JP2002321132A - ワークの搬送装置 - Google Patents

ワークの搬送装置

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JP2002321132A
JP2002321132A JP2001124466A JP2001124466A JP2002321132A JP 2002321132 A JP2002321132 A JP 2002321132A JP 2001124466 A JP2001124466 A JP 2001124466A JP 2001124466 A JP2001124466 A JP 2001124466A JP 2002321132 A JP2002321132 A JP 2002321132A
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suction
work
vacuum
carrier
plate
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JP2001124466A
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English (en)
Inventor
Yasuhide Denda
康秀 傳田
Original Assignee
Fujikoshi Mach Corp
不二越機械工業株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 キャリヤとワークとを研磨装置等の加工装置
に給排する操作が効率的に行えるワークの搬送装置を提
供する。 【解決手段】 ワーク11を真空吸着して支持する吸着
盤部30を、支持ジョイント部を介して移動機構部60
により支持し、吸着盤部30にワーク11を支持して移
動機構部60により加工装置10a、10bにワーク1
1を給排するワークの搬送装置であって、前記吸着盤部
30が、前記ワーク11を真空吸着する吸着盤31およ
び真空回路と、吸着盤31を回動可能に支持するロータ
リージョイントと、ロータリージョイントを吸着盤の中
心の回りに回動駆動する駆動部とを備えていることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の加工に使用
される研磨装置等に利用されるワークの搬送装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハのポリシングまたはラッ
ピング、ガラス、水晶等の研磨作業には回転定盤を用い
た研磨装置が広く使用されている。これらの研磨装置で
はワークを定盤の所定位置にセットして加工し、加工完
了後に定盤からワークを回収するといった操作を繰り返
し行う。ワークを定盤にセットし、加工後のワークを定
盤から回収する操作は、一般にはオペレータによる手作
業によっている。しかしながら、オペレータによる作業
の安全面および作業効率の点から、定盤にワークをセッ
トし、定盤からワークを回収する作業をロボット等を用
いて自動化する方法が提案されている。
【0003】たとえば、特開昭63−216670号公
報に示されているワークの搬出入方法は、ポリシング装
置においてワークをセットするキャリヤの透孔の配置に
合わせて複数のチャック部を備えたチャック装置を使用
し、キャリヤにおけるワークと同配置でワークをチャッ
クして装置にワークをセットするものである。また、実
公平3−29083号公報に記載されている搬送装置
は、ラッピング装置の近くに配置した多関節ロボットを
用いてワークを定盤上に供給するように構成し、多関節
ロボットがキャリヤとともにワークを保持して研磨装置
へ搬送するものである。また、特開平11−20761
1号公報に記載されている搬送装置は、上定盤をスイン
グ移動させた状態で、搬送ロボットによりワークを定盤
に支持されたキャリヤの所定位置にセットするものであ
る。また、特開2000−296463号公報に記載さ
れている研磨システムでは、研磨装置の側方に配置した
多関節ロボットによりワークの給排を行っている。
【0004】図12は、ポリシング用の研磨装置10の
側方にワーク11の給排装置20を配置し、ワークの給
排装置20に設けた多関節ロボット22によりワーク1
1を下定盤12に供給し、加工後のワーク11を下定盤
12から搬出するように構成した例である。23はワー
ク11を収容しているローダカセット部、24はセンタ
リング装置である。センタリング装置24により中心出
しされたワーク11は多関節ロボット22に保持され、
下定盤12の所定位置に搬送されて加工される。図示例
の研磨装置10は定盤面の全面を覆う大きさに形成した
薄平板状のキャリヤ14をキャリヤ面と平行な面内で旋
回させ、キャリヤ14の透孔に保持されたワーク11を
上定盤と下定盤とで挟んでポリシングする。25は加工
後のワーク11を受けるウォーターシュータ、26はワ
ーク11を水没した状態で収容するウォーターカセット
部である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、研磨
装置にワークを給排する作業をロボット等を用いて自動
化する方法によれば、ワークの交換作業を安全に行うこ
とができ、ワークに傷をつけたりすることなく確実に操
作することができ、作業効率を向上させることが可能に
なる。しかしながら、図12に示すような下定盤12の
全面を覆う大きさのキャリヤ14を使用する研磨装置の
場合は、ワーク11を給排する操作は下定盤12にキャ
リヤ14を取り付けた状態で行うから、キャリヤ14を
回転させて位置決めしながらワーク11を給排するとい
った制御が必要になり、操作が煩雑になる。また、キャ
リヤ14とともにワーク11を給排する際には、複数個
のワーク11を真空吸着するため真空回路が複雑になる
という問題もある。
【0006】そこで、本発明はこれらの問題点を解消す
べくなされたものであり、その目的とするところは、装
置の構成を複雑にすることなく、キャリヤとワークとを
研磨装置等の加工装置に給排する操作を効率的に行うこ
とができるワークの搬送装置を提供するにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、ワークを真
空吸着して支持する吸着盤部を、支持ジョイント部を介
して移動機構部により支持し、吸着盤部にワークを支持
して移動機構部により加工装置にワークを給排するワー
クの搬送装置であって、前記吸着盤部が、前記ワークを
真空吸着する吸着盤および真空回路と、吸着盤を回動可
能に支持するロータリージョイントと、ロータリージョ
イントを吸着盤の中心の回りに回動駆動する駆動部とを
備えていることを特徴とする。
【0008】また、前記吸着盤部が、ワークとともにワ
ークを透孔に配して給排するキャリヤを吸着盤に真空吸
着する真空回路を備えていることにより、ワークとキャ
リヤとを一括して加工装置に給排することが可能にな
る。また、前記ワークおよびキャリヤを真空吸着する吸
着コマが、真空回路に接続されるとともに、ワーク吸着
面側に開口して吸着盤に設けられ、該吸着コマと外部の
真空装置とを連通する真空回路がロータリージョイント
を介して設けられていることにより、吸着盤にワークと
キャリヤとが確実に真空吸着されて支持され、ワークと
キャリヤとの給排が確実になされる。
【0009】また、前記ロータリージョイントに設けら
れる真空回路が、吸着盤の回動操作時の捻れを防止する
可撓性を有するチューブによって形成され、該チューブ
の一端に吸着盤に設けられた吸着コマに接続する真空回
路が接続され、チューブの他端に外部の真空装置に接続
する真空回路が接続されていることにより、ワークを吸
着盤にセットする等の際に吸着盤が回動した場合でも、
確実にワークの給排が可能となる。また、前記ロータリ
ージョイントに複数のチューブが配設され、各々のチュ
ーブに吸着盤に設けられた複数の真空回路が連通して接
続されていることにより、真空回路を複雑化することな
く構成することができ、省スペース化を図ることが可能
となる。また、前記吸着コマが、吸着盤に脱着可能に設
けられていることにより、随時吸着コマを交換して使用
することができ、ワークの汚れを防止でき、ワークを傷
つけないようにメンテナンスする操作が容易に可能にな
る。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に
係るワークの搬送装置を利用して構成した研磨装置シス
テムの全体構成を示す平面図である。同図で10a、1
0bはキャリヤ14によりワーク11を支持してワーク
11の両面をポリシングする両面研磨装置である。本実
施形態では、ワーク11を共通に加工できる同一構造に
形成した2台の両面研磨装置(以下、「研磨装置」とい
う)10a、10bを一定距離離間して配置し、各々の
研磨装置10a、10bに1台の給排機構によりワーク
11を自動で給排して加工するように構成している。研
磨装置10a、10bの離間距離は給排機構によるワー
ク11の給排動作に合わせて設定されている。
【0011】研磨装置10a、10bは両面ポリシング
用として従来使用されている研磨装置と同一構造のもの
である。すなわち、キャリヤ14に設けた透孔に円板状
のワーク11であるウェーハをセットし、上定盤と下定
盤とでワーク11を挟んで研磨する。上定盤と下定盤の
表面は研磨布によって被覆され、研磨布によって研磨面
が形成されている。キャリヤ14は外周縁がキャリヤホ
ルダに支持され、キャリヤ面内で旋回移動(自転しない
円運動)し、キャリヤ14の透孔に保持されたワーク1
1を研磨面内で旋回移動させる。キャリヤホルダは上下
の定盤よりも大径のリング状に形成した部材であり、周
方向に所定間隔で立設したピンにキャリヤ14に設けた
係止孔14aを係合してキャリヤ14がキャリヤホルダ
と一体に旋回可能となっている。キャリヤホルダは偏芯
したクランク部材に係合して支持され、クランク部材が
軸中心で回転することによりその偏芯量分旋回移動す
る。
【0012】13は上定盤の外周側面に当接して上定盤
の回転をガイドするガイドローラである。ガイドローラ
13はアーム13aの前端に転動自在に支持され、駆動
部13bにより、加工時には上定盤の外周側面に当接
し、非加工時にはキャリヤホルダと干渉しないキャリヤ
ホルダの外側位置に退避するよう操作される。図2に研
磨装置10a、10bの正面図を示す。図2は上定盤1
2aを下定盤との間でワークを挟んで加工する下位置に
下降させた状態であり、ワークは上定盤12aと下定盤
の研磨面に挟圧されてポリシングされる。キャリヤ14
はたとえばガラスエポキシ樹脂板で形成され、ワークの
厚さよりも若干薄く形成されている。ワークを給排する
操作は、上定盤12aを下定盤から一定距離離間する上
位置に上昇させて行う。研磨装置10a、10bの前面
部はオペレータによる各種操作、ワーク11の給排操作
のため開放されている。
【0013】図1で、ワーク11を研磨装置10a、1
0bに給排するワークの給排機構は、ワーク11とキャ
リヤ14とを支持する吸着盤部30と、吸着盤にワーク
11を供給する供給セット部80と、加工後のワーク1
1を収納する収納機構部100と、前記吸着盤部30
を、供給セット部80と研磨装置10a、10bと収納
機構部100との間で移動させる移動機構部60とを備
える。ワークの搬送装置は、吸着盤部30と移動機構部
60とから成る。以下では、吸着盤部30と移動機構部
60の構成について説明する。
【0014】(吸着盤部)吸着盤部30はワーク11と
キャリヤ14とを真空吸着によって一括して支持する作
用をなすものであり、キャリヤ14よりも若干大径に形
成した吸着盤を備え、吸着盤にキャリヤ14とワーク1
1とを相互に位置合わせして支持するように構成されて
いる。吸着盤は移動機構部60のキャリヤアーム66に
よって支持され、供給セット部80、研磨装置10a、
10bにおけるワークおよびキャリヤのセット位置、収
納機構部100の各々の位置に移動する。図1で吸着盤
31は、供給セット部80でワークをセットする位置に
ある。
【0015】図3および図4は、吸着盤部30の平面図
および底面図である。図3に示すように吸着盤部30
は、円形に形成した吸着盤31の上面に支持ジョイント
部32を設け、支持ジョイント部32により吸着盤31
をその平面内で回動可能に支持するとともに、支持ジョ
イント部32に設けたロータリージョイント33を介し
て吸着盤31の上面に配設した真空回路と、移動機構部
60側に設置した真空装置とが連通するように設けられ
ている。
【0016】吸着盤31の上面に配置する真空回路は、
ワーク11を真空吸着するための真空回路とキャリヤ1
4を真空吸着するための真空回路とから成る。ワーク1
1を真空吸着する真空回路34は研磨装置10a、10
bにおけるワーク11の配置位置、すなわちキャリヤ1
4によってワーク11を支持する配置位置に合わせて配
置する。本実施形態の研磨装置では、周方向にワーク1
1として9枚のウェーハを均等間隔に配置して加工す
る。なお、図1ではワーク11を5枚配置した例を示し
たが、図3、4ではワーク11を9枚配置した例を示
す。キャリヤ14に支持するワーク11の枚数はワーク
11の大きさ等に応じて適宜選択できる。真空回路34
はこれらのワーク11の配置位置に合わせ、ワーク11
ごと3個の吸着コマを配置してワーク11を真空吸着す
るよう構成している。なお、ワーク11を真空吸着する
吸着コマは、ワーク11ごとに少なくとも1個あればよ
い。
【0017】図3で真空回路34は、ロータリージョイ
ント33と各々のワーク11の配置位置との間を連通す
るチューブ34aと、各々のワーク11の配置位置で3
個の吸着コマを連通させるチューブ34bから成る。チ
ューブ34aとチューブ34bとの接続部、チューブ3
4bの2つの屈曲位置に設けたジョイント部34cに吸
着盤31の底面(ワーク吸着面)で開口する吸着コマが
設けられている。これらの吸着コマはワーク11を真空
吸着して支持するためのものである。図4に、吸着盤3
1上でのワーク11の配置を示す。ワーク11としての
ウェーハが周方向に9枚配置されること、各々のワーク
11が3個の吸着コマ35によって支持されることを示
す。
【0018】図3でキャリヤ14を吸着盤31に真空吸
着する真空回路36は、吸着盤31の外周縁に沿って配
置したチューブ36bとロータリージョイント33とチ
ューブ36bとを連通するチューブ36aとからなる。
吸着盤31の外周縁に沿って配置したチューブ36bに
は所定間隔でジョイント部36cが設けられ、これらジ
ョイント部36cの各々に吸着盤31のワーク吸着面で
開口する吸着コマが設けられている。また、ロータリー
ジョイント33とチューブ36bとを接続するチューブ
36aの中途にもジョイント部36cを設けて、これら
のジョイント部36cにも同様に吸着コマを配置する。
【0019】図4に、吸着盤31にキャリヤ14を真空
吸着する吸着コマ37の配置を示す。キャリヤ14は樹
脂等の薄板によって形成されているから、吸着コマ37
によりキャリヤ14の外周縁に沿って一定間隔で支持す
るとともに、キャリヤ14の内部側についても所定間隔
で吸着コマ37を配置して、キャリヤ14の全体が吸着
盤31に平坦に吸着されるようにしている。ワーク11
はキャリヤ14に設けた透孔に位置合わせして配置され
る。ワーク11をセットするためキャリヤ14に設ける
透孔はワーク11の外径よりも僅かに大きな径寸法に形
成され、ワーク11はこの透孔内に配置される。
【0020】図5に、吸着コマ35を吸着盤31に取り
付けた構成部分を拡大して示す。吸着コマ35は中央部
に貫通孔35aを形成した円板状の部材であり、コマの
側面にワーク11に当接する向きにシールリング38を
周設し、ワーク11に対向する面にクロス39を貼着し
たものである。吸着盤31には吸着コマ35を収容する
凹部40が設けられ、吸着盤31を厚さ方向に貫通して
凹部40の内底部に通じる吸引孔41が設けられてい
る。吸着コマ35は貫通孔35aと吸引孔41とを連通
させネジ42により吸着盤31の凹部40内に固定され
る。吸引孔41には吸着盤31の上面側からジョイント
部34cが連結され、ジョイント部34cと貫通孔35
aとが連通する。
【0021】図5はワーク11であるウェーハが吸着コ
マ35に真空吸着された状態である。シールリング38
がワーク11に当接し、真空装置によりジョイント部3
4c側から真空吸引され、ワーク11が吸着盤31に真
空吸着されて支持される。シールリング38は可撓性を
有しており、ワーク11に接した状態で真空吸引するこ
とにより、真空漏れを防止して確実にワーク11を真空
吸着して吸着盤31に支持することができる。なお、図
5ではワーク11を真空吸着する吸着コマ35について
示すが、キャリヤ14を真空吸着する吸着コマ37も吸
着コマ35とまったく同様の構成となる。
【0022】このように、吸着盤31に吸着コマ35、
37を配置し、吸着コマ35、37を介してワーク11
およびキャリヤ14を真空吸着する構成とした場合は、
ワーク11を吸引する真空圧が吸着コマ35、37に作
用するだけで吸着盤31自体には真空圧が作用しないか
ら、吸着盤31はワーク11とキャリヤ14が支持でき
る剛性を備えていればよく、これによって吸着盤31の
軽量化を図ることが可能になる。また、吸着コマ35、
37は吸着盤31にネジ止めしているから、吸着コマ3
5、37の交換は容易である。吸着コマ35、37のワ
ーク11に対向する面にはワーク11の保護用にクロス
39を貼着しているが、このクロス39は使用とともに
汚れるから、随時交換する必要がある。本実施形態の場
合は、吸着コマ35、37を交換してクロス39を新し
くすることが簡単にできる。クロス39の汚れがひどく
ならないうちに吸着コマ35、37を交換することで、
ワーク11を傷つけることがなくなり、製品の品質を維
持することができる。
【0023】図6、7は、吸着盤31と支持ジョイント
部32との連結部の構成およびロータリージョイント3
3の構成を示す。図6に示すように、吸着盤31の上面
(ワーク吸着面とは反対側の面)の中央部には、外周側
面の上部がテーパ面に形成されたテーパキャップ45が
固定されている。このテーパキャップ45はロータリー
ジョイント33の下部に設けた底板47に対向して配置
され、底板47の内周側面に固定したテーパリング48
のテーパ面48aと当接可能に形成されている。吸着盤
31とロータリージョイント33との連結は、テーパキ
ャップ45の外周縁と底板47の外周縁との間にゴムシ
ート50を張設し、ゴムシート50により吸着盤31を
吊持してなされている。51は底板47の底面で下端が
開口する吸引パイプであり、真空装置に連通し、テーパ
キャップ45、底板47及びゴムシート50によって囲
まれた空間内を真空吸引可能に設けている。
【0024】ゴムシート50を介してロータリージョイ
ント33に吸着盤31を支持しているのは、ゴムシート
50の弾性によって吸着盤31を可動に支持できるよう
にするためである。前述したように、キャリヤ14は径
寸法が2m程度もある大径の部材であり、研磨装置10
a、10bのキャリヤホルダにセットする際には位置調
整してセットする必要がある。キャリヤホルダにはキャ
リヤ14の外周縁に沿って配置された係止孔と同一の配
置で係止ピンが設けられており、これらの係止ピンを係
止孔に挿入してセットする。本実施形態のように、吸着
盤31を可動に支持するとキャリヤホルダにキャリヤ1
4をセットする際に位置調整しやすくなる。ゴムシート
50は吸着盤31を可動に支持する可撓性材として設け
たものであり、ゴムシート以外の可撓性および所定の保
持性を有する素材を使用することができる。なお、本実
施形態のようにロータリージョイント33に吸着盤31
を可動に支持する方法とは別に、ロータリージョイント
33に吸着盤31を直結して支持する構成としてもよ
い。その場合は、吸引パイプ51は不要である。
【0025】また、テーパキャップ45と底板47とを
対向させ、テーパキャップ45のテーパ面と底板47の
内周側面に設けたテーパリング48のテーパ面48aと
が当接するように形成しているのは、吸着盤31にキャ
リヤ14を吸着する際に、吸着盤31とロータリージョ
イント33の中心位置を一致させるためである。図7は
研磨装置において、キャリヤホルダ15にキャリヤ14
をセットした状態でキャリヤ14を吸着盤31で吸着す
る状態を示す。キャリヤ14はキャリヤホルダ15の係
止ピン16に係止孔14aが係合して支持されている。
キャリヤ14を吸着盤31に真空吸着する際には、テー
パキャップ45のテーパ面がテーパリング48の内周面
のテーパ面に当接し、自動的に吸着盤31とロータリー
ジョイント33が芯出しされてキャリヤ14が吸着され
る。なお、17はキャリヤホルダ15を旋回運動させる
ための偏芯クランクである。
【0026】図7で、ロータリージョイント33の底板
47は円筒ケース体52の下部に固定され、円筒ケース
体52はベアリング53により軸線のまわりに回動自在
に支持されている。54は円筒ケース体52の上部に設
けたギヤである。ギヤ54は駆動部としてのサーボモー
タ55の出力軸に設けたギヤ56と噛合し、サーボモー
タ55により回動駆動される。すなわち、サーボモータ
55の駆動により円筒ケース体52、底板47、吸着盤
31が回動駆動されることになる。59はサーボモータ
55の駆動によって円筒ケース体52を回動した際のバ
ックラッシュを防止するためのスプリングである。
【0027】なお、前述したように吸着盤31にはワー
ク11とキャリヤ14とを真空吸着するための吸着コマ
35、37が多数個設けられており、これら吸着コマ3
5、37と真空装置とは真空回路34、36を介して連
通されている。本実施形態では、支持ジョイント部32
のロータリージョイント33にこれら真空回路34、3
6に接続するチューブを集約して配置し、ロータリージ
ョイント33から外部の真空装置に配管を接続する構成
としている。
【0028】ここで、ロータリージョイント33は吸着
盤31を一定角度ずつ回しながらワーク11をセットす
る関係上、軸線のまわりに回動可能であるのに対して、
支持ジョイント部32に取り付けた外部の真空装置に接
続するチューブ接続用のジョイント部57aは固定され
ているから、ロータリージョイント33が回動した際に
ジョイント部57aと底板47に設けたジョイント部5
7bとの間を接続する接続部分が捻れないようにする必
要がある。底板47に設けたジョイント部57bは吸着
盤31上に設けた吸着コマ35、37に接続するジョイ
ント部34c、36cと接続するものである。
【0029】本実施形態では吸着コマ35、37を多数
個配置しているからこれらに接続するチューブが多数あ
り、ロータリージョイント33内には多数本のチューブ
が集約されることになる。これらのチューブをすべてロ
ータリージョイント33の内部に配設すると、真空回路
が複雑になるとともに、吸着盤31が回動した際に、チ
ューブが捻れて所要の真空作用が得られなくなるおそれ
がある。このため、本実施形態では円筒ケース体52に
コイルチューブ58を配置し、コイルチューブ58の両
端のジョイント部57aに外部の真空装置に連通するチ
ューブを接続し、ジョイント部57bに吸着盤31に配
設されるチューブ34a、36aを接続するようにし
た。コイルチューブ58はロータリージョイント33が
回動した際でも、一定の角度範囲内であれば捻れずに回
動できるものである。もちろん、ロータリージョイント
33を一方方向のみに回転させたのではコイルチューブ
58が追随できないから、実際には吸着盤31を左右に
半回転程度回転する操作として制御する。
【0030】本装置の場合、実際にはワーク11を真空
吸着する真空回路が9本、キャリヤ14を真空吸着する
真空回路が3本設けられている。このため、円筒ケース
体52内に3本のコイルチューブ58を配置し、各々の
コイルチューブ58に4本の真空回路を連通させる構成
とした。3本のコイルチューブ58は円筒ケース体52
の周方向に120°ずつずらして配置し、これによっ
て、コイルチューブ58の捻れを防止するとともに、円
筒ケース体52の内部の構造を簡素化し、メンテナンス
を容易にしている。なお、コイルチューブ58はロータ
リージョイント33が回動した際に捻れない作用を有す
るものであればよく、コイルチューブに限らず可撓性を
有するチューブが適宜利用できる。
【0031】なお、ワーク11及びキャリヤ14を給排
する際には、上述した真空回路を利用してワーク11お
よびキャリヤ14を吸着盤31に真空吸着して行うが、
真空吸着したワーク11およびキャリヤ14を加工装置
にセットする際には、真空吸着を解除することにより、
ワーク11およびキャリヤ14は自重でセットされる。
この場合、ワーク11およびキャリヤ14を吸着盤31
から確実に剥離させるため、真空回路から逆にワーク1
1あるいはキャリヤ14に対してエア圧をかけるように
する場合がある。このように、ワーク11あるいはキャ
リヤ14にエア圧を加えるようにした場合、ワーク11
がウェーハなどであったりするとエアが吹きつけられて
ウェーハが乾いてしまい、製品の加工上で好ましくない
場合がある。
【0032】このため、本実施形態では、真空装置とし
てエアと水をともに給排できる装置を使用し、エアによ
ってワーク11およびキャリヤ14を真空吸着するとと
もに、真空を解除する際に水を放射するようにして、ワ
ーク11をセットする際に、できるだけワーク11を乾
かさずにセットできるようにした。真空を解除する際に
は、真空装置側から真空回路34、36を経由して各々
の吸着コマ35、37から水が吐出されてワーク11が
セットされる。研磨装置などでは、加工時に使用する研
磨剤がワーク11に付着し、吸着コマ35、37にこれ
らの研磨剤等が付着したりして汚れる場合がある。吸着
コマ35、37から水を吐出させることによって吸着コ
マ35、37に付着する汚れを取り除くことができると
いう利点もある。なお、本実施形態では吸着盤部30に
配設するチューブ34a、34b、36a、36bおよ
び円筒ケース体52に配設するコイルチューブ58を透
明チューブとして、これらのチューブ内の汚れが外部か
ら視認できるようにしている。
【0033】(移動機構部)図1に示すように、本実施
形態では対向して配置した一対の研磨装置10a、10
bの中間に移動機構部60を配置し、研磨装置10a、
10bの双方にワーク11とキャリヤ14とを給排する
ようにしている。図8に移動機構部60の平面図を示
す。移動機構部60は、基台62に支持ベース64を昇
降自在に支持し、支持ベース64にキャリヤアーム66
を回動自在に支持して成る。キャリヤアーム66の先端
部には支持ジョイント部32が連結され、吸着盤31が
支持される。支持ベース64は基台62に立設した支持
板67にスライドガイド68を介して上下方向に移動自
在にガイドされ、サーボモータ70により昇降駆動され
る。図9に、支持ベース64を昇降駆動する昇降機構部
の側面図を示す。スライドガイド68に支持ベース64
が支持され、サーボモータ70の出力軸に取り付けたボ
ールネジ70aに支持ベース64が連繋されている。
【0034】図10はキャリヤアーム66の基部を拡大
して示す。キャリヤアーム66はスリーブ72に摺入さ
れ軸線の回りで回動可能に支持され、キャリヤアーム6
6の基部に設置した反転機構部としてのサーボモータ7
4により軸線の回りに回動駆動される。すなわち、サー
ボモータ74によりキャリヤアーム66を軸線の回りで
回動することにより吸着盤31が反転操作されることに
なる。実際の装置では、吸着盤31はワーク吸着面を上
向きにする場合とワーク吸着面を下向きにする場合とに
反転操作される。
【0035】図11は、キャリヤアーム66を水平面内
で回動させる旋回機構部を示す。76はキャリヤアーム
66を回動するサーボモータである。サーボモータ76
は出力軸76aを上向きにして支持ベース64に支持さ
れ、出力軸76aに連結部材77を介して回動ベース7
8が連結されている。79は回動ベース78を回動支持
するベアリングである。回動ベース78の上部にはキャ
リヤアーム66を収容するカバー75が取り付けられて
いる。サーボモータ76の駆動により回動ベース78が
回動し、これとともにカバー75およびキャリヤアーム
66が回動する。このキャリヤアーム66が回動する作
用は、ワーク11およびキャリヤ14を搬送する際にキ
ャリヤアーム66が旋回する操作に相当する。
【0036】(搬送装置の作用)以下では、本実施形態
のワークの搬送装置の作用について、図1に示す研磨装
置システムの動作とともに説明する。ワークの搬送装置
は、まず、吸着盤31にキャリヤ14を支持する操作か
ら動作が開始する。吸着盤31にキャリヤ14を位置合
わせして支持する方法は、研磨装置10aでキャリヤホ
ルダ15にキャリヤ14をセットした状態で、吸着盤3
1を研磨装置10aの上定盤と下定盤との間に差し入れ
る位置まで移動させ、降下させて吸着盤31にキャリヤ
14を真空吸着して支持する方法による。吸引パイプ5
1を介して吸着盤31を底板47に真空吸着することに
よりロータリージョイント33に吸着盤31を位置決め
し、吸着盤31にキャリヤ14を真空吸着する。吸着盤
31にキャリヤ14を真空吸着した状態でキャリヤ14
を上方に抜くようにすることでキャリヤホルダ15から
キャリヤ14を外すことができる。吸着コマ37により
キャリヤ14を真空吸着することによってキャリヤ14
が平坦に支持される。
【0037】吸着盤31にキャリヤ14を真空吸着して
支持した後、キャリヤ14とともに吸着盤31を供給セ
ット部80に移動させる。研磨装置10aにおいてキャ
リヤ14を吸着した状態で吸着盤31はワーク吸着面が
下向きとなっている。供給セット部80では、吸着盤3
1のワーク吸着面を上向きにするから、供給セット部8
0に吸着盤31を移動する際に、吸着盤31のワーク吸
着面を上向きに反転させてから供給セット部80に移動
する。本実施形態では、移動機構部60により吸着盤3
1を上昇させ吸着盤31を反転させるスペースをあけて
吸着盤31を反転させるようにしている。
【0038】供給セット部80では、吸着盤31を回動
させながら吸着盤31に支持されたキャリヤ14の透孔
の位置に合わせてワーク11を供給する。吸着盤31を
回動させる操作は、サーボモータ55によりロータリー
ジョイント33の円筒ケース体52を回動する操作によ
ってなされる。すなわち、サーボモータ55により吸着
盤31を所定角度ごと回動し、キャリヤ14の透孔をワ
ーク11のセット位置に位置合わせしてワーク11をセ
ットする。82はワーク11を収納したカセット、84
はワーク11の取り出し部、86はセンタリング部、8
8はセンタリング部86でセンタリングされたワーク1
1を吸着盤31の所定位置にセットするローディング部
である。
【0039】吸着盤31に真空吸着されたキャリヤ14
の透孔にワーク11を位置合わせして供給する操作は、
上述したように、吸着盤31を一定角度ずつ回動し、ワ
ーク11がセットされる透孔の位置をワーク11のセッ
ト位置に位置合わせして行う。本実施形態のキャリヤ1
4では、ワーク11をセットする透孔が9個所あり、実
際には、まず、吸着盤31を供給セット部80に位置合
わせする際に一つの透孔をワーク11のセット位置に位
置合わせしておき、吸着盤31を一方側に回転して5個
所の透孔にワーク11をセットした後、吸着盤31を他
方側に回転して残りの4個所の透孔にワーク11をセッ
トしている。前述したように、ロータリージョイント3
3にコイルチューブ58を配設したことにより、吸着盤
31を左右に回動させてワーク11をセットする際に真
空回路を構成するチューブが捻れたりすることがなく、
確実にかつ円滑に制御することができる。
【0040】吸着盤31にワーク11を供給完了した
後、吸着盤31を反転させワーク吸着面を下向きにして
研磨装置10aへワーク11とキャリヤ14とを搬送す
る。ワーク11とキャリヤ14とを研磨装置10aに搬
送する操作は、キャリヤアーム66を水平面内で旋回す
ることによってなされる。吸着盤31を研磨装置10a
に進入させたところで、吸着盤31をゆっくりと所定位
置まで下降させ、吸着コマ35、37による真空吸着を
解除して、キャリヤ14をキャリヤホルダ15にセット
し、同時に研磨装置10aの下定盤にワーク11をセッ
トする。ワーク11とキャリヤ14とを研磨装置10a
にセットする際に、吸着コマ35、37から水を吐出さ
せて真空を解除することもできる。
【0041】ワーク11およびキャリヤ14を研磨装置
10aにセットした後は、吸着盤31は研磨装置10a
とは干渉しない中央位置に戻って動作を停止する。研磨
装置10aでは、この状態で通常のワーク11の研磨加
工がなされる。研磨装置10aでのワーク11の加工が
終了し、上定盤が下定盤から持ち上げられたところで、
吸着盤31を研磨装置10aの上定盤と下定盤との間に
進入させ、降下させてワーク11とキャリヤ14とを吸
着盤31に真空吸着する。吸着盤31にワーク11とキ
ャリヤ14とを真空吸着した状態で、キャリヤアーム6
6を旋回させて吸着盤31を研磨装置10aの外へ移動
させる。
【0042】吸着盤31は研磨装置10aから外へ引き
出し、収納機構部100のトレイ102の上方に移動さ
せ、吸着コマ35によるワーク11の吸着を解除してト
レイ102にワーク11を受け渡す。トレイ102に移
載されたワーク11は、ウォーターシュータ104a、
104bを介して収納カセット106a、106bに順
次収納される。吸着盤31は、トレイ102にワーク1
1を移載した後、再びワーク吸着面が上向きとなるよう
に反転し、ワーク11の供給セット部80へ移動し、次
のワーク11の移載操作がなされる。こうして、ワーク
の搬送装置を利用して、次々とワーク11が研磨装置1
0aにセットされ、所定の加工が施されて収納カセット
106a、106bに収納される。
【0043】なお、以上の説明では、ワークの搬送装置
が一方の研磨装置10aにのみワーク11を給排するも
のとして説明したが、研磨装置を1台設置して加工する
場合はもちろん、図1に示すように、研磨装置を2台設
置し、双方の研磨装置10a、10bにワーク11を給
排して加工することももちろん可能である。また、さら
に多数台の研磨装置を設置して加工するようにすること
も可能である。また、上記実施形態は両面ポリシング装
置にワークを給排する例であるが、本発明に係るワーク
の搬送装置は、両面ポリシング装置の他に片面ポリシン
グ装置やラッピング装置等の研磨装置に適用することが
可能であり、研磨装置以外の加工装置についても同様に
適用することが可能である。
【0044】
【発明の効果】本発明のワークの搬送装置によれば、上
述したように、駆動部により吸着盤を回動可能とするこ
とにより、吸着盤の所定位置にワークを位置決めして供
給することができ、吸着盤に複数個のワークを真空吸着
して一括して加工装置に給排することが可能となる等の
著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る研磨装置システムの全体構成を示
す平面図である。
【図2】研磨装置システムで使用する研磨装置の正面図
である。
【図3】吸着盤部の平面図である。
【図4】吸着盤部の底面図である。
【図5】吸着盤に吸着コマを取り付けた状態の断面図で
ある。
【図6】吸着盤部の吸着盤とロータリージョイントとの
連結部の構成を示す断面図である。
【図7】ロータリージョイントに吸着盤を支持した状態
の構成を示す断面図である。
【図8】移動機構部の構成を示す説明図である。
【図9】支持ベースを昇降駆動する構成部分を示す説明
図である。
【図10】キャリヤアームを軸線の回りに回動させる構
成を示す説明図である。
【図11】キャリヤアームを水平面内で旋回駆動する構
成を示す説明図である。
【図12】ワークを定盤に供給する従来の構成を示す説
明図である。
【符号の説明】
10、10a、10b 研磨装置 11 ワーク 12 下定盤 12a 上定盤 13 ガイドローラ 14 キャリヤ 14a 係止孔 15 キャリヤホルダ 30 吸着盤部 31 吸着盤 32 支持ジョイント部 33 ロータリージョイント 34、36 真空回路 34a、34b チューブ 34c ジョイント部 35、37 吸着コマ 36a、36b チューブ 36c ジョイント部 38 シールリング 39 クロス 41 吸引孔 45 テーパキャップ 47 底板 48 テーパリング 50 ゴムシート(可撓性材) 52 円筒ケース体 54、56 ギヤ 55 サーボモータ(駆動部) 57a、57b ジョイント部 58 コイルチューブ 60 移動機構部 62 基台 64 支持ベース 66 キャリヤアーム 67 支持板 68 スライドガイド 70 サーボモータ 70a ボールネジ 74 サーボモータ 75 カバー 76 サーボモータ 78 回動ベース 79 ベアリング 80 供給セット部 82 カセット 84 ワーク取り出し部 86 センタリング部 88 ローディング部 90 位置検出機構部 92a、92b 検出窓 100 収納機構部 102 トレイ 104a、104b ウォーターシュータ 106a、106b 収納カセット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/68 H01L 21/68 N Fターム(参考) 3C033 BB00 FF02 FF04 3C058 AA07 AB03 CB03 CB04 DA17 5F031 CA02 FA01 FA05 FA07 FA09 FA11 FA12 FA21 GA24 GA25 GA26 GA47 GA49 HA09 HA42 HA48 HA50 HA59 KA20 LA12 MA22 PA24

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークを真空吸着して支持する吸着盤部
    を、支持ジョイント部を介して移動機構部により支持
    し、吸着盤部にワークを支持して移動機構部により加工
    装置にワークを給排するワークの搬送装置であって、 前記吸着盤部が、 前記ワークを真空吸着する吸着盤および真空回路と、 吸着盤を回動可能に支持するロータリージョイントと、 ロータリージョイントを吸着盤の中心の回りに回動駆動
    する駆動部とを備えていることを特徴とするワークの搬
    送装置。
  2. 【請求項2】 前記吸着盤部が、ワークとともにワーク
    を透孔に配して給排するキャリヤを吸着盤に真空吸着す
    る真空回路を備えていることを特徴とする請求項1記載
    のワークの搬送装置。
  3. 【請求項3】 ワークおよびキャリヤを真空吸着する吸
    着コマが、真空回路に接続されるとともに、ワーク吸着
    面側に開口して吸着盤に設けられ、 該吸着コマと外部の真空装置とを連通する真空回路がロ
    ータリージョイントを介して設けられていることを特徴
    とする請求項2記載のワークの搬送装置。
  4. 【請求項4】 ロータリージョイントに設けられる真空
    回路が、吸着盤の回動操作時の捻れを防止する可撓性を
    有するチューブによって形成され、該チューブの一端に
    吸着盤に設けられた吸着コマに接続する真空回路が接続
    され、チューブの他端に外部の真空装置に接続する真空
    回路が接続されていることを特徴とする請求項3記載の
    ワークの搬送装置。
  5. 【請求項5】 ロータリージョイントに複数のチューブ
    が配設され、各々のチューブに吸着盤に設けられた複数
    の真空回路が連通して接続されていることを特徴とする
    請求項4記載のワークの搬送装置。
  6. 【請求項6】 吸着コマが、吸着盤に脱着可能に設けら
    れていることを特徴とする請求項3、4または5記載の
    ワークの搬送装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2245903A1 (es) * 2005-04-18 2006-01-16 Tecnologies Aplicades A Muntatges Electro-Mecanica, S.L.L. Dispositivo para el tratamiento superficial de piezas a trabajar.
EP1884314A1 (en) * 2006-08-03 2008-02-06 Automatismi Brazzale S.R.L Machine, automatic line and method for surface machining of disk-shaped elements
JP2008277760A (ja) * 2007-03-30 2008-11-13 Toray Eng Co Ltd 吸引切替装置
CN102602697A (zh) * 2011-12-12 2012-07-25 苏州工业园区高登威科技有限公司 带有产品传送机构的加工台
KR20190062901A (ko) * 2017-11-29 2019-06-07 아이오솔루션(주) 볼 렌즈 자동 연마 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61191847U (ja) * 1985-05-21 1986-11-29
JPH054191A (ja) * 1991-06-28 1993-01-14 Fanuc Ltd 直動と旋回の機能を有した単腕、小型ロボツトの配管ホース処理装置
JPH08112796A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Kawasaki Heavy Ind Ltd 相対回転部における配線・配管構造とその配線・配管の成形方法
JPH11188615A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Kashiwara Machine Mfg Co Ltd ウエーハ研磨装置及びウエーハ移載装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61191847U (ja) * 1985-05-21 1986-11-29
JPH054191A (ja) * 1991-06-28 1993-01-14 Fanuc Ltd 直動と旋回の機能を有した単腕、小型ロボツトの配管ホース処理装置
JPH08112796A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Kawasaki Heavy Ind Ltd 相対回転部における配線・配管構造とその配線・配管の成形方法
JPH11188615A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Kashiwara Machine Mfg Co Ltd ウエーハ研磨装置及びウエーハ移載装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2245903A1 (es) * 2005-04-18 2006-01-16 Tecnologies Aplicades A Muntatges Electro-Mecanica, S.L.L. Dispositivo para el tratamiento superficial de piezas a trabajar.
EP1884314A1 (en) * 2006-08-03 2008-02-06 Automatismi Brazzale S.R.L Machine, automatic line and method for surface machining of disk-shaped elements
JP2008277760A (ja) * 2007-03-30 2008-11-13 Toray Eng Co Ltd 吸引切替装置
CN102602697A (zh) * 2011-12-12 2012-07-25 苏州工业园区高登威科技有限公司 带有产品传送机构的加工台
KR20190062901A (ko) * 2017-11-29 2019-06-07 아이오솔루션(주) 볼 렌즈 자동 연마 장치
KR102025431B1 (ko) * 2017-11-29 2019-11-04 아이오솔루션(주) 볼 렌즈 자동 연마 장치

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