JP6537324B2

JP6537324B2 - 蒸着装置並びに蒸着方法

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Publication number: JP6537324B2
Application number: JP2015076749A
Authority: JP
Inventors: 浩一七五三木
Original assignee: Canon Tokki Corp
Current assignee: Canon Tokki Corp
Priority date: 2015-04-03
Filing date: 2015-04-03
Publication date: 2019-07-03
Anticipated expiration: 2035-04-03
Also published as: JP2016196684A

Description

本発明は、蒸着装置並びに蒸着方法に関するものである。

有機物で形成された有機薄膜発光素子は、真空チャンバ内でシャドウマスクを用いて基板上に有機物質を蒸発または昇華させて成膜する。

このような所謂真空蒸着は、成膜チャンバ内に基板を搬入する工程、基板とシャドウマスクとを正確に位置合わせ（アライメント）する工程、有機物質を成膜する工程、成膜された基板を成膜チャンバから搬出する工程を経て行われる。

また、成膜する工程では、蒸着材料を基板上に均一に成膜するため、リニアタイプの蒸着源と基板とを相対移動させて基板全面に成膜する方式がとられている。

ところで、上記リニアタイプの蒸着源を用いる際、成膜チャンバ内に成膜領域を２箇所設け、夫々の成膜領域に基板とシャドウマスクとを配置し、第１領域で成膜を行っている間に、第２領域で基板とシャドウマスクのアライメントを行う並列動作を行うと共に、蒸着源が移動して成膜を行う発明がある（特許文献１，２参照）。

特開２０１１−６８９８０号公報特開２００６−２２２６号公報

しかしながら、特許文献１，２に開示される発明は、第１領域及び第２領域間を移動する際、蒸着を行わない移動領域を通り移動動作を行う。このため、有機材料が基板に成膜されない時間が発生する。

また、有機ＥＬデバイスの発光層を成膜する場合には、発光効率を上げるためにホスト材料とドーパント材料とを均一に分散させるようにしている。具体的には、発光効率を上げるため、蒸着成膜する際にホスト材料とドーパント材料とを近接させて同時に蒸発させながら、ドーピングさせる成膜領域内でドーピングの比率が均一になるように、蒸着源若しくは基板を往復移動させて均質性を確保している。

本発明は、上述のような現状に鑑みなされたもので、アライメントした基板をマスク台に設置するだけで基板同士を連続蒸着が可能な近接位置に配置することが可能となり、蒸着材料の使用効率を改善し得ると共に、複数種の蒸着材料から成る薄膜の材料均一性にも優れた蒸着装置並びに蒸着方法を提供するものである。

添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。

チャンバ１内に、
蒸着時にマスク２及び基板７を支持する第１のマスク台３と第１のアライメント機構９とを有する第１の蒸着ステージ11と、
蒸着時にマスク２及び基板８を支持する第２のマスク台４と第２のアライメント機構10とを有する第２の蒸着ステージ12と、
前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６と、
前記第１のマスク台３に配置された前記基板７への前記蒸着源６からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第１のシャッタ21と、
前記第２のマスク台４に配置された前記基板８への前記蒸着源６からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第２のシャッタ22とを有する蒸着装置であって、
前記第１の蒸着ステージ11と前記第２の蒸着ステージ12とを隣接して配置し、
前記第１及び第２のシャッタ21，22は、２段式のシャッタであり、この第１及び第２のシャッタ21，22は前記マスク台３，４に配置される基板７，８の正面から退避した開状態では各段が重なることを特徴とする蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、
前記第１のシャッタ21若しくは前記第２のシャッタ22の一方を開状態とすると共に他方を閉状態とし、前記シャッタを開状態とした側の一方のマスク台に配置された基板に対して前記蒸着源６を往復移動させて蒸着を行うように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６から射出される蒸着材料が、前記第１のマスク台３に配置された基板７に堆積する第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に堆積する第２蒸着領域、及び、前記第２のマスク台４に配置された基板８に堆積する第３蒸着領域の前記基板７，８が隣接して並ぶ方向に並設される各蒸着領域を前記蒸着源６が移動するように構成し、
前記第１のシャッタ21若しくは前記第２のシャッタ22の一方を開状態とすると共に他方を閉状態とし、前記シャッタを開状態とした側の一方のマスク台に配置された基板に対して前記蒸着源６を往復移動させて蒸着を行うように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を往復移動させる前記蒸着源移動機構は、前記蒸着源６が、内側の前記第２蒸着領域から外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域に向かって移動する内外経路を往路とし、外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域から内側の前記第２蒸着領域に向かって移動する外内経路を復路とするように、前記蒸着源６が前記第２蒸着領域から蒸着のための往復移動を開始するように構成したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を前記第１及び第２のマスク台３，４に配置される各基板７，８に対して往復移動させながら前記各蒸着領域間で停止することなく連続的に移動させて前記第１及び第２のマスク台３，４に配置される基板７，８を入れ替えながら蒸着を行うように構成したことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を前記第１及び第２のマスク台３，４に配置される各基板７，８に対して連続的に２往復以上移動させて蒸着することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記第１のシャッタ21若しくは第２のシャッタ22を閉じている間に、このシャッタを閉じた側のマスク台に配置された基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構９及び前記第２のアライメント機構10を構成したことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を複数設け、これら複数の蒸着源６には夫々異なる蒸着材料を収容し、同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させるように構成したことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、前記第１の基板７をアライメントして、第１のシャッタ21が閉じられた第１のマスク台３に配置する工程と、
前記第１のシャッタ21を開状態とし、蒸着源６が前記第１の基板７に対して往復移動して蒸着材料を前記第１の基板７に蒸着する工程と、
前記第１の基板７に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、前記第２の基板８をアライメントして、第２のシャッタ22が閉じられた第２のマスク台４に配置する工程と、
前記第２のシャッタ22を開状態とし、前記蒸着源６が前記第２の基板８に対して往復移動して蒸着材料を前記第２の基板８に蒸着する工程と、
前記第２の基板８に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、前記第１の基板７をアライメントして、第１のシャッタ21が閉じられた第１のマスク台３に配置する工程とを有し、
前記第１及び第２の基板７，８に蒸着する工程において、前記蒸着源６は、第１のマスク台３と第２のマスク台４とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続けており、
前記第１及び第２のシャッタ21，22は、２段式のシャッタであり、この第１及び第２のシャッタ21，22は前記マスク台３，４に配置される基板７，８の正面から退避した開状態では各段が重なることを特徴とする蒸着方法に係るものである。

また、前記蒸着源６は、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６から射出される蒸着材料が、前記第１のマスク台３に配置された基板７に堆積する第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に堆積する第２蒸着領域、及び、前記第２のマスク台４に配置された基板８に堆積する第３蒸着領域の前記基板７，８が隣接して並ぶ方向に並設される各蒸着領域を移動するものであり、
前記第１の基板７に蒸着する工程では、前記蒸着源６は前記第２蒸着領域と前記第１蒸着領域とを連続的に往復移動し、
前記第２の基板８に蒸着する工程では、前記蒸着源６は前記第２蒸着領域と前記第３蒸着領域とを連続的に往復移動して蒸着することを特徴とする請求項９に記載の蒸着方法に係るものである。

また、前記蒸着源６を前記第１及び第２のマスク台３，４に配置される各基板７，８に対して連続的に２往復以上移動させて蒸着することを特徴とする請求項９，１０のいずれか１項に記載の蒸着方法に係るものである。

また、前記蒸着源６は複数設けられ、これら複数の蒸着源６には夫々異なる蒸着材料が収容され、これら複数の蒸着源６を同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の蒸着方法に係るものである。

本発明は上述のように構成したから、蒸着材料の使用効率を改善し得ると共に、複数種の蒸着材料から成る薄膜の材料均一性にも優れた蒸着装置並びに蒸着方法となる。

本実施例の概略説明正面図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。チャンバの配置構成図である。別例の概略説明正面図である。

好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。

チャンバ１内に基板７，８を搬入し、この基板７，８とマスク２とのアライメントを行った後、第１のマスク台３及び第２のマスク台４に夫々基板７，８を設置し、各基板７，８に蒸着を行う。

この際、第１のマスク台３及び第２のマスク台４を隣接して設けることで、第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域と、第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の間に蒸着を行わない移動領域が不要となり、この第１蒸着領域と第３蒸着領域との間は、第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に蒸着を行う第２蒸着領域となる。

よって、基板７，８に蒸着を行わない移動領域が存在しなくなり、蒸着材料の使用効率が改善でき、また、チャンバ１の小型化を図ることができる。

更に、第１のシャッタ21及び第２のシャッタ22を設けることで、一方のシャッタを開状態とすると共に他方のシャッタを閉状態とし、このシャッタを開状態とした側の一方のマスク台に配置された基板に対してのみ蒸着源６を往復移動させて成膜することが可能となる。

従って、例えばホストとドーパント等、複数種の蒸着材料を同時に蒸着する場合でも、基板７，８に堆積する各蒸着材料の混合率を所定の混合率とすることを往復成膜により高精度に行うことが可能となる。

即ち、複数種の蒸着材料を同時に蒸着する場合、蒸着源６からの蒸着材料の成膜速度分布は、基板７，８と蒸着源６との相対移動方向で均一とならず、蒸着源６を基板７，８に対して一回だけ（往路のみ）移動させて成膜した場合、膜厚方向では材料の混合状態が悪く膜の同質性（ホモジニティ）に乏しい場合がある。この点、蒸着源６を基板７，８に対して夫々往復移動させて成膜することで、膜厚方向の材料の混合状態を改善して膜の同質性を向上させることが可能となる。特に、２往復以上移動させて成膜すると一層良好に膜の同質性を向上させることができる。

よって、本発明は、基板７，８に蒸着を行わない移動領域が第１蒸着領域及び第３蒸着領域間に存在しない程、第１及び第２のマスク台３，４が近接していても、第１及び第２のシャッタ21，22を用いることで、他方の基板への成膜を防止しつつ一方の基板に対して蒸着源を往復移動させて成膜することができ、蒸着材料の使用効率を改善してチャンバ１を小型化できる構成であると共に、膜厚方向の材料混合比率の均一化を図ることが可能となり、膜の同質性を向上させ、例えば良好な発光効率を有する有機ＥＬデバイスの発光層を作製すること等が可能となる。

本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。

本実施例は、図１に図示したように、チャンバ１内に、蒸着時にマスク２及び基板７を支持する第１のマスク台３と第１のアライメント機構９とを有する第１の蒸着ステージ11と、蒸着時にマスク２及び基板８を支持する第２のマスク台４と第２のアライメント機構10とを有する第２の蒸着ステージ12と、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６とを有する蒸着装置であって、前記第１の蒸着ステージ11と前記第２の蒸着ステージ12とを隣接して配置したものである。

また、各蒸着ステージ11・12には、前記第１のマスク台に配置された前記基板への前記蒸着源からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第１のシャッタ21及び前記第２のマスク台に配置された前記基板への前記蒸着源からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第２のシャッタ22を夫々設けている。

各部を具体的に説明する。

チャンバ１には真空ポンプ等の適宜な排気機構が設けられており、ロボットハンド等の基板搬送機構を備えた基板搬送室５と基板搬入出用の開閉機構（図示省略）を介して接続されている（図８参照）。本実施例においては、開閉機構は、第１の蒸着ステージ11及び第２の蒸着ステージ12に対応する位置に夫々１つずつ設けている。また、本実施例は成膜用の２つのチャンバ１を基板搬送室５に接続した構成としている。図８中、符号13は搬入室、14は搬出室、15はマスクストック室である。

チャンバ１の天面側には第１，第２の蒸着ステージ11，12が設けられ、これらと対向する底面側には図１中奥行方向に延びる線形の蒸着源６が設けられている。この蒸着源６は、成膜時に、蒸着源６を基板７，８が隣接して並ぶ方向に往復移動させる蒸着源移動機構により、移動し続けるように構成している。

蒸着ステージ11，12は、マスク２及び基板７，８を支持する開口部を有するマスク台３，４と、基板搬送室５から搬入された基板７，８を水平状態で支持する基板支持部16と、基板支持部16を駆動して基板支持部16に支持された基板７，８とマスク２とのアライメントを行うアライメント機構９，10とを備えている。従って、蒸着源６から放出される蒸着材料はマスク台３，４の開口部及びマスクのパターンを通過して基板７，８に付着する。符号17はマスク台を支持する支柱である。

第１のシャッタ21及び第２のシャッタ22は、第１の蒸着ステージ11及び第２の蒸着ステージ12に夫々設けられている。シャッタ21，22は、マスク台３，４の開口部を夫々覆い得る大きさの１枚の薄板状体で構成し、蒸着源６から射出される蒸着材料の経路を開閉するように水平スライド移動する構成としている。

なお、図９に図示した別例のように、シャッタ21，22は複数（図９では２枚）の薄板状体を上下方向に多段に重ねた多段式として複数の薄板状体によりマスク台３，４の開口部を夫々閉塞する構成としても良い。この場合、蒸着材料の経路を開放するように各薄板状体を水平スライド移動した状態（基板正面位置から退避した状態）では、各段が重なることで、シャッタ21，22を退避するために確保する必要があるチャンバ１の左右のシャッタ退避用領域をそれだけ小さくすることができ、よりチャンバ１を小型化することが可能となる。

また、第１のマスク台３及び第２のマスク台４とは、各マスク台３，４の間に、いずれの基板７，８に対しても成膜しない領域（移動領域）が生じない程度に隣接配置させている。そして、第１のマスク台３及び第２のマスク台４に支持される基板７，８同士は、蒸着源６を移動させながら蒸着させる際、同時に蒸着される過程を含む程度に隣接配置する。

また、蒸着源６は複数（本実施例では３つ）設けている。本実施例においては、一部の蒸着源６に他と異なる蒸着材料を収容している。具体的には、複数の蒸着源６のうち、中央の蒸着源６にはホスト材料、左右の蒸着源６にはドーパント材料を夫々収容している。なお、複数の蒸着源６に夫々同一の蒸着材料を収容しても良い。

蒸着源移動機構としては、レール体18と、レール体18に転動体19を介して設けられレール体18に沿って移動する移動体20と、移動体20を駆動するボールネジ機構等の駆動部とから成る一般的なリニアガイド等を用いることができる。従って、蒸着源移動機構が１軸で成り立つため、チャンバ１内の機構を簡素化できる。

また、蒸着源移動機構は、複数の蒸着源６を同一の移動体20に設ける等して同時に移動するように構成している。また、同時に移動する複数の蒸着源６が、同一の基板７，８に対して同時に蒸着できるように各蒸着源６の並設間隔や夫々の蒸着材料放出範囲を設定している。

蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６から射出される蒸着材料が、前記第１のマスク台３に配置された基板７に堆積する第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に堆積する第２蒸着領域、及び、前記第２のマスク台４に配置された基板８に堆積する第３蒸着領域の前記基板７，８が隣接して並ぶ方向に並設される各蒸着領域を、前記蒸着源６が各蒸着領域間で停止することなく移動するように構成している。なお、第２蒸着領域においては、基板７，８の少なくとも一方に蒸着を行う構成としても良い。例えば、第２蒸着領域において、第１のマスク台３に配置された基板７への蒸着終了と同時に第２のマスク台４に配置された基板８への蒸着を開始する構成としても良い。

即ち、本実施例は、蒸着源６を各基板７，８に対して夫々往復移動させながら前記各蒸着領域間で停止することなく連続的に移動させて前記第１及び第２のマスク台３，４に配置される基板７，８を入れ替えながら蒸着を行うものである。

本実施例においては、蒸着源６を各基板７，８に対して連続的に２往復以上移動させて蒸着するように蒸着源移動機構を構成している。なお、３往復以上移動させる構成や１往復移動させる構成としても良い。

また、蒸着源移動機構は、前記各蒸着領域において一定の蒸着用速度で蒸着源６を移動させるように構成している。

なお、基板７，８に所望の薄膜を成膜するまでの蒸着源６の基板７，８に対する往復数は適宜設定できるが、この場合、往復数を多くするにつれて蒸着源６の移動速度を大きくしたり若しくは蒸着源６から射出される蒸着材料の蒸着速度を小さくしたりして、適宜成膜条件を設定する。

また、蒸着源移動機構は、前記蒸発源６が、内側の前記第２蒸着領域から外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域に向かって移動する内外経路を往路とし、外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域から内側の前記第２蒸着領域に向かって移動する外内経路を復路とするように、前記蒸着源が前記第２蒸着領域から蒸着のための往復移動を開始するように構成している。

従って、後述するように、第１蒸着領域（若しくは第３蒸着領域）と第２蒸着領域との往復移動の終了時の復路から第３蒸着領域（若しくは第１蒸着領域）と第２蒸着領域との往復移動の開始時の往路へと連続的に移行することが可能となり、基板７，８に蒸着を行わない移動領域が不要な構成とすることができる。即ち、最初の往復移動を第２蒸着領域から開始することで、その後の往復移動を全て内外経路を往路として蒸着を開始することが可能となる。

また、本実施例においては、第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域で一方の基板に蒸着を行っている間に、他方の基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構９及び前記第２のアライメント機構10を構成している。

なお、本実施例は、チャンバ１に２つのマスク台を備えた構成としているが、チャンバ１に３つ以上のマスク台を備えた構成としても良い。例えば３つのマスク台を備える構成の場合、中央のマスク台と左右のマスク台との間に移動領域が形成されないように左右のマスク台を中央のマスク台に夫々隣接させる。

以上の構成の蒸着装置を用いて以下の工程で蒸着を行う。

（１）チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、この第１の基板７のマスク２とのアライメントを第１のアライメント機構９により行い、アライメントした基板７とマスク２とを重ね合わせて第１のマスク台３に配置する。また、第１の基板７に対応する第１のシャッタ21が開いた状態となる（図１参照）。

（２）第２の基板８に対応する第２のシャッタ22が閉じた状態で、第２蒸着領域にして第１の基板７への蒸着が開始する直前位置から蒸着材料が射出されている蒸着源６の移動を開始し、第２蒸着領域と第１蒸着領域との往復移動が開始される。また、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、この第２の基板８のマスク２とのアライメントを第２のアライメント機構10により行い、アライメントした基板８とマスク２とを重ね合わせて第２のマスク台４に配置する（図２参照）。

（３）蒸着源６が第１の基板７に対する２往復目の復路を移動している間に第２のシャッタ22が開いた状態となり（図３参照）、蒸着源６による第２蒸着領域における第１の基板７への蒸着が終了すると共に、第２の基板８への蒸着が開示され、第２蒸着領域と第３蒸着領域との往復移動が開始される。また、第１の基板７への蒸着が終了次第、第１のシャッタ21を閉じた状態とし、チャンバ１内から第１の基板７を搬出し他の第１の基板７をチャンバ１内に搬入し同様にアライメントして第１のマスク台３に配置する（図４，５参照）。

（４）蒸着源６が第２の基板８に対する２往復目の復路を移動している間に第１のシャッタ21が開いた状態となり（図６参照）、蒸着源６による第２蒸着領域における第２の基板８への蒸着が終了すると共に、他の第１の基板７への蒸着が開始され、第２蒸着領域と第１蒸着領域との往復移動が開始される。また、第２の基板８への蒸着が終了次第、第２のシャッタ22を閉じた状態とし、チャンバ１内から第２の基板８を搬出し他の第２の基板８をチャンバ１内に搬入し同様にアライメントして第２のマスク台４に配置する（図７参照）。

以上の工程を繰り返すことで、隣接する第１のマスク台３に支持される基板７と第２のマスク台４に支持される基板８とに連続的に蒸着を行うことが可能となり、交互に搬入される新しい基板に対して連続的に往復蒸着が可能となる。

なお、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。

１チャンバ
２マスク
３第１のマスク台
４第２のマスク台
６蒸着源
７，８基板
９第１のアライメント機構
10 第２のアライメント機構
11 第１の蒸着ステージ
12 第２の蒸着ステージ
21 第１のシャッタ
22 第２のシャッタ

Claims

チャンバ内に、
蒸着時にマスク及び基板を支持する第１のマスク台と第１のアライメント機構とを有する第１の蒸着ステージと、
蒸着時にマスク及び基板を支持する第２のマスク台と第２のアライメント機構とを有する第２の蒸着ステージと、
前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された基板に蒸着を行う蒸着源と、
前記第１のマスク台に配置された前記基板への前記蒸着源からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第１のシャッタと、
前記第２のマスク台に配置された前記基板への前記蒸着源からの蒸着材料の入射を開閉により制御する第２のシャッタとを有する蒸着装置であって、
前記第１の蒸着ステージと前記第２の蒸着ステージとを隣接して配置し、
前記第１及び第２のシャッタは、２段式のシャッタであり、この第１及び第２のシャッタは前記マスク台に配置される基板の正面から退避した開状態では各段が重なることを特徴とする蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、
前記第１のシャッタ若しくは前記第２のシャッタの一方を開状態とすると共に他方を閉状態とし、前記シャッタを開状態とした側の一方のマスク台に配置された基板に対して前記蒸着源を往復移動させて蒸着を行うように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源から射出される蒸着材料が、前記第１のマスク台に配置された基板に堆積する第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板の少なくとも一方に堆積する第２蒸着領域、及び、前記第２のマスク台に配置された基板に堆積する第３蒸着領域の前記基板が隣接して並ぶ方向に並設される各蒸着領域を前記蒸着源が移動するように構成し、
前記第１のシャッタ若しくは前記第２のシャッタの一方を開状態とすると共に他方を閉状態とし、前記シャッタを開状態とした側の一方のマスク台に配置された基板に対して前記蒸着源を往復移動させて蒸着を行うように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を往復移動させる前記蒸着源移動機構は、前記蒸着源が、内側の前記第２蒸着領域から外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域に向かって移動する内外経路を往路とし、外側の前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域から内側の前記第２蒸着領域に向かって移動する外内経路を復路とするように、前記蒸着源が前記第２蒸着領域から蒸着のための往復移動を開始するように構成したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置。
前記蒸着源を前記第１及び第２のマスク台に配置される各基板に対して往復移動させながら前記各蒸着領域間で停止することなく連続的に移動させて前記第１及び第２のマスク台に配置される基板を入れ替えながら蒸着を行うように構成したことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を前記第１及び第２のマスク台に配置される各基板に対して連続的に２往復以上移動させて蒸着することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記第１のシャッタ若しくは第２のシャッタを閉じている間に、このシャッタを閉じた側のマスク台に配置された基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構及び前記第２のアライメント機構を構成したことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を複数設け、これら複数の蒸着源には夫々異なる蒸着材料を収容し、同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させるように構成したことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
チャンバ内に第１の基板を搬入し、前記第１の基板をアライメントして、第１のシャッタが閉じられた第１のマスク台に配置する工程と、
前記第１のシャッタを開状態とし、蒸着源が前記第１の基板に対して往復移動して蒸着材料を前記第１の基板に蒸着する工程と、
前記第１の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内に第２の基板を搬入し、前記第２の基板をアライメントして、第２のシャッタが閉じられた第２のマスク台に配置する工程と、
前記第２のシャッタを開状態とし、前記蒸着源が前記第２の基板に対して往復移動して蒸着材料を前記第２の基板に蒸着する工程と、
前記第２の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内に第１の基板を搬入し、前記第１の基板をアライメントして、第１のシャッタが閉じられた第１のマスク台に配置する工程とを有し、
前記第１及び第２の基板に蒸着する工程において、前記蒸着源は、第１のマスク台と第２のマスク台とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続けており、
前記第１及び第２のシャッタは、２段式のシャッタであり、この第１及び第２のシャッタは前記マスク台に配置される基板の正面から退避した開状態では各段が重なることを特徴とする蒸着方法。
前記蒸着源は、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源から射出される蒸着材料が、前記第１のマスク台に配置された基板に堆積する第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板の少なくとも一方に堆積する第２蒸着領域、及び、前記第２のマスク台に配置された基板に堆積する第３蒸着領域の前記基板が隣接して並ぶ方向に並設される各蒸着領域を移動するものであり、
前記第１の基板に蒸着する工程では、前記蒸着源は前記第２蒸着領域と前記第１蒸着領域とを連続的に往復移動し、
前記第２の基板に蒸着する工程では、前記蒸着源は前記第２蒸着領域と前記第３蒸着領域とを連続的に往復移動して蒸着することを特徴とする請求項９に記載の蒸着方法。
前記蒸着源を前記第１及び第２のマスク台に配置される各基板に対して連続的に２往復以上移動させて蒸着することを特徴とする請求項９，１０のいずれか１項に記載の蒸着方法。
前記蒸着源は複数設けられ、これら複数の蒸着源には夫々異なる蒸着材料が収容され、これら複数の蒸着源を同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の蒸着方法。