JPH03101119A - 基板チャック機構 - Google Patents

基板チャック機構

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JPH03101119A
JPH03101119A JP1236901A JP23690189A JPH03101119A JP H03101119 A JPH03101119 A JP H03101119A JP 1236901 A JP1236901 A JP 1236901A JP 23690189 A JP23690189 A JP 23690189A JP H03101119 A JPH03101119 A JP H03101119A
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glass substrate
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chuck
suction
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板露光装置等において回路パターンが形成
されたマスクに対してガラス基板を位置合わせする際に
該ガラス基板を位置決めして保持する基板チャック機構
に関し、特に基板チャックの上面に対してガラス基板を
正しく位置決めできると共に確実に吸着保持することが
できる基板チャック機構に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の基板チャック機構は、第7図及び第8図
に示すように、ベース部材1の上面に立設されそれぞれ
の上端部が」二下に伸縮する少なくとも三本のチルト機
構部2と、これらのチルト機構部2によって下面を支え
られると共にその上面にはガラス基板3を真空吸着する
ための吸着部4が形成され該上面にガラス基板3を吸着
保持する基板チャック5と、この基板チャック5の外側
近傍にて上記ガラス基板3の隣接二辺部の対応位置に設
けられ該ガラス基板3を位置決めする基準位置決めピン
6a、6b、6cと、上記基板チャック5の外側近傍に
て上記基準位置決めピン6a〜6cと対向する部位に設
けられ上記ガラス基板3を間に入れて押し付ける位置決
め用の押付はピン7a、7b、7cとを備えて成ってい
た。なお、第7図において、符号8は基板チャック5を
各チルト機構部2に対して与圧をかけて連結するテンシ
ョン用板バネである。また、第8図において、符号9は
上記基板チャック5の上面にガラス基板3を真空吸着す
るためのエア吸引孔である。
そして5上記基板チヤツク5の上面に対してガラス基板
3を位置決めするには、図示省略の搬送アームにより前
工程のステージから送られてきたガラス基板3を基板チ
ャック5の上面に載せ、対向して設けられた押付はピン
7a〜7cにより上記ガラス基板3を基準位置決めピン
6a〜6cに対して押し付けて位置決めしていた。また
、このように位置決めされたガラス基板3を吸着保持す
るには、上記基板チャック5の上面に形成された凹所か
ら成る吸着部4の底部に穿設されたエア吸引孔9から図
示外の真空源により真空吸引することによって、上記吸
着部4内が真空に引かれてその上面に載せられたガラス
基板3を真空吸着して保持していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、このような従来の基板チャック機構においては
、基板チャック5の上面に対してガラス基板3を位置決
めするのに、単に押付はピン78〜7cでガラス基板3
を基準位置決めピン6a〜6cに対して押し付けるだけ
であったので、上記ガラス基板3の裏面の状態によって
は基板チャック5上をスムーズに押して行くことができ
ず、正しい位置決めができないことがあった。このよう
な場合でも、上記ガラス基板3を正しく位置決めしよう
とすると、押付はピン7a〜7cとしてより強力な押し
付は力を有するものとしなければならず、機構が大形化
するものであった。また、ガラス基板3が大形化すると
、基板チャック5の上面に形成された所定の広さの単一
の吸着部4では、上記ガラス基板3の全面にわたって確
実な吸着保持ができないことがあった。さらに、ガラス
基板3に対してリソグラフィ工程を何回か繰り返すうち
に、上記ガラス基板3の周辺部が上向きに反りを生じる
ことがあり、そのままで基板チャック5の上面に載せて
吸着部4により真空吸着しても、確実に吸着保持するこ
とはできないものであった。
従って、この吸着不良のために、次の作業のシーケンス
に入れないことがあった。このことから、所要の作業の
スループットが低下するものであった。
そこで、本発明は、このような問題点を解決し、基板チ
ャックの上面に対してガラス基板を正しく位置決めでき
ると共に確実に吸着保持することができる基板チャック
機構を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明による基板チャック
機構は、ベース部材の上面に立設されそれぞれの上端部
が上下に伸縮する少なくとも三本のチルト機構部と、こ
れらのチルト機構部によって下面を支えられると共にそ
の上面にはガラス基板を真空吸着するための吸着部が形
成され該上面にガラス基板を吸着保持する基板チャック
と、この基板チャックの外側近傍にて上記ガラス基板の
隣接二辺部の対応位置に設けられ該ガラス基板を位置決
めする基準位置決めピンと、上記基板チャックの外側近
傍にて上記基準位置決めピンと対向する部位に設けられ
上記ガラス基板を間に入れて押し付ける位置決め用の押
付はピンとを備えて成る基板チャック機構において、上
記基板チャック上面の吸着部には、該基板チャックの上
面に位置決めされるガラス基板の裏面に対して空気を吹
き付けて該ガラス基板を浮上させるエア吹出し孔を設け
たものである。
また、基板チャック上面の吸着部を複数の区画に分割す
ると共に、この分割された各区画ごとにガラス基板を真
空吸着するためのエア吸引孔を設けると効果的である。
この場合において、基板チャック上面の四隅部に、ガラ
ス基板の周縁部を真空吸着するためのエア吸引孔を設け
てもよい。
さらに、基板チャックの外側近傍に、該基板チャックの
上面に位置決め吸着されるガラス基板の周縁部を上方か
ら押圧する基板押え装置を設けると効果的である。
〔作 用〕
このように構成された基板チャック機構は、基板チャッ
ク上面の吸着部に設けられたエア吹出し孔から、上記基
板チャックの上面に位置決めされるガラス基板の裏面に
対して空気を吹き付けて該ガラス基板を浮上させること
により、位置決め用の押付はピンの押し付は力を特に大
きくすることなく上記ガラス基板を基準位置決めピンに
対して押し付け、正しく位置決めするように動作する。
また、基板チャック上面の吸着部が複数の区画に分割さ
れ、この分割された各区画ごとに設けられたエア吸引孔
によってガラス基板を真空吸着することにより、該ガラ
ス基板の全面にわたって確実に吸着保持することとなる
さらに、基板チャックの外側近傍に設けられた基板押え
装置によりて上記基板チャックの上面に位置決め吸着さ
れるガラス基板の周縁部を上方から押圧することにより
、周辺部に上向きの反りを生じたガラス基板であっても
確実に吸着保持する7− ことができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明による基板チャック機構の実施例を示す
平面図である。この基板チャック機構は、基板露光装置
等において回路パターンが形成されたマスクに対してガ
ラス基板を位置合わせする際に該ガラス基板を位置決め
して保持するもので、第1図及び従来例の説明に用いた
第7図において、ベース部材1は、本発明の基板チャッ
ク機構の構成要素を組み付けるための台となるもので、
例えば適宜の大きさの矩形状の盤体に形成されている。
上記ベース部材lの上面には、チルト機構部2が立設さ
れている。このチルト機構部2は、後述の基板チャック
5をその上端部10で支持して例えば水平状態に保つも
ので、上端部10がモータ等の駆動源により上下に伸縮
するようにされており、例えば成る正三角形の各頂点の
位置に対応する箇所に三本立設されている。
上記チルト機構部2の上方には、基板チャック5が設け
、られている。この基板チャック5は、その上面に露光
対象物としてのガラス基板3を位置決めして吸着保持す
るもので、第1図に示すように矩形状の板体に形成され
、上記各チルト機構部2の上端部10で支持して設けら
れている。すなわち、各チルト機構部2の上端部10と
基板チャック5の下面側に設けられたボール受け11と
の間にそれぞれボール12を介在させ、このボール12
の球面接触により上記基板チャック5が任意に傾斜可能
に支持されている。また、上記各チルト機構部2と基板
チャック5との間は、テンション用板バネ8によって与
圧をかけて連結されると共に、上記テンション用板バネ
8の上端部にて固定用ネジでネジ止めされている。そし
て、その上面にはガラス基板3を真空吸着するための吸
着部4が凹所状に形成されている。
上記基板チャック5の外側近傍には、基準位置決めピン
6a,6b,6c及び押付はピン7a。
7b,7cが設けられている。基準位置決めピン6a〜
6cは、上記基板チャック5の上面に載置されるガラス
基板3を所定の位置に位置決めするもので、上記ガラス
基板3の隣接二辺部の対応位置に設けられている。また
、押付はピン7a〜7Cは、上記基準位置決めピン6a
〜6Cとの間にガラス基板3を入れて弾性的に押し付け
ることにより正しく位置決めするもので、例えば圧縮ス
プリング等により上記ガラス基板3を押圧するようにな
っており、上記基準位置決めピン6a〜6Cと対向する
部位に設けられている。
ここで、本発明においては、第1図に示すように、上記
基板チャック5の上面の吸着部4に、エア吹出し孔13
が設けられている。このエア吹出し孔13は、上記基板
チャック5の上面に載置して位置決めされるガラス基板
3の裏面に対して空気を吹き付けて該ガラス基板3を浮
上させるもので、基板チャック5の上面に形成された凹
所から成る吸着部4の底部に穿設されている。なお、第
1図においては、上記エア吹出し孔13をエア吸引孔9
と別個に設けたものとして示したが、本発明はこれに限
らず、エア吸引孔9と兼用してこれに接続されるエアパ
イプを吸引用と吹出し用とで切り換えるようにしてもよ
い。
次に、このように構成された基板チャック機構の動作に
ついて、第2図を参照して説明する。まず、前工程のス
テージ14での所要の作業が終了すると、搬送アーム1
5,15が矢印A、Cのように近付いてきて、上記ステ
ージ14上に載置されたガラス基板3を両側下面から抱
え込み、その全体を矢印E方向へ移動させて、上記搬送
アーム15.15に抱え込まれたガラス基板3を次のス
テージの基板チャック5上に載置する。このとき、上記
搬送アーム15.15は、矢印B、Dのように後退する
と共に、矢印F方向へ移動して元の位置へ戻る。次に、
上記のように基板チャック5上にガラス基板3が載置さ
れたところで、図示外の空気源からエアを供給してエア
吹出し孔13から吹き出し、上記ガラス基板3の裏面に
対して吹き付けて該ガラス基板3を浮」ニさせる。この
状態で、上記ガラス基板3を押付はピン7a〜7Cによ
り1− 2 基準位置決めピン68〜6cに対して押し付ける。
すると、ガラス基板3は何の抵抗も無く基準位置決めピ
ン6a〜6c側にスムーズに移動し、該基準位置決めピ
ン6a〜6cに当接して所定の位置に正しく位置決めさ
れる。その後、上記エア吹出し孔13からの空気の吹き
出しを止め、今度はエア吸引孔9から図示外の真空源に
よって真空吸引することにより、吸着部4内が真空に引
かれてその上面に載せられたガラス基板3が真空吸着さ
れる。これにより、上記ガラス基板3は、基板チャック
5上で正しく位置決めされると共に吸着保持される。
なお、上記ガラス基板3を押付はピン7a〜7Cで押し
付けて位置決めする際は、第7図に示す各チルト機構部
2を適宜上下させて、基板チャック5の全体を基準位置
決めピン6a〜6c側に適宜の角度で傾斜させてもよい
。あるいは、エア吹出し孔13からの吹き出しエアを、
基準位置決めピン68〜6c側に向けて方向づけをして
吹き出すようにしてもよい。これらの場合は、基準位置
決めピン68〜6cに対するガラス基板3の位置決めを
更にスムーズとすることができる。
第3図及び第4図は本発明の第二の実施例を示す平面図
及びそのIV−IV線断面図である。この実施例は、基
板チャツク5上面の吸着部4を複数の区画(4a、4b
)に分割すると共に、この分割された各区画(4a、4
b)ごとにガラス基板3を真空吸着するためのエア吸引
孔9を設けたものである。すなわち、上記基板チャック
5の上面に形成された凹所内の中央部に、例えば四角形
の土手16を形成して二つの区画に分割し、中央部の区
画を第一の吸着部4aとし、その周囲の区画を第二の吸
着部4bとすると共に、それぞれの吸着部4a、4b内
にエア吸引孔9をそれぞれ穿設しである。
そして、その上面にガラス基板3を吸着するには、まず
第一の吸着部4a内のエア吸引孔9で真空吸引して上記
ガラス基板3の中央部を真空吸着し、次に第二の吸着部
4b内のエア吸引孔9で真空吸引してその周囲を真空吸
着することにより、該ガラス基板3の全体を吸着する。
この場合は、大形のガラス基板3であってもその全面に
わたって確実に吸着保持することができる。なお、第3
図においては、吸着部4を二つの区画に分割した場合を
示したが、これに限らず、三つ以上の区画に分割しても
よい。また、第3図においては、エア吹出し孔13を上
記の土手16に形成した場合を示している。
さらに、第3図に示す実施例において、基板チャツク5
上面の四隅部に、ガラス基板3の周縁部を真空吸着する
ためのエア吸引孔17,17.・・・を設けてもよい。
この場合は、上記ガラス基板3の周辺部に至るまで確実
に吸着保持することができる。
第5図及び第6図は本発明の第三の実施例を示す要部拡
大平面図及び要部拡大側面図である。この実施例は、基
板チャック5の外側近傍に、該基板チャック5の上面に
位置決め吸着されるガラス基板3の周縁部を上方から押
圧する基板押え装置18を設けたものである。すなわち
、基板チャック5の搬送アーム15がそれぞれ矢印A、
 B (第2図参照)のように近付いてくる側の外側近
傍に、両側端部に押え部材19.19を有する押えアー
ム20が設けられ、この押えアーム20i−Z方向シリ
ンダ21で第6図に示す矢印G、Hのように上昇及び下
降させると共に、Y方向シリンダ22で第5図に示す矢
印I、Jのように前進及び後退させるようになっている
そして、基板チャック5の上面にガラス基板3を吸着保
持する際には、第2図に示す搬送アーム15.15で送
られてきたガラス基板3が基板チャック5の上面に載置
された後、基準位置決めピン68〜6c及び押付はピン
7a〜7Cにより正しく位置決めされたところで、Z方
向シリンダ21を駆動して押えアーム20を矢印G方向
へ上昇し、その後Y方向シリンダ22を駆動して上記押
えアーム20を矢印■方向へ前進し、さらにその後2方
向シリンダ21を駆動して上記押えアーム20を矢印H
方向へ下降する。これにより、押えアーム20の両側端
部に設けられた押え部材19゜15− 16− 19が、ガラス基板3の周縁部の押圧箇所23゜23、
・・・をそれぞれ上方から押圧する。この結果、上記ガ
ラス基板3の周縁部は、基板チャック5の上面に押し付
けられる。その後、吸着部4または第−及び第二の吸着
部4a、4bによって真空吸着することにより、ガラス
基板3が基板チャック5の上面に吸着保持される。この
あとで、上記押えアーム20を矢印G方向へ上昇させる
と共に、矢印J方向へ後退させ、さらに矢印H方向へ下
降させることによって、該押えアーム20は待機位置へ
退避する。この実施例の場合は、ガラス基板3の周辺部
が上向きに反っていても、その周辺部に至るまで確実に
真空吸着することができ、上記ガラス基板3を確実に吸
着保持することができる。
なお、上記基板押え装置18は、第5図及び第6図に示
す構造のものに限られず、基板チャック5の上面に位置
決めされるガラス基板3の周縁部を上方から押圧できる
ものなら、どのような構造のものであってもよい。
〔発明の効果〕 本発明は以上のように構成されたので、基板チャツク5
上面の吸着部4に設けられたエア吹出し孔13から、上
記基板チャック5の上面に位置決めされるガラス基板3
の裏面に対して空気を吹き付けて該ガラス基板3を浮上
させることにより、位置決め用の押付はピン78〜7c
の押し付は力を特に大きくすることなく上記ガラス基板
3を基準位置決めピン6a〜6cに対して押し付け、正
しく位置決めすることができる。
また、基板チャツク5上面の吸着部4が複数の区画(4
a、4b)に分割され、この分割された各区画(4a、
4b)ごとに設けられたエア吸引孔9によってガラス基
板3を真空吸着することにより、大形のガラス基板3で
あってもその全面にわたって確実に吸着保持することが
できる。
さらに、基板チャック5の外側近傍に設けられた基板押
え装置18によって上記基板チャック5の上面に位置決
め吸着されるガラス基板3の周縁部を上方から押圧する
ことにより、周辺部に上向きの反りを生じたガラス基板
3であっても確実に7− □00− 18 吸着保持することができる。
そして、これらのことから、ガラス基板3の位置決め不
良及び吸着不良を防止することができ、スムーズに次の
作業シーケンスに入ることができる。従って、所要の作
業のスループットを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による基板チャック機構の実施例を示す
平面図、第2図はその動作を説明するための平面説明図
、第3図及び第4図は本発明の第二の実施例を示す平面
図及びそのIV−IV線断面図、第5図及び第6図は本
発明の第三の実施例を示す要部拡大平面図及び要部拡大
側面図、第7図は本発明及び従来の基板チャック機構を
示す正面図、第8図は従来の基板チャック機構を示す平
面図である。 1・・・ベース部材、 2・・チルト機構部、 3・・
・ガラス基板、 4,4a、4b・・・吸着部、 5・
・・基板チャック、  68〜6c・・・基準位置決め
ピン、78〜7c・・・押付はピン、  9,17・・
・エア吸引孔、 13・・・エア吹出し孔、 16・・
・土手、 18・・・基板押え装置、  19・・・押
え部材、 20・押えアーム。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベース部材の上面に立設されそれぞれの上端部が
    上下に伸縮する少なくとも三本のチルト機構部と、これ
    らのチルト機構部によって下面を支えられると共にその
    上面にはガラス基板を真空吸着するための吸着部が形成
    され該上面にガラス基板を吸着保持する基板チャックと
    、この基板チャックの外側近傍にて上記ガラス基板の隣
    接二辺部の対応位置に設けられ該ガラス基板を位置決め
    する基準位置決めピンと、上記基板チャックの外側近傍
    にて上記基準位置決めピンと対向する部位に設けられ上
    記ガラス基板を間に入れて押し付ける位置決め用の押付
    けピンとを備えて成る基板チャック機構において、上記
    基板チャック上面の吸着部には、該基板チャックの上面
    に位置決めされるガラス基板の裏面に対して空気を吹き
    付けて該ガラス基板を浮上させるエア吹出し孔を設けた
    ことを特徴とする基板チャック機構。
  2. (2)基板チャック上面の吸着部を複数の区画に分割す
    ると共に、この分割された各区画ごとにガラス基板を真
    空吸着するためのエア吸引孔を設けたことを特徴とする
    請求項1記載の基板チャック機構。
  3. (3)基板チャック上面の四隅部に、ガラス基板の周縁
    部を真空吸着するためのエア吸引孔を設けたことを特徴
    とする請求項2記載の基板チャック機構。
  4. (4)基板チャックの外側近傍に、該基板チャックの上
    面に位置決め吸着されるガラス基板の周縁部を上方から
    押圧する基板押え装置を設けたことを特徴とする請求項
    1、2または3記載の基板チャック機構。
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