KR20040070743A

KR20040070743A - 베어 레티클의 파티클 제거기

Info

Publication number: KR20040070743A
Application number: KR1020030006926A
Authority: KR
Inventors: 이중석
Original assignee: 아남반도체 주식회사
Priority date: 2003-02-04
Filing date: 2003-02-04
Publication date: 2004-08-11

Abstract

본 발명은 광 리소그래피 공정을 수행하는 스텝퍼에서 베어 레티클의 파티클을 제거하는 스텝퍼내 파티클 제거기에 관한 것이다. 즉, 본 발명에서는 BRS내부에 파티클 제거기를 설치하고, 파드로 레티클이 옮겨지기 전에 파티클 제거기에서 에어 샤워가 수행되도록 함으로써, 스텝퍼에서 발생하는 파티클 에러를 근본적으로 방지할 수 있는 이점이 있으며, 또한 작업자가 N2 총을 사용하여 파티클을 직접 제거하는 작업 과정이 불필요하게 되어 작업자의 부주의로 인한 레티클의 박막 찢김이나 그래스 손상을 방지하여 레티클 에러를 최소화 할 수 있게 되는 이점이 있다.

Description

베어 레티클의 파티클 제거기{PARTICLE REMOVER FOR THE BARE RETICLE STOCKER}

본 발명은 반도체 소자 제조 장비에 관한 것으로, 특히 광 리소그래피(Lithography) 공정을 수행하는 스텝퍼(Stepper)에서 베어 레티클(Bare reticle)의 파티클(Particle)을 제거하는 스텝퍼내 파티클 제거기에 관한 것이다.

통상적으로 스텝퍼 장비는 미세 패턴을 형성하는 장비로, 패턴이 그려진 레티클의 모양을 투영방식으로 웨이퍼위에 패터닝을 수행하는 장비를 말하며, 현장에서 사용하고 있는 스텝퍼내에는 PPD(Pellicle Particle Detector)가 부착되어 있어 레티클 로딩시에 레티클의 글래스면(Glass side)과 크롬면(Chrome side) 상의 파티클을 스캔하여 후속 공정 진행 전에 스캔된 파티클을 미리 제거시킨다. 이는 레티클상의 파티클이 원하지 않는 패턴의 원인이 될 수 있으며, 후속 공정에서 치명적인 결점(Defect)으로 작용할 수 있기 때문이다.

그러나 상기 파티클을 레티클로부터 제거함에 있어서, 종래에는 기준치보다 큰 파티클이 스캔되는 경우 작업자가 마스크 숍(Mask shop)으로 직접가서 파드(Pod)로부터 해당 파티클을 분리하여 특정 포인트위의 파티클을 N2 총(Gun)을 사용하여 제거하고 있어, 작업자의 N2 총 사용상 부주의로 레티클 박막(Pellicle)이 찢어지거나 글래스면에 손상을 입히는 문제점이 있었다.

도 1은 종래 BRS 시스템 후면을 도시한 것으로, 상기 도 1에서 보여지는 바와 같이 베어 레티클은 파드로부터 분리되어 낱장으로 보과되며, BRS가 다운시 작업자가 문을 열고 직접 들어가서 작업을 해야 하기 때문에 많은 파티클이 작업자로부터 생성되어 다른 레티클들을 오염시키는 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명의 목적은 광 리소그래피 공정을 수행하는 스텝퍼에서 베어 레티클의 파티클을 제거하는 스텝퍼내 파티클 제거기를 제공함에 있다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 스텝퍼내 파티클 제거기에 있어서, 상기 스텝퍼내에 레티클상 파티클 제거를 위해 설치되는 챔버와; 상기 챔버내 마운트되는 레티클 상/하면을 향해 소정의 경사각으로 설치되는 다수의 에어 노즐과; 소정 제어에 따라 개폐되어 상기 레티클 상/하 표면에 분사될 파티클 제거용 가스를 상기 에어 노즐로 공급하는 개폐밸브;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

도 1은 종래 BRS 시스템 후면 예시도,

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 파티클 제거기 탑재된 BRS 시스템 후면 예시도,

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 파티클 제거기 상세 블록 구성도.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예의 동작을 상세하게 설명한다.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 베어 레티클의 파티클 제거기가 탑재된 BRS 시스템 후면을 도시한 것이다. 이하 상기 도 2를 참조하면, 본 발명의 BRS 시스템에는 파티클이 발생한 레티클을 스텝퍼 내부에서 자동으로 제거시킬 수 있는 파티클 제거기(Particle remover)(200)가 추가로 탑재된다.

즉, 상기 도 2에서와 같이 BRS내부의 센터 영역에 파티클 제거기(200)를 장착함으로써, 스텝퍼에서 발생하는 파티클 에러를 근본적으로 방지할 수 있고, 이로 인해 작업자가 설비로부터 멀리 떨어진 마스크 숍까지 가지 않아도 되며, 작업자가 N2 총을 사용하여 파티클을 직접 제거하다가 발생하는 박막 찢김이나 그래스 손상을 방지할 수 있게 된다.

도 3은 상기 파티클 제거기의 상세 블록 구성을 도시한 것이다. 상기 도 3을 참조하면, 파티클 제거기(200)는 스텝퍼내에 레티클상 파티클 제거를 위해 설치되는 챔버(Chamber)(300)와, 챔버(300)내 마운트(Mount)되는 레티클(302) 상/하면을 향해 소정의 경사각으로 설치되는 다수의 에어 노즐(304)과, 소정 제어에 따라 개폐되어 상기 레티클(302) 상/하 표면에 분사될 파티클 제거용 N2 가스를 상기 에어 노즐(304)로 공급하는 개폐밸브(306) 등으로 구성된다.

이때 상기 챔버(300)에는, 양쪽 측벽에 상기 챔버(300)내 진공상태 구현을 위한 진공 시스템(Vacuum system)(308)이 구비되어 파티클 제거시 챔버(300)내 진공상태를 구현시키며, 상기 에어 노즐(304)은, 상기 레티클(302) 상/하면을 향하도록 상기 챔버 천장 및 바닥면에 각각 4개씩 설치되어 레티클 상/하면에 대해 에어 샤워를 수행한다.

즉, 본 발명에서는 상기한 바와 같이 BRS내에 파티클 제거기를 설치함으로써, 파드로 레티클을 옮기기 전에 파티클 제거기에서 에어 샤워를 실시한 후, 파트로 레티클이 옮겨지게 되면 PPD에서 파티클 에러가 발생할 확률이 적어지며, 작업자에 의해 핸들링되는 것을 방지할 수 있어 레티클 에러를 최소화 할 수 있게 된다.

한편 상술한 본 발명의 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 여러 가지 변형이 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 실시될 수 있다. 따라서 발명의 범위는 설명된 실시 예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위에 의해 정하여져야 한다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에서는 BRS내부에 파티클 제거기를 설치하고, 파드로 레티클이 옮겨지기 전에 파티클 제거기에서 에어 샤워가 수행되도록 함으로써, 스텝퍼에서 발생하는 파티클 에러를 근본적으로 방지할 수 있는 이점이 있으며, 또한 작업자가 N2 총을 사용하여 파티클을 직접 제거하는 작업 과정이 불필요하게 되어 작업자의 부주의로 인한 레티클의 박막 찢김이나 그래스 손상을 방지하여 레티클 에러를 최소화 할 수 있게 되는 이점이 있다.

Claims

스텝퍼내 파티클 제거기에 있어서,

상기 스텝퍼내에 레티클상 파티클 제거를 위해 설치되는 챔버와;

상기 챔버내 마운트되는 레티클 상/하면을 향해 소정의 경사각으로 설치되는 다수의 에어 노즐과;

소정 제어에 따라 개폐되어 상기 레티클 상/하 표면에 분사될 파티클 제거용 가스를 상기 에어 노즐로 공급하는 개폐밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 스텝퍼내 파티클 제거기.
제1항에 있어서,

상기 챔버는, 양쪽 측벽에 상기 챔버내 진공상태 구현을 위한 진공 시스템을 구비하는 것을 특징으로 하는 스텝퍼내 베어 레티클의 파티클 제거기.
제1항에 있어서,

상기 에어 노즐로부터 분사되는 파티클 제거용 가스는, N2 가스인 것을 특징으로 하는 스텝퍼내 베어 레티클의 파티클 제거기.
제1항에 있어서,

상기 에어 노즐은, 상기 레티클 상면을 향하도록 상기 챔버 천장면에 설치되는 4개의 에어 노즐과, 상기 레티클 하면을 향하도록 상기 챔버 바닥면에 설치되는 4개의 에어 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는 스텝퍼내 베어 레티클의 파티클 제거기.