CN101598900B - 等离子显示屏的曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种等离子显示屏的曝光方法，包括以下步骤：对放置在处于第一位置的曝光台上的等离子显示屏进行第一次曝光；在第一次曝光完成以后，将曝光台调整到不同于第一位置的第二位置；以及对放置在处于第二位置的曝光台上的等离子显示屏进行第二次曝光。通过本发明，可以减少等离子显示屏缺陷发生的几率，提高良品率，减少修复的缺陷，提高等离子显示屏显示图像时的品质。

Description

等离子显示屏的曝光方法

技术领域

本发明涉及显示器领域，更具体地涉及一种等离子显示屏的曝光方法。

背景技术

等离子显示屏的线条图形的制作方法，主要有印刷法和光刻法。印刷法制作的线条图形由于精度、对位、材料的限制不可能制作很精细的线条图形。因此光刻法凭借着其特有的优点成为等离子显示屏的制作过程中的主流技术。

光刻法作为一种重要的精细结构图形的制作方法在当前的高科技领域得到了广泛的应用。特别是在等离子显示屏、液晶显示屏及半导体行业等发挥着越来越大的作用。在等离子显示屏的制作中，关键的显示电极、寻址电极等结构目前均采用光刻法制作。

光刻法就是利用感光性浆料的光化学反应，将所需要的图形正确地复制在被加工的玻璃基板上，然后通过显影显示出曝光后的图形形状。等离子显示屏的制作过程中的光刻过程的具体过程如下：首先在清洗干净的玻璃基板上涂敷或印刷上一层感光性浆料，然后把涂好的玻璃基板经过干燥炉，在适当的温度下干燥，干燥后利用母版的掩模作用，在紫外线的照射下使母版上没有图形遮挡的地方浆料硬化，附着到玻璃基板上，形成线条图形。最后在一定浓度的Na₂CO₃水溶液下显影，显示出图形的形状。最后经过烧结使图形固定在玻璃基板上。光刻法主要是利用感光性材料的特殊性质通过母版图形进行曝光，经显影后得到所需的图形结构，其制作的大面积图形精细度高、均匀性好。特别适合等离子显示屏上的大面积微米级精细图形的制作。

然而在光刻法的制作过程中，如果母版上需要曝光的部分粘着了遮光的灰尘，则由于与该部分对应的玻璃基板上的感光性材料没有发生光化学反应，没有被固化，因此在显影时被显掉，不能够得到设计的图形。这样就在显示屏上形成了断线或者针孔，发生不良，影响产品的良品率。在整机点亮时，没有电流通过，形成严重的断线，使整根线没有像素显示；或者发生针孔缺陷，在加电压的情况下，电极被烧断形成断线；或者针孔影响显示的单个像素，这种缺陷在整机显示时产生严重的图像缺陷，影响画面效果的观看，是等离子显示屏制作中的一大缺陷。

为了减少此种缺陷的发生，可以通过增加曝光次数来改进光刻法。在专利CN1836304A中已经有报道。主要是实现能抑制由于附着在母版上的灰尘在等离子显示屏图形中发生缺陷的制作方法，在同一个工艺中进行两次光刻曝光，在第一次曝光和第二次曝光之间使母版在曝光图形偏移的允许范围内移动，使母版移动与其移动前后相对应进行两次曝光，能够排除有附着在母版上的灰尘遮挡曝光而成为没有感光的区域，由此能良好地进行感光材料的图形曝光(专利中介绍)。此种方法使母版移动，母版只能在曝光机的X轴方向上进行移动，也就是说只能使影响缺陷的灰尘在X方向错位，如果X方向上灰尘长度较长，单在X轴上移动仍然不能避免缺陷的发生。即使能采用复杂的动作结构，保证能在Y轴方向上移动，但是母版在移动时要产生震动，在第二次曝光时不稳定的母版对曝光结果有严重的影响，容易出现虚影等新的缺陷，而且母版的移动对对位的镜头也有很大的影响，母版的移动使第二次对位失控，可能出现无法对位的情况，影响生产无法继续进行，无法实现两次曝光的工艺。

发明内容

鉴于以上所述的一个或多个问题，本发明提供了一种等离子显示屏的曝光方法。

根据本发明实施例的等离子显示屏的曝光方法，包括以下步骤：步骤c，对放置在处于第一位置的曝光台上的等离子显示屏进行第一次曝光；步骤d，在第一次曝光完成以后，将曝光台调整到不同于第一位置的第二位置；以及步骤e，对放置在处于第二位置的曝光台上的等离子显示屏进行第二次曝光。

其中，在步骤c之前，还包括以下步骤：步骤a，预先设置曝光台的第一位置和第二位置；步骤b，将曝光台调整到预先设置的第一位置。

其中，通过设置曝光台相对于母版在水平方向和垂直方向的偏移量、以及曝光台相对于母版在平行于母版的平面内的旋转角度来设置曝光台的第一位置，其中，在将曝光台调整到第一位置之前，将曝光台与母版进行对位对准。通过设置曝光台的第二位置相对于第一位置在水平方向和垂直方向的偏移量来设置曝光台的第二位置。

其中，步骤b具体包括以下过程：对曝光台和母版进行对位对准；将曝光台和母版之间的间隙调整到预先设置的大小；以及将曝光台调整到预先设置的第一位置。其中，使用相同的曝光量对等离子显示屏进行第一次曝光和第二次曝光。

通过本发明，可以减少等离子显示屏缺陷发生的几率，提高良品率，减少修复的缺陷，提高等离子显示屏显示图像时的品质。同时，使用本发明，在一定的范围内可以改变等离子显示屏线条线幅的宽度，在一定意义上可以减少重新制作母版的费用。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是根据本发明实施例的错位曝光设定画面；

图2是根据本发明实施例的曝光机错位曝光时的动作过程；

图3是根据本发明实施例的设定好的错位曝光画面；

图4是根据本发明实施例的错位曝光工艺过程；以及

图5是根据本发明实施例的进行了错位曝光和未进行错位曝光的母版、及玻璃基板上的缺陷的示意图。

具体实施方式

为了解决上述存在的问题，本发明提供了一种等离子显示屏的曝光方法，主要是通过控制曝光机的程序设定及曝光量的设定，使曝光机的台子能在X轴、Y轴方向上发生移动，并且在移动前后能分别进行曝光，以减少母版上粘着的灰尘对曝光结果的影响。

为达到上述目的，根据本发明实施例的等离子显示屏的曝光方法是一种非接触式的曝光。等离子显示屏线条图形的制作是通过错位曝光形成的。线条图形的错位曝光是在线条图形的形成工艺中进行两次曝光，在第一次曝光和第二次曝光之间，曝光机的台子按照设定的要求自动移动，完成设定的偏移量(图1是根据本发明实施例的错位曝光设定画面)。线条图形的偏移量和曝光量能通过曝光设备设定，线条的宽度也可以通过控制曝光机的错位曝光得到不同的线条宽度。为达到上述目的，要对曝光机进行程序设定，使曝光机的台子能自动完成错位移动，并且能进行精确控制。曝光机的设定菜单至少需要有第一次曝光时XY轴及θ角度的错位设定、第二次曝光时XY轴的错位设定、及错位有效与否的设定。设定完成后，曝光机的台子按照如下动作进行工作(如图2示意)：自动曝光开始→基板玻璃搬入→基板玻璃夹紧→基板吸附在曝光台子上→台子有水平状态立起到垂直状态→台子锁紧→台子立在等待位置→测量位置移动→识别对位标记→对位校正→测量位置→进行测量→测量值判断→测量值符合要求镜头移动到间隙测量窗口→间隙测量→控制调整间隙→镜头移动到对位位置识别再测量→校正→台子移动到曝光位置→开始第一次曝光→台子退回测量位置→按照设定的要求XY轴错位→台子前进到曝光位置→第二次曝光开始→台子后退到等待位置→台子旋转成水平状态→真空吸附释放→基板玻璃排出→完成两次曝光。

经过上述过程，在一次光刻曝光工序中完成了两次曝光作业，这两次曝光作业是进行错位曝光的，两次曝光的曝光量可以通过曝光机的操作面板进行设定，两次曝光使用相同的曝光量。由于是稳定性比较可靠的台子进行错位，并且有精确控制的电机进行动作控制，所以能高精度地完成曝光作业。两次曝光时XY轴进行精确错位，在第一次曝光时被灰尘遮挡的地方没有受到紫外光的照射，在XY轴完成错位后，开始曝光，第一次曝光时被灰尘遮挡的地方在第二次曝光时被紫外光照射，发生光化学反应，浆料开始固化，显影时线条图形被显出来，这样不但可以减少母版上的灰尘影响断线，而且可以通过错位在一定范围内控制线条的宽度，制作的可调整性比较大。通过根据本发明实施例的等离子显示屏的曝光方法可以提高产品的良品率，提升产品画面显示的品质。

以下使用附图说明本发明的实施方法，本发明的实施实例并不是对本发明的限制。

首先，等离子显示屏的基本结构是现在主流的三电极表面放电结构。等离子显示屏的前面板上有扫描电极和维持电极，扫描电极和维持电极上制作有导电性良好的公共电极。在非发光区有黑条图形，可以提高对比度。在电极和黑条上覆盖有透明介质层和氧化镁(MgO)保护层。等离子显示屏的后面板上首先形成寻址电极，然后覆盖介质层，再在介质层上制作障壁，然后在障壁的间隙制作荧光粉层，最后涂敷上封接框。使前后面板进行封接排气，充入一定压力的惰性混合气体。在上述的结构中，要求具有大画面尺寸，高精细度的图形，透明电极、公共电极、黑条图形、寻址电极、和障壁图形等要求有较高的图形对位精度，因此上述的制作中，这些图形的形成大多使用光刻曝光的方法实现。

下面以感光性银浆料制作前面板的公共电极为例对本发明的实施方式进行说明。

在前面板的公共电极(ITO)刻蚀完毕后，对玻璃进行清洗。首先，在玻璃基板2上印刷一层黑色电极浆料，经干燥流入曝光工序，黑色浆料使用黑条的母版进行曝光得到黑条图形，然后印刷一层上层银电极浆料1。如图4所示，干燥后流入曝光工序，在紫外光4的照射下利用母版3进行曝光，3.1为母版上的遮光区，3.2为母版上的透光区，即要制作的线条图形。第一次曝光后，玻璃基板2上的1.1部分的浆料发生硬化，在显影时留在玻璃基板2上。然后台子按照图3所示的设定进行错位，在紫外光4的照射下利用母版3进行曝光，3.1为母版上的遮光区，3.2为母版上的透光区，即要制作的线条图形，被母版遮光区3.1遮挡的地方经过错位移动到透光区3.2，在第一次曝光中没有发生光化学反应的部分1.2在第二次曝光中受到紫外光4的照射发生反应，硬化，这样得到的图形1.3比母版上的透光区3.2的线幅宽度要有所增加，增加的宽度是随着图1面板中的设定而变化的，但是增加的总宽度小于透光区3.2的线宽。在上述工序中，首先进行第一次曝光的曝光面板设定如图3所示，在第一次曝光时设定台子错位距离均为：0.015mm，第二次曝光时设定台子错位距离为-0.015mm，此距离是相对于第一次曝光前玻璃基板和母版对位完成后来说的，以第一次曝光前对位完成时台子的位置为相对的原点，进行第一次曝光时台子按照设定的位置进行错位0.015mm，然后曝光，曝完光后进行第二次曝光，错位的距离相对于第一次曝光前对位完成时台子的位置的相对原点是-0.015mm，也即相对于第一次曝光时的位置错位了0.030mm，即在第一曝光前对位完成时台子位置的X和Y的正方向或负方向移动。设定后在自动曝光时，设备按照图2中所示的自动程序进行曝光作业。在图2中虚线里面的动作过程为第二次曝光的动作过程，按照图2设定的动作完成两次曝光，曝光量的设定按照传统方式的曝光机进行设定，两次的曝光量是设定一样的。曝光时假设在母版玻璃3的上面浮着有宽度小于15μm灰尘3.3，如果不进行错位曝光，有灰尘的地方遮挡紫外光，使需要发生光化学反应的地方没有被曝光，这样在显影的时候留下断线1.4，没有发生断线的如图5中的1.1所示，发生断线的如图5中的1.4所示，进行错位曝光后，灰尘3.3经过错位使灰尘遮挡的地方在第二次曝光时能被紫外光照射，发生光化学反应，在工艺条件允许的情况下可以按照经验值设定错位曝光的X、Y值。错位曝光后的图形如图5中1.3所示，得到没有断线的线条图形。

通过本发明，可以减少等离子显示屏缺陷发生的几率，提高良品率，减少修复的缺陷，提高等离子显示屏显示图像时的品质。同时，使用本发明，在一定的范围内可以改变等离子显示屏线条线幅的宽度，在一定意义上可以减少重新制作母版的费用。

以上所述仅为本发明的实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。

Claims (4)

1.一种等离子显示屏的曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤c，对放置在处于第一位置的曝光台上的等离子显示屏进行第一次曝光；

步骤d，在所述第一次曝光完成以后，将所述曝光台调整

到不同于所述第一位置的第二位置；以及

步骤e，对放置在处于所述第二位置的所述曝光台上的所述等离子显示屏进行第二次曝光；

其中，所述第二位置相对于所述第一位置在水平方向和垂直方向偏移；

其中，使用相同的曝光量对所述等离子显示屏进行所述第一次曝光和所述第二次曝光；

其中，所述第二次曝光得到的图形比母版上的透光区的线幅宽度有所增加，增加的总宽度小于所述透光区的线宽。

2.根据权利要求1所述的等离子显示屏的曝光方法，其特征在于，在所述步骤c之前，还包括以下步骤：

步骤a，预先设置所述曝光台的所述第一位置和所述第二位置；

步骤b，将所述曝光台调整到预先设置的所述第一位置。

3.根据权利要求2所述的等离子显示屏的曝光方法，其特征在于，通过设置所述曝光台相对于所述母版在水平方向和垂直方向的偏移量、以及所述曝光台相对于所述母版在平行于所述母版的平面内的旋转角度来设置所述曝光台的所述第一位置，其中，在将所述曝光台调整到所述第一位置之前，将所述曝光台与所述母版进行对位对准。

4.根据权利要求2至3中任一项所述的等离子显示屏的曝光方法，其特征在于，所述步骤b具体包括以下过程：

对所述曝光台和所述母版进行对位对准；

将所述曝光台和所述母版之间的间隙调整到预先设置的大小；以及

将所述曝光台调整到预先设置的所述第一位置。

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