JP2012074729A5

JP2012074729A5 - 液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法

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Publication number: JP2012074729A5
Application number: JP2011266301A
Authority: JP
Filing date: 2011-12-05
Publication date: 2013-04-18
Anticipated expiration: 2024-03-17

Claims

光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光装置であって、
前記基板を載置するテーブルを有する基板ステージと、
前記テーブルと異なる、前記基板ステージに設けられる部材と、を備え、
前記テーブルと前記部材とはそれぞれ、前記光学部材と対向して位置付けられることによって、前記光学部材の下に液浸液体を維持し、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材と対向して位置付けられる前記テーブルの表面と前記部材の表面とが並置された状態で、前記基板ステージによって前記光学部材に対して移動され、前記光学部材の下で液浸液体は前記テーブルから前記部材に移動する。
光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光装置であって、
前記基板を載置するテーブルを有する基板ステージと、
前記テーブルと異なる、前記基板ステージに設けられる部材と、を備え、
前記光学部材と前記テーブルとの間に液浸液体が維持される第１状態から、前記光学部材と前記部材との間に液浸液体が維持される第２状態に遷移するように、前記テーブルと前記部材とは、前記基板ステージによって前記光学部材に対して移動される。
請求項２に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材と対向して位置付けられる前記テーブルの表面と前記部材の表面とが並置された状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは互いに接近した状態で前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記光学部材に対する前記テーブルと前記部材の移動において、前記光学部材の下に液浸液体が実質的に維持される、あるいは、前記光学部材は前記液浸液体との接触が実質的に維持される。
請求項１〜５のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは相対移動可能に前記基板ステージに設けられる。
請求項１〜６のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記部材は、前記テーブルが前記光学部材の下から離れるために、前記テーブルの代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持する。
請求項１〜７のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記テーブルの代わりに前記部材が前記光学部材の下方で液浸液体を維持するまで、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜８のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、その境界が前記液浸液体の下を通過するように、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜９のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは近接した状態、あるいはギャップを挟んで配置された状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材の下に液浸液体が実質的に維持されるように近接した状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とはギャップを挟んで配置された状態で前記光学部材に対して移動される。
請求項１２に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記ギャップが前記液浸液体の下を通過するように、前記光学部材に対して移動される。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対する移動において対向するエッジが前記液浸液体の下を通過するように移動される。
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対して実質的に同時に移動される。
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対する移動において実質的に連続する表面を形成する。
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記基板ステージは、それぞれ基板を載置する、前記テーブルを含む２つのテーブルを有し、前記２つのテーブルが交互に前記光学部材と対向して位置付けられ、
前記部材は、前記２つのテーブルの一方の代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持するとともに、前記２つのテーブルの他方は、前記部材の代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持する。
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルは、前記部材によって前記光学部材の下に液浸液体が維持される間、前記光学部材の直下から離れて、前記基板の露光動作と異なる動作が行われる。
請求項１８に記載の液浸露光装置において、
前記異なる動作は、前記基板のロード及び／又はアンロードを含む。
請求項１９に記載の液浸露光装置において、
前記異なる動作は、前記基板のアライメントを含む。
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記基板のアライメントを行うアライメントシステムを、さらに備え、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記アライメントシステムによって、前記テーブルに載置される基板のアライメントが行われる。
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルに載置される基板を交換する交換システムを、さらに備え、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記交換システムによって、前記テーブルに載置される基板の交換が行われる。
請求項２２に記載の液浸露光装置において、
前記テーブルが前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記光学部材と前記液浸液体とを介して前記テーブルに載置される基板の露光が行われ、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記交換システムによって、前記テーブルに載置される前記露光された基板の交換が行われる。
デバイス製造方法であって、
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の液浸露光装置を用いてワークピースを露光することと、
前記露光されたワークピースを現像することと、を含む。
光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光方法であって、
前記基板を載置するテーブルを有する基板ステージによって、前記テーブルに載置された基板を前記光学部材と対向して位置付けることと、
前記光学部材と液浸液体を介して前記露光ビームで前記テーブルに載置された基板を露光することと、
前記テーブルと、前記テーブルと異なる、前記基板ステージに設けられる部材とを、前記光学部材と対向して位置付けられる前記テーブルの表面と前記部材の表面とが並置された状態で、前記基板ステージによって前記光学部材に対して移動することと、を含み、
この移動によって、前記光学部材の下で液浸液体は前記テーブルから前記部材に移動する。
光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光方法であって、
前記基板を載置するテーブルを有する基板ステージによって、前記テーブルに載置された基板を前記光学部材と対向して位置付けることと、
前記光学部材と液浸液体を介して前記露光ビームで前記テーブルに載置された基板を露光することと、
前記光学部材と前記テーブルとの間に液浸液体が維持される第１状態から、前記光学部材と、前記テーブルと異なる、前記基板ステージに設けられる部材との間に液浸液体が維持される第２状態に遷移するように、前記テーブルと前記部材とを、前記基板ステージによって前記光学部材に対して移動することと、を含む。
請求項２６に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材と対向して位置付けられる前記テーブルの表面と前記部材の表面とが並置された状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは互いに接近した状態で前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記光学部材に対する前記テーブルと前記部材の移動において、前記光学部材の下に液浸液体が実質的に維持される、あるいは、前記光学部材は前記液浸液体との接触が実質的に維持される。
請求項２５〜２９のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは相対移動可能に前記基板ステージに設けられる。
請求項２５〜３０のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記部材は、前記テーブルが前記光学部材の下から離れるために、前記テーブルの代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持する。
請求項２５〜３１のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記テーブルの代わりに前記部材が前記光学部材の下方で液浸液体を維持するまで、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜３２のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、その境界が前記液浸液体の下を通過するように、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜３３のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは近接した状態、あるいはギャップを挟んで配置された状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜３４のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材の下に液浸液体が実質的に維持されるように近接した状態で、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜３５のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とはギャップを挟んで配置された状態で前記光学部材に対して移動される。
請求項３６に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記ギャップが前記液浸液体の下を通過するように、前記光学部材に対して移動される。
請求項２５〜３７のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対する移動において対向するエッジが前記液浸液体の下を通過するように移動される。
請求項２５〜３８のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対して実質的に同時に移動される。
請求項２５〜３９のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルと前記部材とは、前記光学部材に対する移動において実質的に連続する表面を形成する。
請求項２５〜４０のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記基板ステージは、それぞれ基板を載置する、前記テーブルを含む２つのテーブルを有し、前記２つのテーブルが交互に前記光学部材と対向して位置付けられ、
前記部材は、前記２つのテーブルの一方の代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持するとともに、前記２つのテーブルの他方は、前記部材の代わりに前記光学部材の下方で液浸液体を維持する。
請求項２５〜４１のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルは、前記部材によって前記光学部材の下に液浸液体が維持される間、前記光学部材の直下から離れて、前記基板の露光動作と異なる動作が行われる。
請求項４２に記載の液浸露光方法において、
前記異なる動作は、前記基板のロード及び／又はアンロードを含む。
請求項４３に記載の液浸露光方法において、
前記異なる動作は、前記基板のアライメントを含む。
請求項２５〜４４のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、アライメントシステムによって、前記テーブルに載置される基板のアライメントが行われる。
請求項２５〜４５のいずれか一項に記載の液浸露光方法において、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、交換システムによって、前記テーブルに載置される基板の交換が行われる。
請求項４６に記載の液浸露光方法において、
前記テーブルが前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記光学部材と前記液浸液体とを介して前記テーブルに載置される基板の露光が行われ、
前記部材が前記光学部材と対向して位置付けられる間、前記交換システムによって、前記テーブルに載置される前記露光された基板の交換が行われる。
デバイス製造方法であって、
請求項２５〜４７のいずれか一項に記載の液浸露光方法を用いてワークピースを露光することと、
前記露光されたワークピースを現像することと、を含む。