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本発明の第1の態様によれば、物体を非接触支持する第1支持部と、非接触支持された前記物体を保持する保持部と、前記保持部を支持する第2支持部と、第1方向に関して前記保持部を支持する前記第2支持部と離間して配置され、前記物体を保持する前記保持部を少なくとも前記第1方向に交差する第2方向へ駆動する駆動部と、前記第2支持部を下方から支持する第1ベースと、前記第1方向に関して前記第1ベースと離間して配置された第2ベースと、を備え、前記駆動部は、前記保持部の前記第2方向への駆動時に前記駆動部より発生する振動が前記保持部に伝わらないように、前記第2ベースに支持される移動体装置が、提供される。
本発明の第2の態様によれば、本発明の移動体装置と、前記保持部に保持された前記物体に対して所定の動作を実行する実行装置と、を備える物体処理装置が、提供される。
本発明の第3の態様によれば、本発明の移動体装置と、エネルギビームにより前記物体を露光して該物体上に所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置が、提供される。
本発明の第4の態様によれば、上記露光装置を用いて前記物体としてフラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法が、提供される。
本発明の第5の態様によれば、上記露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイスの製造方法が、提供される。

Claims (12)

  1. 物体を非接触支持する第1支持部と、
    非接触支持された前記物体を保持する保持部と、
    前記保持部を支持する第2支持部と、
    第1方向に関して前記保持部を支持する前記第2支持部と離間して配置され、前記物体を保持する前記保持部を少なくとも前記第1方向に交差する第2方向へ駆動する駆動部と、
    前記第2支持部を下方から支持する第1ベースと、
    前記第1方向に関して前記第1ベースと離間して配置された第2ベースと、を備え、
    前記駆動部は、前記保持部の前記第2方向への駆動時に前記駆動部より発生する振動が前記保持部に伝わらないように、前記第2ベースに支持される移動体装置。
  2. 前記第2支持部は、前記保持部を支持した状態で前記第1ベース上を第2方向へ駆動する請求項1に記載の移動体装置。
  3. 前記駆動部は、前記第2ベース上を前記第2方向へ駆動する請求項2に記載の移動体装置。
  4. 前記第1支持部は、前記第2支持部を支持する前記第2ベースに支持される請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。
  5. 前記第2支持部は、前記保持部を非接触支持する請求項1〜4のいずれか一項に記載の移動体装置。
  6. 前記保持部に設けられ、前記第1および第2方向に関する前記保持部の位置を計測可能な計測部を更に備え、
    前記保持部は、前記計測部の出力に基づいて前記第1および第2方向の位置が制御される請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。
  7. 請求項1〜のいずれか一項に記載の移動体装置と、
    前記保持部に保持された前記物体に対して所定の動作を実行する実行装置と、を備える物体処理装置。
  8. 前記実行装置は、エネルギビームを用いて前記物体に所定のパターンを形成する装置である請求項に記載の物体処理装置。
  9. 請求項1〜のいずれか一項に記載の移動体装置と、
    エネルギビームにより前記物体を露光して該物体上に所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。
  10. 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項に記載の露光装置。
  11. 請求項10に記載の露光装置を用いて前記基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
  12. 請求項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
    露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8699001B2 (en) * 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US20110053092A1 (en) * 2009-08-20 2011-03-03 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8988655B2 (en) 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US8598538B2 (en) * 2010-09-07 2013-12-03 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP5958692B2 (ja) * 2012-04-04 2016-08-02 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法並びに露光方法
JP6035670B2 (ja) * 2012-08-07 2016-11-30 株式会社ニコン 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光装置
WO2014024483A1 (ja) * 2012-08-08 2014-02-13 株式会社ニコン 物体交換方法、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6172913B2 (ja) * 2012-10-23 2017-08-02 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置および物品の製造方法
JP6086299B2 (ja) * 2012-11-13 2017-03-01 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
WO2014084229A1 (ja) 2012-11-30 2014-06-05 株式会社ニコン 搬送システム、露光装置、搬送方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに吸引装置
JPWO2015147039A1 (ja) * 2014-03-26 2017-04-13 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
CN108957966B (zh) * 2014-03-28 2021-02-02 株式会社尼康 移动体装置
KR102283654B1 (ko) * 2014-11-14 2021-07-29 가부시키가이샤 니콘 조형 장치 및 조형 방법
US10752449B2 (en) * 2015-03-30 2020-08-25 Nikon Corporation Object carrier device, exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, object carrying method, and exposure method
KR102584657B1 (ko) * 2015-03-31 2023-10-04 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법
JP6885334B2 (ja) * 2015-09-30 2021-06-16 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光方法
JP6885335B2 (ja) * 2015-09-30 2021-06-16 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに物体の移動方法
WO2017057590A1 (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
CN106814551B (zh) * 2015-11-30 2019-04-12 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种基板交接装置及交接方法
JP6874314B2 (ja) * 2016-09-30 2021-05-19 株式会社ニコン 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
KR20230037681A (ko) * 2016-10-20 2023-03-16 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 임프린트 리소그래피 프로세스들에서의 기판들의 포지셔닝
CN107193142A (zh) * 2017-07-19 2017-09-22 武汉华星光电技术有限公司 配向膜固化系统
CN107228127B (zh) * 2017-07-21 2023-06-06 天津航天机电设备研究所 一种气浮轴承
KR102481264B1 (ko) * 2018-01-04 2022-12-26 삼성전자주식회사 디스플레이 장치 및 디스플레이 모듈의 힌지 조립체

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2812785B2 (ja) * 1990-06-02 1998-10-22 株式会社日立製作所 試料位置決め装置
US5196745A (en) * 1991-08-16 1993-03-23 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic positioning device
JPH11504770A (ja) * 1996-03-04 1999-04-27 アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ マスクパターンをステップ及びスキャン結像するリソグラフィ装置
US6089525A (en) * 1997-10-07 2000-07-18 Ultratech Stepper, Inc. Six axis active vibration isolation and payload reaction force compensation system
TWI233535B (en) * 1999-04-19 2005-06-01 Asml Netherlands Bv Motion feed-through into a vacuum chamber and its application in lithographic projection apparatuses
US6654095B1 (en) * 1999-10-18 2003-11-25 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP2001215718A (ja) 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2002252166A (ja) * 2001-02-27 2002-09-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
US6888620B2 (en) * 2001-11-29 2005-05-03 Nikon Corporation System and method for holding a device with minimal deformation
JP2004063790A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
TWI338323B (en) * 2003-02-17 2011-03-01 Nikon Corp Stage device, exposure device and manufacguring method of devices
EP1519230A1 (en) * 2003-09-29 2005-03-30 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005317916A (ja) * 2004-03-30 2005-11-10 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP4767251B2 (ja) * 2004-04-14 2011-09-07 コアフロー サイエンティフィック ソリューションズ リミテッド 光学検査装置を平坦な対象物の接面に対して焦点合わせする方法
KR101119814B1 (ko) * 2004-06-07 2012-03-06 가부시키가이샤 니콘 스테이지 장치, 노광 장치 및 노광 방법
JP2006086442A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
WO2006057263A1 (ja) * 2004-11-25 2006-06-01 Nikon Corporation 移動体システム、露光装置及びデバイス製造方法
JP4793851B2 (ja) * 2005-05-31 2011-10-12 レーザーテック株式会社 カラーフィルタ基板のステージ装置及び検査装置
JP4917780B2 (ja) * 2005-09-08 2012-04-18 住友化学株式会社 露光装置
WO2007049603A1 (ja) * 2005-10-24 2007-05-03 Nikon Corporation ステージ装置とその座標補正方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2007150280A (ja) * 2005-11-04 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP4545697B2 (ja) * 2006-02-17 2010-09-15 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
CN102749813B (zh) * 2006-09-01 2014-12-03 株式会社尼康 曝光方法及装置、以及组件制造方法
SG183736A1 (en) * 2006-09-01 2012-09-27 Nikon Corp Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
KR101547784B1 (ko) * 2007-03-05 2015-08-26 가부시키가이샤 니콘 이동체 장치, 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법, 디바이스 제조 방법, 이동체 장치의 제조 방법, 및 이동체 구동 방법
US7607647B2 (en) 2007-03-20 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies Corporation Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck
US8937706B2 (en) * 2007-03-30 2015-01-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
JP5279207B2 (ja) * 2007-06-11 2013-09-04 Nskテクノロジー株式会社 露光装置用基板搬送機構
JP5056339B2 (ja) * 2007-10-18 2012-10-24 凸版印刷株式会社 基板搬送装置用基板把持機構
US8665455B2 (en) * 2007-11-08 2014-03-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US8237916B2 (en) * 2007-12-28 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8269945B2 (en) * 2007-12-28 2012-09-18 Nikon Corporation Movable body drive method and apparatus, exposure method and apparatus, pattern formation method and apparatus, and device manufacturing method
KR20100124245A (ko) * 2008-02-08 2010-11-26 가부시키가이샤 니콘 위치 계측 시스템 및 위치 계측 방법, 이동체 장치, 이동체 구동 방법, 노광 장치 및 노광 방법, 패턴 형성 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
NL1036511A1 (nl) * 2008-02-13 2009-08-14 Asml Netherlands Bv Movable support, position control system, lithographic apparatus and method of controlling a position of an exchangeable object.
JP2009210295A (ja) * 2008-02-29 2009-09-17 Canon Inc 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP5117243B2 (ja) * 2008-03-27 2013-01-16 株式会社オーク製作所 露光装置
CN101598900B (zh) * 2008-06-05 2012-03-07 四川虹欧显示器件有限公司 等离子显示屏的曝光方法
KR100977466B1 (ko) * 2008-07-04 2010-08-23 한국전기연구원 원통형 자기부상 스테이지
KR20100018950A (ko) 2008-08-08 2010-02-18 하명찬 타이어 가황기용 단열판
JP5254073B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-07 Nskテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
JP2010060990A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP4787872B2 (ja) * 2008-10-16 2011-10-05 東京エレクトロン株式会社 基板搬送処理装置
US8760629B2 (en) * 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US20100195083A1 (en) * 2009-02-03 2010-08-05 Wkk Distribution, Ltd. Automatic substrate transport system
NL2003877A (en) * 2009-02-05 2010-08-09 Asml Holding Nv Reticle support that reduces reticle slippage.
CN101551599B (zh) * 2009-04-03 2011-07-20 清华大学 一种光刻机硅片台双台交换系统
CN101551593A (zh) * 2009-04-24 2009-10-07 上海微电子装备有限公司 用于光刻装置的对准系统、光刻装置及其对准方法
JP2011192332A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Panasonic Corp メモリオーディオ再生装置
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

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