JP5402664B2 - 洗浄方法、露光装置、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。図1において、露光装置EXは、マスクMを保持して移動可能なマスクステ−ジ1と、基板Pを保持して移動可能な基板ステ−ジ2と、基板Pを保持せずに、露光光ELを計測する計測部材Cを搭載して移動可能な計測ステージIと、マスクMを露光光ELで照明する照明系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパタ−ンの像を液浸空間LSの液体LQを介して基板Pに投影する投影光学系PLと、を備えている。
Claims (27)
- 内部に基板を支持する支持部が設けられる凹部に光を照射し、前記凹部を洗浄する洗浄方法であって、
前記凹部と、前記凹部と近接または接触して保持される洗浄用部材とで囲まれた空間を形成した状態で、前記洗浄用部材を介して前記凹部に前記光を照射して、前記凹部を洗浄する洗浄方法。 - 前記洗浄に前記光として紫外光を用い、前記紫外光と前記空間内の酸素とで、前記空間内でオゾンを発生させる請求項1に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に、前記空間に酸素を供給する請求項2に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に、前記空間にオゾンを供給する請求項1に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄に用いる前記光の波長は、180nm〜400nmの範囲内である請求項2〜請求項4の何れか一項に記載の洗浄方法。
- 前記凹部を有するステージが、前記基板を露光光で露光する露光装置に組み込まれる請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の洗浄方法。
- 前記露光装置の内部で、前記洗浄を行なう請求項6に記載の洗浄方法。
- 前記光は、前記露光光である請求項6又は請求項7に記載の洗浄方法。
- 前記基板の露光時には、前記露光光を射出する射出面と前記支持部に保持される前記基板との間が液体で満たされ、
前記洗浄時は、前記射出面と前記洗浄用部材との間が前記液体で満たされる請求項6〜請求項8の何れか一項に記載の洗浄方法。 - 前記基板の露光時、もしくは前記洗浄時の一方から他方へ切換える間は、常に前記射出面と前記液体とが接触していることを含む請求項9に記載の洗浄方法。
- 前記射出面と前記凹部に保持される前記基板との間を前記液体で満たすための液浸形成部材で前記洗浄用部材を保持し、前記洗浄用部材と前記凹部とで前記空間を形成する請求項9又は請求項10に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄用部材を前記支持部で保持し、前記洗浄用部材と前記凹部とで前記空間を形成する請求項1〜請求項11の何れか一項に記載の洗浄方法。
- 前記空間を負圧にすることにより、前記洗浄により前記凹部から除去される異物を前記凹部から取り除くことを含む請求項1〜請求項12の何れか一項に記載の洗浄方法。
- 請求項1〜請求項13の何れか一項に記載の洗浄方法で、
前記凹部を洗浄することと、
前記洗浄された支持部に保持される基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することとを含むデバイスの製造方法。 - 露光光で基板を露光する露光装置であって、
内部に基板を支持する支持部が設けられる凹部を有するステージと、
前記凹部に光を照射し、前記凹部を洗浄するために用いられる洗浄用部材と、を備え、
前記凹部と、前記凹部と近接または接触して保持される前記洗浄用部材とで囲まれた空間を形成した状態で、前記洗浄用部材を介して前記凹部に前記光を照射して、前記凹部を洗浄する露光装置。 - 前記洗浄に前記光として紫外光を用い、前記紫外光と前記空間内の酸素とで、前記空間内でオゾンを発生させる請求項15に記載の露光装置。
- さらに、前記空間に酸素を供給する第1供給口を備え、前記洗浄時に前記第1供給口から前記空間に前記酸素を供給する請求項16に記載の露光装置。
- さらに、前記空間にオゾンを供給する第2供給口を備え、前記洗浄時に前記第2供給口から前記空間に前記オゾンを供給する請求項15に記載の露光装置。
- 前記洗浄に用いる前記光の波長は、180nm〜400nmの範囲内である請求項15〜請求項18の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記露光装置の内部で、前記洗浄を行なう請求項15〜請求項19の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記光は、前記露光光である請求項15〜請求項20の何れか一項に記載の露光装置。
- さらに、液体を介して基板を露光するために、前記露光光が射出する射出面と前記支持部に保持される前記基板との間を液体で満たすための液浸形成部材を備え、
前記基板の露光時には、前記射出面と前記支持部に保持される前記基板との間が前記液体で満たされ、
前記洗浄時は、前記射出面と前記洗浄用部材との間が前記液体で満たされる請求項15〜請求項21の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記基板の露光時、もしくは前記洗浄時の一方から他方へ切換える間は、常に前記射出面と前記液体とが接触している請求項22に記載の露光装置。
- 前記液浸形成部材で前記洗浄用部材を保持し、前記洗浄用部材と前記凹部とで前記空間を形成することを含む請求項22又は請求項23に記載の露光装置。
- 前記洗浄用部材を前記支持部で保持し、前記洗浄用部材と前記凹部とで前記空間を形成する請求項15〜請求項23の何れか一項に記載の露光装置。
- さらに、前記空間を負圧にする吸引口を備え、
前記吸引口により前記空間を負圧にすることにより、前記洗浄により前記凹部から除去される異物を前記凹部から取り除く請求項15〜請求項25の何れか一項に記載の露光装置。 - 請求項15〜請求項26の何れか一項に記載の露光装置を用い、
前記凹部を洗浄することと、
前記洗浄された支持部に保持される基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することとを含むデバイスの製造方法。
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