CN101446769B - 光刻图形的曝光条件选择方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻图形的曝光条件选择方法，包括以下步骤：在非接触式平行光曝光机的光路部分安装多个遮光快门；在玻璃基板上设置感光性材料层；将多个遮光快门全部打开，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次关闭多个遮光快门，或将多个遮光快门全部关闭，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次打开多个遮光快门，以在玻璃基板的不同区域得到不同曝光量的图形；以及在同样的显影条件下对经过曝光的玻璃基板的不同区域进行显影，并对经过曝光的玻璃基板的不同区域的显影结果进行比较，以根据比较结果对光刻图形的曝光条件进行选择。
Description
技术领域
本发明涉及气体放电技术领域，更具体地涉及一种光刻图形的曝光条件选择方法。
背景技术
光刻方法作为一种重要的精细结构图形的制作方法，在当前的高科技领域得到了广泛的应用。特别是在当前平板显示时代的到来之际，PDP、LCD等平板显示器电视逐渐开始取代传统的CRT电视，生产技术也日渐成熟，尤其在PDP屏的制作中，光刻方法已经成为一种必不可少的制作方法。在PDP的制作中，关键的电极、Rib等结构目前均采用光刻的方法制作。光刻方法主要是利用感光性材料的特殊性质，通过母版图形进行曝光，经显影后得到所需的图形结构，其制作的大面积图形精细度高、均匀性好。特别适合PDP屏上的大面积微米级精细图形的制作。
在PDP的制作工艺中，光刻条件的确定是至关重要的。在生产过程中，要确定浆料的曝光量、干燥条件、及显影条件等。在现有的制作工艺中，主要是通过改变每块的曝光量、干燥条件、显影条件等，运用正交试验的方法进行，这样不仅浪费浆料、浪费人力物力，而且耗时较长，严重影响生产准备阶段的节拍。
如果在曝光时能在同一张玻璃基板上得到不同的曝光量，然后在同一显影条件下显影，则能够很好很快地确定浆料的曝光量。
发明内容
为了快速选择感光性材料的最佳曝光量，本发明提供了一种新颖的光刻图形的曝光条件选择方法。
根据本发明实施例的光刻图形的曝光条件选择方法，包括以下步骤：在非接触式平行光曝光机的光路部分安装多个遮光快门；在玻璃基板上设置感光性材料层；将多个遮光快门全部打开，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次关闭多个遮光快门，或将多个遮光快门全部关闭，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次打开多个遮光快门，以在玻璃基板的不同区域得到不同曝光量的图形；以及在同样的显影条件下对经过曝光的玻璃基板的不同区域进行显影，并对经过曝光的玻璃基板的不同区域的显影结果进行比较，以根据比较结果对光刻图形的曝光条件进行选择。
其中，将玻璃基板通过母版进行曝光作业。将多个遮光快门安装在非接触式平行光曝光机的直立的母版支撑架上。使用由不能透过紫外线的刚性薄板组成的遮光快门。根据母版的尺寸来设置多个遮光快门的尺寸。具体地，将多个遮光快门的宽度设置为母版的长度的1/N，其中，N≥2。
其中，通过设置在母版的上下两端的、与操作面板的自动计时器连接的快门移动轴来控制多个遮光快门的开与关。通过在玻璃基板上印刷或涂敷一层感光性浆料并烘干来在玻璃基板上设置感光性材料层。可选地，通过在玻璃基板上贴附DFR膜来在玻璃基板上设置感光性材料层。
综上所述，本发明通过安装母版图形遮光快门来实现分区域曝光，从而准确地在不同区域选择不同的曝光条件。本发明对确定合适的浆料曝光量有着重要的意义，而且加快了生产准备阶段的节拍。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1是根据本发明实施例的光刻图形的曝光条件选择方法的流程图；
图2是曝光机平行光UV光光路图；
图3是遮光快门闭合时的剖面图；
图4是遮光快门开启时的剖面图；
图5是遮光快门全部闭合时的正面图；
图6是遮光快门全部开启时的正面图；
图7是曝光量为X1时的遮光快门遮光示意图；
图8是曝光量为X2时的遮光快门遮光示意图；
图9是曝光量为X3时的遮光快门遮光示意图；
图10是曝光量为X4时的遮光快门遮光示意图；以及
图11是玻璃表面得到不同曝光量的示意图。
1：Hg灯 2：第一平面镜
3：复眼透镜 4：第二平面镜
5：凹镜 6：Photo-Mask
7：玻璃基板 8：遮光快门
9：UV平行光 10：曝光台
11：母版支架 12：快门支撑架
13：曝光量为X1mJ/cm2时图形
14：曝光量为X12mJ/cm2时图形
15：曝光量为X3mJ/cm2时图形
16：曝光量为X4mJ/cm2时图形
17：曝光量为X5mJ/cm2时图形
具体实施方式
下面参考附图，详细说明本发明的具体实施方式。
参考图1，说明根据本发明实施例的光刻图形的曝光条件选择方法。如图1所示，该方法包括以下步骤：S102，在非接触式平行光曝光机的光路部分安装多个遮光快门；S104，在玻璃基板上设置感光性材料层；S106，将多个遮光快门全部打开，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次关闭多个遮光快门，或将多个遮光快门全部关闭，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次打开多个遮光快门，以在玻璃基板的不同区域得到不同曝光量的图形；以及S108，在同样的显影条件下对经过曝光的玻璃基板的不同区域进行显影，并对经过曝光的玻璃基板的不同区域的显影结果进行比较， 以根据比较结果对光刻图形的曝光条件进行选择。其中，步骤S102和步骤S104的顺序可以调换。
其中，可以通过母版对玻璃基板进行曝光。具体地，在直立的母版支撑架上安装遮光快门，以对母版上的图形区域按要求分别进行遮光处理。其中，遮光快门是由不能透过紫外线和反射紫外线的刚性薄板组成的。遮光快门的长度根据母版的尺寸灵活变动，遮光快门的宽度可以是母版长度的1/N(N≥2)。其中，在母版支架的上下两端设计有快门移动轴，该快门移动轴并与操作面板的自动计时器连接，从而能精确地控制遮光快门的打开与闭合。在连续生产中，可以使遮光快门一直处于打开状态，在确定曝光量试验中可以根据需要把遮光快门打开与闭合，通过显影和烧结后的结果，判定合适的曝光量。
在光刻工艺过程中，在选择浆料曝光量试验时，全部遮光快门都处于打开状态，总快门打开后，当得到一定曝光量时，其中一个遮光快门关闭，区域一得到设定的曝光量；再经过一定时间后，第二个遮光快门关闭，区域二得到设定的第二个曝光量；依次类推，直到得到最后所需的不同曝光量，曝光过程完成，曝光机的总快门关闭。或者是在开始曝光时，将全部的遮光快门都处于关闭的状态，曝光前曝光机的总快门先打开。要得到一定的曝光量时，先打开其中的一个遮光快门，再经过一定时间后，第二个遮光快门打开，一次类推，直到得到最后所需的不同曝光量，最后曝光机总快门关闭。这样在同一块玻璃基板上就得到了不同曝光量的图形，然后在显影机里显影。由于是不同曝光量的图形在同一个显影机里同时显影，显影条件一样，不一样的是曝光量，显影后在检查设备上观察分析不同曝光量得到的图形，选择最佳的曝光量，至此可以确定合适的曝光量。
具体地，参考图2至图11，对本发明的具体实施方式进行详细说明。
图2示出了曝光机平行光UV光的光路图。如图3所示，在立式的母版支撑架11上安装遮光快门8，遮光快门8能按照设定的曝光量打开和闭合，打开时有紫外线通过，闭合时可以遮挡紫外光。其中，遮光快门开启和全部关闭时的状态如图3至图6所示。
在玻璃基板上印刷或涂敷一层感光性浆料，然后在干燥炉中干燥，或贴上一层DFR膜，准备曝光作业。
如图7所示，遮光快门全部打开，设定好需要的曝光量，经过一定时间后第一个快门关闭，得到如图11所示的曝光量为X1mJ/cm2时的图形13。
如图8所示，再经过一定时间，第二个快门关闭，这样就得到如图11所示的曝光量为X2mJ/cm2时的图形14。
如图9所示，再经过一定时间，第三个快门关闭，这样就得到如图11所示的曝光量为X3mJ/cm2时的图形15。
如图10所示，再经过一定时间，第四个快门关闭，这样就得到如图11所示的曝光量为X4mJ/cm2时的图形16。
再经过一定时间，曝光机UV灯总快门关闭，这样就得到如图11所示的曝光量为X5mJ/cm2时的图形17。
通过曝光得到的玻璃基板上的图形如图11所示，图11中的13-17分别为曝光量为X1-X5时得到的图形，然后整张玻璃基板在显影机中显影，这样保证了不同曝光量的图形能在同样的显影条件下显影，方便对图形进行比较分析，确定合适的曝光量。
通过本发明，能方便地在同一显影条件下比较不同曝光量得到的图形，这样缩短了浆料曝光量选择的时间。由于在同一张玻璃基板上可以很好地进行图形对比，这样能快速准确地选择曝光及干燥条件，节约了生产成本，减少了生产准备阶段的时间，提高了生产效率。
以上所述仅为本发明的实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。
Claims (9)
1.一种光刻图形的曝光条件选择方法，其特征在于，包括以下步骤：
在非接触式平行光曝光机的光路部分安装多个不能透过紫外线的遮光快门；
在玻璃基板上设置感光性材料层；
将所述多个遮光快门全部打开，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次关闭所述多个遮光快门，或将所述多个遮光快门全部关闭，并在得到特定曝光量时，以特定时间间隔依次打开所述多个遮光快门，以在所述玻璃基板的不同区域得到不同曝光量的图形；以及
在同样的显影条件下对经过曝光的玻璃基板的不同区域进行显影，并对所述经过曝光的玻璃基板的不同区域的显影结果进行比较，以根据比较结果对光刻图形的曝光条件进行选择。
2.根据权利要求1所述的曝光条件选择方法，其特征在于，将所述玻璃基板通过母版进行曝光作业。
3.根据权利要求2所述的曝光条件选择方法，其特征在于，将所述多个遮光快门安装在所述非接触式平行光曝光机的直立的母版支撑架上。
4.根据权利要求3所述的曝光条件选择方法，其特征在于，使用由不能透过紫外线的刚性薄板组成的遮光快门。
5.根据权利要求4所述的曝光条件选择方法，其特征在于，根据所述母版的尺寸来设置所述多个遮光快门的尺寸。
6.根据权利要求5所述的曝光条件选择方法，其特征在于，将所述多个遮光快门的宽度设置为所述母版的长度的1/N，其中，N≥2。
7.根据权利要求6所述的曝光条件选择方法，其特征在于，通过设置在所述母版的上下两端的、与操作面板的自动计时器连接的快门移动轴来控制所述多个遮光快门的开与关。
8.根据权利要求7所述的曝光条件选择方法，其特征在于，通过在所述玻璃基板上印刷或涂敷一层感光性浆料并烘干来在所述玻璃基板上设置所述感光性材料层。
9.根据权利要求7所述的曝光条件选择方法，其特征在于，通过在所述玻璃基板上贴附DFR膜来在所述玻璃基板上设置所述感光性材料层。
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