JPS61245163A

JPS61245163A - マスク保護装置

Info

Publication number: JPS61245163A
Application number: JP60085383A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Imamura; 今村　和則
Original assignee: Nippon Kogaku KK
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1985-04-23
Filing date: 1985-04-23
Publication date: 1986-10-31

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は集積回路の製造工程で使用されるマスク保護装
置の改良に関するものである。

〔発明の背景〕

従来のマスク保護装置としては、例えば所定の基板上に
形成され九マスクパターン部分よりも広い開口部を有す
る枠の一方の開口面に、ペリクルと称される透明な薄膜
を張設し、該枠の他方の開口面を、パターン部分が枠内
に含まれるように基板に対して両面接着剤により接着し
几ものがある。

この装置によれば、ペリクル膜は、マスク六面から一定
距離をもって枠により支持されることとなる。なお、必
要に応じてマスクの真裏いずれの面に対してもペリクル
膜の張設された枠が接着される。

このような保護装置を設けたマスク（又はレチクル）は
、一般にペリクル付マスク（又はペリクル付レチクル）
と称されており、塵埃力どのマスクへの付着を防止し、
マスクを保護する機能を有し、集積回路等の生産性向上
に寄与するものである。

ところで、ペリクルをマスクに対して接着する際などに
塵埃などの異物がマスクあるいはペリクルの内側に付着
した場合には、ペリクルをマスクからはずしてマスクあ
るいはペリクルを再び洗浄する必要がある。しかしなが
ら従来のペリクル接着方法では、ペリクルをマスクから
容易に取りはずすことができず、ペリクルの取りはすし
の際にマスクに傷を付けたり、あるいは取シはすしたペ
リクルが再使用できなくなる等の不都合が生ずる。

また、ペリクルをマスクに接着する場合には、マスクパ
ターンがペリクル内に含まれるように位°　　置決めす
る必要があるが、ペリクルの位置が所定の誤差範囲を超
えていた場合には、ペリクルを取シはずして再び適正な
位置に接着し直す必要がある。このような場合にも、ペ
リクルの取りはずしが困難力ことから高価なペリクルを
損傷する等の不都合が生ずる。

〔発明の目的〕

本発明は従来装置のか＼る欠点を解消するためになされ
友もので、マスクから容易に取外すことができ、かつ取
外した場合の再使用の可能性が向上し九マスク保獲装置
を提供しようとするものである。

〔発明の概要〕

本発明はマスク保護装置において、ペリクルを張設し穴
フレーム（以下ペリクルフレームと称す）を、マスク基
板に対し緩衛部材を介し、真空吸着又は真空吸着を利用
した吸盤によシ装着することを技術的要点としている。

その結果ペリクルフレ・−ムの基板への着脱が容易であ
り、着脱の際マスクやペリクルを損傷する恐れがない。

又取外したペリクルフレームの再使用の可能性も大幅に
向上し次。

〔発明の実施例〕

第１図は本発明の一実施例を示すマスク保護装置の斜視
図、第２図はそのＰ部の断面図である。

図中（１〕はマスク、（１人）は回路等の原画パターン
、（２Ａ）、（２Ｂ）はペリクルフレーム、（６人）、
（５Ｂ）はペリクル膜、（４Ａ）。

（４Ｂ）は真空吸着用の開口部、（５Ａ）、　（５Ｂ）
は吸気孔、（６）はゴムや樹脂等の材質による緩衛部材
である。

図において、マスク（１）にはパターン（ＩＡ）が形成
されている。ペリクルフレーム（２人）、（２Ｂ）は、
一方の周縁部にはペリクル（３Ａ）　、　　（３Ｂ）が
張設され、他方の周縁部は緩衛部材（６）を介して、マ
スク（１）の民間に装着される。ペリクルフレーム（２
Ａ）、（２Ｂ）の側部には、側部内部を囲繞する吸気孔
（５Ａ）、（５Ｂ）に連なる開口部（４Ａ）、（４Ｂ）
が穿設されており、この開口部（４Ａ）、（４Ｂ）を通
して真空ポンプ（図示せず）で真空吸引すれば、吸気孔
（５Ａ）、　（５Ｂ）内は減圧され、ペリクルフレーム
（２Ａ）、（２Ｂ）はマスク（１）の艮面に吸着される
構成となっている。

なお、真空ポンプを停止すれば、吸着は解除される。こ
の開口部（４Ａ）、（４Ｂ）と吸気孔（５Ａ）。

（５Ｂ）とはべりクルフレーム（２Ａ）、　（２Ｂ）の
複数ケ所に設けることが望ましい。さらにペリクルフレ
ームのマスクとの当接面に吸気孔と連通ずる溝を形成し
てもよい。

以下ペリクルフレーム着脱の動作を詳述する。

先づマスク（１）およびペリクルフレーム（２Ａ）。

（２Ｂ）にパターン欠陥、傷あるいは異物の付着等の無
いことを確認し友後、ペリクルフレーム（２Ａ）　、（
２Ｂ）をマスク（りに緩衝部材（６）を介して装着し、
真空ポンプで吸着する。この後再度異物等の有無を検査
し、もしこの検査によって集積回路の製造工程上塵埃付
着等で不都合と判断された場合は、直ちに真空吸着を中
止し、ペリクルフレーム（２Ａ）、（２Ｂ）を取外して
、マスク（１）の洗浄、異物の除去を行なう。又上記検
査により正常と判断された場合は、そのま＼真空吸着を
続行してもよいし、ちるいはべりクルフレーＡ　（２Ａ
）。

（２Ｂ）とマスク（１）との境界周辺に接着剤を塗布シ
テ、ペリクルフレーム（２Ａ）、（２Ｂ）’ｘマスク（
１）に接着した後、真空吸着を止めてもよい。この場合
マスク（１）の異面はペリクルフレーム（２人）。

（２Ｂ）によって外部から遮断されているので、塵埃等
の異物が新たに付着する恐れはない。尚。

ペリクルフレーム（２Ａ）　、（２Ｂ）の一部に、フレ
ーム内と外気との通気性を保つ念めの貫通孔を設け、こ
こにヘパ（ＨＥＰＡ）フィルターを取シ付けると、真空
吸着時にフレームとペリクルで囲まれた空間の気圧を外
気圧と同じにして、ペリクルの湾曲を防止するのに効果
的である。

第３図、第４図は他の実施例であり、ペリクルをレチク
ルに自動的に貼付ける装置の一部も示しである。第３図
は平面図、第４図はそのＱ　−Ｑ’部の拡大断面図であ
る。図中（１）はマスク、（３Ａ）はペリクル膜、叫は
べりクルフレーム、ａｌは緩衝部材、（ロ）は吸着孔、
に）は弁、（１４Ａ）〜（１４Ｆ）は吸着用突出子、に
）、（ロ）は真空パイプ、（財）は吸着孔Ａ、（至）は
吸着孔Ｂ、（１４は枠部材、（１９ｍ）はばね、翰はス
ライダ、（２）はＬ状部材、（２１ａ）はそのガイド部
、（至）はガイド部％四はステージ、（ハ）は位置決め
用ピンである。

図においてフレーム（ト）は、枠部材（至）の内側に吸
着用突出子（１４Ａ）〜（１４Ｆ）によって支持されて
いる。突出子のうち、（１４Ｄ）〜（１４Ｆ）ｔｉ枠部
材（至）に固着されてをり、（１４Ａ）、（１４Ｂ）お
よび（１４Ｃ）はばね（１９ａ）でフレーム（ト）方向
に付勢されてはいるが、図の矢印方向に移動可能である
。

枠部材（至）にはスライダ（ホ）が固着され、該スライ
ダ（ホ）はＬ状部材（２）のガイド部（２１ａ）に歯っ
てＸ方向に可動であり、Ｌ枕部材Ｑ壇もガイド部（２）
に宿ってｙ方向に移動しうるので、フレーム（ト）はマ
スク（１）に対しｘｙ方向にアライメントできることに
なる。マスク（１ンはステージに）上に、ビン（ハ）を
利用して位置決め載置され、ステージ（２）は第４図に
示すようにＸ方向、２方向に可動である。

突出子（１４Ａ）　〜（１４Ｆ）　Ｋは、夫々吸着用真
空パイプ（２）、（２）が装着されている。真空パイプ
α時はフレーム（ト）を枠部材（至）に吸着するための
ものであシ、同（至）はフレーム（１）とマスク（１）
を吸着（仮止め）するためのものである。フレーム（２
）は弁（至）を偏見ているので、フレーム（転）が緩衝
部材（１０ａ）を介してマスク（１）に装着され、真空
ポンプ（図示せず）で真空パイプ（至）を通じて吸引す
ると、弁（２）が開き、吸着孔（６）内は真空となる。

この後真空ポンプの作動を止めても、弁（ロ）が閉じ、
吸着孔（ロ）内の真空は保持されるので、吸着孔（２）
は吸盤の機能を果すこととなる。

次に実際の動作について詳述する。先づフレーム（Ｌｌ
を枠部材（２）に係着するには、可動突出子（１４Ａ）
。

（１４Ｂ）および（１４Ｃ）を後退させ、フレームαＱ
を固定突出子（１４Ｄ）〜（１４Ｆ）に当接せしめた後
、可動突出子（１４Ａ）〜（１４Ｃ）を前進せしめて６
個の突出子（１４Ａ）〜（１４Ｆ）でフレーム（ト）を
支持する。フレームα１は、突出子（１４Ａ）〜（１４
Ｆ）の位置に合せて、前記吸盤機能を有する６個の吸着
孔（２）を備えている。

続いてマスク（１）をステージ（２）上に載置し、枠部
材（至）の下面に送り、マスク（１）の上面がフレーム
Ｑｌの下面と数−の位置に達するまで、ステージ四を上
昇又は下降せしめる。この時真空パイプａ時のみが真空
吸引されている。この状態で枠部材（６）をＸｙ方向に
アライメントして、フレーム（ト）をマスク（１）の所
定位置に位置せしめる。アライメント後ステージ（至）
を上昇せしめて緩衝部材（１０ａ）をマスク（１）に当
接させた時点で、真空パイプ（２）を介して真空吸引す
る。この真空吸引は連続して行なう必要はなく一瞬でよ
い。この結果真空パイプ（至）を介しての真空吸引を停
止し常圧に戻しても、弁（至）の作用により、フレーム
（７）の吸着孔（６）は吸盤機能を有することになり、
フレームａＯはマスク（１）に吸着される。この後裔突
出子の真空パイプα時による真空引きを解除し、可動突
出子（１４Ａ）〜（１４Ｃ）を後退させ、ステージに）
を降下させると、マスク（１）の上面には、ペリクルフ
レームα１が仮止めされた状態で装着されている。上記
動作は全自動で行なうことができるので、この動作を応
用してペリクルの自動貼付は装置として以下の一連の作
業も全自動（オンライン）で作動せしめることはＯＴ［
である。すなわち ■マスク洗浄機（異物検査装置付）によるマスクの洗浄
。

■ペリクルフレームの仮止め（第３図、第４図参照） ■異物検査 ■正常であれば接着剤によるペリクルフレームのマスク
への接着 ■■において異常発見の場合はフレームを取り外し、■
から作業を繰返す。

なお仮止めされたフレーム叫をマスク（１）より取外す
には、弁（２）を外部に強制的に開く装置（例えば真空
ビンセット等＞１利用すればよい。もちろん弁（至）が
なくても上記実施例は可能であることはいうまでもない
。

なお、上記実施例は、ペリクルフレームは−ｒスクの１
面のみに装着する場合の例であるが、マスクの両面にペ
リクルフレームを装着することも同様に可能なのはいう
までもない。またブレーム（ト）に減圧吸着部を形成す
る代りに、フレーム（転）の外側に両面接着テープ等で
減圧吸着部を貼シ付け、ペリクルの接着剤止めの後、減
圧吸着部を取シはずしてもよい。

〔発明の効果〕

本発明はべりクルフレーＡ１にマスクに装着するのに、
真空吸着を利用したので、次に述べるような優れた効果
を上げることができた。

（１）ペリクルフレームのマスクへの着脱が容易となシ
、かつ迅速となる。

（２）ペリクルフレームのマスク着脱時に発生しがちな
マスクやペリクルフレームの損傷が防止される。

（３）取外したペリクルフレームの再利用が可能である
。

（４）ペリクルフレームのマスクへの着脱作業の゛自動
化が容易となり、製造工程の合理化が促進される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すマスク保護装置の斜視
図、第２図はその一部断面図、第３図は他の実施例の自
動貼付装置の平面図、第４図はその一部断面図である。〔主要部分の符号の説明〕図中（１）はマスク、（２Ａ）、（２Ｂ）　Ｆｉペリク
ルフレーム、（３Ａ）、（３Ｂ）はペリクル、（４Ａ）
。（４Ｂ）は開口部、（５Ａ）、　（５Ｂ）は吸気孔、（
６）は緩衝部材、α１はペリクルフレーム、Ｑｌは緩衝
部材、（２）は吸着孔、（２）は弁、（１４Ａ）〜（１
４Ｆ）は吸着用突出子、（至）、（２）は真空パイプ、
的は吸着孔Ａ％（至）は吸着孔Ｂ、（至）は枠部材、（
１９ｍ）はばね、−はスライダ、（ロ）はＬ状部材、（
１瞭に）はガイド部、（２）はステージ、（ハ）は位置
決め用ピンである。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）マスク基板に形成された原画パターンを含むパタ
ーン領域を、塵埃等から保護するマスク保護装置におい
て、前記パターン領域を含むように前記マスク基板上に一方
の周縁部が当接する枠部材と；前記マスク基板の表面に対して一定の間隔を有するよう
に前記枠部材の他の周縁部に張設された薄膜手段と；前記枠部材を着脱容易に前記マスク基板に仮止めする減
圧吸着部とを含むことを特徴とするマスク保護装置。
（２）前記枠部材は、平坦な緩衛部材を介してマスク基
板に当接することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のマスク保護装置。
（３）前記減圧吸着部は、前記枠部材の一部に形成され
、前記緩衛部材を介して基板に当接することを特徴とす
る特許請求の範囲第２項記載のマスク保護装置。