JP2011023425A - ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第1位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第1位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第2位置決め部材と、前記第1位置決め部材の周囲に第1密閉空間を形成する弾性を有する第1密閉部材と、前記第2位置決め部材の周囲に第2密閉空間を形成する弾性を有する第2密閉部材と、前記第1密閉空間と前記第2密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第1密閉空間及び前記第2密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第1吸引機構及び第2吸引機構と、を備える。
【選択図】図4
Description
図1は走査型露光装置を示す概略構成図である。この露光装置は、光源である水銀灯やレーザ光源からの露光光をスリット状光束にする照明系1と、このスリット状光束で照明されたレチクル(原版)2のパターンを基板(ウエハ)3上に縮小投影する投影光学系4とを有する。レチクル2は、横方向に移動可能なレチクルステージ5に設けられたレチクル保持装置によって真空吸着されている。レチクルステージ5上には、反射鏡6が搭載され、この反射鏡6を介してレチクルステージ5の位置は、レーザ干渉計7により計測されている。ウエハ3は、基板ステージ(ウエハステージ)8に搭載された基板チャック(ウエハチャック)9に真空吸着されている。ウエハステージ8にはバーミラー10が設けられており、このバーミラー10を介してウエハステージ8の位置はレーザ干渉計11により計測されている。レチクル2とウエハ3との相対位置を検出するためのアライメント検出系12がレチクル2の上部に配置されている。露光装置は、アライメント検出系12を用いてレチクル2とウエハ3との相対位置を検出する。その後、露光装置は、レチクルステージ5及びウエハステージ8の位置を計測するレーザ干渉計7,11を用いてレチクル2とウエハ3との間の位置の同期をとりつつ走査露光を行う。露光装置全体は、除振台13上に搭載された本体フレーム14により支持されており、レチクルステージ5はこの本体フレーム14上に配置された構造体15上を移動する。レチクル2にはパターンが形成されており、当該パターンが投影光学系4を介してウエハ3に投影され、ウエハ3が露光される。図1において符号16、17は、レチクル2を保持するレチクルステージ装置をステージ(レチクステージ)5とともに構成する保持機構のうちの下部保持機構、上部保持機構である。
図2は実施例1のレチクル保持機構を搭載した走査型露光装置のレチクルステージ装置を示す平面図である。図2において、レチクル2は、ステージ(レチクルステージ)5に保持される。レチクルステージ5は、固定部である構造体15の上に配置される。レチクルステージ5はレチクル2の面と平行な方向(図2中、上下方向)に移動可能である。
図5に上面クランプ18の別の移動機構の形態を示す。図5Aは、上面クランプ18がレチクル2を吸着し保持している状態の断面図である。図5Bは、上面クランプ18が退避されレチクルを回収する状態の断面図である。実施例2では、固定部である構造体15上に駆動部21(エアシリンダ等)が配置され、上面クランプ18を下方から突き上げて回動させ、その回動によって上面クランプ18を作動位置から退避位置へ移動させる。上面クランプ18がレチクル2上から退避した後、レチクル2に対し、上方あるいは図の手前側又は奥側からレチクルの搬入出機構がアクセスし、レチクルの回収を行う。このとき上面クランプ18の駆動部21はレチクルの周辺にない為、熱や振動の影響を受けることは無い
実施例1,2においては、上面クランプ18の駆動部をレチクルステージ5又は構造体15に別途設置した。しかし、図示しないレチクルの搬入出機構によって上面クランプ18を移動させることもできる。
次に、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。デバイスは、前述の実施例1、2の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、該工程で露光された基板を現像する工程と、他の周知の工程とを経ることにより製造する。デバイスは、半導体集積回路素子、液晶表示素子等でありうる。基板は、ウエハ、ガラスプレート等でありうる。当該周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等の各工程である。
Claims (6)
- 板部材を保持するステージ装置であって、
ステージと、
前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第1位置決め部材と、
前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第1位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第2位置決め部材と、
前記第1位置決め部材の周囲に第1密閉空間を形成する弾性を有する第1密閉部材と、
前記第2位置決め部材の周囲に第2密閉空間を形成する弾性を有する第2密閉部材と、
前記第1密閉空間と前記第2密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第1密閉空間及び前記第2密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第1吸引機構及び第2吸引機構と、
を備える、ことを特徴とするステージ装置。 - 前記第2位置決め部材及び前記第2密閉部材を前記板部材の上面に対向する位置から当該上面に対向しない位置へ移動させる駆動部をさらに備える、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記第2位置決め部材及び前記第2密閉部材を前記板部材の上面に対向する位置に位置決めする第3位置決め部材をさらに備え、
前記駆動部は、前記第2位置決め部材及び前記第2密閉部材を、前記板部材の上面に対向する位置と当該上面に対向しない位置との間で前記板部材の面と平行な方向に移動させる、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。 - 前記第2位置決め部材及び前記第2密閉部材は、それらの回動によって前記板部材の上面に対向する位置から当該上面に対向しない位置へ移動するように構成され、
前記駆動部は、前記第2位置決め部材及び前記第2密閉部材を下方から突き上げて回動させる、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。 - レチクルのパターンを基板に投影して基板を露光する露光装置であって、
前記レチクルは、請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のステージ装置によって保持されている、ことを特徴とする露光装置。 - デバイスを製造する方法であって、
請求項5に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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