KR20190117542A - 가공 설비 - Google Patents

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KR20190117542A
KR20190117542A KR1020197024166A KR20197024166A KR20190117542A KR 20190117542 A KR20190117542 A KR 20190117542A KR 1020197024166 A KR1020197024166 A KR 1020197024166A KR 20197024166 A KR20197024166 A KR 20197024166A KR 20190117542 A KR20190117542 A KR 20190117542A
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calibration
camera
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calibration camera
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KR1020197024166A
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카르스텐 콘탁
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만쯔 아게
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Abstract

본 발명은 하나의 노광 유닛 또는 다수의 노광 유닛을 갖는 노광 시스템, 노광 시스템을 조정하기 위한 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라를 갖는 캘리브레이션 시스템, 기판 바디를 위한 유지 장치를 갖는 기판 캐리어 유닛 및 하나의 레지스트레이션 카메라 또는 다수의 레지스트레이션 카메라를 갖는 레지스트레이션 시스템을 포함하는, 기판 바디를 위한 가공 설비, 특히 광학 가공 설비에 관한 것으로, 상기 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템은 간단하게 서로 매칭될 수 있도록 형성되고, 기판 캐리어 유닛의 적어도 하나의 레지스트레이션 위치에서 유지 장치에 의해 유지되는 기판 바디의 위치 및/또는 정렬은 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고, 상기 캘리브레이션 시스템은 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 대해 규정된 상대 위치에 각각 배치된 하나의 래퍼런스 마킹 또는 다수의 래퍼런스 마킹을 가지며, 상기 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹은 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있다.

Description

가공 설비
본 발명은 하나의 노광 유닛 또는 다수의 노광 유닛을 갖는 노광 시스템, 노광 시스템을 조정하기 위한 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라를 갖는 캘리브레이션 시스템, 기판 바디를 위한 유지 장치를 갖는 기판 캐리어 유닛 및 하나의 레지스트레이션 카메라 또는 다수의 레지스트레이션 카메라를 갖는 레지스트레이션 시스템을 포함하고, 기판 캐리어 유닛의 적어도 하나의 레지스트레이션 위치에서 유지 장치에 의해 유지되는 기판 바디의 위치 및/또는 정렬은 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있는, 기판 바디를 위한 가공 설비, 특히 광학 가공 설비에 관한 것이다.
예를 들어, 가공 설비는 노광 설비이다.
이러한 가공 설비들은 선행 기술에 공개되어 있다.
이러한 가공 설비에서 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템을 서로 매칭하는데 문제가 있다.
특히 노광 시스템은 노광 시스템의 좌표계에 대해 정렬되고, 레지스트레이션 시스템은 레지스트레이션 시스템의 좌표계에서 기판 바디의 위치 및/또는 정렬을 캡쳐한다.
따라서, 한편으로는 노광 시스템의 좌표계와 다른 한편으로는 레지스트레이션 시스템의 좌표계 사이에서 변환 규칙을 유지하는데 문제가 있다.
예를 들어 공개된 가공 설비에서, 마킹을 갖는 테스트 기판 바디의 테스트 노광이 수행되고, 이 경우 마킹은 레지스트레이션 시스템에 의해 캡쳐되고, 노광 시스템은 테스트 기판 바디로 테스트 구조를 노광시킨다. 테스트 기판 바디의 마킹과 노광된 테스트 구조 사이의 공간적 오프셋으로부터, 한편으로는 노광 시스템과 다른 한편으로는 레지스트레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환 규칙이 결정될 수 있다.
그러나 이러한 방법은 복잡하고, 특히 전문가의 지식을 필요로 하므로 숙련 된 서비스 직원에 의해서만 수행될 수 있다.
따라서 본 발명의 과제는, 이러한 방식의 개선된 가공 설비를 제공하는 것, 특히 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템이 간단한 방식으로 서로 매칭될 수 있는 가공 설비를 제공하는 것이다.
상기 과제는, 캘리브레이션 시스템이 하나의 래퍼런스 마킹 또는 다수의 래퍼런스 마킹을 가지며, 상기 래퍼런스 마킹은 각각 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 대해 규정된 상대 위치에 배치되고, 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹이, 특히 적어도 하나의 레지스트레이션 위치에서, 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있음으로써 해결된다.
바람직하게는, 특히 레지스트레이션 위치에서, 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹이 캡쳐될 수 있다.
본 발명에 따른 해결 방법의 장점은, 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹이 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고 따라서 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹의 위치가 레지스트레이션 시스템에 의해 캡쳐된다는 것이다. 캘리브레이션 카메라의 위치는 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹과 캘리브레이션 카메라 사이의 규정된 상대 위치를 이용해서, 레지스트레이션 시스템에 의해 결정될 수 있다.
따라서 레지스트레이션 시스템에 의해 위치가 결정될 수 있는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라를 갖는 캘리브레이션 시스템을 이용해서 노광 시스템이 조정되기 때문에, 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템은 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹을 갖는 캘리브레이션 시스템을 이용해서 서로 매칭될 수 있다.
특히, 캘리브레이션 시스템을 이용해서 조정 가능한 노광 시스템의 좌표계와 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹을 캡쳐하는 레지스트레이션 시스템의 좌표계 사이의 변환 규칙은 래퍼런스 마킹을 이용해서 결정될 수 있다.
특히, 래퍼런스 마킹의 위치 또는 래퍼런스 마킹들의 위치는 캘리브레이션 시스템의 좌표계에서 공개되어 있다.
따라서 바람직하게는, 노광 시스템과 캘리브레이션 시스템의 좌표계들 사이 및 레지스트레이션 시스템과 캘리브레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환 규칙도 결정될 수 있다.
본 발명에 따른 해결 방법의 다른 장점은, 노광 시스템의 자동 조정 및 레지스트레이션 시스템에 대한 노광 시스템의 자동 매칭이 가능해진다는 것이다.
특히, 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템과 캘리브레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환 규칙은, 예를 들어 제어 시스템에 의해 결정될 수 있다.
기판 캐리어 유닛의 형성과 관련하여, 지금까지 더 상세한 정보는 제공되지 않았다.
특히, 기판 캐리어 유닛과 노광 시스템은 서로에 대해 이동 가능한 것이 제공된다.
예를 들어 기판 캐리어 유닛과 하나의 노광 유닛 또는 다수의 노광 유닛은 서로에 대해 이동 가능하다.
따라서 바람직하게 기판 캐리어 유닛에 배치된 기판 바디는 노광 시스템에 의해 노광될 수 있다.
바람직하게는, 기판 캐리어 유닛과 레지스트레이션 시스템, 특히 하나의 레지스트레이션 카메라 또는 다수의 레지스트레이션 카메라는 서로에 대해 이동 가능한 것이 제공된다.
따라서 한 위치에서, 기판 바디의 위치 및/또는 정렬은 레지스트레이션 시스템에 의해 캡쳐될 수 있고, 추가 위치에서 기판 바디는 노광 시스템에 의해 노광될 수 있다.
특히 바람직한 실시예에서, 기판 캐리어 유닛은 노광 시스템 및/또는 레지스트레이션 시스템에 대해서 공급 방향으로 실질적으로 선형 이동 가능한 것이 제공된다.
예를 들어 기판 캐리어 유닛은 이동 가능하도록, 특히 이동 가능하게 안내되도록, 가공 설비의 기계 프레임에 배치된다.
특히 기계 프레임은 하나 또는 다수의 가이드를 포함한다.
바람직하게는 기판 캐리어 유닛은, 특히 공급 방향으로 실질적으로 선형으로, 이동 가능하게 안내되도록, 기계 프레임의 가이드 또는 가이드들에 배치된다.
특히, 기판 바디는 기판 캐리어 유닛에 대한 지지 영역 내에 배치된다.
바람직하게는 기판 바디는 적절한 배치 시 하나의 또는 다수의 유지 부재 상에 놓인다.
예를 들어, 기판 바디는 하나의 또는 적어도 하나의 유지 부재 상에 평평하게 놓인다.
바람직한 실시예에서, 기판 바디는 하나의 또는 적어도 하나의 유지 부재 상에, 바람직하게는 다수의 유지 부재 상에 부분적으로 놓이는 것이 제공된다.
특히, 지지 영역은 실질적으로 기하학적 지지 평면에서 연장된다.
원칙적으로, 유지 장치는 다양한 방식으로 설계될 수 있다.
특히 유지 장치는 기판 바디를 실질적으로 기하학적 유지 평면에서 유지한다.
실질적으로 하나의 평면에서 이루어지는 배치란, 정확한 평면과의 편차가 5 mm 미만, 더 바람직하게는 2 mm 미만, 그리고 바람직하게는 1 mm 미만인 것으로 이해되어야 한다.
바람직하게는 기하학적 유지 평면과 기하학적 지지 평면은 실질적으로 서로 평행하다.
실질적으로 평행한 코스란 최대 ±10°(각도), 더 바람직하게는 최대 ±5°(각도), 그리고 바람직하게는 최대 ±2°(각도)만큼 정확하게 평행한 코스를 벗어나는 코스로 이해되어야 한다.
예를 들어, 유지 장치는 기판 바디를 유지하기 위한 기계적 유지 수단을 포함한다.
예를 들어, 기계적 유지 수단은 기판 바디를 고정하는 클램핑 바디를 포함한다.
바람직한 실시예에서, 유지 장치는 기판 바디를 유체 정역학적으로 유지하는 것이 제공된다.
바람직하게는, 유지 장치는 하나의 흡입 노즐 또는 다수의 흡입 노즐을 포함하고, 상기 노즐에 의해, 특히 주변 압력에 대해 부압이 생성되고, 기판 바디는 부압에 의해 유지되고, 예를 들어 부압에 의해 하나의 또는 적어도 하나의 유지 부재에 대해 가압된다.
특히 바람직한 실시예에서 유지 장치는, 특히 기판 캐리어 유닛의 하부 구조에 대해 이동 가능하다.
바람직하게는 유지 장치는 유지 평면에 대해 적어도 대략 수직으로 연장되는 방향으로 이동 가능하다.
특히 유지 장치는 노광 시스템의 노광 평면에 대해 적어도 대략 수직으로 연장되는 방향으로 이동 가능하다.
따라서 바람직하게는 유지 장치는 배치된 기판 바디와 함께 이동 가능하고, 특히 유지 평면 및/또는 노광 평면에 대해 높이 조절될 수 있다.
따라서 노광을 위해 상이한 두께의 각각의 기판 바디도 양호하게 위치 설정될 수 있고, 특히 상기 기판 바디의 가공될 가공 측면은 실질적으로 노광 평면에 위치 설정될 수 있다.
전술한 그리고 이하에서, "적어도 대략"이라는 표현은, 상기 값이 정확하게 구현되는 실시예들이 포함되고, 상기 값과 최대 ±20%, 바람직하게는 최대 ±10%, 특히 최대 ±5%, 예를 들어 최대 ±1%만큼 편차가 구현되는 실시예들이 포함되는 것으로 이해되어야 한다.
예를 들어 기판 바디는 판형 기판 바디이다.
특히 기판 바디는 실질적으로 기하학적 바디 평면에서 연장되며, 이 경우 예를 들어, 기하학적 바디 평면에서 기판 바디의 범위는 기하학적 바디 평면에 대해 수직인 기판 바디의 범위보다 훨씬 크고, 예를 들어 적어도 팩터 5만큼 더 크다.
특히, 기판 캐리어 유닛에 적절히 배치된 기판 바디의 경우, 기하학적 지지 평면과 기하학적 바디 평면은 실질적으로 서로 평행하게 연장되는 것이 제공된다.
바람직하게, 기판 캐리어 유닛에 적절히 배치된 기판 바디의 경우, 기하학적 바디 평면과 기하학적 유지 평면은 실질적으로 서로 평행하게 연장되는 것이 제공된다.
바람직한 실시예에서, 기판 캐리어 유닛에 적절히 배치된 기판 바디의 경우, 기하학적 바디 평면과 기하학적 유지 평면은 실질적으로 일치하는 것이 제공된다.
특히, 기판 바디는 적어도 하나의 가공 측면을 포함한다. 이 경우, 가공 측면은 가공 설비에 의해 가공되는 것이 제공된다.
바람직하게는, 가공 측면에 대향 배치된, 기판 바디의 한 측면은 지지 영역 내에 배치되는 것이 제공된다.
다른 바람직한 실시예에서, 기판 캐리어 유닛 내에 적절히 배치된 기판 바디의 경우, 기하학적 유지 평면은 실질적으로 기판 바디의 가공 측면을 통해 연장되는 것이 제공된다.
특히, 기판 바디는 바람직하게 가공 측면에 배치된 적어도 하나의 감광성 층을 포함한다.
적합한 광에 의한 조사 시, 감광성 층에서 광화학 공정이 개시되고, 감광성 층의 적어도 일부가 화학적으로 변환된다.
또한 바람직한 실시예에서, 가공 설비는 기판 캐리어 유닛의 위치를 고도로 정확하게 캡쳐하기 위한 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템을 포함하는 것이 제공된다.
따라서, 위치는 이동 가능한 기판 캐리어 유닛의 경우에 항상 정확하게 공개된다.
특히, 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템은 공급 방향으로 기판 캐리어 유닛의 위치를 고도로 정확하게 캡쳐한다.
예를 들어, 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템은 적어도 ± 0.3 mm, 바람직하게는 적어도 ± 0.1 mm, 특히 적어도 ± 0.05 mm, 특히 바람직하게는 적어도 ± 0.001 mm, 그리고 더 바람직하게는 적어도 ± 0.0005 mm의 정밀도로 기판 캐리어 유닛의 위치를 캡쳐한다.
노광 시스템 및 노광 유닛 또는 노광 유닛들의 형성과 관련하여, 지금까지 더 상세한 정보는 제공되지 않았다.
특히, 각각의 노광 유닛은 광원을 포함하는 것이 제공된다.
특히, 광원은 기판 바디의 감광성 층에서 광화학 공정을 개시하는 광을 방출한다.
예를 들어, 광원은 레이저 다이오드이다.
바람직하게 각각의 노광 유닛은 하나의, 특히 고유의 또는 거기에 관련된 광학 편향 장치를 포함한다.
이 경우 예를 들어 각각의 노광 유닛은 고유의 편향 장치를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 다수의 노광 유닛에 하나의 편향 장치가 관련된다.
특히, 광학 편향 장치는 광원으로부터 나오는 광빔을, 특히 정확하게 편향시킨다.
따라서, 각각의 노광 유닛에 의해, 미리 규정된 구조 또는 상기 구조의 적어도 일부를 정확하게 기판 바디로 노광시킬 수 있다.
바람직하게는, 각각의 노광 유닛은 노광 섹터에서 노광을 위해 제공된다. 따라서 특히, 기판 바디의 각각 하나의 영역은 각각의 노광 유닛에 의해 노광된다.
특히 노광 시스템, 바람직하게는 각각의 노광 유닛은, 캘리브레이션 시스템을 이용해서 조정 가능하고, 예를 들어 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹에 대해 공간적으로 관련해서 조정 가능하다.
바람직한 실시예에서, 조정된 상태에서 각각의 인접한 노광 섹터들은 서로 인접하게 배치되는 것이 제공된다.
특히, 조정된 상태에서 개별 노광 섹터들은 겹치지 않는다.
특히 바람직한 실시예에서, 조정된 상태에서 노광 섹터들은 공급 방향에 대해 가로 방향으로 나란히, 특히 서로 인접하게 배치되는 것이 제공된다.
따라서 바람직하게는, 기판 캐리어 유닛을 이용해서 실질적으로 공급 방향으로 이동되는 기판 캐리어의 노광될 전체 노광 영역은 실질적으로 전체 영역에 걸쳐 노광 시스템에 의해 노광될 수 있다.
특히, 노광 영역은 부분적으로 각각의 노광 유닛에 의해 노광된다.
바람직하게는 기판 바디 상의 각각의 노광 스트립은 각각의 노광 유닛에 의해 노광된다.
특히 노광 스트립은 공급 방향으로 실질적으로 길게 연장된다.
바람직하게는 개별 노광 스트립은 공급 방향에 대해 가로 방향으로 인접하게 배치된다.
특히, 서로 이웃하는 각각 2개의 노광 스트립은 서로 인접하게 배치된다.
바람직한 실시예에서, 노광 시스템은 실질적으로 기하학적 노광 평면에 배치된 기판 바디의 가공 측면의 노광을 위해 정렬되는 것이 제공된다
특히, 기하학적 노광 평면은 기하학적 유지 평면에 대해 실질적으로 평행하게 연장된다.
바람직하게는, 기하학적 노광 평면과 기하학적 지지 평면은 실질적으로 서로 평행하게 연장되는 것이 제공된다.
특히, 노광 시스템에 대해 DE 102 42 142 A1호 및 DE 10 2006 059 818 A1호가 전체적으로 참조된다.
특히 바람직한 실시예에서, 노광 유닛은 이 간행물로부터 공개된 노광 장치의 하나 이상의 특징을 포함하는 것이 제공된다.
캘리브레이션 시스템 및 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라의 설계와 관련하여 지금까지 더 상세한 정보는 제공되지 않았다.
바람직하게는 캘리브레이션 시스템은 정확히 하나의 캘리브레이션 카메라를 포함한다.
다른 바람직한 실시예에서, 캘리브레이션 시스템은 다수의 캘리브레이션 카메라를 포함하는 것이 제공된다.
다수의 캘리브레이션 카메라 중 하나의 캘리브레이션 카메라 또는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라 또는 몇몇, 특히 모든 캘리브레이션 카메라는 다음 특징들 중 하나 이상을 포함하는 것이 특히 바람직하다.
특히 캘리브레이션 카메라는 이동 가능하고, 특히 기계 프레임에 대해 이동 가능하다.
캘리브레이션 카메라와 레지스트레이션 카메라는 바람직하게 서로에 대해 이동 가능하게 배치된다.
캘리브레이션 카메라가 노광 시스템에 대해, 특히 노광 유닛에 대해 이동 가능하게 배치되는 것이 특히 바람직하다.
특히, 캘리브레이션 카메라는 노광 평면에 대해 실질적으로 평행하게 이동 가능하며, 예를 들어 변위 가능하다.
바람직하게는 캘리브레이션 카메라는 각각의 노광 섹터에서 이동 가능하다.
바람직하게는 캘리브레이션 카메라는 노광 섹터들 내에서 이동 가능하다.
따라서 각각의 노광 유닛의 특히 각각의 광빔은 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고, 개별 노광 유닛들은 서로 간단하게 조정될 수 있다.
원칙적으로, 캘리브레이션 카메라는 위치 검출 기능이 있는 별도의 이동 시스템을 통해 기계 프레임에 이동 가능하게 배치될 수 있다.
특히 바람직한 실시예에서, 캘리브레이션 카메라는 기판 캐리어 유닛에 배치되는 것이 제공된다.
따라서 캘리브레이션 카메라는 바람직하게 기판 캐리어 유닛과 함께 이동될 수 있다.
특히, 캘리브레이션 카메라는 기판 캐리어 유닛에 이동 가능하게 배치되고, 바람직하게는 공급 방향에 대해 적어도 대략 수직으로 마찬가지로 이동 가능하게 배치되는 것이 제공된다.
따라서, 캘리브레이션 카메라는 기판 캐리어 유닛을 이용해서 실질적으로 공급 방향으로 이동 가능하고, 공급 방향에 대해 가로 방향으로, 특히 적어도 대략 수직으로 이동 가능한 간단한 실시예가 실현된다.
예를 들어, 특히 공급 방향에 대해 적어도 대략 수직으로 연장되는 선형 축에서 캘리브레이션 카메라는, 이동 가능하게 기판 캐리어 유닛에 배치된다.
또한, 특히 바람직한 실시예에서, 캘리브레이션 시스템은 캘리브레이션 카메라의 위치를, 특히 고도로 정확하게 캡쳐하는 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템을 포함하는 것이 제공된다.
특히, 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템은 노광 평면에 대해서, 바람직하게는 상기 노광 평면 내에서 캘리브레이션 카메라의 위치를 캡쳐한다.
바람직하게 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템은 선형 축을 따른 캘리브레이션 카메라의 위치를 캡쳐한다.
따라서 캘리브레이션 카메라의 위치는 항상, 특히 매우 정확하게 공개되며, 간단한 방식으로 캘리브레이션이 실현될 수 있다.
특히 "매우 정확한"이란, 측정의 공차가 최대 ±0.01 mm, 바람직하게는 최대 ±0.001 mm, 그리고 특히 바람직하게는 최대 ±0.0005 mm인 것을 의미한다.
특히 바람직한 실시예에서, 캘리브레이션 시스템은 캘리브레이션 카메라용 이미징 시스템을 포함하는 것이 제공된다.
예를 들어, 이미징 시스템은 다수의 광학 소자를 포함한다.
바람직하게는 이미징 시스템, 특히 상기 시스템의 광학 소자들은 캘리브레이션 카메라에 고정 연결되고, 예를 들어 상기 카메라에 직접 또는 간접적으로 고정 배치된다.
특히 바람직한 실시예에서, 이미징 시스템은 광학 현미경을 포함하고 따라서 바람직하게는 캘리브레이션 카메라는 매우 정밀한 이미지를 캡쳐하는 것이 제공된다.
특히, 캘리브레이션 카메라는 이미징 영역에서 이미지를, 특히 고도로 정확하게 캡쳐하는 것이 제공된다.
바람직하게는 이미징 영역은 실질적으로 노광 평면에서 연장된다.
다른 바람직한 실시예에서, 이미징 영역은 실질적으로 유지 평면에서 연장되는 것이 제공된다.
일부 실시예에서, 이미징 영역은 실질적으로 지지 평면에서 연장되는 것이 제공된다.
바람직하게는, 이미징 영역은 실질적으로 이미징 시스템의, 특히 캘리브레이션 카메라의 렌즈 평면에서 연장된다.
이 경우, 실질적으로 하나의 평면에서 연장되는 이미징 영역이란, 특히 상기 평면으로부터 최대 5 mm, 바람직하게는 최대 1 mm, 특히 최대 0.3 mm, 특히 바람직하게는 최대 0.1 mm 떨어져 있는 이미징 영역으로 이해되어야 한다.
래퍼런스 마킹과 관련하여, 지금까지 더 자세한 세부 사항은 제공되지 않았다.
예를 들어 캘리브레이션 시스템은 정확히 하나의 래퍼런싱 마크를 갖는다.
바람직한 실시예에서, 캘리브레이션 시스템은 다수의, 예를 들어 2개 또는 3개 또는 4개 또는 5개의 래퍼런스 마킹을 갖는 것이 제공된다.
따라서 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템 및 특히 캘리브레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환이 더 정확하게 결정될 수 있다. 또한, 바람직하게는 좌표계들 사이의 회전 각도 및/또는 병진 이동 및/또는 선형 스케일링이 결정될 수 있다.
바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 실질적으로 노광 평면에 배치되는 것이 제공된다.
따라서 래퍼런스 마킹은 특히 노광과 관련된 노광 평면에 배치되고, 바람직하게는 노광 시스템과 캘리브레이션 시스템 및 레지스트레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환이 더 정확하게 이루어진다.
예를 들어, 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹과 캘리브레이션 카메라 사이의 상대 위치는, 이들이 서로에 대해 이동 가능하게 배치되고, 상대 위치가 예를 들어 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템에 의해 캡쳐되어 규정되므로, 시간에 따라 가변적일 수 있는 것이 제공될 수 있다.
그러나 바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 각각 캘리브레이션 카메라에 대해 실질적으로 일정한 상대 위치에 배치되는 것이 제공된다.
특히, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라에 대해 고정 배치되고, 따라서 바람직하게는 예를 들어 공급 방향으로 및/또는 선형 축을 따라 캘리브레이션 카메라의 이동 시, 상기 마킹은 캘리브레이션과 함께 이동한다.
따라서 바람직하게 캘리브레이션 시스템의 좌표계에서 하나 또는 다수의 래퍼런스 마킹의 위치가 특히 정확하게 결정된다.
예를 들어 하나 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라에 대해 고정 배치된다.
특히 바람직한 실시예에서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라의 이미징 영역에 배치되는 것이 제공된다.
특히, 하나의 래퍼런스 마킹 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고, 예를 들어 노광 시스템을 조정하기 위해 캡쳐될 수 있다.
바람직하게는 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라의 렌즈 평면에 배치된다.
바람직한 실시예에서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 이미징 시스템의 광학 소자에 배치되는 것이 제공된다.
예를 들어 광학 소자는 포커싱 소자, 특히 렌즈일 수 있다.
특히 광학 소자는 평면 평행한 투명 판이다.
바람직하게는 광학 소자는 캘리브레이션 카메라에 의한 캡쳐를 위해 노광 유닛들의 광빔을 시각화하는 빔 시각화 소자이다.
바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 광학 소자의 표면에 배치되는 것이 제공된다.
특히 상기 표면은 캘리브레이션 카메라의 렌즈 평면에서 연장된다.
또한, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런싱 표시가 배치된 광학 소자의 표면은 실질적으로 기하학적 노광 평면에서 연장되는 것이 특히 바람직하다.
다른 실시예에서, 표면은 실질적으로 기하학적 유지 평면에서 연장되는 것이 제공된다.
따라서 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 항상 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고, 따라서 상기 마킹의 위치는 캘리브레이션 시스템의 좌표계에서 항상, 특히 고도로 정확하게 캡쳐될 수 있다.
따라서 이 실시예에서, 캘리브레이션 카메라는 항상 래퍼런스 마킹의 정확한 위치를 캡쳐하기 때문에, 예를 들어, 캘리브레이션 카메라에 대한 래퍼런스 마킹의 상대 위치를 변경시킬 수 있는 기계적 왜곡 및/또는 열적으로 유도된 신장 및 압축과 관련하여 매우 낮은 에러 민감도가 제공된다.
또한, 가공 설비, 특히 캘리브레이션 시스템의 분해 후, 래퍼런스 마킹들의 위치가 신속하고 간단하게 캘리브레이션 카메라에 의해 다시 캡쳐될 수 있다.
다른 바람직한 실시예에서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹들은, 바람직하게는 캘리브레이션 카메라에 고정 배치되는 것이 제공된다.
따라서 특히 캘리브레이션 카메라에 대한 래퍼런스 마킹들의 상대 위치는 고정적이고, 시스템은 예를 들어 기계적 왜곡에 대해서 에러에 그렇게 취약하지 않다.
다른 바람직한 실시예에서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라의 홀더에 대해, 예를 들어 홀더 자체에 고정 배치되는 것이 제공된다.
또한 바람직하게, 특히 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹이 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 없는 실시예에서, 캘리브레이션 카메라에 대한 래퍼런스 마킹의 상대 위치는 측정 후에 제어 시스템에 저장되는 것이 제공된다.
따라서 상대 위치는 항상 호출 가능하고, 재조정은 바람직하게 자동화되어 가능해진다.
또한, 바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 적어도 기판 캐리어 유닛의 래퍼런싱 위치에서, 예를 들어 레지스트레이션 위치에서, 하나의 또는 다수의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있는 것이 제공된다.
따라서 이동 가능한 기판 캐리어 유닛에서도, 래퍼런스 마킹은 항상 하나 이상의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있다.
특히, 하나의, 바람직하게는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 하나의, 예를 들어 다수의, 특히 모든 레지스트레이션 카메라의 렌즈 평면에, 특히 그 이미징 영역에 배치다.
특히, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 배경 영역에 대해 광학적으로 높은 콘트라스트 구조를 포함하는 것이 제공된다.
따라서 래퍼런스 마킹은 캘리브레이션 카메라 및/또는 레지스트레이션 카메라에 의해 특히 양호하고 정밀하게 캡쳐될 수 있다.
예를 들어, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 별도의 요소이다.
바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹은 특히 광학 소자 위에 및/또는 캘리브레이션 카메라 위에 및/또는 캘리브레이션 카메라의 홀더 위에 코팅으로서 형성된다.
바람직한 실시예에서, 코팅은 크롬 또는 산화크롬을 포함하는 것이 제공된다.
래퍼런스 마킹들은 다양한 형상을 가질 수 있다.
특히, 적어도 하나의 래퍼런스 마킹은 원형으로 또는 직사각형으로 형성되는 것이 제공된다.
적어도 하나의 래퍼런스 마킹은 십자형으로 형성되는 것이 특히 바람직하다.
다른 바람직한 해결 방법은, 래퍼런스 마킹이 라인 윤곽으로서 형성되는 것을 제공한다.
라인 윤곽은 특히, 예를 들어 직사각형 또는 원형 코스와 같은 다양한 코스를 가질 수 있는, 내부 영역을 둘러싸는 라인 윤곽으로서 형성될 수 있다.
본 발명은 또한 기판 바디를 위한 가공 설비를 작동하기 위한 방법, 특히 가공 설비의 구성 요소들을 조정 및 정렬하기 위한 방법에 관한 것으로, 상기 가공 설비는 하나의 노광 유닛 또는 다수의 노광 유닛을 갖는 노광 시스템, 노광 시스템을 조정하기 위한 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라를 갖는 캘리브레이션 시스템, 기판 바디를 위한 유지 장치를 갖는 기판 캐리어 유닛 및 유지 장치에 의해 유지되는 기판 바디의 위치 및/또는 정렬을 캡쳐하기 위한 하나의 레지스트레이션 카메라 또는 다수의 레지스트레이션 카메라를 갖는 레지스트레이션 시스템을 포함한다.
본 발명의 과제는, 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템을 서로 매칭하기 위한 간단한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따라 상기 과제는, 캘리브레이션 시스템이 각각 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 대해 규정된 상대 위치에 배치된 하나의 래퍼런스 마킹 또는 복수의 래퍼런스 마킹을 가짐으로써 그리로 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹이 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐됨으로써 해결된다.
본 발명에 따른 해결 방법의 장점들 중 하나는, 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라가 이러한 래퍼런스 마킹들 중 적어도 하나를 캡쳐하고 따라서 간단하게 레지스트레이션 시스템은 하나의 래퍼런스 마킹 또는 복수의 래퍼런스 마킹을 이용해서 노광 시스템에 맞춰질 수 있다는 것이다.
특히, 레지스트레이션 시스템은 레지스트레이션 시스템의 좌표계에서 가공될 기판 바디의 위치 및/또는 정렬을 캡쳐한다.
노광 시스템, 특히 하나의 노광 유닛 또는 다수의 노광 유닛은 노광 시스템의 좌표계에 대해서 정렬된다.
특히, 노광 시스템은 캘리브레이션 시스템을 이용해서 조정된다.
바람직하게는, 노광 시스템은 캘리브레이션 시스템의 좌표계에서 캘리브레이션 시스템을 이용해서 조정되며, 이 경우 바람직하게는 노광 시스템과 캘리브레이션 시스템의 좌표계들 사이의 변환 규칙이 결정된다.
특히, 노광 유닛들은 각각 광빔을 방출한다.
바람직하게는, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹에 대해서, 즉 래퍼런스 마킹들의 위치에 대해서, 하나의 또는 다수의 노광 유닛으로부터 방출된 하나의 광빔, 특히 다수의, 바람직하게는 모든 광빔의 빔 경로가, 캘리브레이션 시스템을 이용해서, 특히 캘리브레이션 카메라를 이용해서 캡쳐된다.
예를 들어, 노광 시스템의 노광 평면과 빔 경로의 교차점이 캡쳐된다.
본 발명에 따른 방법에서, 노광 시스템은 하나의 래퍼런스 마킹 및 다수의 래퍼런스 마킹에 대해 공간적으로 관련되어 조정되고 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹이 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라에 의해 캡쳐되기 때문에, 레지스트레이션 시스템의 좌표계와 노광 시스템의 좌표계 및 특히 캘리브레이션 시스템의 좌표계 사이의 변환 규칙이 결정될 수 있다.
특히 바람직한 실시예에서, 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹의 위치는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐되는 것이 제공된다.
특히, 다수의, 특히 모든 래퍼런싱 표시의 위치는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐되는 것이 제공된다.
바람직하게는, 하나의 래퍼런스 마킹 또는 다수의 래퍼런스 마킹은 노광 시스템의 조정을 위해 캡쳐된다.
따라서, 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹의 정확한 위치는 항상 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 의해 캡쳐될 수 있고, 바람직하게 하나의 또는 다수의 래퍼런스 마킹에 대해 노광 시스템이 정렬될 수 있다.
다른 바람직한 실시예에서, 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 대한 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹의 위치는 측정에 의해 공개되는 것이 제공된다.
바람직하게는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라에 대한 하나의 래퍼런스 마킹의 상대 위치 또는 다수의 래퍼런스 마킹의 다수의 상대 위치는 제어 시스템에 저장된다.
따라서 바람직하게, 노광 시스템의 조정 시 또는 레지스트레이션 시스템과 노광 시스템의 매칭 시 하나의 상대 위치 또는 다수의 상대 위치가 간단한 방식으로 제어 시스템으로부터 호출될 수 있고, 상대 위치는 재 측정없이 공개된다.
특히, 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라의 이동 및/또는 위치는, 바람직하게는 고도로 정밀하게, 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템에 의해 캡쳐되는 것이 제공된다.
바람직하게는, 노광 시스템의 노광 평면에 대해, 바람직하게는 평행하게 캘리브레이션 카메라의 이동 및/또는 위치가 캡쳐된다.
예를 들어, 노광 시스템 및/또는 레지스트레이션 시스템에 대해 캘리브레이션 카메라의 이동 및/또는 위치가 캡쳐된다.
특히 선형축을 따른 캘리브레이션 카메라의 이동 및/또는 위치가 캡쳐되며, 이 경우 캘리브레이션 카메라는 선형축을 따라 이동 가능하게 기판 캐리어 유닛에 배치된다.
바람직하게는, 기판 캐리어 유닛의 이동 및/또는 위치는, 특히 고도로 정밀하게, 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템에 의해 캡쳐되는 것이 제공된다.
특히, 노광 시스템의 노광 평면에 대해, 예를 들어 평행하게 기판 캐리어 유닛의 이동 및/또는 위치가 캡쳐된다.
바람직하게는, 노광 시스템에 대한 기판 캐리어 유닛의 이동 및/또는 위치가 캡쳐된다.
레지스트레이션 시스템에 대한 기판 캐리어 유닛의 이동 및/또는 위치가 캡쳐되는 것이 특히 바람직하다.
바람직하게는, 기판 캐리어 유닛이, 특히 안내되도록, 이동 가능한 공급 방향으로 기판 캐리어 유닛의 이동 및/또는 위치가 캡쳐된다.
따라서 캘리브레이션 카메라 및/또는 기판 캐리어 유닛의 이동 시에도 이들의 위치가 공개되고 이로써 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템의 좌표계들에 대해 캘리브레이션 시스템의 좌표계의 상대 변위도 공개되고, 적어도 결정될 수 있다.
예를 들어, 각각의 노광 유닛은 광원 및 광원의 광빔의 제어된 편향을 위한 광학 편향 장치를 포함한다.
특히, 광학 편향 장치는, 각각의 노광 유닛의 광빔이 노광 섹터에서 노광을 위해 각각 사용되도록, 캘리브레이션 시스템을 이용해서 정렬되는 것이 제공된다.
특히 바람직한 실시예에서, 방법, 특히 가공 설비의 구성 요소들의 조정 및 정렬은 자동화되어 수행되는 것이 제공된다.
특히, 자동화된 방법은, 예를 들어 컴퓨터 보조 제어 시스템에 의해 수행된다.
따라서 바람직하게는, 예를 들어 가공 설비의 적어도 부분적인 분해 후에 또는 미리 규정된 시간 간격 후에, 가공 설비의 구성 요소들의 재조정 및/또는 재매칭이 숙련된 서비스 인력 없이 수행될 수 있다.
또한 바람직하게, 가공 설비와 관련하여 언급된 하나의 특징 또는 다수의 특징이 방법에 이용되는 것이 제공된다.
또한, 전술한 가공 설비의 특히 바람직한 실시예는, 본 발명에 따른 방법을 수행하도록 설계된다.
본 발명의 다른 특징 및 장점들은 일부 실시예들의 도면 및 이하의 설명의 대상이다.
본 발명은 노광 시스템과 레지스트레이션 시스템이 간단한 방식으로 서로 매칭될 수 있는 가공 설비를 제공하는 효과가 있다.
도 1은 제1 실시예에 따른 가공 설비의 사시도.
도 2는 가공될 기판 바디를 도시한 도면.
도 3은 배치된 캘리브레이션 카메라를 갖는 기판 캐리어 유닛의 부분을 도시한 사시도.
도 4는 배치된 캘리브레이션 카메라를 갖는 기판 캐리어 유닛의 부분을 도시한 측면도.
도 5는 노광 시스템 및 노광될 기판 바디의 영역에서 가공 설비의 부분을 도시한 확대도.
도 6은 노광 시스템의 2개의 노광 스트립의 개략도.
도 7은 레지스트레이션 카메라에 의해 a) 노광 시스템의 정렬 및 b) 래퍼런스 마킹의 캡쳐 시 캘리브레이션 시스템을 도시한 개략도.
도 8은 제2 실시예에 따라 홀더를 이용해서 기판 캐리어 유닛에 배치된 캘리브레이션 카메라를 도시한 도면.
도 9는 도 7과 유사하게 도시한 제3 실시예의 도면.
전체적으로 10으로 표시된 가공 설비에 대해 예시적으로 기판 바디(12)의 광학 가공을 위한 가공 설비(10)가 제1 실시예로서 설명되고, 예를 들어 도 1에 도시된다.
도 2에 예를 들어 가공될 기판 바디(12)가 도시된다.
특히, 기판 바디(12)는 실질적으로 판형으로 형성된다.
바람직하게는 기판 바디(12)는 실질적으로 기하학적 바디 평면(22)에서 연장되고, 이 경우 특히 기하학적 바디 평면(22)에 대해 수직인 기판 바디(12)의 범위는 기하학적 바디 평면(22) 내의 기판 바디(12)의 범위보다 훨씬 작다.
특히, 기판 바디(12)는 적어도 하나의 감광성 층(24) 및 그 아래에 위치한 구조층(26)을 포함한다.
적어도 하나의 감광성 층(24)과 적어도 하나의 구조층(26)은 기판 바디(12)의 가공 측면(28)에 배치된다.
이 경우, 감광성 층(24)은 구조층(26) 위에 적층된다.
예를 들어, 감광성 층(24)은 구조층(26)으로부터 떨어져 있는 측면에 보호층(26)을 더 가지며, 상기 보호층은 감광성 층(24)을 외부, 특히 유해한 영향으로부터 보호한다.
예를 들어, 구조층(26) 및 감광성 층(24)은 캐리어 플레이트(32) 위에 적층된다.
특히, 캐리어 플레이트(32)는 실질적으로 기하학적 바디 평면(22)에서 연장된다.
가공 설비(10)에 의해 가공 측면(28)에 미리 규정된 구조(42)가 형성되는 것이 제공된다.
특히, 미리 규정된 구조(42)는 노광에 의해 적층되는 것이 제공된다.
이 경우, 적절한 노광 시 감광성 층(24)에서 광화학 공정이 개시되어, 감광성 층(24)의 물질이 변환된다.
바람직하게는 노광된 감광성 층(24)의 화학적으로 변환된 물질은 그 아래에 위치한 구조층(26)의 영역들을 보호하여, 제거 과정, 특히 에칭 과정 동안, 감광성 층(24)의 비 변환 영역들 및 구조층(26)의 대응하는 그 아래에 위치한 영역들만이 제거되고, 특히 에칭된다.
구조층(26)은 특히 금속을 포함하고, 예를 들어 구조층(26)은 구리층이다.
미리 규정된 구조(42)는 특히 부재(44)의 복수의 이미지로 구성된다.
다수의 부재(44)는 특히 실질적으로 동일하게 형성된다.
각각의 부재(44)는 복수의 부품(46)으로 구성된다.
예를 들어, 부재들(44)은 전자 또는 전기 기능 소자를 위한 도체 트랙 시스템을 형성하고, 부품들(46)은 특히 전기 도체 트랙이다.
가공 설비(10)는 기판 캐리어 유닛(52) 및 노광 시스템(54)을 포함하고, 미리 규정된 구조(42)는 노광 시스템(54)을 이용해서 기판 캐리어 유닛(52)에 배치된 기판 바디(12)에 노광된다.
또한, 가공 설비(10)는 노광 시스템(54)의 조정을 위한 캘리브레이션 시스템(56) 및 기판 캐리어 유닛(52) 상의 기판 바디(12)의 위치 및/또는 정렬을 캡쳐하기 위한 레지스트레이션 시스템(58)을 포함한다.
기판 캐리어 유닛(52)은 가공 설비(10)의 기계 프레임(62)에 이동 가능하게 배치되고, 바람직하게는 공급 방향(66)으로 선형 이동 가능하게 배치된다.
예를 들어, 기계 프레임(62)은 2개의 가이드(68a, 68b)를 포함한다. 이들은 바람직하게는 실질적으로 유사하게 설계되며, 이하에서 가이드(68)로 통칭할 것이다.
가이드(68)는 실질적으로 공급 방향(66)으로 연장되고, 예를 들어 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 서로 이격되어 있다.
기판 캐리어 유닛(52)은, 바람직하게는 2개의 가이드(68) 사이에서 안내되도록, 이동 가능하게 가이드(68)에 배치된다.
기판 캐리어 유닛(52)은 예를 들어 하부 구조(112)를 포함한다.
바람직하게 기판 캐리어 유닛(52)은 가이드(68a, 68b)에 바람직하게 맞물리는 적어도 2개의 가이드 바디(114a, 114b)를 포함한다. 특히, 가이드 바디(114)는 하부 구조(112)에 배치된다.
또한, 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템(118)이 제공되며, 상기 시스템은 기판 캐리어 유닛(52)의 위치, 특히 공급 방향(66)으로 상기 유닛의 위치를 매우 정확하게 캡쳐한다.
기판 캐리어 유닛(52)은 유지 장치(122)를 포함하며, 상기 유지 장치에 의해 가공 과정 동안 기판 바디(12)가 유지된다.
이 경우, 유지 장치(122)는 특히 지지 부재(124)를 포함한다. 지지 부재(124)는 지지 영역(128)이 제공된 적어도 하나의 지지 측면(126)을 포함한다(도 3 및 도 4).
이 경우, 기판 바디(12)는 가공 과정 시 지지 부재(124)상의 지지 영역(128)에 위치한다. 특히, 가공될 가공 측면(28)에 마주 놓인 기판 바디(12)의 측면은 지지 측면(126)상의 지지 영역(128)에 위치한다.
예를 들어, 실시예의 변형예에서 지지 영역(128)은 평평하게 형성되어, 기판 바디(12)가 평평하게 놓인다.
다른 변형예에서, 지지 부재(124)의 개별 부분들은 지지 영역(128)에서 연장되고 지지 영역(128) 내의 기판 바디(12)는 지지 부재(124)의 부분들 위에 부분적으로만 놓인다.
예를 들어, 지지 부재(124)의 부분들은 그리드형 구조를 형성한다.
예를 들어, 유지 장치(122)는 흡입 노즐(129)을 포함한다. 흡입 노즐(129)에 의해, 바람직하게는 지지 부재(124)의 지지 측면(126)에 주변 압력에 대한 부압이 형성되고, 기판 바디(12)는 지지 부재(124)로 끌어 당겨져 고정된다.
예를 들어, 흡입 노즐(129)은 지지 부재(124)에 배치된다.
실시예의 변형예에서 기판 바디(12)는 대안적으로 또는 추가로 기계적 유지 수단, 예를 들어 클램프에 의해 유지된다.
따라서 기판 바디(12)는 실질적으로 기하학적 유지 평면(132)에서 유지 장치(122)에 의해 유지된다.
특히, 지지 영역(128)에서 기판 바디(12)가 지지 부재(124) 상에 놓이는 경우 상기 기판 바디의 기하학적 바디 평면(22)과 기하학적 유지 평면(132)은 실질적으로 일치한다.
변형예에서, 기하학적 유지 평면(132)은 실질적으로 지지 측면(126)을 통해, 특히 그 표면을 통해 연장되는 것이 제공된다.
다른 변형예에서, 기판 바디(12)가 유지 장치(122) 내에 적절히 배치될 때, 기하학적 유지 평면(132)은 실질적으로 기판 바디(12)의 가공될 가공 측면(28)을 통해, 특히 그 표면을 통해 연장되는 것이 제공된다.
바람직하게는, 유지 장치(122)는 기계 프레임(62)에 대해, 예를 들어 하부 구조(112)에 대해 이동 가능하게 배치된다.
특히, 유지 장치(122)는 유지 평면(132)에 대해 적어도 대략 수직인 수직 연장되는 방향으로 이동 가능하다.
노광 시스템(54)은 다수의 노광 유닛(152), 특히 복수의 노광 유닛(152; 도 5)을 포함한다.
예를 들어, 노광 시스템(54)은 수백 개의 노광 유닛(152)을 포함한다.
노광 유닛들(152)은 각각 적어도 하나의 광원(156) 및 특히 이와 관련된 광학 편향 장치(158)를 포함한다.
광원(156)은 기판 바디(12)의 감광성 층(24)에서 화학적 변환 공정을 개시하는 광을 방출한다.
광학 편향 장치(158)에 의해, 광원(156)으로부터 방출된 광빔(159)은 기판 바디(12)상의 원하는 위치로 정렬되고 예를 들어 포커싱된다.
노광 유닛들(152)은, 실질적으로 노광 평면(160)에서 기판 바디(12), 특히 그것의 가공 측면(28)을 노광시키도록 정렬된다.
광학 편향 장치(158)는 광원(156)의 광빔(159)을 편향시켜, 상기 광빔이 노광 평면(160)에서 소정의 영역에 입사하여 상기 노광 평면을 노광시킨다.
특히, 미리 결정된 영역들은 미리 규정된 구조(42)의 부분 영역들에 상응한다.
특히, 기판 바디(12)가 유지 장치(122)에 의해 적절하게 유지되는 경우에 노광 평면(160)은 상기 기판 바디의 가공될 가공 측면(28)을 통해, 바람직하게는 상기 가공 측면의 표면을 통해 연장된다.
특히, 노광 평면(160)과 지지 평면(132)은 실질적으로 서로 평행하다.
편향 장치(158)는 좌표계(X1, Y1)에 존재하는 데이터에 따라, 노광 섹터(162) 내에서 광원(156)의 광빔(159)을 편향시킨다.
따라서 좌표계(X1, Y1)에서 광빔(159)의 광 경로가 공개되어 있다.
이 경우, 노광 유닛(152)의 각각의 광빔(159)은, 기판 바디(12)의 노광을 수행하기 위해, 각각의 노광 섹터(162) 내에서 이동하는 것이 제공된다.
이 경우, 노광 섹터들(162)은, 특히 서로 인접하지만, 서로 겹치지 않게 배치되거나, 서로 겹쳐져서 나란히 배치된다.
바람직하게는 노광 섹터들(162)은 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로, 특히 공급 방향(66)에 대해 적어도 대략 수직으로, 나란히 배치된다.
특히, 기판 바디(12)의 노광 동안, 상기 기판 바디는 기판 캐리어 유닛(52)으로부터 공급 방향(66)으로 선형 이동되고, 광빔(159)은 각각의 노광 섹터(162)에서 광원(156)으로부터 가로 방향으로, 특히 공급 방향(66)에 대해 비스듬하게 편향 장치(158)에 의해 편향되는 것이 제공된다.
따라서 바람직하게 각각의 노광 유닛(152)은 관련 노광 섹터(162) 내에서 광빔(159)의 이동에 의해 기판 바디(12) 상의 노광 스트립(164)에 의해 규정된 범위 내에서 각각 노광시킨다.
기판 바디(12) 상에 생성되는 노광 스트립(164)은 공급 방향(66)으로 특히 길이 방향으로 연장되고, 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로, 노광 섹터들(162)의 폭에 대응하는 폭을 갖는다.
노광 스트립(164)은 마찬가지로 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 나란히 배치되며, 바람직하게는 노광 스트립(164)은 에지 측에서 겹진다.
특히, 각각 2개의 서로 가장 가까운 노광 스트립(164)은 서로 인접한다.
따라서 기판 바디(12) 상의 노광될 영역(166)은 노광 스트립(164) 전체에 의해 정해진다.
바람직하게는, 노광 유닛(152)은 노광 섹터(162) 내의 개별 픽셀을 노광시킨다.
이 경우 픽셀은 특히 개별 그리드 포인트(RP)로 구성된 그리드 내에 배치된다(도 6).
특히, 그리드 포인트(RP)는 노광 섹터(162)에서 실질적으로 가로 방향으로 연장되는 열(168)에 배치된다.
예를 들어, 열들(168)은 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 연장되며, 특히 경우에 따라서 공급 방향(66)으로 기판 바디(12)의 이동 속도 및 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 광빔의 이동 속도에 의해 열(168)의 코스와 공급 방향(66) 사이에 경사각이 주어진다.
노광 유닛(152)은 개별 픽셀을 노광시키고, 상기 픽셀들의 중심은 각각 실질적으로 그리드 포인트들(RP) 중 하나에 위치한다.
이 경우 픽셀 블러의 범위는, 예를 들어, 열(168) 내의 2개의 이웃하는 그리드 포인트(RP) 사이의 간격보다 훨씬 크고, 예를 들어 적어도 5배 더 크며, 2개의 인접한 열(168) 사이의 간격보다 훨씬 크고, 예를 들어 적어도 팩터 5만큼 더 크다.
또한, 그리드 포인트(RP)의 상호 간격은 개별 부품(46)의 전형적인 치수보다 훨씬 작다.
따라서, 미리 규정된 구조(42)의 노광될 영역들은 복수의 픽셀 블러에 의해 커버되어, 미리 규정된 구조(42)의 예리한 에지들이 충분한 정밀도로 이미지화될 수 있다.
노광 시스템(54)의 추가의 바람직한 특징들에 대해서, DE 102 42 142 A1호, 특히 거기에 기술된 노광 장치의 실시예가 전체적으로 참조된다.
캘리브레이션 시스템(56)에 의해 개별 노광 유닛들(152)은 서로 조정된다.
특히, 개별 노광 유닛들(152)의 노광 섹터들(162)은 서로 정렬되고, 개별 노광 유닛들(152)의 대응 좌표계(Xla, Yla),(Xlb, Ylb), ...가 캡쳐된다.
캘리브레이션 시스템(56)은 광학 이미징 시스템(214; 도 3, 도 4 및 도 7)을 갖는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)를 포함한다.
캘리브레이션 카메라(212)는 특히 기판 캐리어 유닛(52), 예를 들어 기판 캐리어 유닛(52)의 한 측면에 배치되며, 상기 측면은 공급 방향(66)과 관련하여 기판 캐리어 유닛(52)의 단부면이다.
캘리브레이션 카메라(212)는 기판 캐리어 유닛(52)에, 예를 들어 그것의 하부 구조(112)에, 공급 방향(66)에 대해 실질적으로 가로 방향으로, 바람직하게는 공급 방향(66)에 대해 적어도 대략 수직으로, 이동 가능하게 배치된다.
예를 들어, 캘리브레이션 카메라(212)는 이동 가능하게 안내되도록 선형 축(216)에 홀더(218)를 이용해서 배치되고, 상기 선형축은 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 연장된다.
특히, 캘리브레이션 카메라(212)는, 상기 카메라가 각각의 노광 유닛(152)의 각각의 노광 섹터(162)를 통해 이동할 수 있도록, 이동 가능하게 배치된다.
이미징 시스템(214)에 의해, 캘리브레이션 카메라(212)는 좌표계(X2, Y2)에서 이미징 영역(222)을 캡쳐한다.
바람직하게는, 이미징 영역(222) 내에 광학 소자(224)가 배치된다.
특히, 광학 소자(224)는 빔 시각화 소자로서 설계되어, 캘리브레이션 카메라(212)를 위한 광학 소자(224)로 광빔(159)의 입사 지점(226)이 캡쳐될 수 있다. 예를 들어, 광학 소자(224)는 광빔(159)을 산란시킨다.
예를 들어, 광학 이미징 소자(224)는 유리, 특히 유리 플레이트로 형성된다.
이미징 영역(222), 예를 들어, 캘리브레이션 카메라(212)를 향하는 광학 소자(224)의 측면은, 특히 캘리브레이션 카메라(212)의 렌즈 평면에 위치하여, 캘리브레이션 카메라(212)는 이미징 영역(222)의 이미지를 선명하게 캡쳐한다.
특히, 이미징 시스템(214) 및 특히 광학 소자(224)는, 예를 들어 홀더(218)를 이용해서, 캘리브레이션 카메라(212)에 고정 연결되어, 광학 소자(224) 및 이미징 영역(222)은 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로, 바람직하게는 적어도 대략 수직으로 이동 가능하고, 캘리브레이션 카메라(212)의 이동에 따라 함께 이동한다.
바람직하게는, 이미징 영역(222)은 실질적으로 노광 평면(160)에서 연장된다.
변형예에서, 이미징 영역(222)은 실질적으로 기하학적 유지 평면(132)에서 연장된다.
또한, 캘리브레이션 시스템(56)은 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232), 예를 들어 2개의 래퍼런스 마킹(232a, 232b)을 갖는다.
래퍼런스 마킹(232)의 위치는 캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2)에서 공개되며, 특히 이러한 위치는 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 캡쳐된다.
특히, 래퍼런스 마킹(232)은 이미징 영역(222) 내에, 바람직하게는 광학 소자(224)에 배치된다.
예를 들어, 래퍼런스 마킹(232)은 이미징 영역(222)의 가장자리 영역에 배치되어, 상기 마킹은 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 캡쳐되고 이미징 영역(222)의 중심 영역은 자유롭다.
특히, 래퍼런스 마킹(232)은 높은 콘트라스트 구조(234)를 포함하며, 상기 구조는 래퍼런스 마킹(232)이 배치된 배경과 광학적으로 높은 콘트라스트로 두드러진다.
래퍼런스 마킹(232)은 들어 크롬 또는 산화크롬으로 형성된다.
또한, 캘리브레이션 시스템(56)은 캘리브레이션 카메라(212)의 위치 및 예를 들어 선형 축(216)을 따른 상기 카메라의 이동을 캡쳐하는 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)을 더 포함한다.
특히, 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)은 선형 축(216) 상의 캘리브레이션 카메라(212)의 위치를 캡쳐한다.
레지스트레이션 시스템(58)은 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라(252)를 포함한다.
바람직한 변형예에서, 2개의 레지스트레이션 카메라(252)가 제공된다.
예를 들어, 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라(252)는 기계 프레임(62)의 브리지(254)에 배치된다.
바람직하게는, 브리지(254)는 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 연장된다.
특히, 브리지(254)는 가이드(68)에 걸쳐 있고, 기판 캐리어 유닛(52)은 브리지(254) 아래를 통해 이동될 수 있다.
특히, 기판 캐리어 유닛(52)은 레지스트레이션 카메라(252)에 대해 이동 가능하게 배치된다.
기판 캐리어 유닛(52)의 적어도 하나의 레지스트레이션 위치(258)에서, 레지스트레이션 카메라(252)는 기판 캐리어 유닛(52)으로 정렬되고, 특히 지지 영역(128)을 캡쳐한다.
따라서 기판 캐리어 유닛(52)에 적절하게 배치된 기판 바디(12)는 레지스트레이션 위치(258)에서 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐될 수 있다.
레지스트레이션 카메라(252)는, 특히 레지스트레이션 위치(258)에서, 기판 캐리어 유닛(52)에 배치된 기판 바디(12)의 위치와 정렬을 좌표계(X3, Y3)에서 캡쳐한다.
예를 들어, 레지스트레이션 카메라(252)는 기판 바디(12) 및/또는 기판 바디(12)의 모서리 및 에지에 있는 래퍼런스 마커에 기초하여 기판 바디의 위치 및 정렬을 캡쳐한다.
또한, 기판 캐리어 유닛(52)의 적어도 하나의 래퍼런싱 위치(264)에서, 래퍼런스 마킹(232)은 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐될 수 있다.
이로써 가공 설비(10)가 작동하고, 상기 설비의 캘리브레이션은 바람직하게는 다음과 같이 이루어진다:
노광 유닛들(152)의 정렬 및 셋업을 위해, 캘리브레이션 카메라(212)는 개별 노광 유닛(152)의 노광 섹터들(162) 내에서 그리고 그들 사이에서 이동된다.
특히, 기판 캐리어 유닛(52)은, 예를 들어 가이드(68)에서, 공급 방향(66)으로 이동되고, 캘리브레이션 카메라(212)는 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 선형 축(216)을 따라 이동된다.
이 경우 공급 방향(66)을 따른 기판 캐리어 유닛(52)의 정확한 위치는 항상 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템(118)에 의해 캡쳐되고, 선형 축(216)을 따른 캘리브레이션 카메라(212)의 정확한 위치는 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)의 에 의해 캡쳐되어, 이들의 위치는 고도로 정확하게 공개된다. 예를 들어, 이들의 위치는 최대 ± 0.1 mm, 보다 바람직하게는 ± 0.05 mm, 더 바람직하게는 ± 0.001 mm, 특히 바람직하게는 ± 0.0005 mm의 공차를 갖는 것으로 공개되어 있다.
캘리브레이션 카메라(212)는 이미징 영역(222) 내의 광빔(159)의 입사 지점(226) 및 래퍼런스 마킹(232)를 캡쳐한다(도 7a).
따라서, 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 그것의 좌표계(X2, Y2)에서 래퍼런스 마킹(232)에 대해, 노광 유닛(152)의 좌표계(X1, Y1)에서 위치가 공개된 입사 지점(226)의 위치가 캡쳐된다.
이로써 노광 유닛의 좌표계(X1, Y1)와 캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2) 사이의 변환이 가능해진다.
또한, 캘리브레이션 카메라(212)는 노광 유닛들(152)의 개별 노광 섹터(162) 내로 이동되고 편향 장치(158)의 조정에 의해 노광 섹터들(162)은 서로 정렬된다.
이를 위해 특히 열들(168)의 종점은 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 캡쳐되고, 편향 장치들(158)은, 서로 필수적인 상대 위치를 갖는 2개의 인접한 노광 섹터(162)의 각각의 종점들이, 특히 서로 실질적으로 공급 방향(66)으로 서로 오프셋 되어 배치되도록 그리고 예를 들어 공급 방향(66)에 대해 가로 방향으로 서로 간격을 갖도록 매칭되고, 상기 간격은 열(168) 내의 인접한 그리드 포인트(RP) 사이의 간격과 실질적으로 동일한 크기이다.
캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2)와 레지스트레이션 카메라(252)의 좌표계(X3, Y3)를 서로 조정하기 위해, 기판 캐리어 유닛(52)은, 예를 들어 공급 방향(66)으로 기판 캐리어 유닛(52) 및 선형 축(216)을 따라 캘리브레이션 카메라(212)가 이동함으로써 래퍼런싱 위치(264)로 이동된다.
이 경우 레지스트레이션 카메라(252)는 캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2)에서 위치가 공개된 래퍼런스 마킹(232)의 위치를 좌표계(X2, Y2)에서 캡쳐한다. 따라서 캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2)와 레지스트레이션 카메라(252)의 좌표계(X3, Y3) 사이의 조정 및 변환이 가능해진다(도 7b).
이 경우 기판 캐리어 유닛(52)과 캘리브레이션 카메라(212)의 이동 시 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)와 노광 시스템(56)의 좌표계(X1, Y1) 및 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3) 사이의 공간적인 상대 변위는 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템(118)과 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)에 의한 상기 이동의 캡쳐에 의해, 특히 매우 고도로 정확하게 공개된다.
캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)와 한편으로 노광 시스템(54)의 좌표계(X1, Y1) 사이 및 다른 한편으로 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3) 사이의 이와 같이 결정된 변환은 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3)와 노광 시스템(54)의 좌표계(X1, Y1) 사이의 변환도 결정될 수 있다.
바람직하게는, 예를 들어 컴퓨터 보조 제어 시스템(32)에 의해 자동으로, 가공 설비(10)의 구성 요소들, 특히 기판 캐리어 유닛(52), 노광 시스템(54), 캘리브레이션 시스템(56) 및 레지스트레이션 시스템(58)의 전술한 조정 및 캘리브레이션이 이루어진다.
기판 바디(12)를 가공하기 위해, 특히 상기 기판 바디의 노광을 위해, 기판 바디(12)는 기판 캐리어 유닛(52)에 배치되고, 특히 지지 영역(128) 내에 배치되고 유지 장치(122)에 의해 유지된다.
바람직하게는 가공 측면(28)은 실질적으로 노광 평면(160)에서 높이 조절 가능 유지 장치(122)에 의해 위치설정 된다.
배치된 기판 바디(12)에 의해 기판 캐리어 유닛(52)은 레지스트레이션 위치(258)로 이동되고, 기판 바디(12)의 위치와 정렬이 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 그것의 좌표계(X3, Y3)에서 캡쳐된다.
가공 설비(10)의 조정 및 캘리브레이션에 의해 기판 바디(12)의 위치 및 정렬은 따라서 노광 시스템(54)의 좌표계(X1, Y1)에도 공개되어 있다.
기판 바디(12)의 노광을 위해 상기 기판 바디는 기판 캐리어 유닛(52)에 의해 노광 섹터(162)를 통해 이동되고, 노광 유닛들(152)은, 특히 상기 유닛의 각각의 노광 스트립(164)은 미리 규정된 구조(42)를 갖는 기판 바디(12)를 노광시킨다.
도 8에 예를 들어 부분적으로 도시된 본 발명에 따른 가공 설비(10)의 제2 실시예에서 제1 실시예의 부품들과 동일한 부품들에는 동일한 도면부호가 제공되고, 그것의 설명에 대해서 제1 실시예에 관한 설명이 전체적으로 참조된다.
제2 실시예에서, 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232), 예를 들어 2개의 래퍼런스 마킹(232a, 232b)은 캘리브레이션 시스템(56)의 부재(322), 예를 들어 홀더(218)에 설치된다.
이 경우 부재(322)는 캘리브레이션 카메라(212)에 고정 연결된다.
특히, 부재(322)는 예를 들어 선형 축(216)을 따라 동일한 방식으로 캘리브레이션 카메라(212)와 함께 이동한다.
따라서 바람직하게는, 적어도 가공 설비(10)의 일반적인 작업 조건하에서, 래퍼런스 마킹(232)과 캘리브레이션 카메라(212) 사이의 상대 위치는 실질적으로 일정하다.
캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)에서 래퍼런스 마킹(232)의 위치는, 예를 들어 한 번 측정되고, 후속 사용을 위해, 예를 들어 가공 설비(10)의 구성 요소들의 캘리브레이션 및 정렬을 위해 제어 시스템(312)에 저장된다.
노광 유닛(152)의 정렬은 제2 실시예에서 제1 실시예와 유사한 방식으로 수행된다. 광빔(159)의 입사 지점(226)은 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 그것의 좌표계(X2, Y2)에서 캡쳐된다. 따라서 노광 유닛(152)의 좌표계(X1, Y1)로부터 캘리브레이션 카메라(212)의 좌표계(X2, Y2)로 변환이 결정될 수 있고, 개별 노광 섹터들(162)은 서로 정렬될 수 있다.
또한, 레지스트레이션 카메라(252)는 래퍼런싱 위치에서 래퍼런스 마킹(232)을 캡쳐하여, 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)에서 래퍼런스 마킹(232)의 위치가 공개된 경우에 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3)와 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2) 사이의 변환이 결정될 수 있다.
캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)에서 래퍼런스 마킹(232)의 위치를 정밀 결정하기 위해 예를 들어, 래퍼런스 구조가 제공된 테스트 기판 바디(12')는 테스트 구조를 갖는 가공 설비(10)에 의해 노광되고, 상기 테스트 구조는 예를 들어 래퍼런스 구조와 실질적으로 동일하게 구성된다.
이 경우 특히 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3)와 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2) 사이의 변환을 위해 제1 근사가 사용된다.
래퍼런스 구조와 노광된 테스트 구조 사이의 공간적 오프셋으로부터, 좌표계(X3, Y3)와 좌표계(X2, Y2) 사이의 변환의 근사를 위한 보정이 결정될 수 있고, 상기 오프셋은 예를 들어 제어 시스템(312)에 저장된다.
따라서 오프셋으로 변환의 제1 근사의 보정에 따라 레지스트레이션 시스템(58)의 좌표계(X3, Y3)와 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2) 사이에 고도로 정확한 변환이 결정된다.
또한, 캘리브레이션 시스템(56)의 좌표계(X2, Y2)에서 이와 같이 결정된 래퍼런스 마킹(232)의 위치는 바람직하게는 제어 시스템(312)에 저장되므로, 가공 설비(10)의 후속 조정 및 정렬 시 이들 위치에 액세스될 수 있다.
따라서 제2 실시예에서도 바람직하게는 가공 설비(10)의 구성 요소들의 자동 조정 및 정렬이 가능해진다.
도 9에 도시된 본 발명에 따른 가공 설비의 제3 실시예에서, 래퍼런스 마킹(232'a)은 내부 영역(233')을 둘러싸며 매우 정확하게 캡쳐될 수 있는 라인 윤곽으로서 형성된다.
또한, 제1 실시예의 요소들과 동일한 모든 요소들은 동일한 도면부호를 가지므로, 제1 실시예에 관한 설명이 전체적으로 참조된다.

Claims (32)

  1. 기판 바디(12)를 위한 가공 설비(10), 특히 광학 가공 설비(10)로서, 하나의 노광 유닛(152) 또는 다수의 노광 유닛(152)을 갖는 노광 시스템(54), 상기 노광 시스템(54)을 조정하기 위한 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)를 갖는 캘리브레이션 시스템(56), 기판 바디(12)를 위한 유지 장치(122)를 갖는 기판 캐리어 유닛(52) 및 하나의 레지스트레이션 카메라(252) 또는 다수의 레지스트레이션 카메라(252)를 갖는 레지스트레이션 시스템(58)을 포함하고, 상기 기판 캐리어 유닛(52)의 적어도 하나의 레지스트레이션 위치(258)에서 상기 유지 장치(122)에 의해 유지되는 상기 기판 바디(12)의 위치 및/또는 정렬이 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐될 수 있는 가공 설비(10)에 있어서,
    상기 캘리브레이션 시스템(56)은 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에 대해 미리 규정된 상대 위치에 각각 배치된 하나의 래퍼런스 마킹(232) 또는 다수의 래퍼런스 마킹(232)을 가지며, 상기 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232)은 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐될 수 있는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판 캐리어 유닛(52)과 상기 노광 시스템(54)은 서로에 대해 이동 가능한 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판 캐리어 유닛(52)과 상기 레지스트레이션 시스템(58)은 서로에 대해 이동 가능한 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판 캐리어 유닛(52)은 상기 노광 시스템(54) 및/또는 상기 레지스트레이션 시스템(58)에 대해서 공급 방향(66)으로 실질적으로 선형 이동 가능한 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가공 설비(10)는 상기 기판 캐리어 유닛(52)의 위치의 고도로 정확한 캡쳐를 위한 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템(118)을 포함하는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 상기 노광 유닛(152)은 광원(156) 및 광학 편향 장치(158)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 상기 노광 유닛(152)은 각각의 노광 섹터(162)에서 노광을 위해 제공되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  8. 제7항에 있어서, 조정된 상태에서 상기 개별 노광 유닛(152)의 상기 노광 섹터들(162)은 각각 서로 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노광 시스템(54)은 실질적으로 노광 평면(160)에 배치된 상기 기판 바디(12)의 가공 측면(28)의 노광을 위해 정렬되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)는 각각의 노광 섹터(162)에서 및 상기 노광 섹터들(162) 내에서 이동 가능한 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)는 상기 기판 캐리어 유닛(52)에 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)는 상기 공급 방향(66)에 대해 적어도 대략 수직으로 이동 가능하게 상기 기판 캐리어 유닛(52)에 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 캘리브레이션 시스템(56)은 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)의 위치를, 특히 고도로 정확하게 캡쳐하는 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)을 포함하는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 실질적으로 노광 평면(160) 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 각각 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에 대해 실질적으로 일정한 상대 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(252)를 위한 광학 이미징 시스템(214)의, 상기 캘리브레이션 카메라에 고정 연결된 광학 소자(224)에, 특히 빔 시각화 소자에, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)이 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹이 배치된 상기 광학 소자(224)의 표면은 실질적으로 상기 노광 평면(160)에서 연장되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)의 이미징 영역(222)에 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 상기 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에, 특히 고정 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 상기 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)의 홀더(218)에 특히 고정 배치되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 적어도 기판 캐리어 유닛(52)의 래퍼런싱 위치(264)에서 하나의 또는 다수의 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐될 수 있는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 배경 영역에 대해 광학적으로 높은 콘트라스트 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 다수의, 특히 모든 래퍼런스 마킹(232)은 광학 소자(224) 위에 및/또는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212) 위에 및/또는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)의 홀더(218) 위에 코팅으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 래퍼런스 마킹들(232)은 전체 영역의 마킹으로서, 규정된 외부 윤곽으로 형성되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  25. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 래퍼런스 마킹(232)은 라인 윤곽, 특히 내부 영역을 둘러싸는 라인 윤곽으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 가공 설비.
  26. 기판 바디(12)를 위한 가공 설비(10)를 작동시키기 위한 방법, 특히 상기 가공 설비(10)의 구성 요소들을 조정 및 정렬하기 위한 방법으로서, 상기 가공 설비(10)는 하나의 노광 유닛(152) 또는 다수의 노광 유닛(152)을 갖는 노광 시스템(54), 상기 노광 시스템(54)을 조정하기 위한 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)를 갖는 캘리브레이션 시스템(56), 기판 바디(12)를 위한 유지 장치(122)를 갖는 기판 캐리어 유닛(52) 및 상기 유지 장치(122)에 의해 유지되는 상기 기판 바디(12)의 위치 및/또는 정렬을 캡쳐하기 위한 하나의 레지스트레이션 카메라(252) 또는 다수의 레지스트레이션 카메라(252)를 갖는 레지스트레이션 시스템(58)을 포함하는 방법에 있어서,
    상기 캘리브레이션 시스템(56)은, 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에 대해 규정된 상대 위치에 각각 배치된 하나의 래퍼런스 마킹(232) 또는 다수의 래퍼런스 마킹(232)을 가지며, 상기 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232)은 하나의 또는 적어도 하나의 레지스트레이션 카메라(252)에 의해 캡쳐되는 것을 특징으로 하는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 상기 노광 시스템(54)은 상기 캘리브레이션 시스템(56)을 이용해서 조정되는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 제26항 또는 제27항에 있어서, 하나의 또는 적어도 하나의 기준 마킹(232)에 대해서, 하나의 또는 다수의 노광 유닛(152)으로부터 방출된 하나의 또는 다수의, 특히 모든 광빔(159)의 빔 경로는 캘리브레이션 시스템을 이용해서 캡쳐되는 것을 특징으로 하는 방법.
  29. 제26항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232)의 위치는 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에 의해 캡쳐되는 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제26항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)에 대한 하나의 또는 적어도 하나의 래퍼런스 마킹(232)의 위치는 제어 시스템(312)에 저장되는 것을 특징으로 하는 방법.
  31. 제26항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 노광 시스템(54)의 노광 평면(160)에 대해 평행하게 적어도 하나의 캘리브레이션 카메라(212)의 이동 및/또는 위치가, 특히 고도로 정밀하게, 캘리브레이션 카메라 캡쳐 시스템(242)에 의해 캡쳐되는 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제26항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노광 시스템(54)에 대한 및/또는 상기 레지스트레이션 시스템(58)에 대한 상기 기판 캐리어 유닛(52)의 이동 및/또는 위치는, 특히 고도로 정밀하게, 기판 캐리어 유닛 캡쳐 시스템(52)에 의해 캡쳐되는 것을 특징으로 하는 방법
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210074496A (ko) * 2019-12-12 2021-06-22 세메스 주식회사 카메라 정렬 방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020113002B3 (de) * 2020-05-13 2021-08-26 Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg Bestimmen der Genauigkeit einer Bestückmaschine bei mehrfacher Verwendung eines Test-Bauelements
DE102020124006B3 (de) * 2020-09-15 2022-01-05 Laser Imaging Systems Gmbh Belichtungssteuerung bei photolithographischen direktbelichtungsverfahren zur leiterplatten- oder schaltkreisherstellung

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7058474B2 (en) * 2000-11-08 2006-06-06 Orbotech Ltd. Multi-layer printed circuit board fabrication system and method
DE10242142A1 (de) 2002-09-03 2004-03-25 Kleo Halbleitertechnik Gmbh & Co Kg Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von belichteten Strukturen
TWI260154B (en) * 2003-07-03 2006-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming device
DE102006059818B4 (de) 2006-12-11 2017-09-14 Kleo Ag Belichtungsanlage
US7847938B2 (en) 2007-10-01 2010-12-07 Maskless Lithography, Inc. Alignment system for optical lithography
GB0802944D0 (en) 2008-02-19 2008-03-26 Rumsby Philip T Apparatus for laser processing the opposite sides of thin panels
DE102009032210B4 (de) * 2009-07-03 2011-06-09 Kleo Ag Bearbeitungsanlage
DE102009046809B4 (de) * 2009-11-18 2019-11-21 Kleo Ag Belichtungsanlage
WO2011104372A1 (en) * 2010-02-26 2011-09-01 Micronic Mydata AB Method and apparatus for performing pattern alignment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210074496A (ko) * 2019-12-12 2021-06-22 세메스 주식회사 카메라 정렬 방법

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