TW202016647A - 利用多個寫入柱的各者進行多個掃描，來製作準確的光柵圖案的微影系統及進行微影的方法 - Google Patents

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Abstract

提供一種用於產生光柵結構的微影系統，此微影系統具有多個柱成像系統，位於能夠在一橫向掃描方向上移動的橋上；一遮罩，具有位於成像系統的一物件平面中的具有固定空間頻率的光柵圖案；一多線對準標記，與光柵圖案對準並具有一固定空間頻率；一平台，配置成用以固定及掃描基板；一掃描系統，配置成用以使平台移動的距離大於基板上的光柵圖案的所需長度；一縱向編碼器刻度，附接至平台並定向於掃描方向上，及至少兩個編碼器刻度附接至平台並布置於橫向掃描方向上，其中刻度包含具有固定空間頻率的週期性間隔開來的對準標記。

Description

利用多個寫入柱的各者進行多個掃描，來製作準確的光柵圖案的系統及方法
本揭露的一些方面是有關於製造多種類型的電子產品的平面顯示器(flat panel display)。特別是，此些方面涉及用於製造線柵偏光鏡(wire grid polarizer)的系統和方法，其中生產這種偏光鏡的製造系統具有由多個柱(column)的各者進行多次掃描所產生的光柵圖案。
在每個液晶電視組中都需要一組有效的偏光鏡，各個偏光鏡被配置成用以透射一個偏光，並反射一正交偏光。這些偏光鏡的尺寸與電視圖像的尺寸大致相同，因此，隨著電視尺寸的不斷增加，需要對角線測量的尺寸大於66英寸的偏光鏡。線柵偏光鏡一般由玻璃基板(或晶片)上的微細線(microscopic wire)陣列構成，此微細線選擇性地透射偏光。偏光鏡是平面顯示器的重要成本要素，這種偏光鏡可占平面系統總成本的30％。
電視及平面顯示器系統尺寸的增加，刺激了構成電視螢幕的基板的尺寸及必要附件的增加，其中一些尺寸接近三平方公尺。為了在商業上可行，有必要在包括裝載及卸載時間的盡可能短的時間內，在玻璃基板上的期望的表面上產生精細的光柵圖案，以使精細的光柵圖案滿足電子裝置的特定偏光需求。光柵線和間隔的尺寸可以是在50-100nm的數量級上，並且這些光柵線被均勻地間隔開，從而不會在為用戶創建的圖片結果中導致明顯的缺陷。
為了在相對短的時間內在較大的面積上曝露一光柵，必須採用多個光學柱，在各個光學柱寫入多條光柵圖案。此方案的典型問題是，欲達成並維持使投影的光柵圖案相對於由同一光學柱完成的先前的光柵條、及有關於由相鄰柱印刷的條兩者的正確對準。作為一非限制性的例子，如果投影的光柵圖案具有100nm的線及間隔，並且投影的光柵中的線的長度為0.2mm，則為了防止顯著的影像污跡，需要使基板的行進方向與光柵線的方向對準，使0.2mm的長度上的汙跡量少於10nm。遮罩上的光柵線方向與載物台的掃描方向之間的角對準應在10nm/0.2mm，也就是20000中的1個部分內，或是大約10.3弧秒。在已知的系統中，這種角對準非常難以達成及維持。
已知的系統具有的另一個問題是，基板必須以非常準確的精度，相對於連續掃描之間的柱，在橫向掃描(cross-scan)方向上步進，以避免錐形影像重疊之處的影像汙跡。如果未準確地執行此種橫向步進(cross-stepping)，則最後一次掃描中的累積誤差將無法與相鄰柱完成的第一次掃描正確地對準。
需要提供一種系統及方法，以允許使用多個寫入柱來製造準確的光柵圖案，並允許在每次掃描中產生的多個光柵條被準確地對準並均勻地曝露在整個基板表面上，從而提供具有高效率的偏光柵。
以下內容不應被認為是用於限制本揭露的方面。
在一非限制的實施例中，揭露一微影系統包括多個位於一橋上的成像系統，此橋能夠在一橫向掃描方向上移動；一遮罩，具有一光柵圖案及一多線對準標記，此光柵圖案在各個成像系統的一物件平面中具有固定空間頻率、此多線對準標記對準此光柵圖案並且具有固定空間頻率；一平台，配置成用以保持及定位一基板；一掃描系統，配置成用以使此平台移動的距離大於此基板上的光柵圖案的所需長度；一縱向編碼器刻度，附接至此平台並定向於一掃描方向上；及至少兩個編碼器刻度，附接至此平台並定向於一橫向掃描方向上，其中此些刻度包含具有固定空間頻率的週期性間隔開來的對準標記。
在一非限制的實施例中，揭露進行微影的方法，包括放置一基板於一第一位置中的一平台上；使用一成像系統，使用一掃描系統對此基板上的光柵圖案進行成像以產生一第一掃描，同時使用一編碼器刻度及讀數器(readouts)以定義基板的掃描路徑及角偏向；指引橋保持光學柱至相對於掃描系統的一第二位置，使得此第二位置被設定，其中一第二掃描一第二曝光條對準相鄰於第一曝光條，且因此使曝光區域的寬度延伸。
根據以下描述及所附申請專利範圍，其他方面及優點將變得顯而易見。
在以下描述中，參考本揭露的實施例。然而，應理解的是，本揭露不限於特別描述的實施例。相反的，可以利用以下特徵和元素的任何組合，無論是否與不同的實施例相關，都可以用以實施及實踐本揭露。此外，儘管本揭露的實施例可以達成優於其他可能的解決方案及/或相對於現有技術的優勢，不論通過給定的實施例是否實現特定的優勢，這並不限制本揭露。因此，以下方面、特徵、實施例及優點僅是示例性的，並且不被認為是所附申請專利範圍的元素或限制，除非在申請專利範圍中被明確敘述。同樣地，對於「本揭露」的引用不應被解釋為本文所揭露的發明主題的概括，並且除非是在申請專利範圍中明確地敘述，否則不應被認為是所附申請專利範圍的元素或限制。
現在將參考附圖描述一些實施例。為了一致性，在多個附圖中，相同的元件將用相同的標記表示。在以下描述中，闡述了許多細節以提供對於多個實施例及/或特徵的理解。然而，本領域技術人員應理解的是，可以在沒有許多的這些細節的情況下實踐一些實施例，並且可以對所描述的實施例進行多種變化或修改。此處所使用的術語「在…上(above)」及「在…下(below)」、「往上(up)」及「往下(down)」、「向上(upwardly)」及「向下(downwardly)」、及其他表示在給定的點或元素的上方或下方的相對位置的類似的術語，是用於此說明書中，以更清楚地描述特定實施例。
揭露了一種用於製造用於一平面顯示器的線柵偏光鏡的準確光柵圖案的系統(裝置)及方法。出於各種原因，掃描載物台可能會將一加速負載極限施加於系統上。舉例來說，在所描述的實施例中，將一0.5g的加速負載極限與一2m/s的最大速度極限一起施加於系統上。也可以施加其他的限制。系統架構師可以執行一組計算，以決定最具成本效益的材料處理方法，並且所產生的限制可能與以下例子中所假定的限制明顯不同。應理解的是，這樣的計算僅是示例性的，並且如果需要更大的速度及加速度來準備光柵圖案，則可以改變計算以提供不同的結果。
如上所述及施加，要計算以2m/s的限制，沿典型裝置(基板)執行一掃描所需的持續時間： 加速/減速時間(以秒為單位)=速度/加速度=(2m/s)/(0.5x9.8m/s2 )=0.408秒。
以2m/s的掃描速度掃描3米長的面板(用於大型平面顯示器)的時間為1.5秒。加速、掃描載物台、及減速的總時間=0.408秒+1.5秒+0.408秒=2.316秒。
因此可以觀察到，要利用20mm寬的影像條來覆蓋整個三(3)米寬的面板，以形成線光柵圖案，需要進行150次掃描。因此，當在寫入製程中僅使用一個光學柱時，用於處理單個3乘3米平方的區域的總時間將為2.316秒/每次掃描x150次掃描=347.5秒。這種單柱處理是不經濟的，因此需要更經濟的選擇。
系統設計師發現，如下所示，使用多柱製程而不是提供單柱製程可能更經濟，其中多柱製程的各柱是用於進行多次掃描。儘管被描述為進行多次掃描，此系統及方法可以改變掃描次數以達成期望的效率。
舉例來說，為了決定可用於處理三(3)米寬的薄膜面板的掃描次數，假定(帶有材料的)載物台101的裝載及卸載時間總計為15秒 。也希望在一(1)分鐘內完全處理整個基板，以便與工廠中的其他操作達成相容性。減法得出的結果是，處理整個基板(將光柵圖案放置到基板上)的時間數量為：1分鐘的總處理時間-15秒的裝載及卸載時間=剩下45秒的放置光柵圖案的時間。
因此，達到45秒的掃描時間所需的柱的數量為347.5秒/45秒=7.72個柱，四捨五入至八(8)個柱。在同時處理八(8)個柱的情況下，每個柱僅寫入十九(19)個條。因此，在所示的實施例中，使用了八(8)個柱。如本領域技術人員將認知到的，可以利用更大數量的柱來進行處理，並且將會處理地更快。
參照第1圖，可移動的平台100支持(保持)一基板102。在所示的實施例中，基板102可以是一玻璃基板，此玻璃基板具有對來自一微影製程的曝光敏感的一表面塗層。可利用真空，以將基板102夾至平台100。平台100具有兩個編碼器刻度104、106，此兩個編碼器刻度104、106可以用於在處理期間對準包括有光學柱的橋及在各個柱中的像場的位置。兩個編碼器刻度104、106是由精確放置的對準靶所組成，各個對準靶是由5條線的一組所組成。在所示的實施例中，平台100係配置成用以沿頁面的y方向，以20mm步進移動。利用兩個編碼器刻度104、106，使位於橋上的透鏡陣列108維持對準，以檢查每次步進移動後的透鏡陣列108的對準。透鏡陣列108可以是半戴森光學成像系統，此半戴森光學成像系統包括一主鏡、一正透鏡、及一調制盤。
編碼器刻度104、106上的對準靶110、111係以20mm間隔開來，使得可以精確地追蹤透鏡陣列的移動、或是單個透鏡在透鏡陣列108中的位置。對於所描述的實施例，透鏡陣列108根據需要提供了用於投影影像的設備，影像例如是一光柵圖案。
藉由將兩個編碼器刻度讀數器118、119放置且安裝在地面上，並沿平台100或卡盤(chuck)的一側與所需的掃描方向對準，並從中導出用於使掃描方向與編碼器刻度167的中心對準的一信號，可以達成使載物台101沿一直線移動。通過計算機控制，可以掃描載物台101、或者使包含光學柱的橋步進，以使得在基板102上所執行的連續掃描是對準的。掃描系統149係配置成用以精確地在直線上來回移動，並且在每次掃描之後，橋在橫向掃描方向上步進以定位光柵影像，以曝光下一個條。每個步進對應於固定的、整數個光柵週期。可以利用準確的編碼器來獲得距離，然後將投影的光柵圖案對準靶對準內建在平台100或卡盤中的對準圖案來完成，使得可以使用此距離來重新定位柱相對於掃描行程末端的基材的位置。
在所示的實施例中，通過利用具有355nm的波長的雷射115的0.8875NA的半戴森光學成像系統116，在具有200nm的線及間隔的遮罩上成像一光柵圖案，來形成具有100nm的線及間隔的光柵影像。通過消除影像中的任何零階繞射，影像的空間頻率將增加一倍。這樣的系統116係用於產生用於微影系統117的影像。雷射115具有單一橫向模式，並且可用於創造受繞射限制的影像。此曝光在光柵圖案影像的末端也可以是錐形的，並與影像的條的錐形邊緣重疊，與另一條帶重疊，使得相鄰掃描之間的輕微配準誤差不會產生人眼可識別的尖銳不連續性。從包含1：1的戴森成像系統的中等尺寸的光學柱中，可以輕易獲得20mm的光柵影像寬度。
第1圖繪示兩個編碼器刻度104、106以及它們在平台100或卡盤上的位置，以使橋的步進增量保持恆定，並確保步進誤差不會明顯地使得掃描稍微重疊的重疊區域模糊。在這種情況下，平台100沿著一單一軸(又稱為掃描軸112)來回移動，此軸定義一掃描方向113，此掃描方向在第1圖中是水平的，且包含光學柱的橋在垂直方向上步進，以分離在連續掃描中曝光的光柵條。一縱向編碼器刻度167包含沿著平台100的底部延伸的長線，此縱向編碼器刻度167是用於定義掃描路徑，並防止平台100在掃描期間的任何旋轉。沿編碼器刻度167放置兩個讀出裝置，即讀數器118、119，讀數器118、119提供定義掃描路徑及抑制平台旋轉的信號。藉由對兩個編碼器讀出裝置的總和來獲得平台100在第1圖的垂直方向上的位置。平台的旋轉與兩個讀數器的差是成比例的。通過將總和及差維持在恆定值，在掃描過程中，掃描方向及平台旋轉係保持穩定。如本領域技術人員將理解的，期望將平台的旋轉保持在最小。接著，可以將包含光學柱的橋步進到可執行一第二掃描的位置。可以通過一計算機或其他類似裝置來控制掃描的執行。
位於平台100的任一端的兩個編碼器刻度104、106包含一連串的五線光柵圖案107，此些光柵圖案107可以用作對準靶。當結合至遮罩中的一對準目標成像至平台上的其中一個對準目標上並掃描此對準目標時，將產生一對準信號，並處理以產生下一個光柵條的實際位置與理想位置之間的偏移。可以通過移動整個橋來校正此誤差，這將改變每個柱生成的影像的位置，或者通過傾斜產生偏移的柱中的主鏡，來使遮罩目標影像完美地位於橫向掃描方向中的平台靶上的中心。可以通過稍微傾斜投影系統中的主鏡，以稍微移動投影的圖像的位置，來進行微調。粗調需要重新放置光學柱。在平台100的任一端的兩個垂直編碼器刻度104、106需要被調整，使得在一個端部所測量的一偏移誤差對應於另一端的一相同誤差。
戴森對準系統
戴森對準系統中的遮罩204包含200nm的線及間隔光柵圖案，此間隔光柵圖案的長度約為20mm、最大寬度為0.2mm。在所示的實施例中，按照二步進製程(two-step process)將光柵圖案中的線與掃描方向精確地對準，否則，當在整個基板上掃描線時，光柵圖像將會汙跡。
使光柵線方向與掃描方向對準包括一第一步進，其中一基板包括一五線靶，此五線靶從此基板的一側延伸至另一側，此基板利用平台中提供的一西塔(theta)調整，以與掃描方向對準。這是通過量測基板靶在戴森場(Dyson field)中的一固定點的橫向掃描位置及多個掃描位置來完成的。基板靶位置的任何差，都表示基板靶方向及掃描方向之間的未對準，此未對準可以通過調整基板的方向來進行校正。一旦基板靶被正確地對準，它就被用來對準物體光柵圖案的方向。在這種情況下，使基板保持靜止，並改變戴森場中用於量測偏移的點，並旋轉戴森遮罩直到達到一零位(null position)為止。
第2圖繪示戴森成像系統205中所使用的戴森調制盤201的示意圖，此戴森調制盤201用於製作準確的光柵圖案。在此例子中，一鍍鋁相位光柵圖案202是由200nm的線及間隔所組成，且垂直向下延伸至遮罩204的中心的窄線是遮罩對準靶，此遮罩對準靶包含五線對準靶203，每條線的寬度為200nm並且相隔400nm。光柵圖案202具有固定的空間頻率。戴森遮罩204上的五線對準靶203可以用一窄光束照明，此窄光束與用以形成光柵影像的照明具有相同波長。照明光束可以從光柵上方6mm的位置切換到光柵下方6mm的位置。第2圖中的兩條水平線表示遮罩圖案上的聚焦雷射光束的兩個可能位置。如果光柵線都具有相同的長度，則用一高斯光束(Gaussian beam)照射遮罩圖案將導致非常不均勻的曝光。因此，使光柵線的中心比兩端更短，以便在整個場的寬度上達成一恆定的曝光劑量。光柵的影像通過遮罩207上的一窗口投射，此窗口位於系統軸的相對側上，並位於第2圖的小圓圈的中心。基板焦平面緊靠在遮罩物件平面下方，遮罩對準靶的照明位置也通過遮罩投影在光軸的對側上。因此，五線對準靶203在位置203'成像，並且靶206在位置206'成像。
第3圖描繪了戴森遮罩上包含的對準靶的橫截面，且第4圖描繪了戴森上的兩個小反射區域，這些區域主要收集了來自遮罩靶的±1繞射級，並將此些繞射級成像到基板上。零繞射級被放棄。從第3圖中可以看出， 沿著位移軸(x)以um表示靶的五線。五線群組的中心線係沿x(um)值為0處，位居中心。
第5圖係繪示主鏡表面的光瞳處的±1繞射級的振幅。由於戴森主鏡上的反射區域僅限於兩個小的反射區域中，如第4圖所示(結束於-1.0NA及1.0NA)，繞射振幅光譜在第5圖上的粗垂直線402、404、406、408之間被截斷。考慮到第6圖中示出的截斷的繞射振幅光譜，以得出振幅影像。此圖案實質上是一條紋圖案，其中是由主鏡上反射鏡的數值孔徑來決定振幅輪廓。
第7圖係繪示遮罩靶影像的合成強度，此遮罩靶影像具有第6圖所示的振幅光譜的兩倍頻率，這是由對振幅光譜進行平方所得出的。第8圖係表示其上疊加有遮罩靶影像的平台靶的振幅或反射強度。檢測器信號取決於取樣的振幅平方的一總和，並且此總和取決於投影的遮罩對準靶及平台100上的對準靶的相對位置，此總和可以明顯地為正、負、或零。對這些值進行平方會使得負信號反相、並使頻率加倍，但零值仍然保持為零。
第9圖示出了來自一1.8微米寬的線的繞射限制信號的振幅，此1.8微米寬的線係在收集光學處，此收集光學處係位於投影系統的軸上，且稍微在戴森主要光學元件的頂點之後。第9圖中的粗垂直線902、904表示在收集孔徑處有明顯的截斷，這導致了第10圖所示的振幅分佈的結果及第11圖所示的強度分佈結果。掃描橫跨基板上所匹配的五線靶的五線遮罩204靶的影像，以產生第12圖所示的信號。通過使用一精密電動測微器，在橫向掃描方向上將戴森系統的主鏡繞著鏡的頂點傾斜，以完成掃描。此信號的中心峰很容易識別，且此信號大約微200nm寬。結果是，遮罩靶位置相對於平台靶被明確地定義，並且遮罩靶位置可以在±5nm之內被量測。
同時使用多個柱寫入的一個挑戰是，寫入18個條之後，第19個條必須與相鄰柱所寫入的第一個條重疊在±10nm以內。這要求每個柱所產生的影像的中心相對於相鄰柱的影像中心，係精確地間隔開來。這是通過將五線光柵靶結合至用於形成光柵影像的遮罩圖案中，以及通過將類似的五線光柵靶放置在沿第1圖所示的兩個編碼器刻度的所選擇的點上，來實現的。垂直校準刻度係用於定位每個柱的投影圖案位置、以及每個柱寫入的每個條的位置。
在一個非限制性的實施例中，揭露了一種微影系統，此微影系統具有一成像系統光學柱，位於能夠在一橫向掃描方向上移動的橋上；一遮罩，具有位於成像系統的一物件平面中的具有固定空間頻率的光柵圖案；一多線對準標記，與光柵圖案對準並具有一固定空間頻率；一平台，配置成用以固定及掃描基板；一掃描系統，配置成用以使平台移動的距離大於基板上的光柵圖案的所需長度；一縱向編碼器刻度，附接至平台並定向於掃描方向上，及至少兩個編碼器刻度附接至平台並布置於橫向掃描方向上，其中刻度包含具有固定空間頻率的週期性間隔開來的對準標記。
在另一個非限制性的實施例中，提供了一種裝置，其中成像系統是一戴森光學成像系統。
在另一個非限制性實施例中，可以提供此裝置，其中戴森光學成像系統是一半戴森光學成像系統。
在另一個非限制性實施例中，此裝置可更包含一雷射照明源。更特別的是，此雷射照明源係配置成用以產生單個T、0、0橫向模式。
在另一個非限制性實施例中，可以提供此裝置，對於光柵圖案的每個投影條，在橫向掃描方向上布置兩個編碼器刻度中的至少一個，以在橫向掃描方向上定位。
在另一個非限制性實施例中，此裝置可以進一步包括一對準系統，此對準系統係配置成用以觀看遮罩對準靶的圖像，此遮罩對準靶係疊加在附接至平台的編碼器條上的靶陣列中所包含的一相似目標上，從而產生一光束，當對準標記在整個編碼器標記上移動時，此光束會被調製。
在另一個非限制性實施例中，可以配置此裝置，其中遮罩及平台對準標記包括3至7條等間隔的線，這些線具有與遮罩上的光柵圖案相同的週期。
在另一個非限制性實施例中，此裝置可以進一步包括一計量系統，此計量系統連接至平台並配置成用以使平台能夠沿著相同的筆直路徑重複地移動，同時相對於垂直於基板表面的軸線維持一固定的角偏向。
在另一個非限制性實施例中，此裝置可以進一步包括至少兩個半場戴森光學柱，此至少兩個半場戴森光學柱係配置成用以同時寫入，並配置成使得由每個光學柱所寫入的光柵圖案條在橫向掃描方向上均等地間隔開來，並且一旦所有條都被寫入，則形成連續的光柵圖案。
儘管本文已經描述了實施例，但是受益於本揭露的本領域技術人員將理解，設想了不脫離本申請的發明範圍的其他實施例。據此，本申請專利範圍或任何隨後的相關申請專利範圍的範圍不應受到本文所述實施例所描述的不當的限制。
100:平台 101:載物台 102:基板 104、106:編碼器刻度 107:光柵圖案 108:透鏡陣列 110、111:對準靶 112:掃描軸 113:掃描方向 115:雷射 116:系統 117:微影系統 118、119:讀數器 149:掃描系統 167:編碼器刻度 201:戴森調制盤 202:光柵圖案 203:五線對準靶 203':位置 204:遮罩 205:戴森成像系統 206:靶 206':位置 207:遮罩 402、404、406、408:粗垂直線
為了能夠理解本揭露上述特徵的細節，可參照實施例，得到對於簡單總括於上之本揭露更詳細的敘述，實施例的一部分係繪示於所附圖式中。然而需注意，所附的圖式僅繪示出本揭露的典型實施例，因此其並不會被認為對本揭露的範圍造成限制，因為本揭露可允許其他等效的實施例。 第1圖係用於利用多個寫入柱的各者進行多次掃描，以製造準確光柵圖案的一系統的一平面圖。 第2圖係一戴森(Dyson)成像系統中的一戴森相位移動、反射的調制盤(reticle)的平面圖，此圖定義了調製盤上的主要特徵。 第3圖係一戴森系統遮罩上包含的一對準光柵靶(target)的一橫截面。理想情況下，此靶也可以製造為反射性相位移動裝置。 第4圖係一戴森上的兩個反射區域，這些區域主要收集了來自遮罩靶的繞射級，並將這些繞射級成像在平台的任一端上所包含的一類似的靶上。 第5圖係繪示由對準靶在戴森系統的主鏡表面的光瞳處產生的繞射級的振幅。只反射兩個峰附近的兩個部分，以在平台上形成對準靶的影像。 第6圖係由於主鏡反射的截斷振幅，在平台上的影像振幅。 第7圖係由第6圖所示的振幅所產生的最終靶影像強度的一圖表，其中零級的損失導致第6圖所示的調變頻率的加倍。 第8圖係表示平台上的靶的圖表，此靶被重複以在平台的任一端上形成編碼器圖案，其中反射圖案可採用振幅調變特性的任一相位。 第9圖係戴森系統的光瞳處的零級繞射振幅的圖表。通過從平台上的匹配靶反射遮罩靶影像以產生零級。 第10圖係一檢測平面處的振幅的圖表，其中遮罩及平台靶係在此檢測平面上成像。 第11圖係當靶對準時，在檢測器平面處的強度的圖表。 第12圖係信號強度與遮罩靶及平台上的靶的間的橫向移動比較的圖表。
為使其容易理解，已盡可能地採用一致的元件符號，來標記圖中所共有的相同元件。可預期的是，揭露於一實施例的元件可以有利地適用於其他實施例中，而不再次闡述。
100:平台
101:載物台
102:基板
104、106:編碼器刻度
107:光柵圖案
108:透鏡陣列
110、111:對準靶
112:掃描軸
113:掃描方向
115:雷射
116:系統
117:微影系統
118、119:讀數器
149:掃描系統
167:編碼器刻度

Claims (19)

  1. 一種微影系統，包括： 一成像系統，位於一橋上，該橋能夠在一橫向掃描方向上移動； 一遮罩，具有一光柵圖案及一多線對準標記，該光柵圖案在該成像系統的一物件平面中具有固定空間頻率、該多線對準標記對準該光柵圖案並且具有固定空間頻率； 一平台，配置成用以保持一基板； 一掃描系統，配置成用以使該平台移動的距離大於該基板上的該光柵圖案的所需長度； 一縱向編碼器刻度，附接至該平台並定向於一掃描方向上；及 至少兩個編碼器刻度，附接至該平台並布置於一橫向掃描方向上，其中該至少兩個編碼器刻度包含具有固定空間頻率的週期性間隔開來的對準標記。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該成像系統是一戴森光學成像系統。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之系統，其中該戴森光學成像系統是一半戴森光學成像系統。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之系統，更包括： 一雷射照明燈。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之系統，其中該雷射照明燈係配置成用以具有一TM00 橫向模式。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該至少兩個編碼器刻度的其中一者係布置於該橫向掃描方向上，以在該橫向掃描方向上定位該光柵圖案的每個投影的條。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之系統，更包括： 一對準系統，配置成用以從成像在一編碼器標記上的該遮罩觀看一對準標記的一影像，從而產生一光束，當該對準標記在整個該編碼器標記上移動時，該光束會被調製。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之系統，其中該對準標記包括3至7條等間隔的線，該些線具有與該戴森遮罩上的該光柵圖案相同的週期。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之系統，更包括： 一計量裝置，被配置成用以沿一直線限制一平台路徑，且配置成用以相對於垂直於該平台的一軸使一平台方向保持恆定。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該成像系統係配置成用以同時製造兩個影像。
  11. 一種進行微影的方法，包括： 放置一基板於一第一位置中的一平台上； 使用一成像系統，對該基板上的一光柵圖案進行成像，同時使用一掃描系統來移動該平台以產生一影像的一第一條，同時使用一計量系統來確保該平台是沿一直線移動，而不是繞著垂直於該基板的表面的一軸旋轉；及 將一橫向掃描方向上的該成像系統指引至一第二位置，使得該第二位置被配置，其中一第二掃描導致該光柵影像的一第二條與該影像的該第一條對準。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之方法，更包括： 使用一縱向編碼器，以確保在不圍繞垂直於該基板的表面的該軸旋轉該平台的情況下，移動該掃描系統。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中使用一戴森成像系統來進行成像。
  14. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中使用一半戴森光學成像系統來進行成像。
  15. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中該基板的移動約為2m/s。
  16. 如申請專利範圍第11項所述之方法，更包括： 利用一對準系統來檢查該平台至一編碼器的對準。
  17. 如申請專利範圍第11項所述之方法，更包括： 利用一對準系統來檢查該平台至一編碼器及該縱向編碼器的一對準。
  18. 一種在一平台上對準一基板上以進行微影的方法，包括： 放置該基板於一第一位置中的一平台上； 使具有一對準靶的一遮罩，成像至該平台的一對準靶上； 基於成像的該遮罩及該對準靶，產生一對準信號；及 基於該對準信號，在一柱中傾斜一主鏡，以使該遮罩的該對準靶的影像在該平台的該對準靶的中心上。
  19. 一種在一平台上對準一基板上以進行微影的方法，包括： 放置該基板於一第一位置中的一平台上； 在該基板上的整個一靶上掃描一遮罩靶的一影像，其中通過一傾斜主鏡來執行掃描； 從橫跨該基板的該遮罩的該影像的掃描來接收一影像數據； 識別接收到的該影像數據至該基板上的該靶的一中心峰位置以計算一偏差；以及 根據該偏差對準該遮罩靶以對準該基板。
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