JPH11226479A - ステージ旋回装置および基板処理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板移載速度の低下なく安定な基板移載を行
うと共に、塗布エリアと搬送エリアの分離でパーティク
ル発生抑制や高メンテナンス性を得る。 【解決手段】 旋回手段４ａ，４ｂの各回動動作で基板
保持ステージ３ａ，３ｂをそれぞれ所定角度姿勢の水平
姿勢から塗布姿勢の垂直姿勢にし、この状態が基板処理
装置としての塗布装置２ａ，２ｂの基板処理位置である
塗布基準位置になっている。つまり、基板７の水平な搬
送姿勢と垂直な塗布姿勢の姿勢変換を旋回手段４ａ，４
ｂによるステージ旋回動作で行っているため、基板７の
基板保持ステージ３ａ，３ｂへの各セッティングを水平
姿勢のままで容易に行うことができる。また、塗布装置
２ａ，２ｂの裏側からそれぞれ基板保持ステージ３ａ，
３ｂを基板処理位置にそれぞれセットし、その表側で基
板処理をそれぞれ行うため、基板処理エリアと搬送エリ
アとを効率よく分離することが可能になっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示デ
バイス（ＬＣＤ）およびプラズマ表示デバイス（ＰＤ
Ｐ）などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、半
導体デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスに
おいて、例えばＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導
体基板およびプリント基板などの基板を例えば塗布装置
にセットして各種塗布液を塗布することで、フォトレジ
スト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶縁膜、絶
縁膜および導電膜などの薄膜を基板表面上に形成する塗
布システムなどの基板処理システム、およびこれに用い
られるステージ旋回装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板表面に塗布液を塗布する方式
としては、回転塗布方式、ブレード塗布方式、スプレイ
塗布方式およびロールコート方式などがある。

【０００３】近年、液晶表示デバイスや半導体デバイス
などの製造プロセスにおいて、基板を水平に保った状態
で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布液に遠
心力を与えることで、基板表面上の中央部から外周部に
均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用されて
いた。

【０００４】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。

【０００５】これに対して、毛管現象を用いた縦型の塗
布装置では、基板を鉛直姿勢または傾斜した姿勢に立て
て保持し、その基板幅方向（水平方向）のノズルと基板
とをその被塗布面に沿って相対移動させつつ、毛管現象
で塗布液槽から汲み上げられた塗布液をノズルから基板
表面に対して吐出させて塗布液を塗布するため、回転塗
布方式の上記問題、つまり、塗布液の利用効率の低下、
設置スペースの増大および塗布膜厚の不均一を解決する
ことができる。

【０００６】このような塗布装置の基板保持用のステー
ジに多関節ロボットを用いて基板をセッティングするセ
ッティング動作を、仮想の従来技術として、図８〜図１
０に示している。

【０００７】図８は仮想の従来技術の塗布システムの要
部構成を模式的に示す平面図であり、図９は図８の塗布
システムを側方から見た図であり、図１０は図８の塗布
装置８ａを多関節ロボット８１と共に正面側から見た図
である。

【０００８】図８〜図１０に示すように、２台の塗布装
置８０ａ，８０ｂが対向して配設され、その間に基板セ
ッティング用の多関節ロボット８１が配設されている。
これらの塗布装置８０ａ，８０ｂの対向方向とは直交す
る方向に延びる処理前水平搬送経路８２の取込位置８２
ａと、処理済み水平搬送経路８３の受渡位置８３ａとが
多関節ロボット８１の両側に配設されている。

【０００９】この多関節ロボット８１のアーム部８１ａ
の先端部分は基板８４を保持可能な吸着構造になってお
り、２台の塗布装置８０ａ，８０ｂのうち例えば塗布装
置８０ａの基板垂直保持用のステージ８５ａに対して、
基板８４を垂直姿勢にセッティングするのに際して、処
理前水平搬送経路８２を水平搬送されてきた水平姿勢の
基板８４を、多関節ロボット８１のアーム部８１ａの先
端吸着部分によって、処理前水平搬送経路８２の取込位
置８２ａから吸着して取り込み、塗布装置８０ａのステ
ージ８５ａ上に垂直姿勢にセッティングするようになっ
ている。また、多関節ロボット８１のアーム部８１ａの
先端吸着部分によって、塗布装置８０ａにおいて垂直姿
勢の塗布済みの基板８４をステージ８５ａから受け取っ
てこれを水平姿勢にして処理済み水平搬送経路８３の受
渡位置８３ａ上に移送するようになっている。

【００１０】また同様に、多関節ロボット８１は、取込
位置８２ｂに対しても、水平姿勢で搬送されてきた基板
８４をステージ８５ｂ上に垂直姿勢にセッティングし、
また、その垂直姿勢の塗布済みの基板８４をステージ８
５ｂから水平姿勢にして受渡位置８３ｂ上に移送するよ
うになっており、多関節ロボット８１は塗布装置８０
ａ，８０ｂに対して基板８４を交互にセッティングさら
に取外しを行うようになっている。このような塗布装置
８０ａ，８０ｂの一方に対するセッティングさらに取外
し動作と並行して、塗布装置８０ａ，８０ｂの他方に対
して、その他方の塗布装置の塗布ユニット８６を上から
下に移動させることで基板８４の表面上に塗布液を塗布
するようになっている。

【００１１】ここで、多関節ロボット８１のアーム部８
１ａの先端吸着部分について、図１１および図１２を用
いて、以下に詳細に説明する。

【００１２】図１１は図８の多関節ロボット８１のアー
ム部８１ａの先端吸着部分におけるトグル式チャック開
閉機構の要部構成を示す側面図である。

【００１３】上記多関節ロボット８１のアーム部８１ａ
の先端吸着部分は、図１１に示すように、上記ステージ
８５ｂ，８５ａへの基板８４のセッティング動作時や、
そのステージ８５ａ，８５ｂからの基板８４の取外し動
作時に、基板８４の表面８４ａが手前側にくるため、基
板８４の上下端における裏面８４ｂの外周縁部を複数の
チャックノズル９１のＬ字爪裏側の吸盤状のバキューム
パッド９１ａによってそれぞれ吸着して基板８４を垂直
姿勢の状態で保持するようになっている。

【００１４】図１２は図１１のトグル式チャック開閉機
構を模式的に示す動作説明用の斜視図であり、図１２の
機構内容を判りやすくするために図１１のクランピング
シリンダを１８０度だけ反対側に配置した状態で示し、
この場合、クランピングシリンダとチャックノズルの動
作は図１１と図１２で逆動作となるが、使用部材の符号
は同一の符号を付けている。

【００１５】図１２において、上記基板８４の上下寸法
よりも若干大きい寸法だけ離間して２本の軸９２，９３
が上下に平行に配設されている。この上側の軸９２はベ
ース板９４上に固定され所定距離を置いた２個の軸受部
材９５で回転自在に軸支されており、また、下側の軸９
３は、図示しないベース板上に固定され所定距離を置い
た２個の軸受部材９６で回転自在に軸支されている。こ
れらの２本の軸９２，９３にはそれぞれ、それぞれの両
端部と中央部にＬ字状の３個のチャックノズル９１がそ
れぞれ固定されており、軸９２，９３の回動に伴って一
部仮想線で示した開放位置と、実線で示した保持位置と
の間で全チャックノズル９１が回動するようになってい
る。

【００１６】また、下側の軸９３にはアーム部材９７の
一方端部が固定され、アーム部材９７の他方端部はクラ
ンピングシリンダ９８のロッド先端部に回動自在に軸支
されており、シリンダ９８のロッド先端部の移動で軸９
３を介して下側の各チャックノズル９１を回動させて基
板８４の裏側端縁部を吸引保持位置または吸引保持解除
位置に移動自在に構成している。また、上側の軸９２に
はアーム部材９９の一方端部が固定され、アーム部材９
９の他方端部は連結アーム部材１００の一方端部に回動
自在に軸支され、連結アーム部材１００の他方端部は、
一方端部が下側の軸９３に回動自在に連結されたアーム
部材１０１の他方端部に回動自在に軸支され、そのアー
ム部材１０１の他方端部近傍位置にクランピングシリン
ダ１０２のロッド先端部が回動自在に軸支されており、
シリンダ１０２のロッド先端部の移動で軸９２を介して
上側の各チャックノズル９１を回動させて基板８４の裏
側端縁部を吸引保持位置または吸引保持解除位置に移動
自在に構成している。

【００１７】上記構成によって、多関節ロボット８１の
アーム部８１ａの先端吸着部分による基板８４のステー
ジ８５ａ，８５ｂへの着脱動作について説明する。ま
ず、基板８４をステージ８５ａ，８５ｂに装着する場
合、基板８４の裏面外周部を複数の吸盤状のバキューム
パッド（図示せず）で吸着するべくステージ側のパッド
収納凹部内から複数のバキュームパッドが突出して待機
している。

【００１８】そこへ多関節ロボット８１のアーム部８１
ａの先端吸着部分に吸引保持された基板８４が来て、基
板８４の裏面外周部を複数のバキュームパッド（図示せ
ず）で吸着する。さらに、その多関節ロボット８１のア
ーム部８１ａの先端吸着部分はその吸着を解除したのち
に全チャックノズル９１を立てて基板保持を解除した姿
勢とし、それらの複数のバキュームパッドを基板８４に
吸着させた状態でそのパッド収納凹部内の所定位置に引
き込んで収納することで基板８４を各ステージ８５ａま
たはステージ８５ｂ上に装着保持する。

【００１９】このとき、アーム部８１ａの先端吸着部分
の基板保持解除動作は、まず、全チャックノズル９１の
Ｌ字爪裏側のバキュームパッド（図示せず）による吸引
を解除して基板８４の裏側端縁部をそれらのバキューム
パッドから離れさせ、シリンダ９８のロッド先端部が伸
長すると共に、シリンダ１０２のロッド先端部が収縮す
ることで、上下の全チャックノズル９１は仮想線で一部
示しているように基板面に対して垂直に立ち、基板８４
を受渡し完了とすることができる。

【００２０】また同様に、基板８４をステージ８５ａ，
８５ｂから取り外す場合、基板８４の裏面外周縁部を複
数のバキュームパッドで吸着した状態でパッド収納凹部
内から複数のバキュームパッドが突出して待機してい
る。

【００２１】そこへ多関節ロボット８１のアーム部８１
ａの先端吸着部分が来る。このとき、アーム部８１ａの
先端吸着部分の基板保持動作は、シリンダ９８のロッド
先端部が伸長すると共に、シリンダ１０２のロッド先端
部が収縮することで、上下の全チャックノズル９１は、
仮想線で一部示しているように基板面に対して垂直に立
つことになり、基板８４を受入れ可能な状態とすること
ができる。

【００２２】さらに、立っている上下の全チャックノズ
ル９１内に基板８４を受け入れた後に、シリンダ９８の
ロッド先端部が収縮すると共に、シリンダ１０２のロッ
ド先端部が伸長して、上下の全チャックノズル９１は実
線で示しているように基板面に平行な状態となって、基
板８４の裏側端縁部を全チャックノズル９１のＬ字爪裏
側のバキュームパッドで吸引して保持する。

【００２３】さらに、ステージ側の複数のバキュームパ
ッド（図示せず）による基板８４の裏面外周縁部の吸着
を解除して、基板８４の裏側端縁部をそれらのバキュー
ムパッドから離れさせ、これによって、基板８４のステ
ージ８５ａまたはステージ８５ｂからの受渡しが完了と
なる。

【００２４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成で
は、レジスト塗布直後の基板８４は、基板８４の端面部
分にも塗布液が付いている虞があり、その端面を保持す
るのは適当ではないため、その周辺部裏面を吸着して搬
送するわけであるが、基板８４を立てた垂直姿勢時にロ
ボット側とステージ側との間で受渡しをすると、ロボッ
ト側のバキュームパッドとステージ側のバキュームパッ
ドとの吸引タイミングおよび吸引解除タイミングによっ
ては、基板８４が落下する危険性があり、このため、ハ
ンドリング速度を遅くする必要があった。

【００２５】また、ステージ８５ａ，８５ｂへのセッテ
ィング動作時および、ステージ８５ａ，８５ｂからの取
外し動作時に、多関節ロボット８１のアーム部８１ａの
ハンド先端吸着部は基板８４の表面側にくるため、ハン
ド先端吸着部がシリンダやモータなどの駆動源を必要と
しており、その構成が複雑で重量も大きくなって多関節
ロボット８１としての負荷も大きくなっている。また、
多関節ロボット８１のアーム部８１ａのハンド先端吸着
部に、基板８４を覆う範囲のプレートを取り付けると、
ハンド先端吸着部がさらに重くなってアーム部８１ａに
負荷がかかり過ぎ、また、そのハンド先端吸着部にプレ
ートを取り付けない場合には、ハンドリング時に基板８
４に風圧がかかり基板８４が振動し、それによってパー
ティクルが発生する虞がある。

【００２６】さらに、多関節ロボット８１のアーム部８
１ａのハンド先端吸着部が、水平姿勢の基板８４に対し
てアクセス時に基板８４の表面上方位置にくるため、基
板８４の表面にパーティクルが付着する虞がある。ま
た、この基板８４の被塗布面に対する塗布処理が多関節
ロボット８１による搬送エリア側で行われているため、
搬送時に発生したパーティクルが基板８４の表面に付着
する虞があった。

【００２７】また、このように塗布が搬送エリア側で行
われるために塗布装置８ａのメンテナンス性も悪くなっ
ていた。つまり、塗布装置の外側から基板８４に対する
塗布状態が目視で検査できないため、人が入りにくい搬
送エリア側に入る必要が生じてメンテナンス性が非常に
悪い。

【００２８】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板搬送位置と基板処理位置間の基板移載速度の低
下なく安定な基板移載を行うと共に、パーティクルによ
る基板への悪影響を抑制しかつメンテナンス性のよい基
板処理システムおよび、これに用いられるステージ旋回
装置を提供することを目的とする。

【００２９】

【課題を解決するための手段】本発明のステージ旋回装
置は、基板を保持する基板保持ステージが設けられ、軸
支部を回動中心として基板保持ステージの基板保持面が
所定角度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れかになるよう
に基板保持ステージが回動可能な旋回部材と、基板保持
ステージの基板保持面を回動させる旋回駆動手段とを有
することを特徴とするものである。このステージ旋回装
置を旋回手段として用いた本発明の基板処理システム
は、処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢で搬送され
てきた処理前基板を基板処理装置の基板処理位置上に移
送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると共に、この
基板処理装置で基板処理された処理済み基板を基板処理
装置の基板処理位置から処理済み基板搬送経路に移送す
る基板処理システムにおいて、基板を保持する基板保持
ステージが設けられ、軸支部を回動中心に基板保持ステ
ージの基板保持面が所定角度姿勢と垂直または傾斜姿勢
の何れかになるように基板保持ステージを回動自在な旋
回手段と、処理前基板搬送経路上の基板を所定角度姿勢
の基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共に、
基板処理装置で基板処理された処理済み基板を処理済み
基板搬送経路上に移送する基板移載手段とを有すること
を特徴とするものである。この場合、旋回手段の回動動
作による基板保持ステージの傾斜または垂直姿勢の状態
で基板処理装置における少なくとも垂直方向の基板処理
位置になっている。また、本発明の基板処理システム
は、基板を略水平姿勢で搬送する基板搬送装置と、略垂
直または傾斜姿勢の基板に処理を施す基板処理装置と、
基板を保持する基板保持ステージと、基板保持ステージ
を、基板搬送装置との基板受け渡し位置近傍と基板処理
装置の基板処理位置近傍との間で旋回させる旋回手段と
を有することを特徴とするものである。また、本発明の
基板処理システムは、基板を略水平姿勢で搬送する基板
搬送装置と、略垂直または傾斜姿勢の基板に処理を施す
基板処理装置と、基板を保持する基板保持ステージと、
基板保持ステージを、基板搬送装置との基板受け渡し位
置と基板処理装置の基板処理位置との間で移動させるこ
とにより基板を前記基板処理装置へ給排する給排手段と
を有し、基板保持ステージに保持された状態の基板に対
して基板処理装置により処理を施すことを特徴とするも
のである。

【００３０】この構成により、旋回手段の回動動作で基
板保持ステージを所定角度姿勢から傾斜または垂直姿勢
にし、この状態が基板処理装置における垂直方向の基板
処理位置になっているので、所定角度姿勢が略水平姿勢
であれば、基板の基板保持ステージへのセッティングは
その略水平姿勢で行われ、従来のような吸引タイミング
および吸引解除タイミングの乱れによる基板落下の危険
性もなく、これによって、ハンドリング速度を遅くする
必要もなくなって、より安定な基板移載を行うことが可
能となる。また、旋回手段の回動動作で基板保持ステー
ジを所定角度姿勢から傾斜または垂直姿勢にして、基板
処理装置の裏側から基板処理位置にセットし、その表側
で基板処理を行うので、基板処理エリアと搬送エリアと
を容易に分離することが可能となって、搬送エリア側の
パーティクルが基板処理エリア側の基板表面上に付着す
ることが抑制され、また、基板処理エリア側に基板搬送
機構がないので、基板処理エリア側に人が入りやすくか
つその基板処理状態が見やすくメンテナンス性のよい基
板処理システムとなる。このように、塗布エリアと搬送
エリアとがうまく分離されるので、基板保持ステージの
基板保持面側の基板処理空間を覆って密閉する外郭部材
を容易に配置することが可能となって、塗布時における
風圧や気圧変化などの周囲からの悪影響が防止されてよ
り安定した基板処理が可能となる。

【００３１】また、好ましくは、本発明の基板処理シス
テムは、処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢で搬送
されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理位置上
に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると共に、
この基板処理装置で基板処理された処理済み基板を基板
処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬送経路に移
送する基板処理システムにおいて、基板を保持する基板
保持ステージが設けられ、軸支部を回動中心に基板保持
ステージの基板保持面が所定角度姿勢と垂直または傾斜
姿勢の何れかになるように基板保持ステージを回動自在
な旋回手段と、処理前基板搬送経路上の基板を所定角度
姿勢の基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共
に、基板処理装置で基板処理された処理済み基板を処理
済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段と、基板保
持ステージの基板保持面が傾斜または垂直姿勢の状態で
基板保持ステージを旋回手段と共に基板処理装置の基板
処理位置まで移動させるステージ移動手段とを有するこ
とを特徴とするものである。

【００３２】この構成により、旋回手段の回動動作で基
板保持ステージを所定角度姿勢から傾斜または垂直姿勢
にし、この状態で基板処理装置の基板処理位置までステ
ージ移動手段が基板保持ステージをスライドさせるの
で、基板処理装置の基板処理位置に基板保持ステージを
より正確に位置させることが可能となる。

【００３３】さらに、好ましくは、本発明の基板処理シ
ステムは、処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢で搬
送されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理位置
上に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると共
に、この基板処理装置で基板処理された処理済み基板を
基板処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬送経路
に移送する基板処理システムにおいて、基板を保持する
基板保持ステージが設けられ、軸支部を回動中心に基板
保持ステージの基板保持面が所定角度姿勢と垂直または
傾斜姿勢の何れかになるように基板保持ステージを回動
自在な旋回手段と、処理前基板搬送経路上の基板を所定
角度姿勢の基板保持ステージの基板保持面上に移送する
と共に、基板処理装置で基板処理された処理済み基板を
処理済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段と、基
板保持ステージの基板保持面が傾斜または垂直姿勢の状
態で基板保持ステージを旋回手段と共に基板処理装置の
基板処理位置まで移動させるステージ移動手段と、基板
処理装置の基板処理位置に開口部が設けられ、この開口
部内に基板保持ステージを位置決めした状態で止めるス
テージ固定手段とを有することを特徴とするものであ
る。

【００３４】この構成により、傾斜または垂直姿勢の基
板および基板保持ステージを基板処理装置の基板処理位
置に位置決めした状態でステージ固定手段でこれを固定
するので、基板処理時に基板が動いたり振動したりする
ようなこともなく、より安定した基板処理が行える。

【００３５】さらに、好ましくは、本発明の基板処理シ
ステムにおける基板処理装置の基板処理位置に、基板保
持ステージが傾斜または垂直姿勢で位置している状態
で、基板保持ステージの基板保持面側の処理空間を覆っ
て密閉する外郭部材が配設されている。

【００３６】この構成により、基板保持ステージの基板
保持面側の処理空間を外郭部材で覆って密閉するので、
従来の多関節ロボットによって基板搬送すると風圧が起
って基板処理に悪影響が生じたが、このような風圧によ
る基板処理への影響を防止すると共に、例えばクリーン
ルームの扉の開閉による気圧変動などで基板処理に対し
て悪影響が生じたが、このような気圧変動による基板処
理への悪影響が防止される。

【００３７】また、好ましくは、本発明の基板処理シス
テムにおける外郭部材内に、均一気流を発生させると共
にその内部を陽圧化させる乾燥促進機構が配設されてい
る。

【００３８】この構成により、密閉した外郭部材内に均
一気流を発生させる乾燥促進機構で、外郭部材内の基板
処理部を陽圧化するので、浮遊パーティクルの発生が防
止されると共に、基板処理部へのパーティクルの侵入も
防止される。また、この乾燥促進機構で乾燥処理を含め
た基板処理がより安定的に早く行われ得る。

【００３９】さらに、好ましくは、本発明の基板処理シ
ステムにおける基板移載手段は、基板保持ステージの基
板保持面に対して出退自在な複数のリフトピンが設けら
れたリフトピンユニットと、これらの複数のリフトピン
上と処理前基板搬送経路上または処理済み基板搬送経路
上との間で基板を移送する基板移送手段とを有してい
る。

【００４０】この構成により、リフトピンユニットで基
板処理ステージに貼りついた基板を容易に剥がすことが
可能となる。

【００４１】さらに、好ましくは、本発明の基板処理シ
ステムにおける基板処理装置は、塗布液を供給可能なノ
ズル手段と、傾斜または垂直姿勢の基板とをその被塗布
面に沿って相対移動させつつ、毛管現象で塗布液槽から
汲み上げられた塗布液をノズル手段から供給して基板の
被塗布面に塗布する塗布装置である。

【００４２】この構成により、上記旋回手段を用いた本
発明の基板の基板保持ステージ上へのセッティングや、
基板保持ステージ上の基板の基板処理位置への移動処理
が、縦型の塗布装置に効率よく適応可能となる。

【００４３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るステージ旋回
装置およびこれを用いた基板処理システムの実施形態に
ついて図面を参照して説明するが、本発明は以下に示す
実施形態に限定されるものではない。

【００４４】図１は本発明の一実施形態の基板処理シス
テムの概略要部構成を示す一部断面図であり、図２は図
１の基板処理システムの概略要部構成を模式的に示す平
面図である。

【００４５】図１および図２において、基板処理システ
ム１は、互いに対向して配設された２台の基板処理装置
としての塗布装置２ａ，２ｂと、この塗布装置２ａの基
板保持ステージ３ａが設けられ、この基板保持ステージ
３ａを塗布装置２ａ側に回動させる旋回手段４ａと、塗
布装置２ｂの基板保持ステージ３ｂが設けられ、この基
板保持ステージ３ｂを塗布装置２ｂ側に回動させる旋回
手段４ｂと、この旋回手段４ａを塗布装置２ａ側に水平
移動（スライド）させて塗布装置２ａの塗布基準位置と
するステージ移動手段５ａと、この旋回手段６ｂを塗布
装置２ｂ側に水平移動（スライド）させて塗布装置２ｂ
の塗布基準位置とするステージ移動手段５ｂと、処理前
基板搬送経路６上の処理前の基板７を基板保持ステージ
３ａ，３ｂの各基板保持面上にそれぞれ交互に移送する
処理前基板移載手段８ａと、基板保持ステージ３ａ，３
ｂの各基板保持面上の処理済みの基板７をそれぞれ交互
に処理済み基板搬送経路９上に移送する基板移載手段８
ｂとを有し、処理前基板搬送経路６を水平姿勢で搬送さ
れてきた処理前の基板７を垂直姿勢にした状態で塗布装
置２ａ，２ｂの塗布位置までそれぞれ交互に移送すると
共に、この塗布装置２ａ，２ｂで塗布処理された処理済
みの基板７を塗布装置２ａ，２ｂの塗布基準位置からそ
れぞれ交互に処理済み基板搬送経路９に移送するように
なっている。

【００４６】この塗布装置２ａ，２ｂは互いに対向して
配設され、その間に塗布装置２ａ，２ｂに対する基板セ
ッティング用の各旋回手段４ａ，４ｂが並設されてお
り、塗布装置２ａに対する旋回手段４ａの水平な基板保
持ステージ３ａ上への基板７のセッティング位置１０ａ
と、塗布装置２ｂに対する旋回手段４ｂの水平な基板保
持ステージ３ｂ上への基板７のセッティング位置１０ｂ
とは位置的に同一で互いに共用されている。また、これ
らの塗布装置２ａ，２ｂの対向方向とは直交する一方向
に延びている終端の処理前基板搬送経路６の取込位置６
ａが、セッティング位置１０ａ，１０ｂから処理前基板
移載手段８ａを介して位置しており、また、塗布装置２
ａ，２ｂの対向方向とは直交する他方向に延びている始
端の処理済み基板搬送経路９の受渡位置９ａが、セッテ
ィング位置１０ａ，１０ｂから処理済み基板移載手段８
ｂを介して位置している。

【００４７】また、これらの塗布装置２ａ，２ｂはそれ
ぞれ、塗布液を供給可能なノズル手段１１を載置した各
ノズルユニット１２と、基板保持ステージ３ａ，３ｂ上
にそれぞれセッティングされた垂直姿勢の各基板７とを
それらの被塗布面にそれぞれ沿って相対移動させつつ、
ノズル手段１１内部の大気開放された塗布液槽（図示せ
ず）から流路の毛管現象で汲み上げられた塗布液を各ノ
ズル手段１１からそれぞれ供給して各基板７の被塗布面
にそれぞれ塗布するようになっている。なお、図１では
ノズルユニット１２は塗布終了位置を実線で示してお
り、それよりも上方に塗布開始位置を、下方に退避位置
を仮想線でそれぞれ示している。

【００４８】さらに、これらの基板保持ステージ３ａ，
３ｂはそれぞれ、基板７のサイズ毎の外周縁部（非有効
部分）に対応した適所に、真空吸引可能な吸着部材とし
ての複数のバキュームパッド（図示せず）がそれぞれ細
長い凹部（図示せず）内にそれぞれ配設され、このバキ
ュームパッド内にその内部を減圧可能な減圧用チューブ
（図示せず）の先端部が開口しており、基板７へのバキ
ュームパッドによる真空吸着で基板７を保持するように
なっている。また、吸着部材としてのバキュームパッド
が基板７の中央部を保持しないのは、基板７の中央部は
重要な回路などが配置される部分であり、バキュームパ
ッドによる真空吸引と解除によって温度が下がったり上
がったりすることで塗布むらとなるのを防止するためで
ある。したがって、バキュームパッドの形状も基板７の
外周縁部だけを真空吸引するべく、それらの細長い凹部
と同様の細長いバキュームパッドの形状となっている。

【００４９】さらに、旋回手段４ａ，４ｂの構成は回動
方向が異なるだけで同一であるので、旋回手段４ａの構
成について説明すると、図３に示すように、旋回手段４
ａは、基板保持ステージ３ａと、この基板保持ステージ
３ａが固定されている板状のバックアッププレートであ
るステージ取付部材１４ａと、このステージ取付部材１
４ａが固定されている２枚のアーム部材１５ａと、これ
らのアーム部材１５ａの間に配設され、アーム部材１５
ａの一方端部に設けられた軸支部１６ａの旋回軸１７ａ
および軸受部１８ａとを有する旋回部材が設けられてお
り、この軸支部１６ａを回動中心に基板保持ステージ３
ａおよびステージ取付部材１４ａと共に、アーム部材１
５ａをベース部材１９ａ上に載置した状態で、基板保持
ステージ３ａの基板保持面が所定角度姿勢（本実施形態
では水平姿勢）と垂直または傾斜姿勢（本実施形態では
垂直姿勢）の何れかになるように回動自在に構成されて
いる。このベース部材１９ａには軸受部１８ａが載置さ
れて固定されている。

【００５０】また、旋回手段４ａには旋回駆動手段２０
ａが設けられており、この旋回駆動手段２０ａは、旋回
軸１７ａの一方端が出力部分に連結されたウォーム減速
機２１ａと、このウォーム減速機２１ａのウォーム入力
軸２２ａが連結手段としてのカップリング２３ａを介し
て連結されたサーボモータ２４ａとを有し、サーボモー
タ２４ａの回転駆動がウオーム減速機２１ａを介した減
速度で、基板保持ステージ３ａの基板保持面がステージ
取付部材１４ａおよびアーム部材１５ａと共に旋回軸１
７ａの軸芯を回動中心として塗布装置２ａ側に水平姿勢
から垂直姿勢に、または、塗布装置２ａ側の垂直姿勢か
ら水平姿勢になるように回動するようになっている。メ
ンテナンス時などに、このカップリング２３ａを外して
サーボモータ２４ａとウォーム入力軸２２ａとの連結を
解除すると、手動ハンドル２５を用いてウォーム入力軸
２２ａを手動で回転させることで旋回手段４ａを回動駆
動させて基板保持ステージ３ａを所望の角度姿勢にする
ことができるようになっている。

【００５１】また、この旋回駆動手段２０ａの他に、旋
回手段４ａをバランスさせるバランス手段２６ａが設け
られている。このバランス手段２６ａは、実際にはバラ
ンスの関係上両側に配設されているが、図３では説明を
簡略化させるために、一方側のバランス手段２６ａしか
図示していない。図３に示すように、バランス手段２６
ａは、２枚のアーム部材１５ａの両外側に設けられ、旋
回軸１７ａにそれぞれ外嵌された各２個のプーリ２７
と、これらのプーリ２７にそれぞれ巻回された連結部材
としてのワイヤ２８がロール２９，２９さらにリニアガ
イド３０を介して可動軸３１が連結されたカウンタシリ
ンダ３２とを有した構成である。

【００５２】バランス手段２６ａを制御する制御手段５
０を図６に示す。図６に示すように、この制御手段５０
は、旋回手段４ａの旋回軸１９ａの回転角度を検出する
角度検出手段としてのエンコーダ５１と、このエンコー
ダ５１に接続され、エンコーダ５１からの角度信号に基
づいてエアー源５３のエアー圧力を制御してカウンタシ
リンダ３２にエアー供給する電空レギュレータ５２とを
有している。そして、かかる制御は、エンコーダ５１が
検出する基板保持ステージ３ａの傾斜角度に応じて、そ
の姿勢の基板保持ステージ３ａ等の重量により旋回軸１
９ａに生じる回転モーメントとバランスするだけの逆方
向の回転モーメントを、カウンタシリンダ３２が旋回軸
１９ａに与えるように、電空レギュレータ５２により行
なわれる。

【００５３】かかる構成によっても、基板保持ステージ
３ａを旋回させるための駆動力が小さくてすみ、旋回駆
動手段２０ａを小型化できる等の効果が得られる。

【００５４】さらに、例えば旋回手段４ａにおける基板
保持ステージ３ａの基板保持面が基板搬送姿勢の水平状
態から起き上がる場合や、その基板保持面が基板搬送姿
勢の水平状態になる場合に、そのときの風圧によって下
部のパーティクル巻き上げが発生し得るが、そのような
風圧を発生させない程度に、水平状態からの起き上がり
や、水平状態に降りて行くときの回動速度を低速度に回
動制御（ソフトライニングおよびソフトスターティン
グ）するようにサーボモータ２４ａなどを制御するよう
になっている。

【００５５】さらに、スライド機構であるステージ移動
手段５ａ，５ｂはそれぞれ、ベース部材１９ａの裏
（下）側両端縁部にそれぞれ、中央部に溝が形成された
リニアガイド部材３５と、このリニアガイド部材３５の
溝内にスライド自在に嵌合して案内するレール部材３６
と、図示していないがベース部材１９ａに連結されベー
ス部材１９ａをレール部材３６に沿って移動させるピニ
オンおよびラック（またはボールねじ機構）と接離モー
タなどよりなる駆動手段とを有しており、この駆動手段
の駆動によってベース部材１９ａは旋回手段４ａと共に
リニアガイド部材３５およびレール部材３６で案内され
て塗布装置２ａ側に接近または、塗布装置２ａ側から離
間させるようにスライド自在に構成されている。

【００５６】さらに、この塗布装置２ａには、図４に示
すように、その裏面側を覆っている架台ベース板３７が
設けられ、この架台ベース板３７の略中央部分に開口部
３８が設けられており、ステージ移動手段５ａによっ
て、基板保持ステージ３ａの基板保持面が垂直姿勢の状
態で、この基板保持ステージ３ａを旋回手段４ａと共に
塗布装置２ａ側に水平移動させて、その開口部３８の裏
側から基板保持ステージ３ａの基板保持面を覗かせると
共に、その開口部３８の周囲縁の基準面に対してステー
ジ取付部材１４ａの表側の外周縁部をＥ部のように当接
させることで、基板保持ステージ３ａの基板保持面上の
基板７の被塗布面が塗布基準面に設定されるようになっ
ている。このとき、ステージ取付部材１４ａは、高精度
かつ高剛性の架台ベース板３７に倣うので、基板保持ス
テージ３ａの位置や平面性を良好に定め保つことができ
る。

【００５７】また、この少なくとも上下のＥ部にはそれ
ぞれ、ステージ取付部材１４ａの裏側からクランプして
押圧することで、ステージ取付部材１４ａの表側の外周
縁部と開口部３８の周囲縁部とを当接させるステージ固
定手段３９がそれぞれ配設されている。このステージ固
定手段３９は、図５に示すように、一定圧力で押圧可能
でその押圧力を可変可能なクランプ部材４０と、このク
ランプ部材４０をクランプ位置とクランプ解除位置とに
移動させるトグルクランプ機構４１と、このトグルクラ
ンプ機構４１を駆動させる駆動手段としてのエアーシリ
ンダ４２とを有し、このエアーシリンダ４２のロッド４
３を伸縮させることで、実線で示すクランプ位置と、仮
想線で示すクランプ解除位置とにクランプ部材４０を移
動させるようになっている。このエアーシリンダ４２の
代りにボールねじおよびトルクモータによる駆動機構
（図示せず）でもよい。また、このクランプ部材４０
は、ステージ取付部材１４ａをその裏側から押圧するゴ
ムなどの弾性部材４４と、図示していないが、この弾性
部材４４を押圧側に付勢する圧縮ばねなどの付勢手段
と、これらの弾性部材４４および付勢手段（図示せず）
の位置を出退させて押圧力を調整自在なねじ部材４５と
を有しており、塗布装置２ａの開口部３８の裏側から基
板保持ステージ３ａの基板保持面上に載置された基板７
を覗かせた状態（表側から基板７の被塗布面に塗布可能
な状態）で、その開口部３８の周囲縁の基準面に対して
ステージ取付部材１４ａの外周縁側を止めて、基板保持
ステージ３ａを旋回軸１７ａおよびスライド機構からフ
ローティングさせて、基板保持ステージ３ａと共に基板
７をノズル手段１１と平行な塗布基準位置に位置させ得
るようになり、塗布面の再現性が保証され得るようにな
っている。また、この場合、塗布時に振動が発生しない
ようにある程度強固にクランプするようになっている。
さらに、この当接面部分のパーティクル対策として当接
面部分の近傍位置に排気装置（図示せず）を設けるよう
にすることもできる。

【００５８】このように、この開口部３８をステージ取
付部材１４ａで覆い、基板保持ステージ３ａの基板保持
面側の表側の塗布処理空間を覆って内部を密閉可能で内
部が見える透明な材質の外郭部材４６が配設されてい
る。この外郭部材４６には、その内部に、均一気流を発
生させて内部を陽圧化させる乾燥促進機構４７ａ，４７
ｂがそれぞれ配設されている。この乾燥促進機構４７ａ
は装置上方に配設されており、上から下の方向Ｄに均一
気流（垂直層流）を発生させるファンとフィルタ（図示
せず）などよりなるクリーン度維持用のダウンフロー発
生装置（エアー吸引式垂直層流ＨＥＰＡ）である。ま
た、乾燥促進機構４７ｂは、開口部３８にセッティング
された基板保持ステージ３ａの基板保持面に対向して配
設されており、その基板保持面上の基板７の被塗布面に
対して垂直な方向の均一気流（水平層流）を発生させる
ファンとフィルタ（図示せず）などよりなる乾燥用の横
方向気流発生装置（エアー吸引式水平層流ＨＥＰＡ）で
ある。また、図示しない切換制御手段によって、塗布時
には乾燥促進機構４７ａに切り換えて、パーティクル排
除およびより均一な膜厚にするべくダウンフローの均一
気流を発生させ、乾燥時に、乾燥促進機構４７ａから乾
燥促進機構４７ｂに切り換えて、塗布した塗布液の乾燥
をより早く均一化するために基板７の塗布面に対して垂
直な方向の気流を発生させるようになっている。

【００５９】この乾燥促進機構４７ａによる垂直層流は
塗布装置２ａ，２ｂの下部から抜け出るようになってお
り、また、乾燥促進機構４７ｂによる水平層流は、塗布
装置２ａ，２ｂの下部に配設されたエアー排気装置によ
って排気されるようになっている。

【００６０】また、これらの乾燥促進機構４７ａ（ダウ
ンフロー発生装置）および乾燥促進機構４７ｂ（横方向
気流発生装置）はそれぞれ、カバーである外郭部材４６
の窓部分にヒンジなどで開閉自在に取り付けられてお
り、ノズル手段１１などのメンテナンススペースを確保
している。

【００６１】さらに、塗布装置２ａ，２ｂのように複数
配置した場合、基板搬送動作などによる風圧や、設置ル
ームの扉開閉による気圧変化などの悪影響を排除するた
め、塗布エリアが外郭部材４６で覆われた塗布エリアの
開口部３８を基板保持ステージ３ａまたは基板保持ステ
ージ３ｂで塞いで塗布エリアの内部を密閉する構造とな
っている。

【００６２】さらに、これらの乾燥促進機構４７ａ，４
７ｂにはそれぞれ温度制御機能が設けられており、所定
の設定温度になるように内部ヒータなどで層流の温度を
制御するようになっている。

【００６３】さらに、対向した塗布装置２ａ，２ｂの間
には位置的に同一のセッティング位置１０ａ，１０ｂが
あり、これらのセッティング位置１０ａ，１０ｂにそれ
ぞれ対応して、共用のリフトピンユニット３３が配設さ
れている。このリフトピンユニット３３は、基板保持ス
テージ３ａの基板保持面に対して出退自在な複数のリフ
トピン３４が設けられ、例えば、基板保持ステージ３ａ
を基板面よりも同等か大きく構成し、基板保持ステージ
３ａおよびステージ取付部材１４ａにリフトピン３４用
の穴を明けておくかまたは、基板保持ステージ３ａを基
板面よりも小さく構成し、基板保持ステージ３ａの外側
であって基板７の外周部を下方から支持可能なリフトピ
ン用の穴をステージ取付部材１４ａだけに明けておくよ
うにすれば、旋回手段４ａが塗布装置２ａ側とは反対側
に回動してその基板保持面が水平姿勢の状態でそのリフ
トピンユニット３３上に重なるように配置されたとき
に、複数のリフトピン３４の上下で基板保持ステージ３
ａ上に基板７を載置できると共に、基板保持ステージ３
ａ上から基板７を剥離させることができる。

【００６４】さらに、この基板移載手段８ａ，８ｂはそ
れぞれ、基板保持ステージ３ａ，３ｂの各基板保持面に
それぞれ対して出退自在な複数のリフトピン３４が設け
られたリフトピンユニット３３と、これらの複数のリフ
トピン３４上と処理前基板搬送経路６上または処理済み
基板搬送経路９上との間で基板７を移送して載置するよ
うになっている。

【００６５】つまり、処理前基板移載手段８ａは、旋回
手段４ａによる回動動作で基板保持ステージ３ａの基板
保持面が基板搬送姿勢の水平状態で、処理前基板搬送経
路６上の基板７を基板保持ステージ３ａの基板保持面か
ら突出しているリフトピン３４上に載置するように移送
する構成となっている。また、処理済み基板移載手段８
ｂは、旋回手段４ｂによる回動動作で基板保持ステージ
３ｂの基板保持面が基板搬送姿勢の水平状態で、基板保
持ステージ３ｂの基板保持面から突出しているリフトピ
ン３４上の基板７を処理済み基板搬送経路９上に載置す
るように移送する構成となっている。

【００６６】上記構成により、以下、その作用を説明す
る。まず、処理前基板搬送経路６の取込位置６ａ上には
塗布処理前の基板７が水平搬送されて位置していると共
に、旋回手段４ａはその基板保持ステージ３ａの基板保
持面がセッティング位置１０ａで水平姿勢の状態で止ま
っている。このとき、基板保持ステージ３ａの下方には
リフトピンユニット３３が重なるように位置しており、
その基板保持面上に複数のリフトピン３４が突出した状
態で基板７を受ける状態になっている。

【００６７】次に、基板移載手段８ａは、処理前基板搬
送経路６の取込位置６ａ上の塗布処理前の基板７を例え
ばアーム（図示せず）上に載置するなどして取り込ん
で、セッティング位置１０ａにおいて、旋回手段４ａに
おける水平姿勢の基板保持ステージ３ａの基板保持面上
に突出した複数のリフトピン３４上に載置するように移
送する。さらに、このリフトピンユニット３３は基板７
が載置された複数のリフトピン３４をゆっくりと下降さ
せて基板保持ステージ３ａの基板保持面上に載置すると
共に、この基板保持面において、基板７のサイズに応じ
た基板外周縁部に対応した位置に沿って配設された複数
のバキュームパッドによる真空吸引処理を行って、基板
７を水平姿勢のままで保持ステージ３ａの所定位置にセ
ッティングして保持状態とする。

【００６８】その後、旋回手段４ａは、基板保持ステー
ジ３ａ上に基板７を保持した状態で、基板７と共に基板
保持ステージ３ａおよびステージ取付部材１４ａを、２
枚のアーム部材１５ａを介して、軸支部１６ａを回動中
心として基板保持面が水平姿勢から垂直姿勢になるよう
に、サーボモータ２４ａやカウンタシリンダ３２などの
駆動手段によって回転駆動させる。特に、水平姿勢から
起き上がるときにゆっくりと回動し始めることで、その
下部のパーティクルの巻き上げを防止する。

【００６９】このように、基板７を基板保持ステージ３
ａ上に保持した垂直姿勢の状態で、ステージ移動手段５
ａは、その駆動手段（図示せず）の駆動によって、ベー
ス部材１９ａ上の旋回手段４ａと共に基板７を、リニア
ガイド部材３５およびレール部材３６で案内されて塗布
装置２ａ側の開口部３８に接近させ、基板７および基板
保持ステージ３ａがその開口部３８の裏側から覗くよう
になるまで水平移動させる。さらに、その開口部３８の
周囲縁部の基準面に対してステージ取付部材１４ａの表
側の外周縁部を当接させることで、基板保持ステージ３
ａの基板保持面上の基板７の被塗布面が塗布基準面に設
定される。

【００７０】さらに、ステージ固定手段３９によって、
ステージ取付部材１４ａの裏側からクランプして押圧す
ることで、ステージ取付部材１４ａの表側と開口部３８
の周囲縁部とを当接させて、基板保持ステージ３ａと共
に基板７を塗布装置２ａの開口部３８に固定し、基板７
が塗布基準位置で動かないようにする。

【００７１】さらに、このように、基板７が基板保持ス
テージ３ａと共に開口部３８の裏側から固定されるまで
の一連の処理の間に、塗布装置２ａは、その表側にある
ノズル手段１１を載置したノズルユニット１２を待機位
置（下方位置）から塗布開始位置（上方位置）まで移動
させると共に、その塗布開始位置において、ノズル手段
１１を基板７の被塗布面側に接近させ、基板７の幅方向
に細長く開口したノズル手段１１のノズル口を基板７の
被塗布面にキスタッチさせる。

【００７２】その後、ノズル手段１１のノズル口と各基
板７とをその被塗布面に沿って相対移動させつつ、毛管
現象でノズル手段１１内部の塗布液槽（図示せず）から
汲み上げられた塗布液を各ノズル手段１１のノズル口か
らそれぞれ供給して各基板７の被塗布面にそれぞれ塗布
する。

【００７３】このとき、塗布装置２ａの内部は密閉状態
であり、乾燥促進機構４７ａによってダウンフローの均
一気流を発生させて内部を陽圧化させてパーティクルの
排除と、より均一な膜厚になるようにしている。塗布終
了後、例えば乾燥促進機構４７ａから乾燥促進機構４７
ｂに切り換えて、基板７の塗布面に対して垂直な方向の
気流を発生させてその乾燥を均一にすると共に促進させ
る。

【００７４】この乾燥処理の終了後には、前記動作とは
逆に、ステージ固定手段３９によるステージ取付部材１
４ａと開口部３８との固定を解除して、基板７を基板保
持ステージ３ａ上に保持した垂直姿勢の状態で、ステー
ジ移動手段５ａは、その駆動手段の駆動によって、その
開口部３８の周囲縁部の基準面に対してステージ取付部
材１４ａの表側の外周縁部が離間するように所定位置ま
で退進させる。

【００７５】その後、旋回手段４ａは、基板保持ステー
ジ３ａ上に基板７を保持した状態で、基板７と共に基板
保持ステージ３ａおよびステージ取付部材１４ａを、２
枚のアーム部材１５ａを介して、軸支部１６ａを回動中
心として基板保持面が垂直姿勢から水平姿勢になるよう
に、サーボモータ２４ａやカウンタシリンダ３２などの
駆動手段によって回転駆動させる。特に、水平姿勢にな
る前にブレーキを徐々にきかせてゆっくりと水平姿勢で
止めることで、その下部のパーティクルの巻き上げを防
止する。

【００７６】さらに、水平姿勢の保持ステージ３ａの基
板保持面において、複数のバキュームパッドによる吸引
を解除すると共に、リフトピンユニット３３は基板７が
載置された基板保持ステージ３ａの基板保持面に対して
複数のリフトピン３４をゆっくりと上昇させて基板保持
ステージ３ａの基板保持面から、真空吸引解除後に張り
付いた基板７を剥離させつつ上昇させる。その後、セッ
ティング位置１０ａにおいて、基板移載手段８ｂは、基
板保持ステージ３ａの基板保持面上に突出した複数のリ
フトピン３４上の塗布処理済み基板７を取り込んで、基
板搬送経路９の受渡位置９ａ上に載置するように移送す
る。この塗布処理済み基板７は基板搬送経路９によって
次の工程に移送されることになる。

【００７７】このようにして、水平姿勢の基板保持ステ
ージ３ａ上への基板７のセッティング処理、さらに、旋
回およびスライドによる塗布基準位置への基板７のセッ
ティング処理、塗布装置２ａによる塗布および乾燥処
理、塗布処理済みの基板７の取出および搬送処理が終了
する。

【００７８】このとき、塗布装置２ａに対向して配設さ
れている塗布装置２ｂによる、上記と同様の一連の各処
理は、セッティング位置１０ａ，１０ｂが同じ位置であ
るために、基板保持ステージ３ａ，３ｂが同時に水平姿
勢になることができず、基板旋回手段４ａが保持ステー
ジ３ａを回動させて水平姿勢から垂直姿勢となった段階
で、基板旋回手段４ｂが保持ステージ３ｂを回動させて
垂直姿勢から水平姿勢とすることができ、これらの保持
ステージ３ａ，３ｂはそれぞれ交互に水平姿勢として基
板７をセッティングすることができて、塗布装置２ａ，
２ｂの塗布および乾燥処理は略並行して、または交互に
位相が１８０度ずれた状態で駆動される。

【００７９】以上のように、旋回手段４ａ，４ｂの各回
動動作で基板保持ステージ３ａ，３ｂをそれぞれ所定の
搬送角度姿勢の水平姿勢から塗布姿勢の垂直姿勢にし、
この状態が基板処理装置としての塗布装置２ａ，２ｂの
垂直方向における基板処理位置である塗布基準位置にな
っている。つまり、基板７の水平な搬送姿勢と垂直な塗
布姿勢の姿勢変換を旋回手段４ａ，４ｂによるステージ
旋回動作で行うため、基板７の基板保持ステージ３ａ，
３ｂ上への各セッティングを水平姿勢のままで行うこと
ができ、従来のロボットハンドと垂直なステージ間での
基板７の受渡しのような吸引タイミングおよび吸引解除
タイミングの乱れなどによる基板７の落下の危険性もな
く、これによって、動作速度（ハンドリング速度）を遅
くする必要もないばかりかむしろ早くなり、より安定な
基板移載を行うことができる。

【００８０】また、このように、基板移載手段８ａ，８
ｂの基板搬送機構を水平姿勢のみとすることができるた
め、多関節ロボット８１の構成に比べてその搬送構造を
大幅に簡易化することができると共に、その搬送部への
負担を大幅に軽減することができて、搬送の安定性を向
上することができる。また、従来の基板搬送用の多関節
ロボット８１はその動作やその制御系が複雑であり、基
板移載手段８ａ，８ｂによる移載制御および旋回手段４
ａ，４ｂの回動制御は、多関節ロボット８１の搬送制御
に比べてより単純であってトラブルもより少ない。

【００８１】さらに、旋回手段４ａ，４ｂの各回動動作
で基板保持ステージ３ａ，３ｂをそれぞれ水平姿勢から
垂直姿勢にして、基板処理装置の裏側から基板保持ステ
ージ３ａ，３ｂを基板処理位置にそれぞれセットし、そ
の表側で基板処理をそれぞれ行うため、基板処理エリア
と搬送エリアとを効率よく分離することが可能となっ
て、搬送エリア側の、動作による風圧に起因した浮遊パ
ーティクルが基板処理エリア側の基板７の表面上に付着
することを抑制することができ、また、基板処理エリア
である塗布エリア側に基板搬送機構がなく、塗布処理
が、基板保持ステージ３ａ，３ｂを挟んで搬送エリアの
反対側で行われるため、ノズル手段１１などのメンテナ
ンス時などに人が搬送エリア側に入る必要がなくて塗布
エリア側に入りやすくかつその塗布状態が見やすくメン
テナンス性のよい基板処理システムを得ることができ
る。このように、塗布エリアと搬送エリアとが分離され
るので、ステージ塗布面側には基板搬送関係の機構がな
く、基板保持ステージ３ａ，３ｂの各基板保持面側の基
板処理空間をそれぞれ覆って密閉する各外郭部材４６
や、風乾促進ユニットおよびその駆動機構を容易にそれ
ぞれ配置することができて、風圧や気圧変化、パーティ
クルなどの周囲からの悪影響を防止することができて、
より安定した基板処理としての塗布処理を行うことがで
きる。

【００８２】つまり、基板保持ステージ３ａ，３ｂの各
基板保持面側の処理空間をそれぞれ各外郭部材４６でそ
れぞれ覆って密閉すれば、従来の多関節ロボット８１に
よって基板搬送すると風圧が生じて塗布処理に悪影響が
生じたが、このような風圧による塗布処理への塗布ムラ
などの悪影響を防止すると共に、例えば設置ルーム（ク
リーンルーム）の扉の開閉などによる気圧変動で塗布処
理に対して塗布膜厚変動など悪影響が生じたが、このよ
うな気圧変動による塗布処理への影響を防止することが
できる。したがって、例えば一方の塗布装置２ａで塗布
中に他方の塗布装置２ｂで基板７のセッティングを行っ
ても風圧の干渉がなく塗布性能に悪影響がない。また、
例えば設置ルーム（クリーンルーム）の扉の開閉による
塗布性能への悪影響も排除されて塗布不良を発生させな
い。

【００８３】また、このような外郭部材４６で塗布エリ
アを密閉することで、排気効率（特に下部からの）を向
上でき、溶剤雰囲気漏れを防止することができる。ま
た、密閉した外郭部材４６内に均一気流を発生させる乾
燥促進機構４７ａ，４７ｂで、外郭部材４６内の基板処
理部である塗布エリア内に層流を流すと共にその内部を
陽圧化すれば、浮遊パーティクルの発生を防止すると共
に、基板処理部へのパーティクルの侵入を防止すること
ができて、塗布エリア内の清浄度を保証することができ
る。また、この乾燥促進機構４７ａ，４７ｂで基板処理
および乾燥処理をより安定的に行うことができる。

【００８４】さらに、旋回手段４ａ，４ｂの各回動動作
で基板保持ステージ３ａ，３ｂをそれぞれ所定の搬送角
度姿勢である水平姿勢から垂直姿勢にし、この垂直姿勢
に変換後に塗布装置２ａ，２ｂの各基板処理位置である
塗布基準面までそれぞれ、ステージ移動手段５ａ，５ｂ
のサーボ系によるねじ送り機構などの駆動源がそれぞれ
基板保持ステージ３ａ，３ｂをそれぞれパーティクル制
御（ソフトスタートおよびソフトストップ）しつつ水平
移動（スライド）させるため、浮遊パーティクルを発生
させるようなことなく、塗布装置２ａ，２ｂの各基板処
理位置にそれぞれ基板保持ステージ３ａ，３ｂをより正
確にそれぞれ位置させることができる。

【００８５】さらに、垂直姿勢の基板７および基板保持
ステージ３ａ，３ｂを基板処理装置（塗布装置２ａ，２
ｂ）の基板処理位置（塗布基準位置）である開口部３８
に位置決めした状態でステージ固定手段３９でこれをガ
タなく固定するため、より安定した基板処理（塗布処
理）を行うことができる。

【００８６】さらに、リフトピンユニット３３の複数の
リフトピン３４で基板処理ステージ３ａ，３ｂにそれぞ
れ吸引解除後に貼り付いた基板７を容易に剥がすことが
できる。特に、本実施形態のように対向して配設された
塗布装置２ａ，２ｂの場合には、共用の一つのリフトピ
ンユニット３３で済み、部品点数が少なくなって故障の
確率が低下すると共に低コストとなる。また、塗布装置
２ａ，２ｂが所定角度（例えば９０度）を有した状態で
互いに隣接して並んで配置された場合には、塗布装置２
ａ，２ｂの配置角度に応じて、共用のリフトピンユニッ
ト３３を所定角度回動させる回動手段（図示せず）が必
要になる。

【００８７】さらに、上記旋回手段４ａ，４ｂを用いた
本発明の基板７の基板保持ステージ３ａ，３ｂ上へのセ
ッティングや、基板保持ステージ３ａ，３ｂ上の基板７
の基板処理位置へのスライド移動が、縦型の塗布装置２
ａ，２ｂに効率よく適応させることができる。これらの
塗布装置２ａ，２ｂには、その下部にノズル洗浄および
待機位置があり、ステージ旋回動作（基板セット動作）
とノズル手段１１の塗布開始位置（上方位置）への移動
タイミングをオーバーラップ可能であり処理タクトを短
縮することができる。また、本実施形態とは逆に、例え
ばノズル待機位置が上方の場合には、ステージ旋回動作
（基板セット動作）とノズル手段１１の塗布後の待機位
置（上方位置）への移動タイミングをオーバーラップ可
能であり、やはりこの場合にも処理タクトを短縮するこ
とができる。

【００８８】なお、本実施形態では、ステージ取付部材
１４ａの裏側からクランプして押圧することで、ステー
ジ取付部材１４ａの表側と開口部３８の周囲縁部とを当
接させて固定するトグルクランプ機構を有したステージ
固定手段３９を設けたが、ステージ固定手段としては、
これに限らず、開口部３８の周囲縁部に対向したステー
ジ取付部材１４ａ内部に複数個それぞれ、図７に示すよ
うなゴムなどの弾性体よりなるバキュームパッド６１が
それぞれ設けられており、バキュームパッド６１内にそ
の内部を減圧可能な減圧チューブ６２の一方の先端部が
開口しているような構成であってもよい。これによっ
て、塗布装置２ａの開口部３８の裏側から基板保持ステ
ージ３ａの基板保持面上に載置された基板７を覗かせ、
基板保持ステージ３ａを旋回軸１７ａおよびスライド機
構からバキュームパッド６１を介してフローティングさ
せた状態で、その開口部３８の周囲縁の基準面に対して
ステージ取付部材１４ａの外周縁側を吸引保持して、基
板保持ステージ３ａと共に基板７を塗布基準位置に位置
させ得るように構成されている。この場合、減圧チュー
ブ６２の他方の先端部は減圧ポンプ（図示せず）などの
減圧手段に連結されている。

【００８９】また、本実施形態では、サーボモータ２４
ａによる旋回駆動手段によって旋回手段４ａの回動駆動
を行ったが、これに限らず、サーボモータ２４ａのサー
ボ系に代えて比例弁などを利用した空圧サーボシリンダ
や油圧サーボシリンダなどのサーボ系を用いてもよい。
また、本実施形態では、エンコーダ５１からの旋回軸１
９ａの角度信号に基づいてエアー源５３のエアー圧力を
電空レギュレータ５２で制御してカウンタシリンダ３２
にエアー供給する図６に示すような電空レギュレータ５
２による回動角度に応じた圧力制御でバランス制御を行
ったが、この他に、図１３に示すようなメカバルブによ
る回動角度に応じた圧力制御とすることもできる。

【００９０】つまり、図１３に示すように、旋回手段４
ａの基板保持ステージ３ａのバランスを制御する制御手
段１１０は、旋回手段４ａの旋回軸１９ａの回転角度を
検出する角度検出手段としてカム部材１１１およびスイ
ッチ１１２，１１３が設けられている。このカム部材１
１１は旋回軸１９ａに固定されており、旋回軸１９ａの
回動に伴って回動するようになっている。このカム部材
１１１の回動でスイッチ１１２またはスイッチ１１３が
オン状態となるように、カム部材１１１の形状やスイッ
チ１１２，１１３の配設位置を設定することができる。
例えば旋回軸１９ａの回動角度が０度〜２０度でスイッ
チ１１２がオンし、その回動角度が２１度〜９０度でス
イッチ１１３がオンするように設定することもできる。

【００９１】これらのスイッチ１１２，１１３はメカバ
ルブとしてのエアーオペレートバルブ１１４に接続さ
れ、このエアーオペレートバルブ１１４は、エアー源１
１５に連結されていると共に、大小の異なるエアー圧力
に調整可能なレギュレータ１１６，１１７にそれぞれ配
管で連結されており、スイッチ１１２，１１３からのオ
ン信号に応じてレギュレータ１１６，１１７からの各エ
アー圧力を選択的に切り換えるようになっている。この
エアーオペレートバルブ１１４はカウンタシリンダ３２
に配管で連結されており、このエアー圧力の切換えで、
基板保持ステージ３ａの傾斜角度に応じて、カウンタシ
リンダ３２の駆動により旋回軸１９ａへ与える回転モー
メントが制御され、基板保持ステージ３ａ等の重量とバ
ランスするように制御される。これによって基板保持ス
テージ３ａの姿勢に応じた重量バランス制御がなされ
る。ここで、１１９，１２０は配管内のエアー圧力を計
測する圧力計である。

【００９２】さらに、本実施形態では、処理前基板搬送
経路６および処理済み基板搬送経路９の基板搬送姿勢は
水平姿勢としたが、これに限らず、この水平姿勢から多
少傾いた傾斜搬送姿勢であってもよい。この場合、傾斜
搬送姿勢で搬送されてきた基板７は、処理前基板移載手
段８ａや処理済み基板移載手段８ｂで、一旦水平姿勢に
するかまたは直に、水平姿勢の基板保持ステージ３ａ，
３ｂ上に移送するようにしてもよい。また、本実施形態
では、塗布装置２ａ，２ｂの塗布基準位置に対してそれ
ぞれ、基板保持ステージ３ａ，３ｂがそれぞれ垂直姿勢
でセッティングされるように構成したが、垂直姿勢から
多少傾いた傾斜姿勢で基板保持が為されて塗布処理が行
われるように構成してもよい。この場合、旋回手段４
ａ，４ｂもそれぞれ、その傾斜姿勢まで基板保持ステー
ジ３ａ，３ｂをそれぞれ旋回させ、その状態のままで塗
布装置２ａ，２ｂ側にそれぞれスライドさせて塗布基準
位置とする。

【００９３】さらに、本実施形態では、ノズルユニット
１２の上下動範囲の外側に塗布エリアを密閉可能な外郭
部材４６が設けられ、その外郭部材４６の上と横の各窓
部分に乾燥促進機構４７ａ，４７ｂをヒンジを用いて開
閉自在に取り付けたが、乾燥促進機構４７ａ，４７ｂを
基板７の被塗布面に対して接近または離間自在に構成
し、これらの乾燥促進機構４７ａ，４７ｂが塗布時にノ
ズルユニット１２を回避するように駆動するような構成
であってもよい。例えば、塗布後にノズルユニット１２
が下側の退避位置にあるときに乾燥促進機構４７ｂが基
板７の被塗布面に接近してその被塗布面を覆いつつ、よ
り狭い空間内で層流を流して乾燥を促進させることがで
きる。また、例えば、ノズルユニット１２の上部に基板
７の幅の、乾燥促進機構４７ｂに連通したノズル口を取
り付けて、ノズルユニット１２の上から下への移動と共
にその乾燥用のノズル口も移動して、ノズルユニット１
２による塗布直後にそのノズル口からの気流で乾燥させ
るようにすることもできる。

【００９４】なお、本実施形態では、連結部材としての
ワイヤ２８を介してバランス手段２６ａを設けること
で、バランス手段２６ａによって基板保持ステージ３ａ
をバランスさせた状態で、より小さな旋回駆動出力の旋
回駆動手段２０ａ（例えばサーボモータ２４ａ）とする
ことができてその制御も容易なものとすることができた
が、連結部材はワイヤ２８の他に、ベルトやギヤであっ
てもよく、さらには油圧機構などの旋回力伝達手段であ
ってもよい。連結部材がワイヤ２８やベルトの場合には
バランス手段２６ａを空きスペースなどの配設容易な場
所に位置させて効率的なレイアウトとすることができ
る。このように、本実施形態において、バランス手段２
６ａを基板保持ステージ３ａの旋回軸１７ａよりもその
基板保持ステージ３ａの旋回空間側に設ければ、基板２
に処理を施すためのノズル手段等の配置の自由度が高く
なり、より好ましい。また、バランス手段２６ａの配置
によっては、単に基板保持ステージ３ａの旋回軸１７ａ
の反対側にバランス荷重を取り付けたものと比べて装置
の全高を低くすることができ、より好ましい。このよう
に、ノズル洗浄機などの塗布装置側の配置に制約を加え
ないようにバランス手段２６ａを配置することができ、
また、基板保持ステージ３ａの回動中心を低くすること
ができて、装置全高を抑えることができる。さらには、
本実施形態において、旋回駆動手段２０ａの配設位置を
ステージ旋回側としたが、ステージ旋回側に限らず、バ
ランサ移動機構側に設けるようにしてもよい。

【００９５】また、例えば、連結部材がギヤの場合に
は、そのギヤが旋回軸１７ａに固定され、そのギヤに歯
合するギヤが別の旋回軸（旋回軸１７ａと平行に配設）
に固定されるようになっていればよい。この旋回軸１７
ａと平行に配設された旋回軸には、基板保持ステージ３
ａの旋回力とバランスするような逆旋回力を発生させる
バランス手段２６ａとしてバランス荷重の一端が固定さ
れていればよい。この場合、バランス手段２６ａを基板
保持ステージ３ａの旋回軸１７ａよりもその基板保持ス
テージ３ａの旋回空間側に設けることができて、塗布装
置側のノズル手段やそれに付随する機構などの配置の自
由度が高く、好ましい。このように、バランサ回転方向
を逆にすることで、基板保持ステージ３ａの裏側（搬送
機構側）に配置することができ、ノズル洗浄待機部など
の配置が合理的に行えることになる。つまり、バランサ
機構をステージ塗布面より主搬送側に配置すれば、塗布
に関する機構、即ちノズル駆動部、ノズル待機洗浄部
（ノズル旋回機構付）、乾燥機構などの配置が容易に行
うことが可能となる。

【００９６】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１，２，
９，１０によれば、旋回手段の回動動作で基板保持ステ
ージを所定角度姿勢から傾斜または垂直姿勢にし、この
状態が基板処理装置の少なくとも垂直方向での基板処理
位置であるため、所定の搬送角度姿勢が略水平姿勢であ
れば、基板の基板保持ステージへのセッティングをその
略水平姿勢で行うことができ、従来のような基板受渡し
における吸引タイミングおよび吸引解除タイミングの乱
れなどによって基板が落下するなどの危険性もなく、こ
れによって、ハンドリング速度を遅くする必要もなくな
って、より安定な基板移載を行うことができる。また、
旋回手段の回動動作で基板保持ステージを所定角度姿勢
から傾斜または垂直姿勢にして、基板処理装置の裏側か
ら基板処理位置にセットし、その表側で基板処理を行う
ため、基板処理エリアと搬送エリアとをうまく分離する
ことができて、搬送エリア側の浮遊パーティクルの基板
処理エリア側の基板表面上への付着を抑制することがで
き、また、基板処理エリア側に基板搬送機構がないた
め、基板処理エリア側に人が入りやすくかつその基板処
理状態が見やすくメンテナンス性のよい基板処理システ
ムを得ることができる。このように、塗布エリアと搬送
エリアとが効率よく分離されているため、基板保持ステ
ージの基板保持面側の基板処理空間を覆って密閉する外
郭部材を容易に配置することができて、風圧や気圧変化
などの周囲からの悪影響を防止することができより安定
した基板処理とすることができる。

【００９７】また、本発明の請求項３によれば、旋回手
段の回動動作で基板保持ステージを所定の搬送角度姿勢
から傾斜または垂直姿勢にして垂直方向での基板処理位
置に合わせ、この状態で基板処理装置側にステージ移動
手段が基板保持ステージをスライドさせて水平方向での
基板処理位置に合わせるようにしているため、基板処理
装置の基板処理位置に基板保持ステージをより正確に無
理なく位置させることができる。

【００９８】さらに、本発明の請求項４によれば、傾斜
または垂直姿勢の基板および基板保持ステージを基板処
理装置の基板処理位置に位置決めした状態でステージ固
定手段でこれをガタなく固定するため、より安定した基
板処理を行うことができる。

【００９９】さらに、本発明の請求項５によれば、基板
保持ステージの基板保持面側の処理空間を外郭部材で覆
って密閉するため、従来の多関節ロボットによって基板
搬送すると風圧が生じて基板処理に悪影響が生じていた
が、このような風圧による基板処理への悪影響を防止す
ることができる。また、例えばクリーンルームの扉の開
閉による気圧変動で基板処理に対して悪影響が生じてい
たが、このような気圧変動による基板処理への悪影響が
防止することができる。

【０１００】さらに、本発明の請求項６によれば、密閉
した外郭部材内に均一気流を発生させる乾燥促進機構
で、外郭部材内の基板処理部を陽圧化するため、浮遊パ
ーティクルの発生を防止すると共に、基板処理部へのパ
ーティクルの侵入を防止することができる。また、この
乾燥促進機構で乾燥処理を含む基板処理をより早く安定
的に行うことができる。

【０１０１】さらに、本発明の請求項７によれば、リフ
トピンユニットで基板処理ステージ上に吸引解除後にも
貼り付いた基板を容易に剥がすことができる。

【０１０２】さらに、本発明の請求項８によれば、上記
旋回手段を用いた本発明の基板の基板保持ステージ上へ
のセティングが、縦型の塗布装置に効率よく安定に適応
させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の基板処理システムの概略
要部構成を示す一部断面図である。

【図２】図１の基板処理システムの概略要部構成を模式
的に示す平面図である。

【図３】図１の旋回手段の旋回駆動手段およびステージ
移動手段の動作を説明するための概略要部構成を模式的
に示す斜視図である。

【図４】図１の旋回手段の基板保持ステージを塗布装置
にセッティングした状態を模式的に示す基板処理システ
ムの一部側面図である。

【図５】トグルクランプ機構が取付られた状態を示す図
４のＥ部の拡大図である。

【図６】図１の旋回手段における回動制御の一例を模式
的に示す制御構成図である。

【図７】図５のトグルクランプ機構に代る吸引機構の要
部構成を示す縦断面図である。

【図８】仮想の従来技術における塗布システムの要部構
成を模式的に示す平面図である。

【図９】図８の塗布システムを側面側から見た図であ
る。

【図１０】図８の塗布システムを正面側から見た図であ
る。

【図１１】図８の多関節ロボットにおけるアーム部の先
端吸着部分におけるトグル式チャック開閉機構の要部構
成を示す側面図である。

【図１２】図１１のトグル式チャック開閉機構を模式的
に示す動作説明用の斜視図である。

【図１３】図６の旋回手段の回動制御構成とは別例を模
式的に示す制御構成図である。

【符号の説明】

１ 基板処理システム ２ａ，２ｂ 塗布装置 ３ａ，３ｂ 基板保持ステージ ４ａ，４ｂ 旋回手段 ５ａ，５ｂ ステージ移動手段 ６ 処理前基板搬送経路 ７ 基板 ８ａ，８ｂ 処理前基板移載手段 ９ 処理済み基板搬送経路 １０ａ，１０ｂ セッティング位置 １１ ノズル手段 １２ ノズルユニット １４ａ ステージ取付部材 １５ａ アーム部材 １６ａ 軸支部 １７ａ 旋回軸 １８ａ 軸受部 １９ａ ベース部材 ２０ａ 旋回駆動手段 ２１ａ ウォーム減速機 ２２ａ ウォーム入力軸 ２３ａ カップリング ２４ａ サーボモータ ２６ａ 回動駆動手段 ２７ プーリ ２８ ワイヤ ２９ ロール ３０ リニアガイド ３１ 可動軸 ３２ カウンタシリンダ ３３ リフトピンユニット ３４ リフトピン ３５ リニアガイド部材 ３６ レール部材 ３７ 架台ベース板 ３８ 開口部 ３９ ステージ固定手段 ４０ クランプ部材 ４１ トグルクランプ機構 ４２ エアーシリンダ ４３ ロッド ４４ 弾性部材 ４５ ねじ部材 ４６ 外郭部材 ４７ａ，４７ｂ 乾燥促進機構 ５０，１１０ 制御手段 ５１ エンコーダ ５２ 電空レギュレータ ５３，１１５ エアー源 １１１ カム部材 １１２，１１３ スイッチ １１４ エアーオペレートバルブ １１６，１１７ レギュレータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０１ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ 21/68 21/30 ５６４Ｃ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持ステージが設け
   られ、軸支部を回動中心として前記基板保持ステージの
   基板保持面が所定角度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れ
   かになるように前記基板保持ステージが回動可能な旋回
   部材と、 前記基板保持ステージの基板保持面を回動させる旋回駆
   動手段とを有することを特徴とするステージ旋回装置。
2. 【請求項２】 処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢
   で搬送されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理
   位置上に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると
   共に、この基板処理装置で基板処理された処理済み基板
   を前記基板処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬
   送経路に移送する基板処理システムにおいて、 基板を保持する基板保持ステージが設けられ、軸支部を
   回動中心に前記基板保持ステージの基板保持面が所定角
   度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れかになるように前記
   基板保持ステージを回動自在な旋回手段と、 前記処理前基板搬送経路上の基板を所定角度姿勢の前記
   基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共に、前
   記基板処理装置で基板処理された処理済み基板を前記処
   理済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段とを有す
   ることを特徴とする基板処理システム。
3. 【請求項３】 処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢
   で搬送されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理
   位置上に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると
   共に、この基板処理装置で基板処理された処理済み基板
   を前記基板処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬
   送経路に移送する基板処理システムにおいて、 基板を保持する基板保持ステージが設けられ、軸支部を
   回動中心に前記基板保持ステージの基板保持面が所定角
   度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れかになるように前記
   基板保持ステージを回動自在な旋回手段と、 前記処理前基板搬送経路上の基板を所定角度姿勢の前記
   基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共に、前
   記基板処理装置で基板処理された処理済み基板を前記処
   理済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段と、 前記基板保持ステージの基板保持面が傾斜または垂直姿
   勢の状態で前記基板保持ステージを前記旋回手段と共に
   前記基板処理装置の基板処理位置まで移動させるステー
   ジ移動手段とを有することを特徴とする基板処理システ
   ム。
4. 【請求項４】 処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢
   で搬送されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理
   位置上に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると
   共に、この基板処理装置で基板処理された処理済み基板
   を前記基板処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬
   送経路に移送する基板処理システムにおいて、 基板を保持する基板保持ステージが設けられ、軸支部を
   回動中心に前記基板保持ステージの基板保持面が所定角
   度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れかになるように前記
   基板保持ステージを回動自在な旋回手段と、 前記処理前基板搬送経路上の基板を所定角度姿勢の前記
   基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共に、前
   記基板処理装置で基板処理された処理済み基板を前記処
   理済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段と、 前記基板保持ステージの基板保持面が傾斜または垂直姿
   勢の状態で前記基板保持ステージを前記旋回手段と共に
   前記基板処理装置の基板処理位置まで移動させるステー
   ジ移動手段と、 前記基板処理装置の基板処理位置に開口部が設けられ、
   この開口部内に前記基板保持ステージを位置決めした状
   態で止めるステージ固定手段とを有することを特徴とす
   る基板処理システム。
5. 【請求項５】 前記基板処理装置の基板処理位置に、前
   記基板保持ステージが傾斜または垂直姿勢で位置してい
   る状態で、前記基板保持ステージの基板保持面側の処理
   空間を覆って密閉する外郭部材が配設されていることを
   特徴とする請求項２〜４の何れかに記載の基板処理シス
   テム。
6. 【請求項６】 前記外郭部材内に、均一気流を発生させ
   ると共にその内部を陽圧化させる乾燥促進機構が配設さ
   れたことを特徴とする請求項５に記載の基板処理システ
   ム。
7. 【請求項７】 前記基板移載手段は、前記基板保持ステ
   ージの基板保持面に対して出退自在な複数のリフトピン
   が設けられたリフトピンユニットと、これらの複数のリ
   フトピン上と処理前基板搬送経路上または処理済み基板
   搬送経路上との間で基板を移送する基板移送手段とを有
   したことを特徴とする請求項２〜４の何れかに記載の基
   板処理システム。
8. 【請求項８】 前記基板処理装置は、塗布液を供給可能
   なノズル手段と、傾斜または垂直姿勢の基板とをその被
   塗布面に沿って相対移動させつつ、毛管現象で塗布液槽
   から汲み上げられた塗布液を前記ノズル手段から供給し
   て前記基板の被塗布面に塗布する塗布装置であることを
   特徴とする請求項２〜７の何れかに記載の基板処理シス
   テム。
9. 【請求項９】 基板を略水平姿勢で搬送する基板搬送装
   置と、 略垂直または傾斜姿勢の基板に処理を施す基板処理装置
   と、 基板を保持する基板保持ステージと、 前記基板保持ステージを、前記基板搬送装置との基板受
   け渡し位置近傍と前記基板処理装置の基板処理位置近傍
   との間で旋回させる旋回手段とを有することを特徴とす
   る基板処理システム。
10. 【請求項１０】 基板を略水平姿勢で搬送する基板搬送
    装置と、 略垂直または傾斜姿勢の基板に処理を施す基板処理装置
    と、 基板を保持する基板保持ステージと、 前記基板保持ステージを、前記基板搬送装置との基板受
    け渡し位置と前記基板処理装置の基板処理位置との間で
    移動させることにより前記基板を前記基板処理装置へ給
    排する給排手段とを有し、 前記基板保持ステージに保持された状態の前記基板に対
    して前記基板処理装置により処理を施すことを特徴とす
    る基板処理システム。