JP2010245222A - 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクベンド板を使用せずにマスクの自重による撓みを低減することができると共に、スループットを低下させず、また、精度の悪化を招くことがない露光装置を提供する。
【解決手段】原版21を保持及び走査する原版ステージ20を有する露光装置であって、原版ステージ20は、原版21を吸着保持するためのバキューム機構25と、原版21のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベース24とを備え、原版ステージベース24は、原版21が吸着され接触面に密着されることで、原版21の形状を補正する。
【選択図】図2
【解決手段】原版21を保持及び走査する原版ステージ20を有する露光装置であって、原版ステージ20は、原版21を吸着保持するためのバキューム機構25と、原版21のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベース24とを備え、原版ステージベース24は、原版21が吸着され接触面に密着されることで、原版21の形状を補正する。
【選択図】図2
Description
本発明は、露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法に関する。
液晶パネル等の製造工程において、フォトリソグラフィのための装置として、マスク(原版)上に形成された原画パターンを、投影光学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光する露光装置が用いられる。この露光装置は、一般に、中央部分が空洞になっているマスクステージ上で、左右の端でのみマスクを支える構造を有する。したがって、マスクが自重により撓むことが問題となっている。
そこで、例えば、特許文献1は、マスクベンド板を使用してマスクの撓みを軽減させる露光装置を開示している。また、特許文献2、特許文献3、及び特許文献4は、マスクベンド板を使用せずにマスクの撓みを軽減する方法として、流体の圧力を利用してマスクの撓みを補正する露光装置を開示している。
特許文献1に示すマスクベンド板は、マスク上面部分に対して負圧を負荷し、撓みを軽減させる。また、マスクの搬送は、該マスクにマスクベンド板が搭載された状態で行われる。しかしながら、マスクにマスクベンド板が搭載された状態で搬送すると、マスクベンド板とマスクがずれてしまうことがある。また、マスクベント板の搭載に不備があると、マスクを搬送する搬送ロボットとの干渉が発生する。その結果、マスクベンド板が破損し、露光装置の稼働時間の減少につながるという問題がある。
また、特許文献2〜4に示す流体の圧力を利用した露光装置は、密閉された空間内の流体が露光光による熱の影響を受けて膨張するため、露光中に気圧を下げる調整を行いながら、マスクステージを走査する必要がある。したがって、露光時にマスクのZ方向の計測を行う場合、密閉された空間の圧力の調整を行う必要があり、計測処理に時間がかかる。計測処理時間が長くなると、走査速度を落とす必要があるため、結果的にスループットの低下につながる。また、密閉された空間が広すぎると、気圧調整の対象となる流体の量が多くなり、その分、気圧調整に時間がかかる。更に、露光光が通過する経路には、マスクと密閉空間を作るためのガラス基板と密閉空間の3つの層ができる。これらの層は、それぞれが違った平面を持っているため、屈折などの影響を受けやすくなり、これにより、走査方向に対して直角方向に倍率成分の誤差が発生し、重ね合わせ精度の悪化につながる。
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、マスクベンド板を使用せずにマスクの自重による撓みを低減することができると共に、スループットを低下させず、また、精度の悪化を招くことがない露光装置を提供する。
上述の課題を解決するために、本発明は、原版を保持及び走査する原版ステージを有する露光装置であって、原版ステージは、原版を吸着保持するためのバキューム機構と、原版のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベースとを備え、原版ステージベースは、原版が吸着され接触面に密着されることで、原版の形状を補正することを特徴とする。
本発明によれば、バキューム機構により原版ステージ(マスクステージ)に原版(マスク)を密着させて吸着させるので、マスクベンド板を使用せずに、マスクの撓みを低減することができる。また、マスクの吸着面を上面または側面にすることにより、マスクに描画されているパターン面を傷つけることなく、マスクを吸着することができる。更に、吸着のみ行うことで、露光時の気圧補正を行わなくてすむため、スループットを落とさずに露光することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態である露光装置の構成を示す概略図である。以下、本発明の露光装置は、液晶パネルを製造するための走査型露光装置に適用するものとして説明する。また、以下の図において、露光装置を構成する投影光学系の垂直方向の光軸と平行にZ軸を取り、該Z軸に垂直な平面内で走査露光時のマスク(原版)及びプレート(基板)の走査方向にY軸を取り、該Y軸に直交する非走査方向にX軸を取って説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態である露光装置の構成を示す概略図である。以下、本発明の露光装置は、液晶パネルを製造するための走査型露光装置に適用するものとして説明する。また、以下の図において、露光装置を構成する投影光学系の垂直方向の光軸と平行にZ軸を取り、該Z軸に垂直な平面内で走査露光時のマスク(原版)及びプレート(基板)の走査方向にY軸を取り、該Y軸に直交する非走査方向にX軸を取って説明する。
露光装置100は、投影光学系10を挟んで垂直方向の上側にマスクステージ(原版ステージ)20、更に、下側にプレートステージ30を備える。マスクステージ20及びプレートステージ30は、それぞれ個別に、一定方向に移動可能である。マスクステージ20は、マスク21を走査し、プレートステージ30は、プレート36を走査する基板ステージである。マスクステージ20及びプレートステージ30の走査位置は、レーザ干渉測長器50により計測制御可能である。
プレートステージ30は、本体ベース31上に配置したYステージ32及びXステージ33を有し、更に、X及びYステージ32、33上には、θZステージ34を有する。また、θZステージ上には、プレートチャック35が配置され、被処理基板であるプレート36は、プレートチャック35により保持される。
マスクステージ20は、投影されるべきパターンを有するマスク21を設置する。本発明の第1の実施形態では、マスクステージ20は、側面に後述のバキューム機構25(図2参照)を設置している。バキューム機構25は、マスクステージ20の側面から、マスク21を吸着保持し、密着させる機能を有する。また、露光装置100は、マスクステージ20の上方に、マスク21とプレート36の像を、投影光学系10を介して観察できる観察光学系40と、照明光学系41とを備える。
マスクステージ20及びプレートステージ30は、共にレーザ干渉測長器50により位置計測制御される。レーザ干渉測長器50は、レーザヘッド51と、干渉ミラー52、53と、θZステージ34に取り付けられた第1の反射ミラー54と、マスクステージ基板23に取り付けられた第2の反射ミラー55とを有する。
次に、本実施形態のマスクステージ20について説明する。図2は、マスクステージ20の概略図であって、(A)は、側面図を示し、(B)は、正面図を示し、更に(C)は、平面図を示す。マスクステージ20は、マスクステージ基板23と、マスクステージベース(原版ステージベース)24とを備える。マスクステージ基板23は、不図示のガイド機構やバキューム機構25の本体部分を設置している。また、マスクステージ基板23は、複数の爪部22を備える。爪部22は、バキューム機構25のトラブルなどが原因でマスク21が吸着できないとき、マスク21が落下してしまうことを防止するものである。
マスクステージベース24は、マスク21上に載置される立方体であり、ガラス等の露光光を透過できる材質、好ましくは、マスク21と同じ材質から形成される。また、マスクステージベース24は、マスク21が吸着した状態であっても撓みが生じないように、充分な厚みを持っている。
バキューム機構25は、図2(A)に示すように、その管穴がマスクステージ基板23からマスクステージベース24にかけて延伸されている。バキューム機構25の管穴は、マスクステージベース24の下面まで達しており、マスクステージベース24の下面にバキューム機構25の吸着口25aが形成される。吸着口25aは、図2(A)及び(C)に示すように、マスクステージ20の走査方向に沿って、露光領域に達しない場所に配置されている。なお、管穴は、別途パイプを設置してもよいし、マスクステージベース24内に貫設してもよい。
バキューム機構25は、図2(A)に示すように、マスク21に対して上側に位置する吸着口25aから流体が減圧され、マスク21の上面(原版パターン面の裏面)とマスクステージベース24の下面とを密着した状態とする。なお、マスク21を吸着するマスクステージベース24の接触面は、平坦面、又は、基準となるマスク21の撓みや像面湾曲に応じて加工された面とする。これにより、マスク21の上面とマスクステージベース24の下面とが確実に密着するよう補正され、マスク21の撓みをなくすることができる。また、マスクステージ基板23は、マスクステージ20から個別に着脱可能である。このため、マスクステージベース24の下面部分を上述のように加工する際に、マスクステージベース24をマスクステージ基板23から取り外すことができる。
次に、本発明を実現するための、マスク搬送工程について説明する。図3は、マスク搬送工程を示すフローチャートである。まず、不図示のマスク搬送ロボットは、マスク21をマスクステージ20にロードする(ステップS101)。具体的には、まず、マスクステージ20をマスク21の受け渡し位置に駆動する。次に、マスク搬送ロボットは、マスク21をマスクステージ20におけるマスクステージベース24の直下に運搬する。この場合、マスクステージベース24の直下であれば、マスク21との距離はいくらであっても構わない。また、マスクステージ20についている爪部22は、「開」とする。
次に、バキューム機構25は、マスク21をマスクステージベース24に吸着させる(ステップS102)。具体的には、まず、マスク搬送ロボットは、マスク21を載せた状態で上方向に移動し、マスク21の上面とマスクステージベース24の下面を密着させる。その際、マスク搬送ロボットの上方向への上昇速度が速すぎると、マスク21とマスクステージベース24が衝突して破損してしまうため、所定の位置から上昇速度を落として搬送する。また、搬送ロボットの上下方向の駆動部には、マスク21とマスクステージベース24とが密着した際の衝撃を和らげるため、ショックアブソーバが搭載されている。次に、バキューム機構25は、マスク21とマスクステージベース24が密着した状態で稼動し、マスク21をマスクステージベース24に吸着させる。次に、爪部22は、マスク21とマスクステージベース24が吸着した状態で閉じ、マスク21が落下しないように支持する。これにより、マスクのロードが終了する。
次に、露光装置100は、露光処理を開始し(ステップS103)、その後、マスクロード後のバキュームチェックをバキューム機構25が正しく吸着を実施できているかどうか確認を行う(ステップS104)。吸着確認の方法としては、バキューム機構25の全ての吸着口のうち、一定個数以上の吸着口における圧力が設定値以下になったら、異常であると判定する。
ここで、ステップS104において、バキュームチェックに異常があれば、露光装置100は、露光処理を停止し、マスク21を手動でアンロードした後、マスクステージ20の修理を実施する(ステップS108)。その後、露光装置100は、露光処理を再開する(ステップS109)。なお、ステップS108では、修理のためにマスク21は手動でアンロードされているため、この場合、露光装置100は、ステップS101のマスク21のロードから再開する。
なお、ステップS104のバキュームチェックは、ステップS105においてジョブが終了かどうかを逐一判定し、露光処理が終了するまでチェックを続ける。そして、露光処理が終了する(ステップS105でYes)と、露光装置100は、マスク21のアンロード準備を実行する(ステップS106)。具体的には、まず、露光装置100は、マスクステージ20をマスクの受け渡し位置に移動する。次に、マスク搬送ロボットは、マスクステージ20におけるマスクステージベース24の直下に移動する。次に、マスク搬送ロボットは、上方向への移動し、マスク21に密着する。その際、ステップS101のロード処理時と同様、上昇速度が速すぎると、マスク搬送ロボットとマスク21が衝突して破損してしまうため、所定の位置から上昇速度を落とす形で搬送する。
次に、露光装置100は、マスク21のアンロードを実行する(ステップS107)。具体的には、ます、マスク搬送ロボットは、マスク21を固定させる。次に、爪部22は、「開」とし、マスク21とマスクステージベース24との吸着を解除して、マスク搬送ロボットを降下させて、アンロードを完了させる。
次に、マスクステージベース24の下面の加工処理について説明する。前述のように、本実施形態においては、マスク21を吸着するマスクステージベース24の下面部は、平面、又は基準となるマスク21の撓みや像面に応じて表面加工された面となっている。これにより、マスク21の上面とマスクステージベース24の下面とが確実に密着し、マスク21の撓みをなくすことができる。
図4は、マスクステージベース24の表面加工工程を示すフローチャートである。まず、露光装置100は、歪み計測用ショットが露光されている基準となるプレート36をプレートステージ30にロードする(ステップS111)。その後、露光装置100は、プレート36を積載した状態でマスク21の平面度を計測する(ステップS112)。
次に、露光装置100は、基準となるマスク21をマスクステージ20にロードする(ステップS113)。その手順は、図3におけるステップS101〜102と同様である。その後、露光装置100は、マスク21とプレート36とを設置した状態で、歪み計測を行い、像面湾曲を求める(ステップS114)。
次に、露光装置100は、マスク21をマスクステージ20からアンロードする(ステップS115)。その後、露光装置100は、マスクステージベース24をマスクステージ20から取り出し、ステップS112及びS114の結果で求めた平面度と像面湾曲の計測値に基づいて、マスクステージベース24の下面に研磨加工を施す(ステップS116)。最後に、露光装置100は、加工が終了したマスクステージベース24をマスクステージ20に取り付ける(ステップS117)。
以上のように、本発明によれば、マスクステージ20に設置されたバキューム機構25は、マスク21を搬入から搬出まで、常にマスク21を吸着し続けている。これにより、マスク21は、同じ面状態を維持している。したがって、マスク21の撓みを監視するためのセンサを不要とすることができる。また、マスクステージベース24の下面の形状を変更することにより、マスクの形状を自由に決めることができる。これは、基板自体が撓みを生じている場合などに対して有効であり、重ね合わせ精度を落とさずに露光することができる。また、マスクの吸着面を上面または側面にすることにより、マスクに描画されているパターン面を傷つけることなく、マスクを吸着することができる。更に、吸着のみ行うことで、露光時の気圧補正を行わなくてすむため、スループットを落とさずに露光することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。第1の実施形態では、バキューム機構25は、マスクステージベース24を経由して、マスク21に対して上側に位置する吸着口から流体を減圧して、マスク21をマスクステージベース24に密着させている。これに対して、第2の実施形態では、マスクステージベース24を経由せずに、バキューム機構25は、マスク21に対して横側に位置する吸着口25bから流体を減圧して、マスク21をマスクステージベース24に密着させることを特徴とする。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。第1の実施形態では、バキューム機構25は、マスクステージベース24を経由して、マスク21に対して上側に位置する吸着口から流体を減圧して、マスク21をマスクステージベース24に密着させている。これに対して、第2の実施形態では、マスクステージベース24を経由せずに、バキューム機構25は、マスク21に対して横側に位置する吸着口25bから流体を減圧して、マスク21をマスクステージベース24に密着させることを特徴とする。
図5は、本発明の第2の実施形態であるマスクステージ20の概略図であって、(A)は、側面図を示し、(B)は、正面図を示し、更に(C)は、平面図を示す。なお、図5において、図2と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。
第2の実施形態では、バキューム機構25の管穴は、マスクステージ基板23からマスク吸着材26を通ってマスク21へと延伸しており、マスク21上面とマスクステージベース24の下面の間の空間に対して、マスク21の横側から減圧を行う。マスク吸着材26は、マスクステージ基板23に取り付けられている。マスク吸着材26は、シール部材としても機能しているため、マスク21を隙間なく密着させることで、マスク21上面とマスクステージベース24下面の間の空間を密閉空間にし、外部に流体が漏れるのを防ぐ。このように、マスク21の側面から減圧を行うことで、マスク21のパターン面と反対側の面とマスクステージベースとの空間の気体が排気され、マスク21はマスクステージベース24に密着される。ここで、マスクステージベース24の表面形状がマスク21のパターンを基板に照射した際に像面湾曲を低減するように加工されていれば、マスク21をマスクステージベース24で吸着保持するだけで像面湾曲が補正されることとなる。
第2の実施形態では、マスク21をマスクステージ20にロードする処理(図3のステップS102)は、以下の方法で実現できる。不図示のマスク搬送ロボットは、上方向に移動し、マスク21の上面とマスクステージベース24を密着させる。そして、爪部22は、「閉」とし、マスク21が落下しないように支持する。その後、露光装置100は、マスク吸着材26をマスク21に密着させ、バキューム機構25を駆動させて、マスク21をマスクステージベース24に吸着させ、マスクのロードが終了する。
また、マスク21をマスクステージ20からアンロードする処理(図3のステップS107)においては、露光装置100は、マスク搬送ロボットでマスク21を固定後、爪部22を開ける。そして、露光装置100は、マスク21とマスクステージベース24との吸着を解除し、続いてマスク21とマスク吸着材26との密着を解除して、搬送ロボットを降下させて、アンロードを完了させる。これにより、第2の実施形態のマスクステージ20は、第1の実施形態と同一の作用、効果を奏する。
(デバイスの製造方法)
次に、上記露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、薄膜磁気ヘッド等のデバイスは、レジストが塗布された基板を、上記露光装置を用いて露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等の少なくとも1つの工程を含む。
次に、上記露光装置を利用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、薄膜磁気ヘッド等のデバイスは、レジストが塗布された基板を、上記露光装置を用いて露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等の少なくとも1つの工程を含む。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
20 マスクステージ
21 マスク
22 爪部
24 マスクステージベース
25 バキューム機構
25a 吸着口
25b 吸着口
21 マスク
22 爪部
24 マスクステージベース
25 バキューム機構
25a 吸着口
25b 吸着口
Claims (10)
- 原版を保持及び走査する原版ステージを有する露光装置であって、
前記原版ステージは、前記原版を吸着保持するためのバキューム機構と、
前記原版のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベースとを備え、
前記原版ステージベースは、前記原版が吸着され前記接触面に密着されることで、前記原版の形状を補正することを特徴とする露光装置。 - 前記バキューム機構は、前記原版のパターン面の裏面を吸着保持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記バキューム機構は、前記原版の側面を吸着保持することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記原版ステージベースは、管穴を有し、前記管穴を介して前記バキューム機構により前記原版を吸着することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記原版ステージベースの前記接触面は、平坦面であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記原版ステージベースの前記接触面は、基準となる前記原版の撓みに応じた形状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記原版ステージベースの前記接触面は、像面湾曲に応じた形状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記原版ステージは、前記原版の落下を防止する爪部を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 原版を保持及び走査する原版ステージと、被処理基板を保持及び走査する基板ステージとを有する露光装置であって、
前記原版ステージは、前記原版が吸着されることで前記原版のパターン面の裏面と接触する接触面を有する原版ステージベースを備え、
前記原版ステージベースの接触面は、前記基板ステージに基準となる基板を保持した状態で計測された前記原版の平面度と前記原版ステージに基準となる原版を保持した状態で計測された前記原版の像面湾曲との計測値に基づいて表面加工されることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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JP2009091107A JP2010245222A (ja) | 2009-04-03 | 2009-04-03 | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
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JP2021006931A (ja) * | 2015-09-01 | 2021-01-21 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法 |
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- 2009-04-03 JP JP2009091107A patent/JP2010245222A/ja active Pending
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