WO2020100446A1 - キャリブレーションシステム及び描画装置 - Google Patents

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WO2020100446A1
WO2020100446A1 PCT/JP2019/037994 JP2019037994W WO2020100446A1 WO 2020100446 A1 WO2020100446 A1 WO 2020100446A1 JP 2019037994 W JP2019037994 W JP 2019037994W WO 2020100446 A1 WO2020100446 A1 WO 2020100446A1
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exposure
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雅史 菅原
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インスペック株式会社
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    • H05K3/106—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by conversion of non-conductive material on or in the support into conductive material, e.g. by using an energy beam by photographic methods

Definitions

  • the present invention relates to a calibration system and a drawing device for calibrating an exposure head that emits a light beam for exposure that draws a pattern on a substrate.
  • Patent Document 1 discloses a first sheet material that is parallel to the long direction while irradiating the long sheet material with an energy beam corresponding to a predetermined pattern.
  • a pattern forming apparatus is disclosed which forms a pattern in a plurality of regions on the surface of the sheet material by scanning exposure in which scanning movement is performed along an axis. In this pattern forming apparatus, exposure is performed by projecting an image of the pattern formed on the mask onto a sheet material.
  • Patent Document 2 discloses a drawing apparatus that draws a predetermined pattern in each of a plurality of regions divided in a width direction orthogonal to the lengthwise direction of the substrate while transporting the substrate in the lengthwise direction. ..
  • exposure is performed by a direct drawing method (raster scan method) that does not use a mask.
  • Non-Patent Document 1 is a technology that performs alignment measurement, overlay exposure, and workpiece exchange in parallel in order to perform processing while continuously transporting the film without stopping the roll transport by the roll to roll method. Is disclosed.
  • Patent Documents 1 and 2 only disclose a technique for forming a pattern for a relatively small electronic device such as a flexible display or a flexible sensor. Therefore, in order to form a continuous long wiring pattern by using the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, every time one pattern is exposed, alignment with the exposed pattern is performed and connection is performed. They need to be matched, which is time consuming, time consuming and inefficient.
  • Non-Patent Document 1 continuous exposure can be performed without stopping the transportation device, and since the pattern size is not limited by the mask, a long continuous pattern can be manufactured. It is stated to that effect.
  • the present invention has been made in view of the above, and in the case of continuously forming a pattern on a long sheet-shaped substrate, calibration of an exposure head that emits an exposure beam for drawing the pattern It is an object of the present invention to provide a calibration system and a drawing device that can perform any time.
  • a calibration system has at least one exposure head which is in the form of a long sheet and irradiates a substrate conveyed along the longitudinal direction with an exposure beam.
  • a calibration system for calibrating an exposure head and is an exposure head support portion that supports the at least one exposure head, wherein the beam emitted from the at least one exposure head is exposed to a predetermined area on the substrate during exposure.
  • An exposure head supporting portion configured to be disposed at a position to be incident on at least one exposure area, and a light receiving surface for receiving the beam, and at least an irradiation position and irradiation of the beam incident on the light receiving surface.
  • At least one sensor unit including an optical sensor for detecting intensity, and a sensor unit supporting portion for supporting the at least one sensor unit, wherein a light-receiving surface of the optical sensor included in the at least one sensor unit during exposure is
  • a sensor unit mounted so as to be slidable with respect to the exposure head support portion while supporting the at least one sensor unit so as to be parallel to the exposure surface in the at least one exposure area.
  • the controller can arrange the at least one sensor unit on the optical path of the beam emitted from the at least one exposure head by moving the exposure head support during calibration. And a beam is emitted from the at least one exposure head onto the light receiving surface at the time of exposure by sliding the sensor unit supporting portion relative to the exposure head moving portion.
  • the exposure surface is arranged at a position corresponding to the exposure surface.
  • the moving mechanism includes an exposure head moving unit configured to form the space by lifting one end side of the exposure head supporting unit about a rotation axis and the other end side of the exposure head supporting unit, and the exposure head supporting unit.
  • a slide movement part configured to slide the sensor unit support part with respect to the part.
  • the sensor unit support portion is provided at a position fixed with respect to a transfer mechanism that transfers the substrate, and the movement mechanism moves the exposure head support portion in a direction in which the slide movement is possible. It may be configured to be moved in parallel with.
  • the moving mechanism includes an exposure head moving unit that forms the space by moving the exposure head supporting unit in parallel in a vertical direction, and the sensor unit supporting unit with respect to the exposure head supporting unit. It may also include a slide moving unit that slides.
  • the control unit causes the at least one exposure head to emit the beam toward the light receiving surface, and emits the beam from the at least one exposure head based on a detection signal output from the sensor unit.
  • a storage unit configured to generate data representing an irradiation position and irradiation intensity of the beam on the light receiving surface, and configured to store the data representing the irradiation position and irradiation intensity as calibration data. May be.
  • the storage unit is configured to further store reference data indicating a reference irradiation position and a reference irradiation intensity of the beam with respect to the at least one exposure region
  • the control unit may include the calibration data.
  • a determination unit configured to determine, based on the reference data, whether or not the irradiation position and the irradiation intensity of the beam emitted from the at least one exposure head fall within a predetermined reference value range. May be.
  • the control unit based on the determination result by the determination unit, when at least one of the irradiation position and the irradiation intensity of the beam emitted from the at least one exposure head is not within the range of the reference value.
  • a correction value data for correcting at least one of the irradiation position and the irradiation intensity of the beam emitted from the at least one exposure head and the storage section further stores the correction value data. It may be configured as follows.
  • each of the at least one exposure head scans the light source that outputs the laser light, an optical system that shapes the laser light into a beam, and the laser light that is shaped into a beam.
  • a polygon mirror and a drive unit that rotates the polygon mirror are provided, and the control unit controls at least one of the output of the light source and the operation of the drive unit based on the correction value data. Accordingly, at least one of the irradiation intensity and the irradiation position of the beam emitted from the at least one exposure head may be corrected.
  • a drawing apparatus which comprises the calibration system, at least one exposure head supported by the exposure head support portion, and a cylindrical shape, which supports the substrate on an outer peripheral surface thereof and which has a cylindrical shape.
  • a transport drum that transports the substrate by rotating about the central axis.
  • the exposure head support portion by moving the exposure head support portion during calibration, a space in which the sensor unit can be arranged is formed on the optical path of the beam emitted from the exposure head, and at the same time the sensor is moved relative to the exposure head moving portion.
  • the light receiving surface of the optical sensor is arranged at a position corresponding to the exposure surface on which the beam emitted from the exposure head enters at the time of exposure.
  • FIG. 4 is a schematic view of the exposure head shown in FIG. 3 viewed from the substrate side. It is a schematic diagram which shows the board
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing a state in which an exposure head support portion is moved in the drawing unit shown in FIG. 3.
  • FIG. 9 is a schematic view of the exposure head shown in FIG. 8 viewed from the substrate side.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the operation of the drawing device during calibration
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a drawing apparatus including a calibration system according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view of the drawing apparatus.
  • the drawing apparatus 1 includes a transfer system 3 that transfers a long sheet-shaped substrate 2, and a drawing that forms a pattern by irradiating the substrate 2 with a beam L for exposure.
  • the unit 4 and the control device 5 that controls the operations of the transport system 3 and the drawing unit 4 are provided.
  • the flexible printed circuit board (Flexible Printed Circuit: FPC) is the substrate 2 to be processed.
  • the FPC is a flexible circuit board in which a metal foil such as copper is attached to a base film made of a resin having an insulating property such as polyimide.
  • the substrate 2 is, for example, an FPC formed in a band shape of several meters to several tens of meters, is unwound from a state of being wound in a roll on the unwind reel 31, is transported by the transport system 3, and is patterned by the drawing unit 4. After being formed, the film is taken up by the take-up reel 32. In this way, the conveyor system that unwinds the strip-shaped work from the roll, performs the prescribed processing, and then winds it on the roll is called the roll-to-roll system.
  • the transport system 3 includes a rotary shaft 31a that rotatably supports the take-up reel 31, a rotary shaft 32a that rotatably supports the take-up reel 32, a transport drum 33, and an upstream side of the transport drum 33 (in the drawing).
  • Tension pulleys 34 and 35 and a plurality of guide rollers 36 and 37 respectively provided on the left side) and the downstream side (right side in the drawing) are provided.
  • the transport drum 33 has a cylindrical shape as a whole, and is supported by a rotary shaft 33a that is rotated by a rotary driving force supplied from a drive source.
  • the transport drum 33 transports the substrate 2 by supporting the substrate 2 in a region substantially above the outer peripheral surface 33b and rotating itself. Further, the transport drum 33 is provided with an encoder 33c that measures the rotation amount of the transport drum 33.
  • the transport direction of the substrate 2 at the upper end of the transport drum 33 is the x direction
  • the direction orthogonal to the x direction on the plane (horizontal plane) in contact with the upper end of the transport drum 33 is the y direction (that is, the width direction of the substrate 2).
  • the direction (vertical direction) orthogonal to the xy plane is the z direction (downward is positive).
  • the two tension pulleys 34, 35 are installed below the transport drum 33 so as to be vertically movable. Specifically, the tension pulleys 34 and 35 are rotatably supported by rotating shafts 34a and 35a that are vertically movable.
  • a tension adjusting mechanism that urges the rotary shafts 34a and 35a downward is connected to the rotary shafts 34a and 35a. The tension adjusting mechanism urges the tension pulleys 34, 35 downward through the rotary shafts 34a, 35a to convey the substrate 2 wound around the conveying drum 33 with a predetermined tension applied. You can
  • Each of the guide rollers 36 is rotatably supported by the rotary shaft 36a, and guides the substrate 2 unwound from the unwind reel 31 to the tension pulley 34 on the upstream side.
  • Each of the guide rollers 37 is rotatably supported by a rotating shaft 37a, and guides the pattern-formed substrate 2 from the downstream tension pulley 35 to the take-up reel 32.
  • the configuration of the transport system 3 if the substrate 2 is transported by a roll-to-roll method and the pattern formation processing can be performed on the substrate 2 supported by the outer peripheral surface 33b of the transport drum 33, the configuration shown in FIG.
  • the configuration is not limited to that shown in FIG.
  • a unit pre-treatment unit, post-treatment unit, etc.
  • the transfer system 3 usually detects the position of the end of the substrate 2 and slightly moves the unwinding device or the winding device.
  • Edge Position Control (EPC) A device is provided.
  • FIG. 3 is an enlarged schematic view of the drawing unit 4 shown in FIG.
  • the drawing unit 4 includes an exposure head 41 that emits a beam L for exposure, an adjustment stage 42, an exposure head support portion 43, an exposure head moving portion 44, a sensor unit 45, and a sensor.
  • the unit support portion 46 and the sensor unit moving portion 47 are provided.
  • a support stage 48 to which the exposure head 41 is attached is fixed inside the exposure head support portion 43.
  • the exposure head support portion 43, the exposure head movement portion 44, the sensor unit 45, the sensor unit support portion 46, the sensor unit movement portion 47, and the control device 5 to be described later constitute the calibration system according to the present embodiment. Constitute.
  • the exposure head 41 irradiates the substrate 2 supported by the transport drum 33 with the beam L to directly draw patterns such as circuits and wirings on the substrate 2.
  • 4A to 4C are schematic views showing a schematic configuration inside the exposure head.
  • a laser light source 411 that outputs laser light
  • a beam shaping optical system 412 that outputs laser light
  • reflection mirrors 413 and 415 reflection mirrors 413 and 415
  • a polygon mirror 414 a polygon mirror 414
  • an f ⁇ lens 416 are provided inside the exposure head 41.
  • the polygon mirror 414 is provided with a drive device for rotating the polygon mirror 414 around the rotation shaft 414a.
  • the beam shaping optical system 412 includes optical elements such as a collimator lens, a cylindrical lens, a light quantity adjusting filter, and a polarization filter, and shapes the laser light output from the laser light source 411 into a beam L having a spot-like beam shape. ..
  • the reflection mirror 413 reflects the beam L shaped by the beam shaping optical system 412 toward the polygon mirror 414.
  • the polygon mirror 414 rotates around the rotation axis 414a and reflects the beam L incident from the direction of the reflection mirror 413 in a plurality of directions in the xy plane.
  • the reflection mirror 415 reflects the beam L reflected by the polygon mirror 414 in a direction orthogonal to the incident direction (see the beam exit 41a in FIG.
  • the f ⁇ lens 416 forms an image of the incident beam L on the exposure surfaces P1 and P2 (see FIG. 3) of the substrate 2 supported by the outer peripheral surface of the transport drum 33.
  • the beam L emitted from the exposure head 41 can be one-dimensionally scanned within a predetermined scanning range SR by controlling the rotation of the polygon mirror 414 (FIGS. 4B and 4B). 4C).
  • the adjustment stage 42 is provided for manually finely adjusting the position of the exposure head 41 in the x and y directions and the angle with respect to the vertical direction.
  • the exposure head support part 43 supports the exposure head 41 and the adjustment stage 42 so that the beam L emitted from the exposure head 41 enters a predetermined exposure area of the substrate 2.
  • FIG. 5 is a plan view of the exposure head 41 seen from the substrate 2 side.
  • the four exposure heads 41 are attached to a support stage 48 provided inside the exposure head support portion 43 via an adjustment stage 42.
  • the four exposure heads 41 are arranged such that the scanning ranges SR (see FIG. 4C) of the adjacent beams L slightly overlap each other at the ends in the width direction (y direction) of the substrate 2 or are adjacent to each other without a gap. ing. As a result, the four beams L can be scanned without gaps in the width direction of the substrate 2.
  • the drawing unit 4 is provided with four exposure heads 41, but the number of exposure heads 41 is not limited to this.
  • the number of the exposure heads 41 may be one or more, and can be appropriately determined according to the width of the substrate 2, the scanning range SR of the exposure head 41, the output, and the like.
  • FIG. 6 is a schematic view showing the substrate 2 on which a pattern is formed by the drawing unit 4.
  • the two-dimensional exposure pattern 21 is formed on the substrate 2. It is formed. In this way, by irradiating the substrate 2 with the beam L and carrying the substrate 2 while performing direct drawing, a continuous exposure pattern 21 can be formed on the long substrate 2 without interruption.
  • the exposure area by each exposure head 41 can be preset. Therefore, an identification symbol (ID) 22 for identifying each product (pattern) may be drawn in the exposure area of each exposure head 41.
  • ID an identification symbol
  • the identification symbol 22 By managing the identification symbol 22 in association with data such as the lot number, the drawing device number, the exposure head number, the exposure date and the time, a high degree of traceability can be ensured.
  • the exposure head moving unit 44 and the sensor unit moving unit 47 are moving mechanisms that move the exposure head supporting unit 43 and the sensor unit supporting unit 46 during calibration.
  • the exposure head support portion 43 is rotatably attached to the exposure head moving portion 44 via a rotation shaft 44a arranged in a shaft hole formed at the end.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing a state in which the exposure head support portion 43 is moved.
  • the exposure head support portion 43 can be moved by lifting the exposure head support portion 43 so as to rotate the other end side about a rotation shaft 44a provided at one end side.
  • a space where a sensor unit support portion 46 described later can be arranged is created on the optical path of the beam L emitted from the exposure head 41.
  • the sensor unit 45 is used for calibration of the beam L emitted from the exposure head 41.
  • the sensor unit 45 has a two-dimensional light receiving surface for receiving the beam L, an optical sensor such as a position detection element (PSD) that detects at least the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L on the light receiving surface, and the optical sensor. And a sensor substrate on which a circuit for transmitting a signal output from the photosensor is formed.
  • PSD position detection element
  • four sensor units 45 are provided to detect the beams L emitted from the four exposure heads 41, respectively.
  • the sensor unit support portion 46 supports the sensor unit 45, and is slidably supported by the exposure head support portion 43 via a sensor unit moving portion 47 described later. More specifically, in the sensor unit support portion 46, at the time of exposure, the light receiving surface (see the planes P1 ′ and P2 ′) of the optical sensor provided in each sensor unit 45 corresponds to the exposure surface P1 in the exposure area of the corresponding exposure head 41. , P2 so as to be parallel to P2.
  • the exposure surfaces P1 and P2 are surfaces in contact with the incident point (irradiation position) of the beam L incident on the surface of the substrate 2 supported by the outer peripheral surface 33b of the transport drum 33. ..
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing a state in which the sensor unit support portion 46 is moved with respect to the drawing unit 4 shown in FIG.
  • the sensor unit moving part 47 is attached to a slide rail 47 a fixed to the exposure head support part 43.
  • the sensor unit supporting portion 46 supported by the sensor unit moving portion 47 also moves in parallel.
  • the light receiving surface of the optical sensor provided in the sensor unit 45 has an exposure surface P1 on which the beam L emitted from the corresponding exposure head 41 enters during exposure. It is arranged at a position corresponding to P2.
  • FIG. 9 is a schematic view of the exposure head 41 shown in FIG. 8 viewed from the substrate side.
  • two optical sensors 451 are arranged on the sensor substrate 452 of each sensor unit 45.
  • the positions of these optical sensors 451 are set such that the center line of each optical sensor 451 overlaps with the line at the end of the scanning range SR. In this way, by providing the two optical sensors 451 with respect to the sensor unit 45 that calibrates one exposure head 41, it is possible to detect a slight deviation in the irradiation position of the beam L in the x direction. ..
  • FIG. 10 is a block diagram showing a schematic configuration of the control device 5.
  • the control device 5 is a device that comprehensively controls the operation of each unit of the drawing device 1, and includes an external interface 51, a storage unit 52, and a control unit 53.
  • the external interface 51 is an interface for connecting various external devices to the control device 5.
  • Examples of the external device connected to the control device 5 include an exposure head 41, an encoder 33c, a substrate transfer drive device 61 that drives the transfer system 3, an exposure head drive device 62 that drives the exposure head moving unit 44, and a sensor unit.
  • a sensor unit driving device 63 for driving the moving unit 47, an input device 64 such as a keyboard and a mouse, a display device 65 such as a liquid crystal monitor, a data reading device 66 for reading pattern data and the like into the control device 5 and the like can be mentioned. ..
  • the storage unit 52 is configured by using a computer-readable storage medium such as a disk drive or a semiconductor memory such as ROM and RAM.
  • the storage unit 52 stores an operating system program and a driver program, a program for causing the control device 5 to execute a predetermined operation, various data and setting information used during the execution of the program, and the like.
  • the storage unit 52 includes a program storage unit 521 that stores the various programs described above, a pattern data storage unit 522 that stores data of a pattern to be drawn by the drawing unit 4, an irradiation position and an irradiation intensity of the beam L.
  • a reference data storage unit 523 that stores reference data
  • a calibration data storage unit 524 that stores calibration data of the exposure head 41
  • a correction that stores correction data for adjusting the exposure head 41 based on the calibration data.
  • a data storage unit 525 is configured by using a computer-readable storage medium such as a disk drive or a semiconductor memory such as ROM and RAM.
  • the storage unit 52 stores an operating system program
  • the reference data storage unit 523 stores the irradiation position and irradiation intensity (that is, reference irradiation) of the beam L set so that the exposure area of the substrate 2 supported by the outer peripheral surface 33b of the transport drum 33 is appropriately exposed.
  • the position and the reference irradiation intensity) are stored as reference data.
  • the reference data storage unit 523 may store a predetermined reference value set based on the reference irradiation position and the reference irradiation intensity.
  • the reference value is an irradiation position and an irradiation intensity that include an error allowable for the beam L actually irradiated with respect to the reference irradiation position and the reference irradiation intensity.
  • the correction data stored in the correction data storage unit 525 is data generated when at least one of the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L does not fall within the range of the reference value. This is data for correcting at least one of the intensities.
  • the control unit 53 is configured by using hardware such as a CPU (Central Processing Unit), and reads and executes a program stored in the program storage unit 521, so that each unit of the control device 5 and the drawing device 1 Data transfer and instructions are performed, the operation of the drawing apparatus 1 is comprehensively controlled, and the pattern formation processing on the substrate 2 is executed.
  • the control unit 53 also periodically calibrates the exposure head 41 by executing the calibration program stored in the program storage unit 521, stores the calibration data, and based on the calibration data. The exposure head 41 is adjusted.
  • the functional units realized by the control unit 53 executing the calibration program include a drawing control unit 531, a calibration control unit 532, a determination unit 533, and a correction unit 534.
  • the drawing control unit 531 reads the pattern data from the drawing data storage unit 522, generates control data such as the scanning of the beam L in each exposure head 41 and the transfer speed of the substrate 2 by the transfer system 3, and transfers the exposure head 41 and the substrate. Output to the drive device 61.
  • the beam L emitted from each exposure head 41 is applied to a predetermined exposure region of the substrate 2 and scanned in the width direction. In this way, a two-dimensional pattern is continuously formed on the substrate 2.
  • the calibration control unit 532 performs control for calibrating the exposure head 41 at a predetermined timing, and represents a measurement value (calibration value) of the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L on the light receiving surface of the optical sensor 451. Generate data (calibration data).
  • the determination unit 533 determines whether or not the calibration value is within the reference value, based on the calibration data and the reference data stored in the reference data storage unit 523.
  • the correction unit 534 generates correction data for correcting the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L when the calibration value is not within the reference value, and controls each unit based on the correction data.
  • a control device 5 may be configured by one piece of hardware, or may be configured by combining a plurality of pieces of hardware.
  • FIG. 11 is a flowchart showing the calibration operation of the drawing apparatus 1.
  • step S10 the control device 5 causes each exposure head 41 to stop the irradiation of the beam L onto the substrate 2.
  • the control device 5 causes the transfer system 3 to stop the transfer of the substrate 2.
  • step S12 the control device 5 drives the exposure head drive device 62, and causes the exposure head moving unit 44 to move the exposure head support unit 43 (see FIG. 7). This creates a space below the exposure head 41 in which the sensor unit 45 can be arranged.
  • step S13 the control device 5 drives the sensor unit driving device 63, and causes the sensor unit moving part 47 to slide the sensor unit supporting part 46 (see FIG. 8).
  • the sensor unit 45 corresponding to the exposure head 41 is provided at a position (see the planes P1 ′ and P2 ′) corresponding to the exposure surfaces P1 and P2 on which the beam L emitted from each exposure head 41 enters during exposure.
  • the light receiving surface of the optical sensor 451 is arranged.
  • step S14 the control device 5 causes each exposure head 41 to irradiate the beam L on the light receiving surface of the optical sensor 451.
  • each optical sensor 451 detects the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L incident on the light receiving surface, and outputs a detection signal.
  • the calibration control unit 532 of the control device 5 represents the irradiation position and the irradiation intensity measurement value of the beam L irradiated on each optical sensor 451 based on the detection signal output from each optical sensor 451.
  • Data (calibration data) is generated and stored in the calibration data storage unit 524.
  • the determination unit 533 compares the calibration data generated in step S15 with the reference data stored in the reference data storage unit 523 to determine the irradiation position of the beam L emitted from each exposure head 41 and It is determined whether the irradiation intensity is within the reference value. Specifically, the determination unit 533 calculates the difference ( ⁇ x, ⁇ y) between the measured values of the irradiation position of the beam L with respect to the reference irradiation position and the difference between the measured values of the irradiation intensity with respect to the reference irradiation intensity. Then, it is determined whether the difference between the irradiation positions ( ⁇ x, ⁇ y) and the difference between the irradiation intensities are less than or equal to a predetermined threshold value.
  • step S16: Yes When the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L are within the reference value (step S16: Yes), that is, when the difference is less than or equal to the threshold value, the operation proceeds to step S18.
  • the correction unit 534 corrects the position and output of each exposure head 41.
  • the correction data is generated and stored in the correction data storage unit 525 (step S17). At this time, the correction unit 534 may display the correction data on the display device 66.
  • the correction unit 534 sets the parameter (beam) of the output start position with respect to the drawing start point, which is set by using the signal of the encoder 33c (see ⁇ in FIG. 3) provided on the transport drum 33 with respect to the difference ⁇ x. The value of ⁇ when starting the output of L) is corrected. Further, the correction unit 534, regarding the difference ⁇ y, sets a parameter of the output start position (when the output of the beam L is started, with respect to the drawing start point serving as the reference of the beam L emitted through the polygon mirror 414 (see FIG. 4A). The initial position of the polygon mirror of is corrected. Further, the correction unit 534 corrects the output parameter for each exposure head 41 in the drawing control unit 531 regarding the irradiation intensity.
  • step S18 the control device 5 drives the sensor unit driving device 63, and causes the sensor unit moving unit 47 to slide the sensor unit supporting unit 46 in a direction away from the exposure head 41.
  • step S19 the control device 5 drives the exposure head drive device 62, moves the exposure head support portion 43 by the exposure head moving portion 44, and returns the original exposure position.
  • the calibration operation in the drawing apparatus 1 ends.
  • each unit operates based on the parameters corrected in step S17, and the drawing can be performed with the corrected irradiation position and irradiation intensity of the beam.
  • the beam L emitted from each exposure head 41 is directly irradiated onto the substrate 2 and the width of the beam L is increased. Since the scanning is performed in the direction, a two-dimensional exposure pattern can be continuously formed on the substrate 2 without breaks. Therefore, a continuous pattern can be efficiently formed even on a long substrate of several m to several tens of m, and the throughput can be improved.
  • a high level traceability is ensured at the pattern or wiring level by drawing an identification mark with the exposure head 41 in the exposure area of each exposure head 41.
  • each exposure head 41 is provided with a light source, it is possible to form a pattern with sufficient irradiation intensity.
  • the light receiving surface of the optical sensor 451 can be accurately arranged at a position corresponding to the surfaces P1 and P2. Therefore, by irradiating the optical sensor 451 with the beam L instead of the substrate 2 supported by the transport drum 33, highly accurate calibration can be performed. Therefore, even when a continuous pattern is formed on the long substrate 2, the calibration can be performed at any time while the substrate 2 is supported by the transport drum 33.
  • the exposure head support portion 43 is moved by lifting the exposure head support portion 43 so as to rotate the end portion about the rotation shaft 44a, the calibration is performed at a low space and at low cost. It is possible to configure an application system.
  • the calibration value of the beam L falls within the range of the reference value, and if the calibration value does not fall within the range of the reference value, various types of corrections are performed.
  • the process was executed. However, it is also possible to perform the calibration and simply store the calibration data. Further, the determination result of the calibration value and the correction data based on the determination result may be stored.
  • the position and the tilt of the exposure head 41 are manually finely adjusted by the adjustment stage 42, but an electrically controllable adjustment stage is provided instead of the adjustment stage 42, The position and tilt of the exposure head 41 may be automatically adjusted based on the calibration result.
  • the irradiation position and the irradiation intensity of the beam L on the light receiving surface of the optical sensor 451 are detected.
  • the irradiation range of the beam L (beam diameter and beam shape) is detected. ) May be detected and stored as calibration data.
  • focus adjustment may be performed by correcting the position of the exposure head 41 (distance from the exposure surfaces P1 and P2) based on the beam diameter detected by the optical sensor 451. Further, the inclination of the exposure head 41 (the angle between the exposure surfaces P1 and P2 and the beam L) may be corrected based on the beam shape detected by the optical sensor 451.
  • FIG. 12 is a schematic diagram showing a drawing unit including a calibration system according to the second embodiment of the present invention.
  • the position of the sensor unit 45 is fixed, and at the time of calibration, the exposure head support portion 43 that supports the exposure head 41 is moved in parallel in the horizontal plane so that The emitted beam L is made incident on the optical sensor.
  • the calibration system includes an exposure head support portion 43A, a sensor unit 45, a sensor unit support portion 46, a sensor unit fixing portion 70, and a moving mechanism that moves the exposure head support portion 43A.
  • a beam 71 provided with a slide rail 72, and a drive unit 73 for moving the exposure head support 43A along the slide race 72.
  • the relative positional relationship between the exposure head 41 supported by the exposure head support portion 43A and the sensor unit 45 is the same as that in the first embodiment.
  • the exposure head support portion 43A is slid and moved, and the exposure head 41 is moved to a position where the beam L is incident on the light receiving surface of the optical sensor provided in the sensor unit 45.
  • the step of forming a space on the optical path of the beam emitted from the exposure head 41 and the step of disposing the sensor unit 45 in the space are performed simultaneously.
  • the calibration can be performed only by sliding the exposure head support portion 43A, the calibration can be performed at high speed and with high accuracy.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing a drawing unit including a calibration system according to the third embodiment of the present invention.
  • the exposure head support portion 43 that supports the exposure head 41 is moved in parallel within the vertical plane.
  • the calibration system includes an exposure head support portion 43B, a sensor unit 45, a sensor unit support portion 46, a sensor unit moving portion 47, and a moving mechanism that moves the exposure head support portion 43B. 80 and.
  • the moving mechanism 80 includes a column 81 on which a rack 82 is provided, and a drive unit 83 that moves the exposure head support portion 43B in the vertical direction by rotating a pinion that meshes with the rack 82.
  • the relative positional relationship between the exposure head 41 supported by the exposure head support portion 43B and the sensor unit 45 is the same as that in the first embodiment.
  • the exposure head support portion 43B is moved vertically in parallel to form a space in which the sensor unit 45 can be arranged between the exposure head 41 and the substrate 2. Then, the sensor unit moving portion 47 slides the sensor unit supporting portion 46 to arrange the sensor unit 46 at a position where the beam L emitted from the exposure head 41 is incident on the light receiving surface of the optical sensor.
  • the present invention described above is not limited to the above-described first to third embodiments, and various combinations of the constituent elements disclosed in the above-described first to third embodiments can be used in various ways.
  • An invention can be formed. For example, some components may be excluded from all the components shown in the first to third embodiments, or the components shown in the first to third embodiments may be formed. They may be formed in an appropriate combination.
  • Display device 70 ... Sensor unit fixing part, 71 ... Beam, 73, 83 ... Driving part, 80 ... Moving mechanism, 81 ... Support column, 82 ... Rack, 411 ... Laser light source, 412 ... Beam shaping optics System 413, 415 ... Reflective mirror, 414a ... Rotation axis, 414 ... Polygon mirror, 416 ... f.theta. Lens, 451 ... Photosensor, 452 ... Sensor substrate, 521 ... Program storage unit, 522 ... Drawing data storage unit, 523 ... Reference Data storage unit, 524 ... Calibration data storage unit, 525 ... Correction data storage unit, 531 ... Drawing control unit, 532 ... Calibration control unit, 533 ... Judgment unit, 534 ... Correction unit, 535 ... Judgment unit

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Abstract

長尺のシート状基板（２）に対して連続的なパターンを形成する場合に、随時キャリブレーションを行うことができるキャリブレーションシステム等を提供する。 キャリブレーションシステムは、露光ヘッド（４１）を支持する露光ヘッド支持部（４３）と、光センサを含むセンサユニット（４５）と、露光時に、光センサの受光面が上記露光領域における露光面と平行となるようにセンサユニット（４５）を支持すると共に、露光ヘッド支持部（４３）に対してスライド移動可能に取り付けられたセンサユニット支持部（４６）と、露光ヘッド支持部（４３）及びセンサユニット支持部（４６）を移動させる移動機構（４４）と、制御部とを備え、制御部は、キャリブレーション時に露光ヘッド支持部（４３）及びセンサユニット支持部（４６）を移動させることにより、光センサの受光面を、露光ヘッドから出射するビームが露光時に入射する露光面に対応する位置に配置する。

Description

キャリブレーションシステム及び描画装置
　本発明は、基板にパターンを描画する露光用の光ビームを出射する露光ヘッドをキャリブレーションするキャリブレーションシステム及び描画装置に関する。
　近年、自動車や航空機等の輸送機において使用される電子機器の数は増加の一途を辿っている。これに伴い、電子機器への電源供給や信号の送受信に用いられるワイヤーハーネスの数も増加している。その一方で、輸送機においては軽量化や内部の省スペース化が要請されており、ワイヤーハーネスの増加に伴う重量増やスペース増が問題になっている。
　このような問題から、輸送機で用いられるワイヤーハーネスを、長尺のシート状をなすフレキシブルプリント回路基板（Flexible　Printed　Circuit：ＦＰＣ）により代替することも検討されている。
　長尺のシート状の基板に対するパターン形成技術として、例えば特許文献１には、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ該シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、上記シート材の表面の複数の領域にパターンを形成するパターン形成装置が開示されている。このパターン形成装置においては、マスクに形成されたパターンの像をシート材に投影することにより露光を行っている。
　また、特許文献２には、基板を長尺方向に搬送させつつ、基板の長尺方向と直交する幅方向に分割された複数の領域ごとに所定のパターンを描画する描画装置が開示されている。この特許文献２においては、マスクを用いない直描方式（ラスタースキャン方式）で露光を行っている。
　非特許文献１には、ロールトゥロール（Roll　To　Roll）方式でフィルム搬送を停止することなく連続的に搬送しながら処理を行うために、アライメント計測、重ね合わせ露光、ワーク交換を並列に行う技術が開示されている。
特開２０１１－２２５８３号公報 特開２０１７－１０２３８５号公報
鬼頭義昭、他、「ロールトゥロール方式高精度ダイレクトウェブ露光装置の開発」、映像情報メディア学会誌、第７１巻、第１０号、第Ｊ２３０～Ｊ２３５頁（２０１７）、一般社団法人映像情報メディア学会、２０１７年９月８日採録
　例えば自動車において使用されるワイヤーハーネスをＦＰＣで代替するためには、数ｍ（例えば６ｍ以上）の連続した配線パターンを基板に形成する必要がある。しかしながら、特許文献１、２には、フレキシブル・ディスプレイやフレキシブル・センサーといった比較的小型の電子デバイス用のパターンの形成技術しか開示されていない。そのため、特許文献１、２に開示された技術を利用して連続した長尺の配線パターンを形成するためには、１つのパターンを露光するごとに、露光済みのパターンとの位置合わせを行い繋ぎ合わせる必要があり、手間と時間がかかり非効率である。これに対し、非特許文献１には、搬送装置で停止を行うことなく連続的に露光を行うことが可能で、且つマスクによるパターンサイズの制限がないため、長い連続パターンの作製が可能である旨記載されている。
　ところで、自動車や航空機など高度な安全性が要求される機器においては、輸送機を構成する１つひとつの部品について高い信頼性を担保するため、トレーサビリティが必要とされている。そのため、パターン形成された基板に関しては、当該基板へのパターン形成工程において、露光用のビームを出射する露光ヘッドのキャリブレーションを定期的に行い、キャリブレーションデータを保存しておかなくてはならない。
　この点に関し、特許文献１、２のように、基板上の複数の領域にパターンを間欠的に形成する場合、パターン形成の合間に、同じ基板上のスペースを利用してキャリブレーションを行うことも考えられる。しかしながら、非特許文献１のように、基板上に連続的にパターン形成を行う場合、露光装置に基板をセットした状態では、途中でキャリブレーションを行うことができない。
　本発明は上記に鑑みてなされたものであって、長尺のシート状の基板に対して連続的にパターンを形成する場合に、パターンを描画する露光用のビームを出射する露光ヘッドのキャリブレーションを随時行うことができるキャリブレーションシステム及び描画装置を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明の一態様であるキャリブレーションシステムは、長尺のシート状をなし、長手方向に沿って搬送される基板に露光用のビームを照射する少なくとも１つの露光ヘッドをキャリブレーションするキャリブレーションシステムであって、前記少なくとも１つの露光ヘッドを支持する露光ヘッド支持部であって、露光時に、前記少なくとも１つの露光ヘッドからそれぞれ出射した前記ビームを前記基板上の所定の少なくとも１つの露光領域にそれぞれ入射させる位置に配置されるように構成された露光ヘッド支持部と、前記ビームを受光する受光面を有し、該受光面に入射した前記ビームの少なくとも照射位置及び照射強度を検出する光センサを含む少なくとも１つのセンサユニットと、前記少なくとも１つのセンサユニットを支持するセンサユニット支持部であって、露光時に、前記少なくとも１つのセンサユニットに含まれる光センサの受光面が、前記少なくとも１つの露光領域における露光面とそれぞれ平行となるように、前記少なくとも１つのセンサユニットを支持すると共に、前記露光ヘッド支持部に対してスライド移動が可能となるように取り付けられたセンサユニット支持部と、前記露光ヘッド支持部と前記センサユニット支持部とのうち少なくとも露光ヘッド支持部を移動させるように構成された移動機構と、前記移動機構の動作を制御するように構成された制御部と、を備え、前記制御部は、キャリブレーション時に、前記露光ヘッド支持部を移動させることにより、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームの光路上に、前記少なくとも１つのセンサユニットを配置可能な空間を形成すると共に、前記露光ヘッド移動部に対して前記センサユニット支持部を相対的にスライド移動させることにより、前記受光面を、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームが露光時に入射する前記露光面に対応する位置に配置するように構成されているものである。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記移動機構は、前記露光ヘッド支持部の一端側を回転軸として他端側を持ち上げることにより前記空間を形成するように構成された露光ヘッド移動部と、前記露光ヘッド支持部に対して前記センサユニット支持部をスライド移動させるように構成されたスライド移動部と、を含んでも良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記センサユニット支持部は、前記基板を搬送する搬送機構に対して固定された位置に設けられ、前記移動機構は、前記露光ヘッド支持部を、前記スライド移動が可能な方向に平行移動させるように構成されていても良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記移動機構は、前記露光ヘッド支持部を鉛直方向に平行移動させることにより前記空間を形成する露光ヘッド移動部と、前記露光ヘッド支持部に対して前記センサユニット支持部をスライド移動させるスライド移動部と、を含んでも良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記制御部は、前記少なくとも１つの露光ヘッドから前記受光面に向けて前記ビームを出射させ、前記センサユニットから出力された検出信号に基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射した前記ビームの前記受光面における照射位置及び照射強度を表すデータを生成するように構成され、前記照射位置及び照射強度を表すデータをキャリブレーションデータとして記憶するように構成された記憶部をさらに備えても良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記記憶部は、前記少なくとも１つの露光領域に対する前記ビームの基準照射位置及び基準照射強度を表す基準データをさらに記憶するように構成され、前記制御部は、前記キャリブレーションデータ及び前記基準データに基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度が所定の基準値の範囲に収まるか否かを判定するように構成された判定部を有するものであっても良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記制御部は、前記判定部による判定結果に基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかが前記基準値の範囲に収まらない場合、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかを補正するための補正値データを生成するように構成され、前記記憶部は、前記補正値データをさらに記憶するように構成されていても良い。
　上記キャリブレーションシステムにおいて、前記少なくとも１つの露光ヘッドの各々は、前記レーザ光を出力する光源と、前記レーザ光をビーム状に成形する光学系と、ビーム状に成形された前記レーザ光を走査するポリゴンミラーと、前記ポリゴンミラーを回転させる駆動部と、を有し、前記制御部は、前記補正値データに基づいて、前記光源の出力と、前記駆動部の動作との少なくともいずれかを制御することにより、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームの照射強度と照射位置との少なくともいずれかを補正するように構成されていても良い。
　本発明の別の態様である描画装置は、上記キャリブレーションシステムと、前記露光ヘッド支持部に支持された少なくとも１つの露光ヘッドと、円筒状をなし、外周面において前記基板を支持すると共に、円筒の中心軸回りに回転することにより前記基板を搬送する搬送ドラムと、を備えるものである。
　本発明によれば、キャリブレーション時に、露光ヘッド支持部を移動させることにより、露光ヘッドから出射するビームの光路上にセンサユニットを配置可能な空間を形成すると共に、露光ヘッド移動部に対してセンサユニット支持部を相対的にスライド移動させることにより、露光ヘッドから出射するビームが露光時に入射する露光面に対応する位置に光センサの受光面を配置するので、この受光面におけるビームの照射位置及び照射強度を検出することで、基板上の露光領域に入射するビームの照射位置及び照射強度に関する情報を取得することができる。従って、長尺のシート状の基板に対して連続的にパターンを形成する場合であっても、搬送ドラムに基板をセットしたままの状態で、随時キャリブレーションを行うことが可能となる。
本発明の第１の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画装置の概略構成を示す模式図である。 図１に示す描画装置の平面図である。 図１に示す描画ユニットを拡大して示す模式図である。 露光ヘッドの内部の概略構成を示す模式図である。 露光ヘッドの内部の概略構成を示す模式図である。 露光ヘッドの内部の概略構成を示す模式図である。 図３に示す露光ヘッドを基板側から見た模式図である。 パターンが形成された基板を示す模式図である。 図３に示す描画ユニットにおいて、露光ヘッド支持部を移動させた状態を示す模式図である。 図７に示す描画ユニットに対して、センサユニットを移動させた状態を示す模式図である。 図８に示す露光ヘッドを基板側から見た模式図である。 図１に示す制御装置の概略構成を示すブロック図である。 キャリブレーション時における描画装置の動作を示すフローチャートである。 本発明の第２の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画ユニットの概略構成を示す模式図である。 本発明の第３の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画ユニットの概略構成を示す模式図である。
　以下、本発明の実施の形態に係るキャリブレーションシステム及び描画装置について、図面を参照しながら説明する。なお、これらの実施の形態によって本発明が限定されるものではない。また、各図面の記載において、同一部分には同一の符号を付して示している。
　以下の説明において参照する図面は、本発明の内容を理解し得る程度に形状、大きさ、及び位置関係を概略的に示しているに過ぎない。即ち、本発明は各図で例示された形状、大きさ、及び位置関係のみに限定されるものではない。また、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。
（第１の実施形態）
　図１は、本発明の第１の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画装置の概略構成を示す模式図である。図２は、同描画装置の平面図である。図１及び図２に示すように、描画装置１は、長尺のシート状をなす基板２を搬送する搬送システム３と、基板２に露光用のビームＬを照射することによりパターンを形成する描画ユニット４と、搬送システム３及び描画ユニット４の動作を制御する制御装置５とを備える。
　本実施形態においては、フレキシブルプリント回路基板（Flexible　Printed　Circuit：ＦＰＣ）を処理対象の基板２としている。ＦＰＣは、ポリイミド等の絶縁性を有する樹脂製のベースフィルムに銅等の金属箔を貼り合わせた、可撓性を有する回路基板である。基板２は、例えば数ｍ～数十ｍの帯状に成形されたＦＰＣであり、巻出しリール３１にロール状に巻かれた状態から巻き出され、搬送システム３により搬送されて描画ユニット４によりパターンが形成された後、巻取りリール３２に巻き取られる。このように、帯状のワークをロールから巻き出し、所定の処理を施した後でロールに巻き取る搬送方式のことを、ロールトゥロール（Roll　to　Roll）方式という。
　搬送システム３には、巻出しリール３１を回転可能に支持する回転軸３１ａと、巻き取りリール３２を回転可能に支持する回転軸３２ａと、搬送ドラム３３と、搬送ドラム３３の上流側（図の左側）及び下流側（図の右側）にそれぞれ設けられたテンションプーリ３４、３５と、複数の案内ローラ３６、３７とが設けられている。
　搬送ドラム３３は、全体として円筒形状を有し、駆動源から供給される回転駆動力により回転する回転軸３３ａに支持されている。搬送ドラム３３は、外周面３３ｂの略上半分の領域において基板２を支持すると共に、自身が回転することにより基板２を搬送する。また、搬送ドラム３３には、搬送ドラム３３の回転量を測定するエンコーダ３３ｃが設けられている。
　以下においては、搬送ドラム３３の上端部における基板２の搬送方向をｘ方向、搬送ドラム３３の上端部に接する平面（水平面）においてｘ方向と直交する方向をｙ方向（即ち、基板２の幅方向）、ｘｙ平面と直交する方向（鉛直方向）をｚ方向（下向きが正）とする。
　２つのテンションプーリ３４、３５は、搬送ドラム３３よりも下方に、上下方向に移動可能に設置されている。詳細には、各テンションプーリ３４、３５は、上下方向に移動可能な回転軸３４ａ、３５ａに回転可能に支持されている。各回転軸３４ａ、３５ａには、当該回転軸３４ａ、３５ａを下方に向けて付勢するテンション調整機構が連結されている。このテンション調整機構によって回転軸３４ａ、３５ａを介してテンションプーリ３４、３５を下方に付勢することにより、搬送ドラム３３に巻き掛けられた基板２を、所定のテンションがかかった状態で搬送することができる。
　各案内ローラ３６は、回転軸３６ａに回転可能に支持されており、巻出しリール３１から巻き出された基板２を上流側のテンションプーリ３４に案内する。各案内ローラ３７は、回転軸３７ａに回転可能に支持されており、パターン形成処理がなされた基板２を下流側のテンションプーリ３５から巻き取りリール３２に案内する。
　なお、搬送システム３の構成としては、ロールトゥロール方式で基板２を搬送し、且つ、搬送ドラム３３の外周面３３ｂに支持された基板２に対してパターン形成処理を施すことができれば、図１及び図２に示す構成に限定されない。また、巻出しリール３１から基板２が巻き出された後、搬送ドラム３３に至るまでの間、又は、搬送ドラム３３から基板２が搬出された後、巻取りリール３２に巻き取られるまでの間に、さらに別の処理を行うユニット（前処理ユニット、後処理ユニット等）を設けても良い。なお、搬送システム３には、通常、基板搬送時の蛇行を防ぐため、基板２の端部位置を検出し、巻出し装置又は巻取り装置を微動させるエッジ・ポジション・コントロール（Edge　Position　Control：ＥＰＣ）装置が設けられる。
　図３は、図１に示す描画ユニット４を拡大して示す模式図である。図３に示すように、描画ユニット４は、露光用のビームＬを出射する露光ヘッド４１と、調整ステージ４２と、露光ヘッド支持部４３と、露光ヘッド移動部４４と、センサユニット４５と、センサユニット支持部４６と、センサユニット移動部４７とを備える。露光ヘッド支持部４３の内側には露光ヘッド４１が取り付けられる支持ステージ４８が固定されている。このうち、露光ヘッド支持部４３、露光ヘッド移動部４４、センサユニット４５、センサユニット支持部４６、及びセンサユニット移動部４７、並びに、後述する制御装置５が、本実施形態に係るキャリブレーションシステムを構成する。
　露光ヘッド４１は、搬送ドラム３３に支持された基板２に向けてビームＬを照射することにより、回路や配線等のパターンを基板２に直接描画する。図４Ａ～図４Ｃは、露光ヘッドの内部の概略構成を示す模式図である。
　図４Ａ～図４Ｃに示すように、露光ヘッド４１の内部には、レーザ光を出力するレーザ光源４１１と、ビーム成形光学系４１２と、反射ミラー４１３、４１５と、ポリゴンミラー４１４と、ｆθレンズ４１６とが設けられている。また、ポリゴンミラー４１４には、該ポリゴンミラー４１４を回転軸４１４ａ回りに回転させる駆動装置が設けられている。
　ビーム成形光学系４１２は、コリメータレンズ、シリンドリカルレンズ、光量調整用のフィルタ、偏光フィルタ等の光学素子を含み、レーザ光源４１１から出力されたレーザ光をスポット状のビーム形状を有するビームＬに成形する。反射ミラー４１３は、ビーム成形光学系４１２により成形されたビームＬを、ポリゴンミラー４１４の方向に反射する。ポリゴンミラー４１４は、回転軸４１４ａ回りに回転し、反射ミラー４１３の方向から入射したビームＬを、ｘｙ平面内において複数の方向に反射する。反射ミラー４１５は、ポリゴンミラー４１４により反射されたビームＬを、入射方向と直交する方向（図３のビーム出射口４１ａ参照）に反射し、ｆθレンズ４１６に入射させる。ｆθレンズ４１６は、入射したビームＬを、搬送ドラム３３の外周面に支持された基板２の露光面Ｐ１、Ｐ２（図３参照）において結像させる。このような露光ヘッド４１においては、ポリゴンミラー４１４の回転を制御することにより、露光ヘッド４１から出射するビームＬを、所定の走査範囲ＳＲにおいて一次元的に走査することができる（図４Ｂ及び図４Ｃ参照）。
　再び図３を参照すると、調整ステージ４２は、露光ヘッド４１のｘ方向及びｙ方向における位置と、鉛直方向に対する角度を手動で微調整するために設けられている。
　露光ヘッド支持部４３は、露光ヘッド４１から出射したビームＬが、基板２の所定の露光領域に入射するように、露光ヘッド４１及び調整ステージ４２を支持する。
　図５は、露光ヘッド４１を基板２側から見た平面図である。図５に示すように、４つの露光ヘッド４１は、露光ヘッド支持部４３の内側に設けられた支持ステージ４８に、調整ステージ４２を介して取り付けられている。４つの露光ヘッド４１は、基板２の幅方向（ｙ方向）において、隣り合うビームＬの走査範囲ＳＲ（図４Ｃ参照）が端部において僅かに重なり合うか、或いは、隙間なく隣接するように配置されている。これにより、基板２の幅方向において、４つのビームＬにより隙間なく走査することが可能となる。
　なお、図２及び図５においては、描画ユニット４に４つの露光ヘッド４１を設けているが、露光ヘッド４１の数はこれに限定されない。露光ヘッド４１の数は、１つ以上であれば良く、基板２の幅や、露光ヘッド４１の走査範囲ＳＲ及び出力等に応じて適宜決定することができる。
　図６は、描画ユニット４によりパターンが形成された基板２を示す模式図である。図５に示すように、各露光ヘッド４１から出射したビームＬを基板２の幅方向に走査しつつ、搬送ドラム３３により基板２を搬送することで、基板２に２次元的な露光パターン２１が形成される。このように、ビームＬを基板２に照射し、直接描画を行いながら基板２を搬送することで、長尺の基板２に対して切れ目なく連続的な露光パターン２１を形成することができる。
　また、基板２においては、各露光ヘッド４１による露光領域を予め設定することができる。そこで、各露光ヘッド４１の露光領域内に、個々の製品（パターン）を識別する識別記号（ＩＤ）２２を描画しても良い。識別記号２２を、ロット番号、描画装置番号、露光ヘッド番号、露光日付及び時刻等のデータと紐付けて管理することにより、高度なトレーサビリティを確保することができる。
　再び図３を参照すると、露光ヘッド移動部４４及びセンサユニット移動部４７は、キャリブレーション時に露光ヘッド支持部４３及びセンサユニット支持部４６を移動させる移動機構である。露光ヘッド支持部４３は、端部に形成された軸孔に配置された回転軸４４ａを介して、露光ヘッド移動部４４に回転可能に取り付けられている。
　図７は、露光ヘッド支持部４３を移動させた状態を示す模式図である。図７に示すように、露光ヘッド支持部４３を、一端側に設けられた回転軸４４ａを軸として他端側を回転させるように持ち上げることにより、露光ヘッド支持部４３を移動させることができる。このように露光ヘッド支持部４３を移動させると、露光ヘッド４１から出射したビームＬの光路上に、後述するセンサユニット支持部４６を配置可能な空間が生じる。
　センサユニット４５は、露光ヘッド４１から出射するビームＬのキャリブレーションに用いられる。センサユニット４５は、ビームＬを受光する２次元の受光面を有し、該受光面に対するビームＬの少なくとも照射位置及び照射強度を検出する位置検出素子（ＰＳＤ）等の光センサと、該光センサに電源を供給すると共に、該光センサから出力された信号を送信するための回路が形成されたセンサ基板とを有する。本実施形態においては、４つの露光ヘッド４１から出射するビームＬをそれぞれ検出するために、４つのセンサユニット４５が設けられている。
　センサユニット支持部４６は、センサユニット４５を支持すると共に、後述するセンサユニット移動部４７を介して、露光ヘッド支持部４３にスライド移動可能に支持されている。詳細には、センサユニット支持部４６は、露光時には、各センサユニット４５に設けられた光センサの受光面（平面Ｐ１’、Ｐ２’参照）が、対応する露光ヘッド４１の露光領域における露光面Ｐ１、Ｐ２と平行になるように、センサユニット４５を支持している。ここで、本明細書において、露光面Ｐ１、Ｐ２とは、搬送ドラム３３の外周面３３ｂに支持された基板２の表面に入射するビームＬの入射点（照射位置）に接する面のことである。
　センサユニット移動部４７は、センサユニット支持部４６を露光ヘッド支持部４３に対してスライド移動させる。図８は、図７に示す描画ユニット４に対して、センサユニット支持部４６を移動させた状態を示す模式図である。センサユニット移動部４７は、露光ヘッド支持部４３に固定されたスライドレール４７ａに取り付けられている。センサユニット移動部４７をスライドレール４７ａに沿って移動させることにより、センサユニット移動部４７に支持されたセンサユニット支持部４６も平行移動する。図８に示すように、センサユニット支持部４６を移動させると、センサユニット４５に設けられた光センサの受光面が、対応する露光ヘッド４１から出射するビームＬが露光時に入射する露光面Ｐ１、Ｐ２に対応する位置に配置される。
　図９は、図８に示す露光ヘッド４１を基板側から見た模式図である。図９に示すように、各センサユニット４５のセンサ基板４５２には、２つの光センサ４５１が配置されている。これらの光センサ４５１の位置は、各光センサ４５１の中心線が走査範囲ＳＲの端部のラインと重なるように設定されている。このように、１つの露光ヘッド４１をキャリブレーションを行うセンサユニット４５に対し、２つの光センサ４５１を設けることにより、ビームＬの照射位置のｘ方向における僅かなズレを検出することが可能となる。
　図１０は、制御装置５の概略構成を示すブロック図である。制御装置５は、描画装置１の各部の動作を統括的に制御する装置であり、外部インタフェース５１と、記憶部５２と、制御部５３とを備える。
　外部インタフェース５１は、各種外部機器を当該制御装置５に接続するためのインタフェースである。制御装置５に接続される外部機器としては、例えば、露光ヘッド４１、エンコーダ３３ｃ、搬送システム３を駆動する基板搬送駆動装置６１、露光ヘッド移動部４４を駆動する露光ヘッド用駆動装置６２、センサユニット移動部４７を駆動するセンサユニット用駆動装置６３、キーボードやマウスなどの入力デバイス６４、液晶モニタ等の表示デバイス６５、パターンデータ等を当該制御装置５に読み込むためのデータ読込装置６６等が挙げられる。
　記憶部５２は、ディスクドライブ又はＲＯＭ、ＲＡＭなどの半導体メモリ等のコンピュータ読取可能な記憶媒体を用いて構成される。記憶部５２は、オペレーティングシステムプログラムやドライバプログラムの他、当該制御装置５に所定の動作を実行させるためのプログラムや、該プログラムの実行中に使用される各種データ及び設定情報等を記憶する。詳細には、記憶部５２は、上述した各種プログラムを記憶するプログラム記憶部５２１と、描画ユニット４に描画させるパターンのデータを記憶するパターンデータ記憶部５２２と、ビームＬの照射位置及び照射強度の基準データを記憶する基準データ記憶部５２３と、露光ヘッド４１のキャリブレーションデータを記憶するキャリブレーションデータ記憶部５２４と、キャリブレーションデータに基づいて露光ヘッド４１を調整するための補正データを記憶する補正データ記憶部５２５とを含む。
　基準データ記憶部５２３は、搬送ドラム３３の外周面３３ｂに支持された基板２の露光領域に対して適正な露光が行われるように設定されたビームＬの照射位置及び照射強度（即ち、基準照射位置及び基準照射強度）を、基準データとして記憶する。また、基準データ記憶部５２３は、基準照射位置及び基準照射強度に基づいて設定される所定の基準値を記憶しても良い。ここで、基準値とは、基準照射位置及び基準照射強度に対し、実際に照射されるビームＬに許容される誤差を含んだ照射位置及び照射強度のことである。補正データ記憶部５２５に記憶される補正データは、ビームＬの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかが基準値の範囲に収まらない場合に生成されるデータであり、当該ビームＬの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかを補正するためのデータである。
　制御部５３は、ＣＰＵ（Central　Processing　Unit）等のハードウェアを用いて構成され、プログラム記憶部５２１に記憶されているプログラムを読み込んで実行することにより、制御装置５及び描画装置１の各部へのデータ転送や指示を行い、描画装置１の動作を統括的に制御して、基板２へのパターン形成処理を実行させる。また、制御部５３は、プログラム記憶部５２１に記憶されたキャリブレーションプログラムを実行することにより、露光ヘッド４１のキャリブレーションを定期的に行い、キャリブレーションデータを記憶すると共に、キャリブレーションデータに基づいて露光ヘッド４１の調整を行う。
　詳細には、制御部５３がキャリブレーションプログラムを実行することにより実現される機能部には、描画制御部５３１と、キャリブレーション制御部５３２と、判定部５３３と、補正部５３４とが含まれる。
　描画制御部５３１は、描画データ記憶部５２２からパターンデータを読み出し、各露光ヘッド４１におけるビームＬの走査及び搬送システム３による基板２の搬送速度等の制御データを生成し、露光ヘッド４１及び基板搬送駆動装置６１に出力する。これにより、搬送システム３によって基板２が所定の速度で搬送されつつ、各露光ヘッド４１から出射したビームＬが基板２の所定の露光領域に照射され、幅方向に走査される。このようにして、基板２に２次元的なパターンが連続的に形成される。
　キャリブレーション制御部５３２は、所定のタイミングで露光ヘッド４１をキャリブレーションするための制御を行うと共に、光センサ４５１の受光面におけるビームＬの照射位置及び照射強度の測定値（キャリブレーション値）を表すデータ（キャリブレーションデータ）を生成する。
　判定部５３３は、キャリブレーションデータ及び基準データ記憶部５２３に記憶された基準データに基づき、キャリブレーション値が基準値内に収まっているか否かを判定する。
　補正部５３４は、キャリブレーション値が基準値内に収まっていない場合に、ビームＬの照射位置及び照射強度を補正するための補正データを生成し、該補正データに基づいて各部を制御する。
　なお、このような制御装置５は、１つのハードウェアにより構成しても良いし、複数のハードウェアを組み合わせて構成しても良い。
　次に、本発明の第１の実施形態に係るキャリブレーション方法について説明する。図１１は、描画装置１のキャリブレーション動作を示すフローチャートである。
　まず、ステップＳ１０において、制御装置５は各露光ヘッド４１に対し、基板２へのビームＬの照射を停止させる。
　続くステップＳ１１において、制御装置５は搬送システム３に対し、基板２の搬送を停止させる。
　続くステップＳ１２において、制御装置５は露光ヘッド用駆動装置６２を駆動し、露光ヘッド移動部４４により露光ヘッド支持部４３を移動させる（図７参照）。これにより、露光ヘッド４１の下方に、センサユニット４５を配置可能な空間が生じる。
　続くステップＳ１３において、制御装置５はセンサユニット用駆動装置６３を駆動し、センサユニット移動部４７によりセンサユニット支持部４６をスライド移動させる（図８参照）。これにより、各露光ヘッド４１から出射するビームＬが露光時に入射する露光面Ｐ１、Ｐ２に対応する位置（平面Ｐ１’、Ｐ２’参照）に、当該露光ヘッド４１に対応するセンサユニット４５に設けられた光センサ４５１の受光面が配置される。
　続くステップＳ１４において、制御装置５は、各露光ヘッド４１に対し、光センサ４５１の受光面にビームＬを照射させる。これにより、各光センサ４５１は、受光面に入射したビームＬの照射位置及び照射強度を検出し、検出信号を出力する。
　続くステップＳ１５において、制御装置５のキャリブレーション制御部５３２は、各光センサ４５１から出力された検出信号に基づき、各光センサ４５１に照射されたビームＬの照射位置及び照射強度の測定値を表すデータ（キャリブレーションデータ）を生成し、キャリブレーションデータ記憶部５２４に保存する。
　続くステップＳ１６において、判定部５３３は、ステップＳ１５において生成されたキャリブレーションデータを、基準データ記憶部５２３に記憶された基準データと対比し、各露光ヘッド４１から出射されたビームＬの照射位置及び照射強度が基準値以内であるか否かを判定する。詳細には、判定部５３３は、ビームＬの基準照射位置に対する照射位置の測定値の差分（Δｘ，Δｙ）を算出すると共に、基準照射強度に対する照射強度の測定値の差分を算出する。そして、照射位置の差分（Δｘ，Δｙ）及び照射強度の差分が所定の閾値以下であるか否かを判定する。
　ビームＬの照射位置及び照射強度が基準値以内である場合（ステップＳ１６：Ｙｅｓ）、即ち、差分が閾値以下である場合、動作はステップＳ１８に移行する。
　他方、ビームＬの照射位置及び照射強度が基準値を超える場合（ステップＳ１６：Ｎｏ）、即ち、差分が閾値を超える場合、補正部５３４は、各露光ヘッド４１の位置及び出力を補正するための補正データを生成し、補正データ記憶部５２５に保存する（ステップＳ１７）。この際、補正部５３４は、補正データを表示デバイス６６に表示させても良い。詳細には、補正部５３４は、差分Δｘに関して、搬送ドラム３３に設けられたエンコーダ３３ｃの信号（図３のΔθ参照）を用いて設定される描画開始ポイントに対し、出力開始位置のパラメータ（ビームＬの出力を開始する際のθの値）を補正する。また、補正部５３４は、差分Δｙに関して、ポリゴンミラー４１４（図４Ａ参照）を介して出射するビームＬの基準となる描画開始ポイントに対し、出力開始位置のパラメータ（ビームＬの出力を開始する際のポリゴンミラーの初期位置）を補正する。さらに、補正部５３４は、照射強度に関して、描画制御部５３１において各露光ヘッド４１に対する出力パラメータを補正する。
　続くステップＳ１８において、制御装置５はセンサユニット用駆動装置６３を駆動し、センサユニット移動部４７によりセンサユニット支持部４６を露光ヘッド４１から離れる方向にスライド移動させる。
　続くステップＳ１９において、制御装置５は露光ヘッド用駆動装置６２を駆動し、露光ヘッド移動部４４により露光ヘッド支持部４３を移動させ、元の露光時における位置に戻す。その後、描画装置１におけるキャリブレーション動作は終了する。キャリブレーションの終了後、描画動作を再開すると、ステップＳ１７において補正されたパラメータに基づいて各部が動作し、補正された状態のビームの照射位置及び照射強度で描画を行うことができる。
　以上説明したように、本発明の第１の実施形態によれば、搬送ドラム３３により基板２を搬送しつつ、各露光ヘッド４１から出射したビームＬを基板２に直接照射しながらビームＬを幅方向に走査するので、基板２に２次元的な露光パターンを切れ目なく連続的に形成することができる。従って、数ｍ～数十ｍに及ぶ長尺の基板に対しても、効率良く連続パターンを形成することができ、スループットを向上させることが可能となる。
　また、本発明の第１の実施形態によれば、各露光ヘッド４１の露光領域に、当該露光ヘッド４１で識別記号を描画しておくことにより、パターン又は配線レベルで高度なトレーサビリティを確保することができる。
　また、本発明の第１の実施形態によれば、各露光ヘッド４１に光源が設けられているので、十分な照射強度でパターン形成を行うことが可能となる。
　また、本発明の第１の実施形態によれば、キャリブレーション時に露光ヘッド支持部４５に対してセンサユニット支持部４６をスライド移動させることにより、露光ヘッドから出射するビームＬが露光時に入射する露光面Ｐ１、Ｐ２に対応する位置に、光センサ４５１の受光面を精度良く配置することができる。従って、搬送ドラム３３に支持された基板２の代わりに、光センサ４５１にビームＬを照射することで、高精度なキャリブレーションを行うことができる。従って、長尺の基板２に対して連続的なパターンを形成する場合であっても、搬送ドラム３３に基板２を支持させたまま、随時キャリブレーションを行うことが可能となる。
　また、本発明の第１の実施形態によれば、露光ヘッド支持部４３を、回転軸４４ａを軸として、端部を回転させるように持ち上げることにより移動させるので、省スペース且つ低コストで、キャリブレーションシステムを構成することが可能となる。
　上記第１の実施形態においては、ビームＬのキャリブレーション値が基準値の範囲に収まるか否かを判定し、キャリブレーション値が基準値の範囲に収まらない場合には、補正を行うための各種処理を実行した。しかしながら、キャリブレーションを行い、単にキャリブレーションデータを保存しておくだけでも良い。また、キャリブレーション値の判定結果や判定結果に基づく補正データを保存しておくだけでも良い。
　また、上記第１の実施形態においては、露光ヘッド４１の位置及び傾きを調整ステージ４２により手動で微調整することとしたが、調整ステージ４２の代わりに電気的に制御可能な調整ステージを設け、キャリブレーションの結果に基づいて露光ヘッド４１の位置及び傾きを自動調整することとしても良い。
　また、上記第１の実施形態においては、光センサ４５１の受光面におけるビームＬの照射位置及び照射強度を検出することとしたが、これらに加えて、ビームＬの照射範囲（ビーム径及びビーム形状）を検出し、キャリブレーションデータとして保存しても良い。この場合、光センサ４５１により検出されたビーム径に基づいて、露光ヘッド４１の位置（露光面Ｐ１、Ｐ２との距離）を補正することにより、ピント調整を行っても良い。また、光センサ４５１により検出されたビーム形状に基づいて、露光ヘッド４１の傾き（露光面Ｐ１、Ｐ２とビームＬとのなす角度）を補正しても良い。
（第２の実施形態）
　図１２は、本発明の第２の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画ユニットを示す模式図である。本実施形態に係るキャリブレーションシステムにおいては、センサユニット４５の位置を固定し、キャリブレーション時に、露光ヘッド４１を支持する露光ヘッド支持部４３を水平面内で平行に移動させることにより、露光ヘッド４１から出射したビームＬを光センサに入射させる。
　詳細には、本実施形態に係るキャリブレーションシステムは、露光ヘッド支持部４３Ａと、センサユニット４５と、センサユニット支持部４６と、センサユニット固定部７０と、露光ヘッド支持部４３Ａを移動させる移動機構として、スライドレール７２が設けられた梁７１と、露光ヘッド支持部４３Ａをスライドレース７２に沿って移動させる駆動部７３とを含む。なお、露光ヘッド支持部４３Ａに支持された露光ヘッド４１とセンサユニット４５との相対的な位置関係については、第１の実施形態と同様である。
　キャリブレーションを行う際には、露光ヘッド支持部４３Ａをスライド移動させ、露光ヘッド４１を、ビームＬがセンサユニット４５に設けられた光センサの受光面に入射する位置に移動させる。これにより、露光ヘッド４１から出射するビームの光路上に空間を形成する工程と、該空間にセンサユニット４５を配置する工程とが同時に行われる。
　本発明の第２の実施形態によれば、露光ヘッド支持部４３Ａをスライド移動させるだけでキャリブレーション可能な状態となるので、キャリブレーションを高速且つ高精度に行うことが可能となる。
（第３の実施形態）
　図１３は、本発明の第３の実施形態に係るキャリブレーションシステムを含む描画ユニットを示す模式図である。本実施形態に係るキャリブレーションシステムにおいては、露光ヘッド４１を支持する露光ヘッド支持部４３を、鉛直面内において平行に移動させる。
　詳細には、本実施形態に係るキャリブレーションシステムは、露光ヘッド支持部４３Ｂと、センサユニット４５と、センサユニット支持部４６と、センサユニット移動部４７と、露光ヘッド支持部４３Ｂを移動させる移動機構８０とを含む。この移動機構８０は、ラック８２が設けられた支柱８１と、ラック８２と歯合するピニオンを回転させることにより露光ヘッド支持部４３Ｂを上下方向に移動させる駆動部８３とを含む。なお、露光ヘッド支持部４３Ｂに支持された露光ヘッド４１とセンサユニット４５との相対的な位置関係については、第１の実施形態と同様である。
　キャリブレーションを行う際には、露光ヘッド支持部４３Ｂを鉛直上向きに平行移動させることにより、露光ヘッド４１と基板２との間にセンサユニット４５を配置可能な空間を形成する。そして、センサユニット移動部４７によりセンサユニット支持部４６をスライド移動させることにより、露光ヘッド４１から出射するビームＬが光センサの受光面に入射する位置にセンサユニット４６を配置する。
　以上説明した本発明は、上記第１～第３の実施形態に限定されるものではなく、上記第１～第３の実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明を形成することができる。例えば、上記第１～第３の実施形態に示した全構成要素からいくつかの構成要素を除外して形成しても良いし、上記第１～第３の実施形態及に示した構成要素を適宜組み合わせて形成しても良い。
　１…描画装置、２…基板、３…搬送システム、４…描画ユニット、５…制御装置、２１…露光パターン、３３…搬送ドラム、４１…露光ヘッド、４１ａ…ビーム出射口、４２…調整ステージ、４３、４３Ａ、４３Ｂ…露光ヘッド支持部、４４…露光ヘッド移動部、４５…センサユニット、４６…センサユニット支持部、４７…センサユニット移動部、４７ａ、７２…スライドレール、４８…支持ステージ、５１…外部インタフェース、５２…記憶部、５３…制御部、６１…基板搬送駆動装置、６２…露光ヘッド用駆動装置、６３…センサユニット用駆動装置、６４…入力デバイス、６５…表示デバイス、６６…データ読込装置、６６…表示デバイス、７０…センサユニット固定部、７１…梁、７３、８３…駆動部、８０…移動機構、８１…支持柱、８２…ラック、４１１…レーザ光源、４１２…ビーム成形光学系、４１３、４１５…反射ミラー、４１４ａ…回転軸、４１４…ポリゴンミラー、４１６…ｆθレンズ、４５１…光センサ、４５２…センサ基板、５２１…プログラム記憶部、５２２…描画データ記憶部、５２３…基準データ記憶部、５２４…キャリブレーションデータ記憶部、５２５…補正データ記憶部、５３１…描画制御部、５３２…キャリブレーション制御部、５３３…判定部、５３４…補正部、５３５…判定部

Claims (9)

  1. 　長尺のシート状をなし、長手方向に沿って搬送される基板に露光用のビームを照射する少なくとも１つの露光ヘッドをキャリブレーションするキャリブレーションシステムであって、
    　前記少なくとも１つの露光ヘッドを支持する露光ヘッド支持部であって、露光時に、前記少なくとも１つの露光ヘッドからそれぞれ出射した前記ビームを前記基板上の所定の少なくとも１つの露光領域にそれぞれ入射させる位置に配置されるように構成された露光ヘッド支持部と、
    　前記ビームを受光する受光面を有し、該受光面に入射した前記ビームの少なくとも照射位置及び照射強度を検出する光センサを含む少なくとも１つのセンサユニットと、
    　前記少なくとも１つのセンサユニットを支持するセンサユニット支持部であって、露光時に、前記少なくとも１つのセンサユニットに含まれる光センサの受光面が、前記少なくとも１つの露光領域における露光面とそれぞれ平行となるように、前記少なくとも１つのセンサユニットを支持すると共に、前記露光ヘッド支持部に対してスライド移動が可能となるように取り付けられたセンサユニット支持部と、
    　前記露光ヘッド支持部と前記センサユニット支持部とのうち少なくとも露光ヘッド支持部を移動させるように構成された移動機構と、
    　前記移動機構の動作を制御するように構成された制御部と、
    を備え、
    　前記制御部は、キャリブレーション時に、前記露光ヘッド支持部を移動させることにより、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームの光路上に、前記少なくとも１つのセンサユニットを配置可能な空間を形成すると共に、前記露光ヘッド移動部に対して前記センサユニット支持部を相対的にスライド移動させることにより、前記受光面を、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームが露光時に入射する前記露光面に対応する位置に配置するように構成されている、キャリブレーションシステム。
  2. 　前記移動機構は、
    　前記露光ヘッド支持部の一端側を回転軸として他端側を持ち上げることにより前記空間を形成するように構成された露光ヘッド移動部と、
    　前記露光ヘッド支持部に対して前記センサユニット支持部をスライド移動させるように構成されたスライド移動部と、
    を含む、請求項１に記載のキャリブレーションシステム。
  3. 　前記センサユニット支持部は、前記基板を搬送する搬送機構に対して固定された位置に設けられ、
    　前記移動機構は、前記露光ヘッド支持部を、前記スライド移動が可能な方向に平行移動させるように構成されている、
    請求項１に記載のキャリブレーションシステム。
  4. 　前記移動機構は、
    　前記露光ヘッド支持部を鉛直方向に平行移動させることにより前記空間を形成する露光ヘッド移動部と、
    　前記露光ヘッド支持部に対して前記センサユニット支持部をスライド移動させるスライド移動部と、
    を含む、請求項１に記載のキャリブレーションシステム。
  5. 　前記制御部は、前記少なくとも１つの露光ヘッドから前記受光面に向けて前記ビームを出射させ、前記センサユニットから出力された検出信号に基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射した前記ビームの前記受光面における照射位置及び照射強度を表すデータを生成するように構成され、
    　前記照射位置及び照射強度を表すデータをキャリブレーションデータとして記憶するように構成された記憶部をさらに備える、
    請求項１～４のいずれか１項に記載のキャリブレーションシステム。
  6. 　前記記憶部は、前記少なくとも１つの露光領域に対する前記ビームの基準照射位置及び基準照射強度を表す基準データをさらに記憶するように構成され、
    　前記制御部は、前記キャリブレーションデータ及び前記基準データに基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度が所定の基準値の範囲に収まるか否かを判定するように構成された判定部を有する、
    請求項５に記載のキャリブレーションシステム。
  7. 　前記制御部は、前記判定部による判定結果に基づき、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかが前記基準値の範囲に収まらない場合、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射したビームの照射位置及び照射強度の少なくともいずれかを補正するための補正値データを生成するように構成され、
    　前記記憶部は、前記補正値データをさらに記憶するように構成されている、
    請求項６に記載のキャリブレーションシステム。
  8. 　前記少なくとも１つの露光ヘッドの各々は、
    　前記レーザ光を出力する光源と、
    　前記レーザ光をビーム状に成形する光学系と、
    　ビーム状に成形された前記レーザ光を走査するポリゴンミラーと、
    　前記ポリゴンミラーを回転させる駆動部と、
    を有し、
    　前記制御部は、前記補正値データに基づいて、前記光源の出力と、前記駆動部の動作との少なくともいずれかを制御することにより、前記少なくとも１つの露光ヘッドから出射する前記ビームの照射強度と照射位置との少なくともいずれかを補正するように構成されている、
    請求項７に記載のキャリブレーションシステム。
  9. 　請求項１～８のいずれか１項に記載されたキャリブレーションシステムと、
    　前記露光ヘッド支持部に支持された少なくとも１つの露光ヘッドと、
    　円筒状をなし、外周面において前記基板を支持すると共に、円筒の中心軸回りに回転することにより前記基板を搬送する搬送ドラムと、
    を備える描画装置。
     
     

     
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