは、図５に
示すように半導体ウエハ２の端部においてフォトレジス
ト４の盛り上がり部６を発生する傾向にある。この半導
体ウエハ２には、その後、ベーキイング処理、露光処理
とが順次施されることになるが、その過程でこのウエハ
２はキャリアへ収納されたり、搬送系によってはウエハ
の周辺部を把持して搬送されたりすることから、上記盛
り上がり部６が各操作を行うときに剥離してパーティク
ルとなって、歩留まり低下の原因となっている。

【０００３】そのため、このフォトレジスト塗布時にウ
エハ４の周辺部に溶剤を付着してフォトレジスト４の盛
り上がり部６を溶解し、遠心力によりこれを除去した
り、或いは露光時に不要な周辺部のフォトレジストのみ
を露光し、この部分を現像液で除去することなどがなさ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このようなフォトレジ
ストの盛り上がり部６の発生は半導体ウエハのみならず
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置を製造するときのフォ
トレジスト塗布工程においても見られる。このＬＣＤ基
板の形状は、円形の半導体ウエハと異なり、通常４角形
状乃至矩形状であるのでウエハにおいて採用された方
法、すなわちこれを回転させながら溶剤を付着させて遠
心力により除去する方法を採用することができない。ま
た、露光時に４角形のＬＣＤ基板の不要な周辺フォトレ
ジストのみを露光して現像液で除去することも考えられ
るが、この場合にはフォトレジストの塗布工程を終了し
た後、ベーキング工程等を行うことからＬＣＤ基板を搬
送系によりベーキング装置等へ移動させなければなら
ず、この移動の際に、前記フォトレジストの盛り上がり
部６が剥離してパーティクルとなってしまうという改善
点を有している。

【０００５】特に、ＬＣＤ基板が大型化している今日の
状況において、上記した問題点の解決が強く望まれてい
る。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有
効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的
は、円形以外の形状の被処理体の周辺部から迅速に不要
なフォトレジストを除去することができる角状被処理体
のフォトレジスト除去装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、フォトレジストを塗布した角状の被処
理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォ
トレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相
対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジス
トに対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この
溶剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させ
る走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レ
ールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなるよ
うに構成したものである。

【０００７】

【作用】本発明は、以上のように構成したので、溶剤吐
出手段は被処理体の周辺部に沿って移動しつつこの部分
に溶剤を吐出させてこれを溶解し、溶解した溶剤を被処
理体の表面から排除する。特に、吸引手段を設けること
により、フォトレジストが溶解した溶剤を迅速に排除す
ることができる。

【０００８】

【実施例】以下に、本発明に係る角状被処理体のフォト
レジスト除去装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述
する。図１は本発明に係るフォトレジスト除去装置を示
す斜視図、図２は本発明に係るフォトレジスト除去装置
の動作を説明するための動作説明図、図３は図１に示す
フォトレジスト除去装置を示す要部拡大図、図４は被処
理体を示す平面図、図６はフォトレジスト除去装置など
が搭載された処理装置集合ユニットを示す斜視図であ
る。本実施例において処理対象となる被処理体としては
図４に示すように矩形状、すなわち４角形状に成形され
たＬＣＤ基板１０が使用され、この基板１０の表面全体
に渡って塗布されたフォトレジスト４のうち基板の周辺
部１１に形成された不要なフォトレジスト４ａが本発明
の除去装置により除去されることになる。

【０００９】図６に示すようにこのフォトレジスト除去
装置８は、処理装置集合ユニット５０に搭載されてお
り、この集合ユニット５０には他の関連装置として、キ
ャリアステーション５１側より被処理体としてのＬＣＤ
基板をブラシ洗浄するための一対のブラシスクラバ５
２、５２、このブラシ洗浄の後に高圧ジェット水により
洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗浄機５４、５
４、ＬＣＤ基板を加熱するために複数のホットプレート
機５６、ＬＣＤ基板にフォトレジストを塗布する前にこ
れを疎水化処理するアドヒュージョン処理機５８及び疎
水化処理後の基板表面にフォトレジストを塗布するコー
タ６０等が設けられている。上記各装置間にＬＣＤ基板
を搬送して受け渡しを行うために、この集合ユニット５
０の中央部には、爪を有した一対のメインアーム６２、
６２がユニット長手方向に沿って移動可能に設けられて
いる。本発明に係る上記フォトレジスト除去装置７は、
全体が開閉可能なケースにより被われており、内部にフ
ォトレジスト除去ユニット８を収容している。このフォ
トレジスト除去ユニット８は、被処理体である例えばＬ
ＣＤ基板１０に対して相対移動しつつ基板１０の周辺部
に向けてフォトレジスト４に対する溶剤１２を吐出する
溶剤吐出手段１４と、フォトレジストが溶解した溶剤を
基板１０の表面から吸引して排除する吸引手段１６とに
より主に構成されている。具体的には、上記フォトレジ
スト除去ユニット８の全体は、基板１０の両端辺より適
宜離間させてこれに沿って配置された一対の案内レール
１８上を移動自在になされた基台２０に取付けられてお
り、また、この案内レール１８自体も基板１０に対して
接近離間移動自在になされ、基板１０までの距離を自由
に調整し得るようになされている。すなわち、上記一対
の案内レール１８とこれに沿って移動する基台２０とに
より走査手段が構成されている。

【００１０】上記吸引手段１６は、円筒体状に成形され
て上記基台２０へ固定された吸引管２２を有しており、
この端部には可撓性ライン２４を介して吸引装置２６が
接続されており、この吸引管２２内の雰囲気を吸引し得
るように構成されている。そして、この吸引装置２６
は、後述するように吸引された溶剤を除去するためのト
ラップタンク２７を有している。上記２個の吸引管２
２、２２は、アーム２３等により機械的に接続されてお
り、上記走査手段により同時に動くように構成されてい
る。この場合、走査手段は上記吸引管２２、２２の位置
及び走査速度を任意に設定し得るように構成されてい
る。また、この吸引管２２の先端部は、前記基板１０の
周辺部１１を収容すべく断面凹部状に切り欠いた基板収
容部２８が形成されている。本実施例にあっては、基板
１０の厚さＬ１＝１．１ｍｍに対して、上記基板収容部
２８の最大幅Ｌ２＝２〜３ｍｍ、この深さＬ３＝１０ｍ
ｍに設定している。このように構成された吸引管２２の
先端部の近傍には、前記溶剤吐出手段１４のニードル管
３０が、上記吸引管２２を貫通して上記基板収容部２８
に臨ませて設けられると共に、このニードル管３０に
は、例えばアセトンやＥＣＡ（エチルセロソルブアセテ
ート）等のフォトレジストに対する溶剤を供給するため
の溶剤供給管３２が接続されており、上記基板収容部２
８に収容された基板周辺部１１に向けて加圧圧送方式に
より溶剤を噴射乃至吐出するように構成されている。

【００１１】また、前記ＬＣＤ基板１０は、例えば真空
チャックなどによるチャック手段３４を有する回転機構
３６に吸引固定されており、上記基板１０を所望の角
度、例えば９０°だけ回転し得るように構成されてい
る。

【００１２】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、本実施例においては図４
に示すような４角形状のＬＣＤ基板１０が使用され、そ
の大きさは例えば縦横がそれぞれ３００ｍｍ、４００ｍ
ｍに設定されている。まず、前段の工程で処理されたＬ
ＣＤ基板１０は、処理装置集合ユニット５０のキャリア
ステーション５１からメインアーム６２により保持され
てブラシスクラバ５２内へ搬入され、この中でブラシ洗
浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機５４に
て高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機５
６により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョン
処理機５６にて疎水化処理が施された後に、コータ６０
にてフォトレジストが塗布される。このように、フォト
レジストが塗布された基板１０は、フォトレジスト除去
装置８内へ導入され、その中心部をチャック手段３４に
より吸引保持する。上述のように塗布されたフォトレジ
スト４は、図５にも示すように基板の周辺部において不
都合な盛り上がり部６を形成することになるため、本発
明に係るフォトレジスト除去装置によりこの部分を基板
周辺部に位置する不必要なフォトレジストと伴に除去す
ることになる。

【００１３】まず、フォトレジスト除去ユニット８が搭
載された両側の案内レール１８、１８を基板１０側に移
動させてこれに近付け、図３に示すように吸引管２２の
先端部の基板収容部２８へ基板周辺部１１の角部を接触
しないように収容する。この場合、基台２０に対して吸
引管２２が移動可能となるように構成しておけば、案内
レール１８を動かすことことなく基板収容部２８へ基板
周辺部１１を収容することができ、また、この吸引管２
２と基板１０との間の距離も調整することができる。ま
た、案内レール１８自体を上下方向に移動可能となるよ
うに構成しておけば、例えば基板１０の寸法が大きくて
この周辺部が下方へ撓むような場合にあっても、これに
対応させて吸引管２２の下方向への位置調整を行うこと
が可能となる。

【００１４】以上のようにして、基板周辺部１１の収容
が完了したならば、次に、フォトレジスト除去ユニット
８を基板周辺部１１に沿って走査しつつ、各溶剤吐出手
段１４のニードル管１２から溶剤を噴射乃至吐出すると
共に、吸引装置２６を駆動して吸引手段１６の吸引管２
２内の雰囲気を吸引する。これにより、ニードル管３０
から噴射された溶剤１２は基板周辺部１１に噴き付けら
れ、ここに位置するフォトレジスト４ａ及び盛り上がり
部６を溶解しつつ吸引管２２内へ吸引され、不必要なフ
ォトレジストが除去されることになる。このようにして
周辺部１１の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操
作が完了したならば、一旦フォトレジスト除去装置８を
基板１０から離間させて、この状態で回転機構３６を９
０°回転することにより基板１０を９０°回転し、再度
同じような除去操作を繰り返して行って、他の対向する
一対の辺のフォトレジスト除去操作を完了し、最終的に
基板１０の全周辺部１１に位置する不要なフォトレジス
トを除去する。このような除去操作は、ＬＣＤ製造工程
におけるＩＴ０（インジウムリンオキサイド）膜の形
成や電極形成のためのパターニング等のフォトレジスト
を使用する各工程で行なわれる。

【００１５】本実施例にあっては、溶剤としてＥＣＡを
２０〜３０ｃｃ／ｍｉｎの量で供給し、吸引装置２６を
約１００リットル／ｍｉｎの量で駆動して吸引管２２内
を吸引し、適当な速度でスキャンした結果、不要なフォ
トレジストを略完全に除去することができ、また、溶解
除去されたフォトレジストの端辺も波打つこともなく直
線性の優れたラインに仕上げることができる。特に、本
実施例においては、フォトレジストの塗布工程終了後、
基板を移動することなくその場にて直ちに不要なフォト
レジストの除去作業を行うことができるので、フォトレ
ジストの剥離に伴うパーテイクルの発生を確実に抑制す
ることができる。

【００１６】尚、本実施例にあっては、相対向させて２
個のフォトレジスト除去ユニットを設けた場合について
説明したが、これを１個のみ設けるようにしても良い
し、また、生産性を向上させるために、１つの案内レー
ル１８上に複数個設けるようにしてもよいし、或は溶剤
供給ニードルを複数設けても良いし、更に、上記フォト
レジスト除去ユニットの移動方向に直交する方向に移動
する別のフォトレジスト除去装置を設けるようにしても
よい。また、本実施例にあっては、４角形状のＬＣＤ基
板について説明したが、円形以外の三角形、五角形等の
多角形についてすべて適用することができ、また、ＬＣ
Ｄ基板に限らず他の基板、例えばプリント基板等にも適
用することができる。

【００１７】

【発明の効果】以上説明したように、本実施例によれ
ば、次のような優れた作用効果を発揮することができ
る。溶剤吐出手段から吐出させた溶剤により不要なフォ
トレジストを溶解させたので、円形以外の多角形状の基
板の周辺部に付着する不要なフォトレジストを効率的に
除去することができる。従って、不要なフォトレジスト
の剥離に伴うパーティクルの発生を抑制することがで
き、製品の歩留まりを向上させることができる。また、
吸引手段を設けることによりフォトレジストを溶解した
溶剤を迅速に除去することができる。更に、溶剤吐出手
段及び吸引手段を操作手段により移動させることによ
り、被処理体の周辺部のフォトレジストを効率的に除去
することができる。また、吸引手段の吸引管の先端に基
板収容部を設けることにより、フォトレジストを溶解し
た溶剤を効率的に排除することができる。更に、吸引管
を基台に対して移動可能に設けておくことにより、吸引
管と基板との間の距離を調整することができる。また、
被処理体を吸着するチャック手段を回転機構上に設ける
ことにより、被処理体の一対の辺のフォトレジスト除去
処理を行なった後、これを９０度回転させれば他の一対
の辺のフォトレジスト除去処理を迅速に行なうことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るフォトレジスト除去装置を示す斜
視図である。

【図２】本発明に係るフォトレジスト除去装置の動作を
説明するための動作説明図である。

【図３】図１に示すフォトレジスト除去装置を示す要部
拡大図である。

【図４】被処理体を示す平面図である。

【図５】フォトレジストの盛り上がり部を説明するため
の説明図である。

【図６】フォトレジスト除去装置などが搭載された処理
装置集合ユニットを示す斜視図である。

【符号の説明】

４フォトレジスト７フォトレジスト除去装置８フォトレジスト除去ユニット１０ＬＣＤ基板（被処理体）１１周辺部１２溶剤１４溶剤吐出手段１６吸引手段２２吸引管２６吸引装置２８基板収容部３０ニードル管

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】フォトレジストを塗布した角状の被処理
体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォト
レジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対
移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジスト
に対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この溶
剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させる
走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レー
ルと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること
を特徴とする角状被処理体のフォトレジスト除去装置。
【請求項２】フォトレジストを塗布した角状の被処理
体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォト
レジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対
移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジスト
に対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この前
記溶剤吐出手段から吐出されて前記フォトレジストを溶
解した溶剤を、前記被処理体から吸引して排除する吸引
手段を設け、この吸引手段は、これを前記被処理体に沿
って移動させる走査手段に設けられると共にこの走査手
段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けら
れた基台よりなることを特徴とする角状被処理体のフォ
トレジスト除去装置。
【請求項３】前記吸引手段は、前記基台へ設けられた
吸引管と、これに接続されて吸引管内の雰囲気を吸引す
る可撓性ラインを有することを特徴とする請求項２記載
の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。
【請求項４】前記吸引管は、前記被処理体の両側に２
個配置されており、前記走査手段により同時に動くよう
に構成されていることを特徴とする請求項３記載の角状
被処理体のフォトレジスト除去装置。
【請求項５】前記吸引管の先端には、前記被処理体の
周辺部を収容する基板収容部が設けられていることを特
徴とする請求項３または４記載の角状被処理体のフォト
レジスト除去装置。
【請求項６】前記吸引管は、前記被処理体との間の距
離調整ができるように前記基台に対して移動可能に設け
られていることを特徴とする請求項３乃至５記載の角状
被処理体のフォトレジスト除去装置。
【請求項７】前記溶剤吐出手段は、前記溶剤を加圧に
より吐出するためのニードル管を有しており、このニー
ドル管は前記基板収容部に臨ませて設けられていること
を特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の角状被
処理体のフォトレジスト除去装置。
【請求項８】前記被処理体を吸引固定するチャック手
段を設けた回転機構を有し、前記被処理体の一対の辺の
フォトレジスト除去操作を行なった後に前記回転機構を
９０度回転して前記被処理体の他の一対の辺のフォトレ
ジスト除去操作を行なうようにしたことを特徴とする請
求項１乃至７記載の角状被処理体のフォトレジスト除去
装置。
【請求項９】前記吸引管は、それぞれ一対の案内レー
ル上を走査されることを特徴とする請求項２乃至８記載
の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。