CN103866237B - 薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法 - Google Patents
薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及一种薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法。所述薄膜沉积装置包括:沉积源和角度限制板,该沉积源经由喷射孔朝向基板喷射沉积蒸气,该角度限制板被布置为邻近所述喷射孔,以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的角度。所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2012年12月13日在韩国知识产权局提交的名称为“薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法”的韩国专利申请第10-2012-0145711号的优先权,其作为一个整体通过引用合并于此。
技术领域
各实施例涉及一种薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法。
背景技术
薄膜制造过程可被用于形成例如作为有机发光显示器件的封装体的薄膜。沉积方法可包括产生沉积源的蒸气,从而使沉积源的材料被附着到基板的表面上。
发明内容
各实施例的目的在于一种薄膜沉积装置,包括:沉积源和角度限制板,该沉积源经由喷射孔朝向基板喷射沉积蒸气,该角度限制板被布置为邻近所述喷射孔,以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的角度。所述角度限制板可包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板。
所述固定限制板和所述能移动限制板均可被布置为邻近所述喷射孔,以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的所述角度,并且所述能移动限制板可被布置为能够相对于所述固定限制板滑动。
所述能移动限制板可被滑动地布置在所述固定限制板的内壁上。
所述能移动限制板可包括能够独立滑动的多个能移动限制板。
所述多个能移动限制板和所述固定限制板可被布置为,使由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大。
所述装置可进一步包括驱动所述能移动限制板的致动器。
各实施例目的还在于一种沉积薄膜的方法,该方法包括:提供角度限制板,该角度限制板被布置在沉积源的喷射孔附近,以便将喷射沉积蒸气的角度限制到设定范围内的角度,所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板;以通过使用所述能移动限制板限制的喷射角执行第一沉积;重新定位所述能移动限制板,以便从用于限制所述喷射角的位置移出;以及以通过使用所述固定限制板限制的所述喷射角执行第二沉积。
通过沿所述固定限制板的内壁滑动所述能移动限制板,所述能移动限制板可被移动。
所述能移动限制板可包括能够独立滑动的多个能移动限制板。
所述多个能移动限制板和所述固定限制板可被布置使得为,由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大,并且自最内部的能移动限制板开始,通过依次使用所述最内部的能移动限制板至所述固定限制板执行所述喷射角的限制,所述固定限制板位于最外部。
通过使用致动器可移动所述能移动限制板。
附图说明
通过参照附图详细描述各示例实施例,各特征对本领域技术人员将变得明显,其中:
图1为根据示例实施例的薄膜沉积装置的剖视图;
图2为显示图1所示薄膜沉积装置中的能移动限制板的驱动机构的示意图;以及
图3A至图3C为显示使用图1所示薄膜沉积装置的实例的示意图。
具体实施方式
在下文中现在将参照附图更充分地描述各示例实施例;然而,这些示例实施例可以不同的形式实施,并且不应该被认为限于在此提出的实施例。相反,这些实施例被提供以使本公开将为全面和完整的,并且将这些示例实施例的范围充分地传达给本领域技术人员。
在附图中,各尺寸为例示清楚可被夸大。将会理解,当元件被提及为在另一元件“上”时,其可直接在另一元件上,或者也可存在一个或更多中间元件。还将理解,当元件被提及为在另一元件“下方”时,其可直接在下方,或者也可存在一个或更多中间元件。还将理解,当元件被提及为在两个元件“之间”时,其可为这两个元件之间的唯一元件,或者还可存在一个或更多中间元件。相似的附图标记始终指代相似的元件。
图1为根据示例实施例的薄膜沉积装置的剖视图,图2为显示下面描述的能移动限制板320的驱动机构的示意图。
在图1和图2所示的示例实施例中,薄膜沉积装置包括室100和沉积源200,基板10(沉积靶)被固定在室100内,沉积源200于室100内在基板10下方扫描移动并喷射沉积蒸气。在沉积开始时,沉积源200喷射沉积蒸气,并且所喷射的沉积蒸气被沉积到基板10上并形成薄膜。
在本示例实施例中,角度限制板300被布置为用于限制沉积蒸气从沉积源200被喷射的角度的部件。因而,沉积蒸气仅可通过由角度限制板300限制的开口飞向基板10,由此限制沉积区域。
在本示例实施例中,角度限制板300包括固定限制板310和能移动限制板320。固定限制板310相对于沉积源200的喷射孔201被固定地布置,并引导沉积源200的沉积蒸气经由固定限制板310限制的开口朝向基板10运动。能移动限制板320相对于沉积源200的喷射孔201被可移动地布置。在本示例实施例中,能移动限制板320包括可以多种状态布置的第一能移动限制板和第二能移动限制板,例如,第一能移动限制板321和第二能移动限制板322被布置成分别相对于固定限制板310滑动。
参见图2,将在下面详细描述能移动限制板320。
在本示例实施例中,能移动限制板320包括第一能移动限制板321和第二能移动限制板322,第一能移动限制板321和第二能移动限制板322中的每一个被布置成能够沿着形成在固定限制板310中的引导槽311滑动。在一个实施例中,能移动限制板320可被滑动地布置在固定限制板310的内壁上。在一个实施例中,通过沿固定限制板310的内壁滑动能移动限制板320,能移动限制板320可被移动。
致动器410和420被分别连接到第一能移动限制板321和第二能移动限制板322,因而第一能移动限制板321和第二能移动限制板322可被驱动,以便相对于彼此独立滑动。
如图1和图2所示,第一能移动限制板321和第二能移动限制板322以及固定限制板310形成一种结构,其中由第一能移动限制板321和第二能移动限制板322以及固定限制板310形成的开口向内变得更小。换言之,由最内部的第一能移动限制板321形成的开口是最小的开口,由第二能移动限制板322和固定限制板310形成的开口以叙述的顺序向外变得更大。该结构将根据沉积角向外增大开口的尺寸,以便使所限制的角度保持恒定。第一能移动限制板和第二能移动限制板以及固定限制板具有朝向开口凸出的边缘,并且由最内部的第一能移动限制板的边缘形成的开口是最小的开口,由第二能移动限制板322的边缘和固定限制板310的边缘形成的开口以叙述的顺序向外变得更大。
具有上述结构的薄膜沉积装置可如图3A至图3C所示那样被操作。
首先,基板10被安装在室100内,以便执行沉积过程。
其次,当基板10被安装时,通过驱动沉积源200起动主沉积过程。
如图3A所示,当第一能移动限制板321和第二能移动限制板322以及固定限制板310被布置为彼此最接近(例如,它们彼此紧密接触)时,也就是说,当第一能移动限制板321和第二能移动限制板322均被升高时,开始起动沉积。此时,最内部的第一能移动限制板321限制沉积角。如图3A所示,因为由第一能移动限制板321的凸出边缘形成的开口是最小的开口,所以从沉积源200的喷射孔201喷射的沉积蒸气被第一能移动限制板321限制。结果,沉积蒸气在由第一能移动限制板321限制的角度内向基板10喷射。
随着重复执行沉积,沉积蒸气也附着到第一能移动限制板321的端部,因而开口的直径逐渐改变。因此,在执行沉积足够次数之后,角度限制的任务被移交给另一能移动限制板320。为此目的,如图3B所示,连接到第一能移动限制板321的致动器410被驱动,由此使第一能移动限制板321自动下降。结果,第一能移动限制板321从第一能移动限制板321限制沉积角的位置移出,并且第二能移动限制板322接替。因此,可在沉积限制角被几乎恒定地保持的同时重新开始沉积。
当沉积蒸气随着时间的推移被附着到第二能移动限制板322的端部时,固定限制板310接替以限制沉积角。为此目的,如图3C所示,连接到第二能移动限制板322的致动器420被驱动,由此使第二能移动限制板322自动下降。结果,第二能移动限制板322从第二能移动限制板322限制沉积角的位置移出,并且固定限制板310接替。因此,可在沉积限制角被几乎恒定地保持的同时重新开始沉积。
当如上所述依次执行沉积角限制时,可在沉积角被几乎恒定地保持的同时执行沉积,因而可非常稳定和均匀地执行沉积。
尽管本示例实施例显示两个能移动限制板(第一能移动限制板321和第二能移动限制板322)构成能移动限制板320的结构,但是可布置多于两个的能移动限制板。
作为总结和回顾,通过将角度限制板附接在沉积源附近来限制沉积角的方法可被用于适当地限制沉积在基板上的区域。因而,通过将角度限制板安装在沉积源的蒸气孔周围,来自沉积源的蒸气可被限制,从而可仅在期望区域执行沉积。随着沉积被重复执行,沉积源的蒸气可附着到角度限制板。在这种情况下,沉积角可能逐渐偏离初始设定的沉积角。这可导致从一个区域至另一个区域的不期望的沉积变化。
如上所述,各实施例涉及一种薄膜沉积装置,该薄膜沉积装置产生沉积源的蒸气,以便将来自沉积源的材料沉积到基板上,更具体而言,各实施例涉及以受限制的沉积角形成薄膜的薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的方法。各实施例可提供增强的薄膜沉积装置,该增强的薄膜沉积装置被构造为提供基本恒定的沉积角,使由角度限制板限定的沉积区域基本恒定。根据实施例的薄膜沉积装置可有助于快速和有效地控制由角度限制板限定的沉积区域,从而使沉积区域随着时间的推移基本保持恒定,以便提供稳定和均匀薄膜沉积的方法。
已在此公开了各示例实施例,尽管采用了具体术语,但是它们仅在广义和描述性的意义上并且不用于限制的目的被使用和将要进行解释。在一些情况下,从递交本申请起对于本领域技术人员显而易见的是,除非以任何方式明确指出,结合特定实施例描述的各特征、各特性和/或各元件可单独使用,或与结合其它实施例描述的各特征、各特性和/或各元件组合使用。因此,本领域技术人员将会理解,在不偏离如所附权利要求书中提出的本发明的精神和范围的情况下,可做出形式上和细节上的各种改变。
Claims (9)
1.一种薄膜沉积装置,包括:
沉积源,该沉积源经由喷射孔朝向基板喷射沉积蒸气;和
角度限制板,该角度限制板被布置为邻近所述喷射孔,以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的角度,
其中所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板,
其中所述能移动限制板包括能够独立滑动的多个能移动限制板。
2.如权利要求1所述的薄膜沉积装置,其中:
所述固定限制板和所述能移动限制板均被布置为邻近所述喷射孔,以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的所述角度,并且
所述能移动限制板被布置为能够相对于所述固定限制板滑动。
3.如权利要求2所述的薄膜沉积装置,其中所述能移动限制板被滑动地布置在所述固定限制板的内壁上。
4.如权利要求1所述的薄膜沉积装置,其中所述多个能移动限制板和所述固定限制板被布置为,使由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大。
5.如权利要求1所述的薄膜沉积装置,进一步包括驱动所述能移动限制板的致动器。
6.一种沉积薄膜的方法,该方法包括:
提供角度限制板,该角度限制板被布置在沉积源的喷射孔附近,以便将喷射沉积蒸气的角度限制到设定范围内的角度,所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板;
以通过使用所述能移动限制板限制的喷射角执行第一沉积;
重新定位所述能移动限制板,以便从用于限制所述喷射角的位置移出;以及
以通过使用所述固定限制板限制的所述喷射角执行第二沉积,
其中所述能移动限制板包括能够独立滑动的多个能移动限制板。
7.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法,其中,通过沿所述固定限制板的内壁滑动所述能移动限制板,所述能移动限制板被移动。
8.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法,其中:
所述多个能移动限制板和所述固定限制板被布置为,使由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大,并且
自最内部的能移动限制板开始,通过依次使用所述最内部的能移动限制板至所述固定限制板执行所述喷射角的限制,所述固定限制板位于最外部。
9.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法,其中通过使用致动器移动所述能移动限制板。
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