JP2012146731A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、被処理基板に対して複数の電子ビームにより描画を行う電子ビーム描画装置であって、複数の電子ビームが通過する複数の孔を含み、描画を実施する際に被処理基板に対向する場所に位置する電子レンズと、電子レンズに付着した分解生成物に対して活性種を放出し、該活性種と分解生成物とを反応させることで該分解生成物を還元して揮発性ガスに変化させる洗浄手段と、を備え、洗浄手段は、活性種が複数の孔の形成位置に向かって放出されるように形成された複数の開口部を有し、複数の開口部の各々は、前記複数の孔の形成位置の各々に対向することを特徴とする。

Claims (9)

1. 被処理基板に対して複数の電子ビームにより描画を行う電子ビーム描画装置であって、
   前記複数の電子ビームが通過する複数の孔を含み、前記描画を実施する際に前記被処理基板に対向する場所に位置する電子レンズと、
   前記電子レンズに付着した分解生成物に対して活性種を放出し、該活性種と前記分解生成物とを反応させることで該分解生成物を還元して揮発性ガスに変化させる洗浄手段と、を備え、
   前記洗浄手段は、前記活性種が前記複数の孔の形成位置に向かって放出されるように形成された複数の開口部を有し、
   前記複数の開口部の各々は、前記複数の孔の形成位置の各々に対向することを特徴とする電子ビーム描画装置。
2. 前記複数の開口部の各々は、前記複数の孔の各々と同軸に形成されることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置。
3. 前記洗浄手段は、前記電子レンズに対向する面が前記電子レンズを支持する固定部に接続可能に開かれた本体部を備え、
   前記本体部は、前記面に、前記複数の開口部を有する開口アレイを備えることを特徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム描画装置。
4. 前記洗浄手段は、前記孔の位置に対して前記開口部の位置を合わせるように、前記開口アレイを駆動する駆動機構を備えることを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム描画装置。
5. 前記被処理基板を載置し、描画位置を基準として移動可能とする基板保持部と、
   前記基板保持部、および前記洗浄手段の動作を制御する制御部と、を備え、
   前記洗浄手段は、前記本体部を支持し、該本体部を前記固定部に向けて移動可能とする支柱部を備え、
   前記制御部は、前記活性種の放出の際には、前記描画位置から前記基板保持部を移動させた後に、前記支柱部を前記固定部に向けて移動させて前記本体部と前記固定部とを接続させることを特徴とする請求項３または４に記載の電子ビーム描画装置。
6. 前記本体部と前記固定部とを接続させたとき、前記開口部から前記電子レンズの最奥部までの距離は、前記開口部から前記電子レンズを含む領域での最大圧力における前記活性種の平均自由行程よりも短いことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の電子ビーム描画装置。
7. 前記開口部の数は、前記孔の数と等しい、または前記孔の数よりも多いことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子ビーム描画装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
   前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とする物品の製造方法。
9. 複数の電子ビームを通過する複数の孔を備える電子レンズの洗浄方法であって、
   前記電子レンズに付着した物と活性種とを反応させることによって揮発性ガスに変化させる場合に、
   前記活性種を複数の開口部から前記複数の孔に向かって放出させ、
   前記複数の開口部の各々を前記複数の孔の各々に対向させることを特徴とする洗浄方法。