CN104597723B - 一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，涉及液晶显示技术领域，能够在曝光过程中降低掩膜板被划伤的几率，从而保护掩膜板，进而降低液晶显示装置的生产成本。该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，该保护单元的下端低于掩膜板的下表面。该掩膜装置用于对待曝光基板曝光时使用。

Description

一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法。

背景技术

随着液晶显示技术的不断发展，液晶显示装置的应用越来越广泛。

目前，液晶显示装置的制作工艺主要包括涂布、曝光及显影三个过程。如图1所示，为现有的曝光装置1的结构示意图。待曝光基板10承载在曝光台11上，掩膜板(英文：mask)12通过真空吸附在掩膜承载体13上。在使用现有的曝光装置1曝光过程中，一般保持掩膜板12和位于掩膜承载体13正上方的曝光光源14固定不动，通过移动曝光台11对待曝光基板10曝光。

然而，由于曝光间隙(掩膜板12的下表面与待曝光基板10的上表面之间的间隙)通常都非常小，且掩膜板12吸附在掩膜承载体13下部时由于受到重力会产生下垂，因此，若待曝光基板10表面存在异物，则在曝光过程中，该异物可能会划伤掩膜板12，导致掩膜板12报废，从而增加了液晶显示装置的生产成本。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，能够在曝光过程中大大降低掩膜板被划伤的几率，从而保护掩膜板，进而降低液晶显示装置的生产成本。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种掩膜装置，所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，所述掩膜装置还包括：

设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面。

可选的，每个所述保护单元包括升降体和用于控制所述升降体在垂直方向上升降的控制模块。

可选的，所述控制模块包括与所述升降体连接的马达，

所述马达，用于控制所述升降体在垂直方向上升降。

可选的，所述控制模块还包括与所述升降体连接的光电感应器，

所述光电感应器，用于检测所述光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体的下端低于所述掩膜板的下表面，所述升降体的下端为所述保护单元的下端。

可选的，所述掩膜承载体上设置有开口，所述保护单元设置于所述开口内，所述马达固定在所述开口的内壁上。

可选的，所述控制模块中的马达的数量为两个，两个马达分别设置于所述升降体的两端。

可选的，所述升降体包括载体和设置于所述载体的下表面的凸起，

所述控制模块中的光电感应器的数量为两个，两个光电感应器分别设置于所述载体的下表面，并且设置在所述凸起的两端。

可选的，所述凸起在第一方向上的长度大于等于所述掩膜板在所述第一方向上的长度，其中，所述第一方向为所述两个光电感应器之间连线的方向。

可选的，所述凸起的形状为楔形。

一种曝光装置，包括具有以上特征的掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台。

可选的，所述曝光装置还包括控制系统、升降体，以及与所述控制系统和所述升降体均连接的马达和光电感应器，

所述控制系统，用于根据所述光电感应器检测到的所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；且若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0。

可选的，所述控制系统，还用于计算掩膜板的最大下垂量；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。

一种利用具有上述特征的曝光装置进行曝光的方法，包括：

在垂直方向上，移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置，其中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面；

依次在水平方向上，移动所述曝光台，以使得所述曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到所述掩膜板的下方曝光。

可选的，所述方法还包括：

检测所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

根据所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0。

可选的，所述方法还包括：

计算所述掩膜板的最大下垂量；

根据所述曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。

本发明提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面。通过该方案，由于在掩膜承载体上设置了保护单元，且保护单元的下端低于掩膜板的下表面，也即保护单元的下端比掩膜板的下表面的任一点都低，因此，在曝光过程中，若待曝光基板上有异物，那么该保护单元的下端可能会对该异物起到阻挡作用，使得该异物接触不到掩膜板，从而在曝光过程中可以大大降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，进而保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。

附图说明

图1为现有技术提供的曝光装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的掩膜装置的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的保护单元的剖视示意图；

图4为本发明实施例提供的保护单元的另一剖视示意图；

图5为本发明实施例提供的保护单元的设置结构的局部放大示意图；

图6为本发明实施例提供的保护单元的设置结构的示意图；

图7为本发明实施例提供的掩膜装置的仰视示意图；

图8为本发明实施例提供的升降体的放大示意图；

图9为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图一；

图10为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图二；

图11为本发明实施例提供的掩膜板设置的局部放大示意图；

图12为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图三；

图13为本发明实施例提供的曝光方法的流程图一；

图14为现有技术曝光过程的示意图与本发明实施例的曝光过程的示意图的对比图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明实施例提供的掩膜装置、曝光装置及曝光方法进行详细地描述。

需要说明的是，为清楚地描述本发明所要保护的结构，故与本发明不相关的结构在各实施例及附图中做简化或省略处理，并且在各实施例及附图中做简化或省略处理的结构都是本领域技术人员在没有作出创造性劳动的前提下容易得到的，故在本实施例中不再赘述。

需要说明的是：本发明下述实施例中的“上”、“下”只是参考附图对本发明实施例进行说明，不作为限定用语。

进一步地，本发明实施例中的“上”、“下”均是按照曝光方向，即曝光光源的光线照射方向定义的，曝光光源发出的光线，沿着光线的方向，先经过的为“上”，后经过的为“下”。例如，曝光光源发出的光线，进入掩膜板的表面称为掩膜板的上表面，光线从掩膜板射出的表面称为掩膜板的下表面。

如图2所示，本发明实施例提供一种掩膜装置2，所述掩膜装置2可以包括掩膜承载体20，以及设置于所述掩膜承载体20的下表面的掩膜板21，所述掩膜装置2还可以包括设置于所述掩膜承载体20上的至少一个保护单元22，其中，在曝光过程中，所述保护单元22的下端223低于所述掩膜板21的下表面210。

本发明实施例提供的掩膜装置，通过在掩膜承载体上设置保护单元，且保护单元的下端低于掩膜板的下表面，可以保证保护单元的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙小于掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙，从而能够在曝光过程中，降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，进而保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。

其中，本发明实施例中保护单元的下端(具体可为保护单元中的升降体的下端)与待曝光基板的上表面之间的间隙为保护单元的下端与待曝光基板的上表面之间的垂直距离d1(具体如图9所示)；掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙为掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的垂直距离d2(具体如图9所示)。

需要说明的是，本发明实施例中，掩膜承载体上设置的保护单元的数量可以为一个，也可以为多个，本发明不作具体限定。

本发明实施例中，保护单元可以设置在掩膜承载体的上表面、也可以设置在掩膜承载体的下表面，还可以设置在掩膜承载体的侧面，本发明不作具体限定。

特别的，本发明实施例提供的掩膜装置2，由于掩膜承载体20上设置有掩膜板21，因此保护单元22可以设置于掩膜承载体20上与掩膜板21不重合的位置，即保护单元22和掩膜板21在掩膜承载体20上的设置位置互相不干涉。

优选的，本发明实施例可以在掩膜承载体上设置四个保护单元，且四个保护单元可以分别设置于掩膜承载体的四个侧面，这样可以在各个方向上均保证掩膜板不被待曝光基板上的异物划伤，从而能够保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。

本发明实施例中，保护单元22在掩膜承载体20上的设置方式可以为通过螺钉、铆钉或粘贴等任意固定方式设置，本发明不作具体限定。

可选的，如图3所示，为保护单元22的剖视示意图。每个所述保护单元22包括升降体220和用于控制所述升降体220在垂直方向上升降的控制模块。该控制模块可以控制升降体220在垂直方向上升降，以调节保护单元22的下端223与待曝光基板的上表面之间的间隙。一方面，可以使得保护单元22的下端在接触到待曝光基板时在垂直方向上上升，从而防止保护单元22的下端划伤待曝光基板；另一方面，可以使得保护单元22的下端在接触到待曝光基板上的异物时在垂直方向上上升，从而防止保护单元22对待曝光基板上的异物拖拉造成待曝光基板划伤。

可选的，如图3所示，所述控制模块包括与所述升降体220连接的马达221。所述马达221，用于控制所述升降体220在垂直方向上升降。

本发明实施例提供的掩膜装置中，控制模块还可以为除马达之外的其他能够控制升降体在垂直方向上升降的功能模块，即只要能够实现控制升降体在垂直方向上升降的功能模块都在本发明的保护范围之内。

可选的，如图4所示，为保护单元22的另一剖视示意图，所述控制模块还可以包括与所述升降体220连接的光电感应器222。所述光电感应器222，用于检测所述光电感应器222与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器222与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体220的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体220的下端低于掩膜板的下表面，所述升降体220的下端为所述保护单元22的下端223。

本发明实施例中，所述光电感应器222与所述升降体220的相对位置为设置所述保护单元22时固定的。所述光电感应器222可以检测所述光电感应器222与待曝光基板的上表面之间的间隙，并利用所述光电感应器222与所述待曝光基板的上表面之间的间隙和预设的所述光电感应器222与所述升降体220的下端之间的间隙，计算所述升降体220的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体220的下端低于掩膜板的下表面。

其中，光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙为光电感应器与待曝光基板的上表面之间的垂直距离d3(具体如图10所示)；光电感应器与升降体的下端之间的间隙为光电感应器与升降体的下端的延伸面之间的垂直距离d4(具体如图10所示)。

需要说明的是，由于光电感应器的尺寸非常小，因此，本发明实施例中可以忽略光电感应器自身的尺寸。即光电感应器的下表面与升降体的下端之间的间隙可以用光电感应器到升降体的下端之间的间隙代替；相应的，光电感应器的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙可以用光电感应器到待曝光基板的上表面之间的间隙代替。

如图5所示，为保护单元22及保护单元22在掩膜承载体20上设置的局部放大示意图。保护单元22的下端223(也为升降体220的下端)低于掩膜板21的下表面210，可以降低曝光过程中，移动待曝光基板时，待曝光基板上的异物划伤掩膜板21的几率。

优选的，如图6所示，掩膜承载体20上设置有开口23，所述保护单元22设置于所述开口23内，所述马达221固定在所述开口23的内壁上。本发明实施例通过在掩膜承载体20上设置开口23，并将保护单元22设置于开口23内，可以节省保护单元22的设置空间。

优选的，如图4所示，所述控制模块中的马达221的数量为两个，两个马达221分别设置于所述升降体220的两端。本发明实施例通过在升降体的两端分别设置一个马达，可以从升降体的两端同时调节升降体，从而使得调节升降体的结果更加准确。

可选的，如图4所示，所述升降体220包括载体2200和设置于所述载体2200的下表面的凸起2201。优选的，所述控制模块中的光电感应器222的数量为两个，两个光电感应器222分别设置于所述载体2200的下表面，并且设置在所述凸起2201的两端。本发明实施例通过在载体的下表面，且凸起的两端分别设置一个光电感应器，可以从升降体的两端同时检测光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，从而可以从升降体的两端，计算出升降体的下端(即凸起的下端)与待曝光基板的上表面之间的间隙，进而能够使得在调节升降体时可以从升降体的两端同时调节升降体，从而使得调节升降体的结果更加准确。

可选的，如图7所示，为掩膜装置的仰视示意图，所述凸起2201在第一方向上的长度大于等于所述掩膜板21在所述第一方向上的长度，其中，所述第一方向为所述两个光电感应器222之间连线的方向。如图7所示，第一方向为两个光电感应器222之间连线的方向，第一方向可以表示为C，所述凸起2201在第一方向上的长度可以表示d5，所述掩膜板21在第一方向上的长度可以表示为d6，d5大于等于d6。

可选的，本发明实施例提供的所述凸起2201的形状可以为楔形、长方体或正方体等。

如图8所示，为本发明实施例提供的升降体220(包括载体2200和设置于所述载体2200的下表面的凸起2201)的放大示意图。优选的，本发明实施例提供的凸起2201的形状为楔形。将凸起2201的形状设置为楔形可以减小升降体220的下端的面积，从而减小升降体220的下端与待曝光基板的上表面的接触面积，进而防止在曝光过程中升降体220的下端对待曝光基板的上表面造成干扰。

需要说明的是，本发明实施例提供的掩膜装置2中，只是以掩膜承载体上设置一个保护单元为例进行示例性的说明，当掩膜承载体上设置有多个保护单元时，其他保护单元的具体设置结构及其具体的设置方式与上述实施例中示例性列举的保护单元的设置方式相同，此处不再赘述。

本发明实施例提供一种掩膜装置，该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面。通过该方案，由于在掩膜承载体上设置了保护单元，且保护单元的下端低于掩膜板的下表面，也即保护单元的下端比掩膜板的下表面的任一点都低，因此，在曝光过程中，若待曝光基板上有异物，那么该保护单元的下端可能会对该异物起到阻挡作用，使得该异物接触不到掩膜板，从而在曝光过程中可以大大降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，进而保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。

如图9所示，本发明实施例提供一种曝光装置3，该曝光装置3可以包括掩膜装置(掩膜装置可以包括掩膜承载体20、设置于所述掩膜承载体20的下表面的掩膜板21，以及设置于所述掩膜承载体20上的保护单元22，其中，所述保护单元22的下端低于掩膜板21的下表面210)和用于承载曝光基板24的曝光台23。其中，该掩膜装置可以为上述实施例所述的掩膜装置2。所述掩膜装置2的具体结构或部件可以参考上述图2-图8任意之一所示的结构示意图。

可选的，如图10所示，所述曝光装置3还包括控制系统30、升降体220，以及与所述控制系统30和所述升降体220均连接的马达221和光电感应器222，所述控制系统30用于：

根据所述光电感应器222检测到的所述光电感应器222与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器222与所述升降体220的下端之间的间隙，计算所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙；且若所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达221在垂直方向上调节所述升降体220，直至所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙大于0。

可以理解，本发明实施例中，若待曝光基板24上存在有异物，则升降体220的下端与待曝光基板24的上表面之间的间隙为升降体220的下端与待曝光基板24上的异物的上表面之间的间隙。其中，升降体的下端与待曝光基板上的异物的上表面之间的间隙为升降体的下端与待曝光基板上的异物的上表面之间的垂直距离d7。

示例性的，如图9和图10所示，本发明实施例中，所述保护单元22的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙即为所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙。本发明通过所述光电感应器222实时检测所述光电感应器222与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙，并通过控制系统30计算所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙，从而当所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙小于等于0时，控制系统30可驱动所述马达221在垂直方向上调节所述升降体220，直至所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙大于0。这样可以保证在曝光过程中，若所述升降体220的下端与所述待曝光基板24或所述待曝光基板24上的异物接触，所述曝光台23移动时，所述升降体220不会将所述待曝光基板24划伤，从而保护所述待曝光基板24。

需要说明的是，图10所示的控制系统30仅是示例性的列举。本发明实施例提供的控制系统可以通过软件程序实现，该软件程序可以运行在CPU(英文：central processingunit，中文：中央处理器)、单片机或其他功能芯片等硬件上。具体的，控制系统可以通过在曝光装置的硬件上运行软件程序实现；也可以通过设置单独的硬件，并在该单独的硬件上运行软件程序实现，本发明不作具体限定。

本发明实施例中，所述控制系统30可以通过调节所述马达221的伺服马达步进步数驱动马达221在垂直方向上调节所述升降体220。

可选的，图11为掩膜板21设置在掩膜承载体20上时的局部放大示意图。如图10和图11所示，所述控制系统30，还用于计算掩膜板21的最大下垂量m；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板21的最大下垂量m，计算所述掩膜板21的下表面210与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙；若所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板21的下表面210与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙，则驱动所述马达221在垂直方向上调节所述升降体220，直至所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙小于所述掩膜板21的下表面210与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙。这样，当控制系统30调节所述升降体220在垂直方向上向上移动距离过大，即导致所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板21的下表面210与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙时，控制系统30可以通过驱动马达221在垂直方向上向下移动升降体220，直至所述升降体220的下端与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙小于所述掩膜板21的下表面210与所述待曝光基板24的上表面之间的间隙，即使得所述升降体220的下端低于所述掩膜板21的下表面，也即所述升降体220的下端比所述掩膜板21的下表面的任一点都低，因此，在曝光过程中，若所述待曝光基板24上有异物，那么所述升降体220的下端可能会对该异物起到阻挡作用，使得该异物接触不到所述掩膜板21，从而大大降低了在曝光过程中，移动所述曝光台23时，所述待曝光基板24上的异物将所述掩膜板21划伤的几率，进而能够保护所述掩膜板21，降低液晶显示装置的生产成本。

其中，预设的曝光间隙与掩膜板的最大下垂量m的差值即为掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙(也可以理解为实际的曝光间隙)。

具体的，掩膜板的最大下垂量可以通过光栅测量并计算得到。具体的，可以在掩膜装置的任意一侧，且与掩膜板处于同一高度的位置设置一个光栅，在掩膜板的另外一侧，设置一个光亮接收单元。通常，理论上，在掩膜板没有受到重力产生下垂时，当光源发出的光线经过光栅，并照射至掩膜板侧面时，光亮接收单元接收到的掩膜板的投影区域和掩膜板没有产生下垂时的厚度相等(即为投影原理)。实际情况中，由于掩膜板受到重力产生下垂，因此，光亮接收单元实际接收到的掩膜板的投影区域会比理论接收到的掩膜板的投影区域大，控制系统通过计算光亮接收单元实际接收到的掩膜板的投影区域和理论接收到的掩膜板的投影区域的差值，可以得到掩膜板的最大下垂量。

进一步地，光栅为由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件。光栅可以让入射至光栅的光线既干涉又衍射，从而形成很细的亮纹，进而可以更准确地测定光线的波长等。

可选的，如图12所示，本发明实施例提供的曝光装置3还可以包括曝光光源31。在曝光装置3曝光过程中，曝光光源31发出的光线透过掩膜板照射到待曝光基板上对待曝光基板上的待曝光区域进行曝光。

本发明实施例提供一种曝光装置，该曝光装置包括掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台。该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面。通过该方案，由于在掩膜承载体上设置了保护单元，且保护单元的下端低于掩膜板的下表面，也即保护单元的下端比掩膜板的下表面的任一点都低，因此，在曝光过程中，若待曝光基板上有异物，那么该保护单元的下端可能会对该异物起到阻挡作用，使得该异物接触不到掩膜板，从而在曝光过程中可以大大降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，进而保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。

如图13所示，本发明实施例提供一种曝光方法，该曝光方法可以为利用本发明实施例提供的曝光装置3进行曝光的方法，该曝光装置3包括本发明实施例提供的掩膜装置2和承载有待曝光基板24的曝光台23，该掩膜装置2包括掩膜承载体20、设置于掩膜承载体20的下表面的掩膜板21，以及设置于掩膜承载体20上的至少一个保护单元22，该曝光方法可以包括：

S101、在垂直方向上，移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置，其中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面。

本发明实施例提供的曝光装置在曝光过程中，可以先在垂直方向上，移动曝光台至保护单元的外侧，且与预设的曝光间隙对应的位置，其中，曝光装置的掩膜装置中的掩膜承载体上设置的保护单元的下端低于掩膜板的下表面，这样可以降低在曝光过程中，移动曝光台时，掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率。

其中，预设的曝光间隙为预设的掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙。可以理解的是，当掩膜板下垂后，实际的曝光间隙将会小于预设的曝光间隙。

在垂直方向上，移动曝光台至保护单元的外侧，且与预设的曝光间隙对应的位置后，可以开始移动曝光台对曝光台上承载的待曝光基板上的第一个待曝光区域曝光。

S102、依次在水平方向上，移动曝光台，以使得曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到掩膜板的下方曝光。

本发明实施例中，当曝光完待曝光基板上的第一个待曝光区域后，可以直接在水平方向上，移动曝光台，以使得该曝光台上承载的待曝光基板的第二个待曝光区域被移动到掩膜板的下方曝光，以此类推，依次在水平方向上，移动曝光台，以使得该曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到掩膜板的下方曝光。

本发明实施例提供的曝光方法，在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光前，将曝光台在垂直方向上移动至与预设的曝光间隙对应的位置，由于本发明实施例提供的曝光装置设置有降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率的保护单元，因此，在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光后，可以依次直接在水平方向上移动曝光台对待曝光基板的其他待曝光区域依次进行曝光。

如图14所示，为现有技术曝光过程的示意图与本发明实施例曝光过程的示意图的对比图。其中，如(a)所示，现有技术在曝光过程中，每曝光完待曝光基板的一个待曝光区域，为了防止掩膜板被待曝光基板上的异物划伤，需要将曝光台先在垂直方向上向下移动，再在水平方向上移动曝光台，直至待曝光基板的下一个待曝光区域被移动至掩膜板的下方时，再在垂直方向上移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置对该待曝光区域曝光，以此类推，直至待曝光基板的多个待曝光区域曝光完成。而本发明实施例在曝光过程中，如(b)所示，在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光前，将曝光台在垂直方向上移动至与预设的曝光间隙对应的位置，由于本发明实施例提供的曝光装置设置有降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率的保护单元，因此，在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光后，可以直接在水平方向上移动曝光台，当待曝光基板的下一个待曝光区域被移动至掩膜板的下方时，对该待曝光区域曝光，以此类推，直至待曝光基板的多个待曝光区域曝光完成。与现有技术相比，本发明实施例提供的曝光方法可以节省在垂直方向上移动曝光台的时间，从而减小移动曝光台的时间，进而节省曝光时间，提升曝光产能。

可选的，该保护单元包括升降体，以及与该升降体分别连接的马达和光电感应器，本发明实施例提供的曝光方法还可以包括：

S103、检测光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙。

S104、根据光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的光电感应器与升降体的下端之间的间隙，计算升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙。

S105、若升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动马达在垂直方向上调节升降体，直至升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙大于0。

本发明实施例的曝光方法中，通过实时检测升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙，并实时调节升降体，使得升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙大于0，能够大大降低升降体的下端或升降体的下端拖拉待曝光基板上的异物时划伤待曝光基板的几率。

可选的，本发明实施例提供的曝光方法还可以包括：

S106、计算掩膜板的最大下垂量。

S107、根据该曝光间隙和掩膜板的最大下垂量，计算掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙。

其中，掩膜板的最大下垂量的计算方法已在上述实施例中进行了详细地描述，具体可参见上述描述的计算掩膜板的最大下垂量的方法，此处不再赘述。

S108、若升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动马达在垂直方向上调节升降体，直至升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙小于掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙。

本发明实施例的曝光方法中，通过实时检测升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙，并实时调节升降体，使得升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙小于掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙(升降体的下端低于掩膜板的下表面)，能够大大降低曝光过程中，移动曝光台时，待曝光基板上的异物划伤掩膜板的几率。

需要说明的是，本发明实施例中的S103-S105和S106-S108均可以在执行S101-S102的过程中执行。

本发明实施例提供一种曝光方法，使用该曝光方法在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光前，将曝光台在垂直方向上移动至与预设的曝光间隙对应的位置，在对待曝光基板的第一个待曝光区域曝光后，可以直接在水平方向上移动曝光台，当待曝光基板的下一个待曝光区域被移动至掩膜板的下方时，对该待曝光区域曝光，以此类推，直至待曝光基板的多个待曝光区域曝光完成。与现有技术相比，本发明实施例提供的曝光方法可以节省在垂直方向上移动曝光台的时间，从而减小移动曝光台的时间，进而节省曝光时间，提升曝光产能。

同时通过在曝光过程中实时计算升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙，并实时调节升降体，可以保证升降体的下端与待曝光基板的上表面之间的间隙大于0并小于掩膜板的下表面与待曝光基板的上表面之间的间隙，从而能够在曝光过程中，大大降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，以及防止待曝光基板被升降体或升降体拖拉的异物划伤。

本发明实施例提供的掩膜装置、曝光装置及曝光方法可以用于制作液晶显示装置，该液晶显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种曝光装置，其特征在于，包括掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台；

所述曝光装置还包括控制系统、升降体，以及与所述控制系统和所述升降体均连接的马达和光电感应器，

所述控制系统，用于根据所述光电感应器检测到的所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；且若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0；

所述控制系统，还用于计算掩膜板的最大下垂量；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

所述掩膜板的最大下垂量可以通过光栅测量并计算得到；

所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，所述掩膜装置还包括：

设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面；

所述每个保护单元包括升降体和用于控制所述升降体在垂直方向上升降的控制模块；

所述控制模块包括与所述升降体连接的马达，

所述马达，用于控制所述升降体在垂直方向上升降；

所述控制模块还包括与所述升降体连接的光电感应器，

所述光电感应器，用于检测所述光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体的下端低于所述掩膜板的下表面，所述升降体的下端为所述保护单元的下端。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述掩膜承载体上设置有开口，所述保护单元设置于所述开口内，所述马达固定在所述开口的内壁上。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制模块中的马达的数量为两个，两个马达分别设置于所述升降体的两端。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述升降体包括载体和设置于所述载体的下表面的凸起，

所述控制模块中的光电感应器的数量为两个，两个光电感应器分别设置于所述载体的下表面，并且设置在所述凸起的两端。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述凸起在第一方向上的长度大于等于所述掩膜板在所述第一方向上的长度，其中，所述第一方向为所述两个光电感应器之间连线的方向。

6.根据权利要求4或5所述的曝光装置，其特征在于，

所述凸起的形状为楔形。

7.一种利用如权利要求1所述的曝光装置进行曝光的方法，其特征在于，包括：

在垂直方向上，移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置，其中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面；

依次在水平方向上，移动所述曝光台，以使得所述曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到所述掩膜板的下方曝光。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

检测所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

根据所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

计算所述掩膜板的最大下垂量；

根据所述曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；

若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。