CN101010637A - 显示器用部件的曝光方法和等离子体显示器用部件的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种等离子体显示器用部件的制造方法，即使在光掩模上附着有异物或者有伤痕时，也可以抑制在曝光、显影后所得到的图案的断线或短路等缺陷的产生、并且可以提高成品率。本发明还提供一种显示器用部件的曝光方法，是借助于具有期望图案的光掩模、对在基板上形成了感光层的显示器用部件进行曝光动作的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，在曝光动作中使光掩模与基板相对移动。

Description

显示器用部件的曝光方法和等离子体显示器用部件的制造方法
技术领域
本发明涉及一种显示器用部件的曝光方法，进而涉及使用了该曝光方法的等离子体显示器用部件的制造方法。
背景技术
作为可在薄型、大型电视机中使用的显示器，等离子体显示板(以下，简称PDP)正受到人们的瞩目。在构成这些PDP的电极层、电介质层、MgO层、障壁层、荧光体层中的电极层、电介质层、障壁层、荧光体层上，在基板上涂布或者叠合感光糊膏(paste)，借助于具有所要求的图案的光掩模进行曝光，之后使用所要求的显影液进行显影的方法为众人所知。
有人提出了，例如通过在基板上形成由陶瓷粉末和紫外线固化型树脂构成的层、借助于具有所要求的图案的光掩模进行曝光、显影，来形成障壁层的方法(专利文献1)，或者在基板上涂布玻璃糊膏，其干燥后，涂布抗蚀剂，借助于具有所要求的图案的光掩模对该抗蚀剂进行曝光、显影，接着通过喷砂形成障壁图案的方法(专利文献2)，或者在障壁层上涂布感光荧光体糊膏，借助于光掩模进行曝光的方法等(专利文献3)。
但是，当在光掩模上附着有异物时、或者有伤痕时，存在曝光、显影后所得到的图案，其大部分发生断线或者短路等缺陷、成品率下降这样的问题。
针对这样的问题，有人提出了准备光掩模开口部的长度比图案层长度短的光掩模，一边使基板或者光掩模移动，一边进行曝光的方法(专利文献4)。但是，在本方法中，在是PDP的障壁等的厚膜图案的情况下，有在基板或者光掩模的移动方向端部发生曝光不足、产生图案细化、剥落这样的问题。
专利文献1：特开平2-165538号公报
专利文献2；特开平7-320641号公报
专利文献3：特开2000-113614号公报
专利文献4：特开2004-240095号公报
发明内容
鉴于上述背景技术，本发明的课题在于，提供一种不易发生断线或者短路等缺陷、成品率高的显示器用部件的制造方法。
为了解决上述课题，本发明具有以下的构成。即，本发明是借助于具有所要求的图案的光掩模对在基板上形成了感光层的显示器用部件，进行曝光动作的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，在曝光动作中使光掩模与基板相对移动。另外，本发明是使用了上述曝光方法的显示器用部件的制造方法。
根据本发明，可以提供一种即使在光掩模上附着有异物、或者有伤痕的情况下，也可以抑制图案的断线、短路等缺陷的产生，并且成品率高的显示器用部件的曝光方法。
附图说明
图1是本发明的显示器用部件的曝光方法的说明图。
图2是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的立体图。
图3是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的立体图。
图4是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的立体图。
图5是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的示意图。
图6是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的示意图。
图7是表示根据本发明制造的障壁的形状的一例的示意图。
符号说明
1：光掩模
2：基板
3：障壁
4：辅助障壁
4-1：图案标准部
4-2：图案终端部
5：感光层
具体实施方式
本发明的特征在于，包括：对在基板上形成的至少具有感光性的层，借助于具有所要求的图案的光掩模进行曝光动作的曝光工序。这里所谓曝光动作，是指借助于具有所要求的图案的光掩模连续照射能量线的操作。因此，所谓1次曝光动作，是指从开始照射能量线到结束照射为止的操作。另外，所谓光掩模是指以所要求的图案来配设透射上述能量线的部分与遮挡上述能量线的部分的工具。当被曝光的具有感光性的层为负型时，从光掩模透过了能量线的部分硬化，另外当为正型时，该部分被分解，并通过利用所要求的显影液将不需要的部分溶解除去从而形成目的图案。
但是，当在使用的光掩模上附着有异物、或有伤痕、气泡时，由于在该部分处的能量线的被遮挡或者折射，导致得到的图案产生断线、缺损、短路、粗化等。存在直到洗涤或者更换光掩模为止，该缺陷基本上在相同部位发生，成品率下降这样的问题。
对此，像本发明这样的，(1)一边移动光掩模或者基板、一边进行曝光的方法(如图1那样，在曝光动作中使光掩模与基板相对移动的曝光方法)、或者(2)在1次曝光动作后，移动一下光掩模或者基板，进行再次曝光的方法(在至少2次曝光动作之间使光掩模与基板相对移动的曝光方法)，由于因异物、伤痕、气泡等导致的能量线被遮挡的地方不被固定，所以可以防止所得到的图案产生缺陷。以下，按照构成等离子体显示器用部件(以下，简称PDP用部件)的各层的形成方法来说明本发明。一般来说，PDP用部件由前面板与背面板来形成，所述前面板由多个成对的保持电极层、黑条层、电介质层、MgO层等构成，所述背面板由地址电极层、电介质层、障壁层、荧光体层等来构成。
首先，关于前面板的保持电极、背面板的地址电极的形成，是指在基板上以所要求的图案来配设银、铝、铬、镍等金属的过程。作为在本发明中使用的基板，除了钠玻璃之外，还可以列举作为PDP用耐热玻璃的旭硝子社(旭硝子社)制的“PD200””、日本电气硝子社(日本電気硝子社)制的“PP8”等。
作为形成电极的方法，可以使用感光性糊膏法，该方法是涂布使用了上述那些金属的粉末和感光性有机成分的感光性金属糊膏后，使用光掩模进行图案曝光，通过显影工序将不需要的部分溶解除去，进而加热到400～600℃并烘烤而形成电极图案。
当本发明适用于形成这样的电极层时，应用上述(2)的发明的情况很多。即，通过使在基板上形成的感光金属糊膏涂布膜与具有所要求的图案的光掩模进行对位，进行1次曝光(曝光动作1)，进而以要求的量移动基板或者光掩模，再次将两者进行对位，进行曝光(曝光动作2)，从而可以抑制由附着于光掩模上的异物、伤痕、气泡等导致的缺陷的产生。
PDP用部件的电极层一般由端子部分、连接引出部分、显示部分这三部分构成。当本发明适用于形成这样的电极层时，优选端子部分的组块单元为同一图案。即，按照与端子组块同样的间距来实施从曝光动作1向曝光动作2的移动，由此可以使图案一致。
本发明中形成的电极厚度优选为1～10μm，更优选为2～7μm。如果电极厚度过薄，则有电阻值变大、正确的驱动变难的倾向，如果过厚，则需要的材料变多，在成本上有不利的倾向。电极层的线宽(line width)优选为20～2300μm，更优选为30～200μm。如果电极层的线宽过细，则有电阻值变高、正确的驱动变难的倾向，如果过粗，则由于相邻电极间的距离变小，所以有容易产生短路缺陷的倾向。进而，电极层是以适应于显示单元(形成像素的各RGB的区域)的间距而形成的。在通常的PDP中，优选以100～500μm的间距形成，对于高精细PDP，优选以100～400μm的间距形成。
接着，前面板和背面板的电介质，可以通过在以覆盖上述电极层的方式涂布以玻璃粉末和有机粘合剂为主要成分的玻璃糊膏后，在400～600℃的温度下进行烘烤来形成。电介质层中使用的玻璃糊膏中，可以优选使用含有氧化铅、氧化铋、氧化锌、氧化磷中的至少1种以上，并且它们合计的含量为10～80重量％的玻璃粉末。通过使该合计含量为10重量％以上，可以使在600℃以下的烘烤变得容易，通过使合计含量为80重量％以下，可以防止结晶化、并且防止透射率的降低。
可以将这些玻璃粉末与有机粘合剂进行混炼来制作糊膏。作为所使用的有机粘合剂，可以使用以乙基纤维素、甲基纤维素等为代表的纤维素系化合物、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸异丁酯等的丙烯酸系化合物等。另外，在玻璃糊膏中，也可以添加溶剂、增塑剂等添加剂。
作为溶剂，可以使用松油醇、丁内酯、甲苯、甲基溶纤剂等通用溶剂。另外，作为增塑剂，可以使用邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二乙酯等。通过除了添加玻璃粉末以外还添加填料成分，可以得到反射率高、亮度高的PDP。作为填料，优选二氧化钛、氧化铝、氧化锆等，特别优选使用粒径为0.05～3μm的二氧化钛。填料的含量以玻璃粉末与填料的重量比计，优选为1∶1～10∶1。通过使填料的含量为玻璃粉末的十分之一以上，可以有效提高亮度。另外，通过使填料的含量与玻璃粉末等量或更低，可以保持烧结性。另外，通过添加导电微粒子，可以制作驱动时的可靠性高的PDP。导电微粒子优选镍、铬等金属粉末，粒径优选为1～10μm。通过使粒径为1μm以上，可以发挥充分的效果，通过使粒径为10μm以下，可以抑制电介质上的凹凸而容易地形成障壁。关于这些导电微粒子在电介质层中的含量，优选为0.1～10重量％。通过使含量在0.1重量％以上，可以得到有效的效果，通过使含量在10重量％以下，可以防止相邻的地址电极间的短路。电介质层的厚度优选为3～30μm，更优选为3～15μm。如果电介质层的厚度过薄时，则有针孔多发的倾向，如果过厚，则有放电电压变高、消费的电力增大的倾向。
另外，电介质层优选适用具有所要求的凹凸图案的结构。在该情况下，作为上述有机粘合剂，有使用用了感光有机成分的感光电介质糊膏的情况。
作为感光性有机成分，优选含有选自感光性单体、感光性低聚物、感光性聚合物中的至少1种的感光性成分，进而，根据需要，添加光聚合引发剂、光吸收剂、敏化剂、有机溶剂、敏化助剂、阻聚剂。
作为感光性单体，可以使用含有碳-碳不饱和键的化合物，作为其具体的例子，有单官能和多官能性的(甲基)丙烯酸酯类、乙烯系化合物类、烯丙基系化合物类等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。
作为感光性低聚物、感光性聚合物，可以使用由具有碳-碳双键的化合物中的至少1种进行聚合而得到的低聚物、聚合物。在聚合时，可以按照使这些单体的含有率为10重量％以上、进而优选为35重量％以上那样，与其他的感光性单体进行共聚合。通过在聚合物、低聚物上共聚合不饱和羧酸等的不饱和酸，可以提高感光后的显影性。作为不饱和羧酸的具体的例子，可以列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙烯基醋酸、或者它们的酸酐等。这样得到的在侧链上具有羧基等酸性基团的聚合物或者低聚物，其酸价(AV)优选在50～180的范围内，更优选在70～140的范围内。对于以上所示的聚合物或者低聚物，通过在侧链或者分子末端加成光反应性基团，可以用作具有感光性的感光性聚合物或感光性低聚物。优选的光反应性基团，是具有烯属性不饱和基团的光反应性基团。作为烯属性不饱和基团，可以列举出乙烯基、烯丙基、丙烯基、甲基丙烯基等。
作为光聚合引发剂的具体例子，可以列举出，二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4，4-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰-4-甲基苯基酮、二苄基酮、芴酮、2，3-二乙氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基-2-苯基苯乙酮等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。光聚合引发剂，相对于感光性成分，优选在0.05～10重量％的范围下添加，更优选在0.1～5重量％的范围下添加。如果光聚合引发剂的量过少，则有光的灵敏度降低的倾向，如果光聚合引发剂的量过多，则有曝光部的残留率变得过小的倾向。
添加光吸收剂也是有效的。通过添加对紫外光、可见光的吸收效果好的化合物，能够得到高纵横比、高清晰、高分辨率。作为光吸收剂，优选使用由有机系染料构成的光吸收剂，具体地，可以使用偶氮系染料、氨基酮系染料、呫吨系染料、喹啉系染料、蒽醌系染料、二苯甲酮系染料、氰基丙烯酸二苯酯系染料、三嗪系染料、对氨基苯甲酸系染料等。由于有机系染料在烘烤后的绝缘膜中没有残留，所以可以减少由光吸收剂导致的绝缘膜特性的降低，因而是优选的。在这些染料中，优选偶氮系和二苯甲酮系染料等。有机染料的添加量优选为0.05～5重量％、更优选为0.05～1重量％。如果添加量过少，则有光吸收剂的添加效果降低的倾向，如果过多，则有烘烤后的绝缘膜特性降低的倾向。
敏化剂是为了提高灵敏度而添加的。作为敏化剂的具体例子，可以列举出2，4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，3-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2，6-双(4-二甲氨基亚苄基)环己酮等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。当在感光性糊膏中添加敏化剂时，其添加量相对于感光性成分通常为0.05～10重量％、更优选为0.1～10重量％。如果敏化剂的量过少，则有不能发挥提高光的灵敏度的效果的倾向，如果敏化剂的量过多，则有曝光部的残留率变小的倾向。
作为有机溶剂，可以使用例如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲基乙基酮、二烷、丙酮、环己酮、环戊酮、异丁醇、异丙醇、四氢呋喃、二甲亚砜、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴代苯甲酸、氯代苯甲酸等，或使用含有这些溶剂中的1种以上的有机溶剂混合物。
感光性糊膏，通常是在以使上述的无机微粒子、有机成分成为规定的组成那样进行调和后，用三辊机或混炼机均质地混合分散成的。
通过将上述感光性电介质糊膏涂布在基板上后、通过具有所要求的图案的光掩模进行曝光、显影，可以形成在表面上具有所要求的的凹凸图案的电介质层。
在将本发明应用于形成这样的具有图案的电介质层的情况下，当想要得到的图案为条状时，通过应用将在基板上形成的感光电介质糊膏涂布膜与具有所要求图案的光掩模对位，一边使基板或者光掩模沿条状图案的延伸方向移动，一边进行曝光的方法，或者是将上述涂布膜进行1次曝光(曝光动作1)，进而以所要求的量移动基板或者光掩模，再次进行对位，进行曝光(曝光动作2)的方法，可以抑制由在光掩模上附着的异物、伤痕、气泡等导致的缺陷的产生糊膏。另外，在是条状以外的图案的情况下，可以应用上述后者的方法。
另外，对于背面板，优选在上述电介质层上形成障壁层。即使在图案上产生了缺陷的情况下，上述电极层也可以比较容易地修理(repair)，但是对于障壁层，由于其高度比电极层高，所以修理变得困难。因此，本发明最优选适用于该障壁层的形成方法。
障壁层的截面形状优选形成为梯形或矩形。构成障壁层的障壁的高度适宜为80～200μm。通过使高度为80μm以上，可以防止荧光体与扫描电极过度接近，从而防止因放电导致的荧光体的劣化。另外，通过使高度为200μm以下，可以使扫描电极处的放电与荧光体的距离接近，能够得到充分的亮度。另外经常使用的是间距(P)为100μm≤P≤500μm的障壁。另外，作为高清晰等离子体显示器，障壁的间距(P)为100μm≤P≤250μm。通过使间距为100μm以上，可以扩大放电空间，得到充分的亮度，通过使间距为500μm以下，可以显示像素清晰漂亮的图像。通过使间距为250μm以下，可以显示HDTV(高清晰度)水平的漂亮的图像。在RGB中，优选使与亮度比较低的蓝色对应的障壁间的间距比其他颜色的更宽。线宽(L)以半幅宽计，优选为10μm≤L≤50μm。通过使线宽为10μm以上，可以保持强度，在封合前面板与背面板时，可以防止破损的发生。另外，通过使线宽为50μm以下，可以增大荧光体的形成面积，得到高的亮度。
另外，对于在垂直于上述障壁的方向上形成了辅助障壁的所谓井字形的障壁图案，在本发明中也优选形成。
通过形成辅助障壁，除了可以在辅助障壁的壁面上形成荧光体层、增大发光面积之外，还可以利用辅助障壁抑制PDP的应发光单元以外的误发光。因此，由于紫外线高效率地作用于荧光面，所以能够提高亮度。另外，由于辅助障壁的存在，可以扩大障壁整体的结合面积，从而得到部件的结构强度。其结果是可以减小障壁、辅助障壁的宽度，增大在显示单元部位的放电容积，使放电效率进一步提高。辅助障壁的截面形状也可以形成为梯形或矩形。
辅助障壁的高度优选为障壁高度的1/10～1/1。通过使辅助障壁的高度为障壁高度的1/10以上，可以得到由于增大发光面积而引起的亮度提高的效果。另外，如果考虑在形成荧光体层时发生的混色、或者在等离子体显示器显示时发生的与其他颜色间的相互干扰，则优选使辅助障壁的高度为障壁高度的1/1以下。
从气体放电和荧光体层发光的效率的角度考虑，辅助障壁的形成位置和间距，优选形成在与前面板结合制成等离子体显示器时分隔像素的位置上。
辅助障壁的线宽以顶部宽度计优选为30μm～700μm，进一步优选为40～600μm。通过使辅助障壁的顶部宽度为30μm以上，可以得到能够耐受辅助障壁的形成工序或后续工序的强度。另外，通过使顶部宽度为300μm以下，可以进行均质地坚固的烘烤。
另外，从防止由于烘烤收缩导致的辅助障壁弹起的角度考虑，优选使辅助障壁的底部宽度为辅助障壁顶部宽度的1.1～1.5倍。
作为形成这样的障壁层的方法，在本发明中优选适用使用了由绝缘无机成分与感光有机成分构成的感光性糊膏的光刻法。
作为感光性糊膏的无机微粒子，可以使用玻璃、陶瓷(氧化铝、堇青石)等。特别地，优选以硅氧化物、硼氧化物或者铝氧化物作为必须成分的玻璃或陶瓷。
无机微粒子的粒径根据欲制作的图案的形状来选择，但优选体积平均粒径(D50)为1～10μm，更优选为1～5μm。通过使D50为10μm以下，可以防止产生表面凹凸。另外，通过使D50为1μm以上，可以容易地进行糊膏的粘度调整。进而，对于图案的形成，特别优选使用比表面积为0.2～3m2/g的玻璃微粒子。
对于障壁和辅助障壁，为了在热软化点低的玻璃基板上形成图案，作为无机微粒子，优选使用含有60重量％以上的热软化温度为350℃～600℃的玻璃微粒子的无机微粒子。另外，通过添加热软化温度为600℃以上的玻璃微粒子或陶瓷微粒子，可以抑制烘烤时的收缩率，其量优选为40重量％以下。
为了使烘烤时在玻璃基板上不产生翘曲，作为使用的玻璃粉末，优选使用线膨胀系数为50×10-7～90×10-7、进一步优选为60×10-7～90×10-7的玻璃微粒子。作为形成障壁的原料，优选使用含有硅和/或硼的氧化物的玻璃材料。
氧化硅，优选以3～60重量％的范围的量配合。通过使其量为3重量％以上，可以提高玻璃层的致密性、强度或稳定性，另外使热膨胀系数在要求的范围内，能够防止与玻璃基板的不匹配。这里所谓的不匹配，是指玻璃基板与形成障壁和辅助障壁的玻璃层的热膨胀系数差为20以上、进而15以上的情况。如果两者的热膨胀系数的差超过20，则在基板上产生翻翘，当与前面板贴合时，变得容易发生破裂。另外，通过使氧化硅的量为60重量％以下，有热软化点变低，使其烧结于玻璃基板成为可能等优点。
通过将氧化硼以5～50重量％范围的量配合，可以提高电绝缘性、强度、热膨胀系数、绝缘层的致密性等电、机械和热的特性。通过使其重量在50重量％以下，可以保持玻璃的稳定性。
进而，通过以合计5～50重量％的量含有选自氧化铋、氧化铅、氧化锌中的至少1种，可以得到具有适于在玻璃基板上进行图案加工的温度特性的玻璃糊膏。特别地，如果使用含有5～50重量％的氧化铋的玻璃微粒子，则可以得到糊膏的适用期长等优点。作为氧化铋系玻璃微粒子，优选使用含有下面组成的玻璃粉末。
氧化铋：10～40重量份
氧化硅：3～50重量份
氧化硼：10～40重量份
氧化钡：8～20重量份
氧化铝：10～30重量份
另外，也可以使用含有3～20重量％的选自氧化锂、氧化钠、氧化钾中的至少1种的玻璃微粒子。通过使碱金属氧化物的添加量为20重量％以下、优选15重量％以下，可以提高糊膏的稳定性。在上述3种碱金属氧化物中，从糊膏稳定性的角度考虑，氧化锂是特别优选的。作为锂系玻璃微粒子，优选使用例如含有如下所示组成的玻璃粉末。
作为该情况下的具体的玻璃微粒子，优选使用含有如下所示组成的玻璃粉末。
氧化锂：2～15重量份
氧化硅：15～50重量份
氧化硼：15～40重量份
氧化钡：2～15重量份
氧化铝：6～25重量份
另外，如果使用含有如氧化铅、氧化铋、氧化锌这样的金属氧化物和如氧化锂、氧化钠、氧化钾这样的金属氧化物这两者的玻璃微粒子，那么可以在更低的碱含量下容易地控制热软化温度、线膨胀系数。
另外，通过在玻璃微粒子中添加氧化铝、氧化钡、氧化钙、氧化镁、二氧化钛、氧化锌、氧化锆等、特别是氧化铝、氧化钡、氧化锌，虽然可以改善加工性，但是从热软化点、热膨胀系数的观点出发，其含量优选为40重量％以下，更优选为25重量％以下。
作为感光性有机成分，优选含有选自感光性单体、感光性低聚物、感光性聚合物中的至少1种的感光性成分，进而，根据需要，添加光聚合引发剂、光吸收剂、敏化剂、有机溶剂、敏化助剂、阻聚剂。
作为感光性单体，可以使用含有碳-碳不饱和键的化合物，作为其具体的例子，有单官能和多官能性的(甲基)丙烯酸酯类、乙烯系化合物类、烯丙基系化合物类等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。
作为感光性低聚物、感光性聚合物，可以使用具有碳-碳双键的化合物中的至少1种进行聚合得到的低聚物或聚合物。在聚合时，可以按照使这些单体的含有率为10重量％以上、进一步优选35重量％以上那样，与其他的感光性单体进行共聚合。通过在聚合物或低聚物上共聚合不饱和羧酸等的不饱和酸，可以提高感光后的显影性。作为不饱和羧酸的具体的例子，可以列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙烯基醋酸、或者它们的酸酐等。这样得到的在侧链上具有羧基等酸性基团的聚合物或者低聚物，其酸价(AV)优选在50～180的范围内，更优选在70～140的范围内。对于以上所示的聚合物或者低聚物，通过在侧链或者分子末端加成光反应性基团，可以作为具有感光性的感光性聚合物或感光性低聚物来使用。优选光反应性基团是具有烯属性不饱和基团的基团。作为烯属性不饱和基团，可以列举出乙烯基、烯丙基、丙烯基、甲基丙烯基等。
作为光聚合引发剂的具体例子，可以列举出，二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4，4-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4-甲基苯基酮、二苄基酮、芴酮、2，3-二乙氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基-2-苯基苯乙酮等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。光聚合引发剂，相对于感光性成分，优选在0.05～10重量％的范围下添加，更优选在0.1～5重量％的范围下添加。如果聚合引发剂的量过少，则有光的灵敏度降低的倾向，如果光聚合引发剂的量过多，则有曝光部的残留率变得过小的倾向。
添加光吸收剂也是有效的。通过添加紫外光、可见光的吸收效果好的化合物，能够得到高纵横比、高清晰、高分辨率。作为光吸收剂，优选使用由有机系染料构成的物质，具体地，可以使用偶氮系染料、氨基酮系染料、呫吨系染料、喹啉系染料、蒽醌系染料、二苯甲酮系染料、氰基丙烯酸二苯酯系染料、三嗪系染料、对氨基苯甲酸系染料等。由于有机系染料在烘烤后的绝缘膜中没有残留，所以可以减少因光吸收剂导致的绝缘膜特性的降低，因而是优选的。在这些染料中，优选偶氮系和二苯甲酮系染料。有机染料的添加量优选为0.05～5重量％、更优选为0.05～1重量％。如果添加量过少，则有光吸收剂的添加效果降低的倾向，如果过多，则有烘烤后的绝缘膜特性降低的倾向。
敏化剂是为了提高灵敏度而添加的。作为敏化剂的具体例子，可以列举出2，4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，3-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2，6-双(4-二甲基氨基亚苄基)环己酮等。这些化合物可以使用1种或者2种以上。当在感光性糊膏中添加敏化剂时，其添加量相对于感光性成分通常为0.05～10重量％，更优选为0.1～10重量％。如果敏化剂的量过少，则有不能发挥提高光的灵敏度的效果的倾向，如果敏化剂的量过多，则有曝光部的残留率变小的倾向。
作为有机溶剂，可以使用例如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲基乙基酮、二烷、丙酮、环己酮、环戊酮、异丁醇、异丙醇、四氢呋喃、二甲亚砜、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴代苯甲酸、氯代苯甲酸等、或使用含有这些溶剂中的1种以上的有机溶剂混合物。
感光性糊膏，通常是在以使上述的无机微粒子或有机成分成为规定的组成那样进行调和后，用三辊机或混炼机均质地混合分散来制作。接着进行上述那样的感光性糊膏的涂布、干燥、曝光、显影、烘烤。
在这一系列的形成工序中，作为涂布感光性糊膏的方法，可以使用丝网印刷法、棒涂法、辊涂法、模涂法、刮涂法等。涂布厚度可以通过选择涂布次数、丝网的筛目、糊膏的粘度来调整。
此时，感光性的涂布宽度，相对于欲得到的构成障壁层的障壁图案的长度L(mm)，优选为L-2(mm)≤L(mm)≤L+5(mm)。通过使涂布宽度成为这样的长度，可以有效地实施下述本发明的曝光方法。另外，所谓图案长度是指朝一个方向连续的线状图案的长度。
另外，障壁图案的端部优选形成，相对于涂布宽度终端部、其高度逐渐衰减的形状(锥形状)。该高度逐渐衰减的区域的长度优选在0.5～6mm的范围内，进一步优选在1～4mm的范围内。通过使障壁图案的端部成为这样的形状，可以防止因障壁层烘烤收缩导致的端部的弹起。另外，上述涂布后的干燥可以使用通风炉、电热板、IR炉等。
接着，通过具有所要求的图案的光掩模，对上述涂布、干燥后的涂布膜进行曝光。
当欲得到的障壁图案为如图2或者图3所示那样的条状时，在调整基板与光掩模的位置后，实施通过光掩模照射能量线的曝光动作。在本发明中，一边移动基板或光掩模，一边实施曝光动作。此时的基板或者光掩模的移动方向必须是配设在光掩模上的条状图案的延长方向。这样可以抑制图案的曝光量的不均。另外，曝光动作中基板或者光掩模的移动量优选为0.03～10mm、进一步优选为0.05～7mm、更进一步优选为0.10～5mm。当移动量小于0.03mm时，抑制由附着在光掩模上的异物、伤痕等导致的障壁图案产生缺陷的效果变低，另外如果超过上述范围，则由于需要曝光动作时间、生产节拍时间(takt time)变长，所以生产率降低。
另外，此时在使用的光掩模上配设的图案长度，优选比上述的涂布宽度长。具体地，优选比感光性糊膏的涂布宽度L长1～20mm、进一步优选长1～10mm。当小于上述范围时，由于曝光动作中基板或者掩模的移动，导致相当于障壁图案终端部的部位产生曝光不足，容易发生图案的细化或剥落，如果超过上述范围，则有可能由于能量线的漏光导致不需要的部分硬化的担心，因此不是优选的。
另外，为了防止图案终端部位处的曝光量不足，优选感光性糊膏涂布膜的厚度随着向障壁图案长度方向的终端部位方向而变薄的形状(端部锥形形状)。在本发明中，在使终端部位为锥形形状的情况下，其长度从涂布终端部位算起，优选为1～10mm、进一步优选为1.2～8mm。当锥形部分小于上述范围时，抑制曝光不足的效果差，另外当超过上述范围时，标准部位的图案长度变短，因此不是优选的。
进而，为了减少这样的端部处的曝光不足的情况，在本发明中也优选适用仅在相当于障壁长度方向图案终端部的部位，扩大在光掩模上配设的条状图案的宽度，或者使其呈圆形的方法。例如当扩大障壁长度方向图案终端部的图案的宽度时，根据光掩模与基板相对移动的距离而不同，优选的是从图案长度方向终端部起相当于通常相对移动距离的1.2倍～3倍的长度，并且扩大为标准(中央部位)宽度的1.1～5倍。另外，这里所谓终端部位是指连续的直线状的图案的起点和终点，所谓标准部位是指作为PDP实际上显示图像的区域。
进而，当欲得到的障壁图案为如图4所示那样的由障壁图案与辅助障壁图案构成的井字形图案时，在本发明中，可以在涂布感光性糊膏后，利用上述方法将辅助障壁图案(横条状)进行1次曝光，接着利用上述方法将障壁图案(纵条状)进行曝光。
当欲在障壁与辅助障壁之间设置所要求的台阶时，利用上述方法将辅助障壁或者障壁的低的一方的图案进行1次曝光，涂布相当于障壁与辅助障壁的台阶的量的感光性糊膏，并进行干燥，利用上述方法将高的一方的图案进行曝光，由此可以形成高低不同的井字状图案。
另外，为了抑制辅助障壁图案(横条)的终端部位处的曝光不足，在本发明中优选应用如图5那样将相当于辅助障壁终端部的部位的障壁图案(纵条)宽度扩大的方法、或如图6那样配设多条障壁图案的方法、如图7那样将图案长度方向的终端部位宽度扩大的方法。该障壁的宽度、或者形成多条障壁的区域，根据上述辅助障壁在曝光动作时的基板或者光掩模的移动量的不同而不同，但优选为基板或者光掩模的移动量的1.2倍以上，进一步优选1.5倍以上。这样一来，辅助障壁端部的曝光不足部分通过之后被曝光的障壁图案的曝光得到补偿。另外，在如图7那样扩大辅助障壁的图案长度方向的终端宽度的情况下，优选使光掩模上的图案长度比得到的图案的长度短，其长度优选与移动量相同。另外，终端宽度扩大的长度根据移动量有所不同，优选为移动量的1倍以上，进一步优选1.1倍以上。这样，辅助障壁端部的曝光量不足的部分，可以通过之后被曝光的障壁图案的曝光得到补偿。
图案长度方向的终端部位的宽度优选为标准部位宽度的1.2～3倍。当小于上述范围时，容易出现在图案终端部位的曝光量不足，另外如果超出上述范围，则有在显影时容易出现残留、图案变得不好的倾向。
在本发明中，曝光动作时使用的能量线，可以列举出例如可见光线、近紫外线、紫外线、电子束、X线、激光等。其中最优选紫外线，作为其光源，可以使用例如低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、卤素灯、杀菌灯等。其中优选超高压汞灯。曝光条件根据涂布厚度而有所不同，可以使用1～100mW/cm2的输出的超高压汞灯，进行0.1～10分钟的曝光。
这里，光掩模与感光性糊膏的涂布膜表面的距离，即间隙量，优选调整为50～500μm、进一步优选为70～400μm。通过使间隙量为50μm以上、进而为70μm以上，可以防止基板或者光掩模移动时的感光性糊膏涂布膜与光掩模的接触，从而防止双方的破坏或污染。另外，通过使间隙量为500μm以下、进而为400μm以下，可以形成适度明晰的图案。
曝光后实施的显影，是利用曝光部分与非曝光部分对显影液的溶解度差来进行显影的。显影可以用浸渍法或喷涂法、刷涂法等来进行。
显影液使用可以溶解感光糊膏中的想要溶解的有机成分的溶液。当在感光性糊膏中存在具有羧基等酸性基团的化合物时，可以用碱水溶液进行显影。作为碱水溶液，可以使用氢氧化钠或碳酸钠、碳酸钠水溶液、氢氧化钙水溶液等，使用有机碱水溶液，在烘烤时易于除去碱成分，因此是优选的。作为有机碱，可以使用一般的胺化合物。具体地，可以列举出氢氧化四甲基铵、氢氧化三甲基苄基铵、单乙醇胺、二乙醇胺等。碱水溶液的浓度通常为0.01～10重量％，更优选为0.1～5重量％。如果碱浓度过低，则有不能除去可溶部分的倾向，如果碱浓度过高，则有图案部剥落、另外腐蚀非可溶部的倾向。另外，从工序管理的角度出发，优选使进行显影时的显影温度为20～50℃。
接着，对由显影得到的障壁·辅助障壁的图案用烘烤炉进行烘烤。烘烤气氛、温度，根据糊膏、基板的种类而不同，可以在空气中、氮气、氢气等的气氛中进行烘烤。作为烘烤炉，可以使用分批式的烘烤炉或辊底式的连续型烘烤炉。可以在烘烤温度为400～800℃的温度下进行。当在玻璃基板上直接形成障壁时，可以在450～620℃的温度下保持10～60分钟，进行烘烤。
在该烘烤时，当障壁与辅助障壁的宽度的差异很大时，具体来说，当辅助障壁的宽度与障壁宽度相比极宽时，由于障壁与辅助障壁的烘烤收缩行为的不同，会导致在两者的界面处障壁断线、在辅助障壁上产生龟裂等。
对于该问题，通过在辅助障壁顶部形成条状的沟，能够缓和辅助障壁的烘烤收缩，可以抑制在辅助障壁与障壁界面处的障壁断线。
接着，在与规定的地址电极平行的方向上形成的障壁间，形成以R(红)G(绿)B(蓝)各色发光的荧光体层。荧光体层，可以通过将以荧光体粉末、有机粘合剂和有机溶剂作为主要成分的荧光体糊膏涂覆在规定的障壁间，进行干燥，根据需要进行烘烤来形成。
作为将荧光体糊膏涂覆在规定的障壁间的方法，可以通过下述那样的方法使各色的荧光体浆料涂覆在规定的地方，所述方法有使用丝网印刷版进行图案印刷的丝网印刷法、从排出喷嘴的前端排出荧光体糊膏来形成图案的给料器(dispenser)法、另外还有使用上述具有感光性的有机成分作为荧光体糊膏的有机粘合剂的感光性糊膏法糊膏，但是从成本的原因出发，在本发明中优选应用丝网印刷法、给料器法。
此时对于利用感光性糊膏法形成荧光体的情况，优选应用本发明。
作为曝光方法，可以用与上述障壁图案相同的方法来实施。
实施例
以下，使用实施例来具体地说明本发明。但是，本发明不限定于此。另外，实施例、比较例中的浓度(％)为重量％。
(实施例1)
使用感光性银浆，在玻璃基板PD200(尺寸：964×570mm)上制成地址电极。将感光性银浆进行涂布、干燥、曝光、显影、烘烤工序，形成线宽为100μm、厚度为3μm、间距为300μm的地址电极。
接着，利用丝网印刷，按照覆盖显示部分的汇流电极(Bus-Electrode)那样、以20μm的厚度来涂布玻璃糊膏后，在570℃下进行15分钟的烘烤来形成电介质层，所述玻璃糊膏是将60重量％的含有75重量％氧化铋的低熔点玻璃粉末、10重量％的平均粒径为0.3μm的二氧化钛粉末、15重量％的乙基纤维素、15重量％的松油醇进行混炼而得到的。
在电介质层上涂布感光性糊膏。感光性糊膏由玻璃粉末与含有感光性成分的有机成分构成，作为玻璃粉末，使用由10重量％氧化锂、25重量％氧化硅、30重量％氧化硼、15重量％氧化锌、5重量％氧化铝、15重量％氧化钙组成的玻璃粉碎成的平均粒径为2μm的玻璃粉末。作为含有感光性成分的有机成分，使用由30重量％的含有羧基的丙烯酸聚合物、30重量％的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、10重量％的作为光聚合引发剂的“イルガキユア369”(チバガイギ一社制)、30重量％的γ-丁内酯构成的有机成分。
感光性糊膏，通过将这些玻璃粉末与含有感光性成分的有机成分分别以70∶30的重量比例混合后，用轧制机(roll mill)进行混炼来制作。
接着，使用模涂机来涂布该感光性糊膏，使得涂布宽度为530mm、干燥后厚度为200μm。干燥用洁净烘箱(ヤマト科学社制)进行。干燥后，准备配设了间距为300μm、宽度为50μm、长度为536mm的条状图案的光掩模，在曝光照度为20mW/cm2、曝光时间为20秒、光掩模与基板上的涂布膜间距离(间隙量)为200μm的条件下，使基板与光掩膜对位后，一边使基板沿条状图案的延长方向按照0.025mm/秒、距离为0.5mm那样移动，一边进行曝光动作。另外，此时使大小为100μm的黑色异物在光掩模上飞散，进行曝光。
曝光后，在0.5重量％的乙醇胺水溶液中进行显影，进而，在580℃下烘烤15分钟，由此得到障壁图案。
利用图像检查装置(Vテクノロヅ一制  ス一パ一ネプチユ一ン9000)对得到的障壁图案进行缺陷检查。检查的结果是，在得到的障壁图案上没有断线、缺损、粗化、短路等缺陷。
(比较例1)
通过在实施例1中除了不进行曝光动作时的基板的移动(基板和光掩模都处于静止状态)以外，相同的方法得到障壁图案后，进行图像检查。检查的结果是，得到的障壁图案在附着于光掩模上的黑色异物部分处发生无数的断线、缺损。
(实施例2)
通过在实施例1的曝光动作操作中，除了使基板与光掩模对位后，进行1次10秒的曝光动作，之后使基板沿着配设于光掩模上的条状图案的延长方向移动0.5mm，再次进行10秒的曝光动作以外，其他相同的方法来得到障壁图案。
利用图像检查装置对得到的障壁图案进行缺陷检查。检查结果是，得到的障壁图案在相当于光掩模上的黑色异物的部位处，稍微有些细化，但没有断线、缺损、粗化、短路等缺陷。
(实施例3)
使用感光性银浆，在玻璃基板PD200(尺寸：964×570mm)上制成地址电极。将感光性银浆进行涂布、干燥、曝光、显影、烘烤工序，形成线宽为100μm、厚度为3μm、间距为300μm的地址电极。
接着，利用丝网印刷按照覆盖显示部分的总线电极那样、以20μm的厚度涂布玻璃糊膏后，在570℃下进行15分钟的烘烤来形成电介质层，所述玻璃糊膏是将60％的含有75重量％氧化铋的低熔点玻璃粉末、10重量％的平均粒径为0.3μm的二氧化钛粉末、15％的乙基纤维素、15％的松油醇进行混炼而得到的。
在电介质层上涂布感光性糊膏。感光性糊膏由玻璃粉末与含有感光性成分的有机成分构成，作为玻璃粉末，使用粉碎由10重量％氧化锂、25重量％氧化硅、30重量％氧化硼、15重量％氧化锌、5重量％氧化铝、15重量％氧化钙组成的玻璃而成的平均粒径为2μm的玻璃粉末。作为含有感光性成分的有机成分，使用由30重量％的含有羧基的丙烯酸聚合物、30重量％的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、10重量％的作为光聚合引发剂的“イルガキユア 369”(チバガイギ一社制)、30重量％的γ-丁内酯构成的有机成分。
感光性糊膏是通过将这些玻璃粉末与含有感光性成分的有机成分分别以70∶30的重量比例混合后，用轧制机进行混炼来制作的。
接着，使用模涂机涂布该感光性浆料，使得涂布宽度为530mm、干燥后厚度为170μm。干燥用洁净烘箱(ヤマト科学社制)进行。
干燥后，准备配设了间距为700μm、宽度为50μm、长度为930.6mm的条状图案(辅助障壁用)的光掩模，在曝光照度为20mW/cm2、曝光时间为20秒、光掩模与基板上的涂布膜间距离(间隙量)为200μm的条件下，使基板与光掩膜对位后，一边使基板沿条状图案的延长方向按照0.025mm/秒、距离为0.3mm那样移动，一边进行曝光动作。另外，此时使大小为100μm的黑色异物在光掩模上飞散，进行曝光。
在其上进而按照涂布宽度为525mm、干燥后厚度为40μm那样，使用模涂机涂布感光性糊膏。干燥用洁净烘箱(ヤマト科学社制)进行。
干燥后，准备配设了间距为300mm、宽度为50μm、最左边和最右边的线宽为400μm、长度为536mm的条状图案(障壁用)的光掩模，在曝光照度为20mW/cm2、曝光时间为20秒、光掩模与基板上的涂布膜间距离(间隙量)为200μm的条件下，使基板与光掩膜对位后，一边使基板沿条状图案的延长方向按照0.025mm/秒、距离为0.5mm那样移动，一边进行曝光动作。另外，此时使大小为100μm的黑色异物在光掩模上飞散，进行曝光。
曝光后，在0.5重量％的乙醇胺水溶液中进行显影，进而，通过在580℃下烘烤15分钟，得到在障壁与辅助障壁上具有台阶的井字形状的障壁图案。
利用图像检查装置(Vテクノロヅ一制  ス一パ一ネプチユ一ン 9000)对得到的障壁图案进行缺陷检查。检查的结果是，在得到的障壁图案上没有断线、缺损、粗化、短路等缺陷。
(比较例2)
在通过与实施例3除了不进行辅助障壁及障壁曝光动作时的基板的移动以外(基板和光掩模都处于静止状态)、其他相同的方法，得到井字形状的障壁图案后，进行图像检查。检查的结果是，得到的辅助障壁及障壁图案在附着于光掩模上的黑色异物部分处发生无数的断线、缺损。
(实施例4)
通过与实施例1除了对在感光性糊膏涂布膜的曝光中使用的光掩模(终端部位和标准部位宽度为50μm)，将其条状图案长度变为530mm、将从条状图案长度方向终端部位起向内侧0.8mm范围的宽度(终端部位宽度)改变为80μm以外，其他相同的方法得到障壁图案。即，该光掩模的终端部位宽度是标准部位宽度的1.6倍。通过图像检查装置对得到的障壁图案进行缺陷检查。检查的结果是，在得到的障壁图案上没有断线、缺损、粗化、短路等缺陷。

Claims (9)

1.一种显示器用部件的曝光方法，是借助于具有期望图案的光掩模，对在基板上形成了感光层的显示器用部件进行曝光动作的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，在曝光动作中使光掩模与基板相对移动。
2.如权利要求1所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，相对移动的距离为0.03～10mm。
3.一种显示器用部件的曝光方法，是借助于具有期望图案的光掩模，对在基板上形成了感光层的显示器用部件进行多次的曝光动作的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，在至少2次曝光动作之间使光掩模与基板相对移动。
4.如权利要求3所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，相对移动的距离为0.03～200mm。
5.如权利要求1～4的任意一项所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，光掩模的图案为条状，相对移动的方向相对于条形的方向为平行方向。
6.如权利要求1～5的任意一项所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，光掩模的图案的长度比得到的图案的长度长。
7.如权利要求1所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，光掩模的图案的长度比得到的图案的长度短，并且该光掩模图案的终端部宽度比标准部宽度宽。
8.如权利要求7所述的显示器用部件的曝光方法，其特征在于，光掩模的图案的终端部宽度是标准部宽度的1.2～3倍。
9.一种显示器用部件的制造方法，使用了权利要求1～8的任意一项所述的曝光方法。
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