JP2016117915A

JP2016117915A - 蒸着装置並びに蒸着方法

Info

Publication number: JP2016117915A
Application number: JP2014256284A
Authority: JP
Inventors: 浩一七五三木; Kouichi Shimeki
Original assignee: Canon Tokki Corp
Current assignee: Canon Tokki Corp
Priority date: 2014-12-18
Filing date: 2014-12-18
Publication date: 2016-06-30

Abstract

【課題】アライメントした基板をマスク台に設置するだけで基板同士を連続蒸着が可能な近接位置に配置することが可能となり、各マスク台の基板に連続して蒸着を行え、蒸着材料の使用効率を改善できるのは勿論、移動領域が不要でチャンバを小型化でき、また、基板同士を互いに接離移動させる機構も不要となる蒸着装置の提供。【解決手段】チャンバ１内に、蒸着時にマスク２及び基板７，８を支持する第１のマスク台３及び第２のマスク台４と、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６とを有する蒸着装置であって、前記第１のマスク台３と前記第２のマスク台４とを隣接して配置する。【選択図】図１

Description

本発明は、蒸着装置並びに蒸着方法に関するものである。

有機物で形成された有機薄膜発光素子は、真空チャンバ内でシャドウマスクを用いて基板上に有機物質を蒸発または昇華させて成膜する。

このような所謂真空蒸着は、成膜チャンバ内に基板を搬入する工程、基板とシャドウマスクとを正確に位置合わせ（アライメント）する工程、有機物質を成膜する工程、成膜された基板を成膜チャンバから搬出する工程を経て行われる。

また、成膜する工程では、蒸着材料を基板上に均一に成膜するため、リニアタイプの蒸着源と基板とを相対移動させて基板全面に成膜する方式がとられている。

ところで、上記リニアタイプの蒸着源を用いる際、成膜チャンバ内に成膜領域を２箇所設け、夫々の成膜領域に基板とシャドウマスクとを配置し、第１領域で成膜を行っている間に、第２領域で基板とシャドウマスクのアライメントを行う並列動作を行うと共に、蒸着源が移動して成膜を行う発明がある（特許文献１，２参照）。

しかしながら、特許文献１，２に開示される発明は、第１領域及び第２領域間を移動する際、蒸着を行わない移動領域を通り移動動作を行う。このため、有機材料が基板に成膜されない時間が発生し、有機材料が無駄に消費される。

また、特許文献３には、上記移動領域を省略することで有機材料が無駄に消費されることを防止すべく、第１領域の基板と第２領域の基板とを隣接するように移動させ、連続的に成膜を行う発明が開示されている。しかし、特許文献３に開示される発明は、基板をチャンバ１内に搬入する機構に加え、基板同士を互いに接離移動させるための機構が必要となる。

特開２０１１−６８９８０号公報特開２００６−２２２６号公報特開２０１４−２５０９８号公報

本発明は、上述のような現状に鑑みなされたもので、第１のマスク台及び第２のマスク台を隣接した構成とすることで、アライメントした基板をマスク台に設置するだけで基板同士を連続蒸着が可能な近接位置に配置することが可能となり、各マスク台の基板に連続して蒸着を行え、蒸着材料の使用効率を改善できるのは勿論、移動領域が不要でチャンバを小型化でき、また、基板同士を互いに接離移動させる機構も不要となる実用性に優れた蒸着装置並びに蒸着方法を提供するものである。

添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。

チャンバ１内に、蒸着時にマスク２及び基板７，８を支持する第１のマスク台３及び第２のマスク台４と、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６とを有する蒸着装置であって、前記第１のマスク台３と前記第２のマスク台４とを隣接して配置したことを特徴とする蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６を、前記第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６を、前記第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８に同時に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置に係るものである。

また、チャンバ１内に、
蒸着時にマスク２及び基板７を支持する第１のマスク台３と第１のアライメント機構９とを有する第１の蒸着ステージ11と、
蒸着時にマスク２及び基板８を支持する第２のマスク台４と第２のアライメント機構10とを有する第２の蒸着ステージ12と、
前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６とを有する蒸着装置であって、
前記第１の蒸着ステージ11と前記第２の蒸着ステージ12とを隣接して配置したことを特徴とする蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６を、前記第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８の少なくとも一方に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を、前記隣接した第１のマスク台３と第２のマスク台４とに夫々前記マスク２と重ね合わせて支持された基板７，８が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された前記基板７，８に蒸着を行う際、前記蒸着源６を、前記第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８に同時に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域で一方の基板に蒸着を行っている間に、他方の基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構９及び前記第２のアライメント機構10を構成したことを特徴とする請求項５，６のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源移動機構は、前記各蒸着領域において一定の蒸着用速度で前記蒸着源６を移動させるように構成したことを特徴とする請求項２，３，５〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源移動機構は、前記基板７，８が隣接して並ぶ方向に前記蒸着源６を往復移動させるように構成したことを特徴とする請求項２，３，５〜８のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６が前記第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域を通過した後、再度第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域へと戻るために折返し移動するための折返し領域を前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４と前記チャンバ１の内壁との間に夫々設けたことを特徴とする請求項８，９のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記折返し領域において前記蒸着源６を減速し進行方向を変更した後、前記蒸着用速度まで加速するように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１０に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６は、線形蒸着源６であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記蒸着源６を複数設け、これら複数の蒸着源６を同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させるように構成したことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記複数の蒸着源６の少なくとも１つに他の蒸着源６に収容される蒸着材料とは異なる蒸着材料を収容したことを特徴とする請求項１３に記載の蒸着装置に係るものである。

また、前記複数の蒸着源６の少なくとも１つに他の蒸着源６に収容される蒸着材料と同一の蒸着材料を収容したことを特徴とする請求項１３に記載の蒸着装置に係るものである。

また、チャンバ１に３つ以上のマスク台を備えたことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の蒸着装置に係るものである。

また、チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、前記第１の基板７をアライメントして第１のマスク台３に配置する工程と、蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第１の基板７に蒸着する工程と、前記第１の基板７に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、前記第２の基板８をアライメントして第２のマスク台４に配置する工程と、前記蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第２の基板８に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板７，８に蒸着する工程において、前記蒸着源６は、第１のマスク台３と第２のマスク台４とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続けていることを特徴とする蒸着方法に係るものである。

また、チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、前記第１の基板７をアライメントして第１のマスク台３に配置する工程と、蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第１の基板７に蒸着する工程と、前記第１の基板７に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、前記第２の基板８をアライメントして第２のマスク台４に配置する工程と、前記蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第２の基板８に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板７，８に蒸着する工程において、前記蒸着源６は、第１のマスク台３と第２のマスク台４とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続け、２つの基板７，８に対して少なくとも一方に成膜する過程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の蒸着方法に係るものである。

また、チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、前記第１の基板７をアライメントして第１のマスク台３に配置する工程と、蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第１の基板７に蒸着する工程と、前記第１の基板７に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、前記第２の基板８をアライメントして第２のマスク台４に配置する工程と、前記蒸着源６が移動して蒸着材料を前記第２の基板８に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板７，８に蒸着する工程において、前記蒸着源６は、第１のマスク台３と第２のマスク台４とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続け、２つの基板７，８に対して同時に成膜する過程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の蒸着方法に係るものである。

また、前記第２の基板８に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ１内から前記第１の基板７を搬出すると共に他の第１の基板７をチャンバ１内に搬入し、前記他の第１の基板７をアライメントして第１のマスク台３に配置する工程を含むことを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の蒸着方法に係るものである。

本発明は上述のように構成したから、蒸着材料の使用効率を改善できるのは勿論、移動領域が不要でチャンバを小型化でき、また、基板同士を互いに接離移動させる機構も不要となる実用性に優れた蒸着装置並びに蒸着方法となる。

本実施例の概略説明正面図である。本実施例の要部の概略説明平面図である。チャンバの配置構成図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。本実施例の蒸着工程の説明図である。

好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。

チャンバ１内に基板７，８を搬入し、この基板７，８とマスク２とのアライメントを行った後、第１のマスク台３及び第２のマスク台４に夫々基板７，８を設置し、例えば蒸着源６を基板７，８が並ぶ方向に移動させながら各基板７，８に蒸着を行う。

この際、第１のマスク台３及び第２のマスク台４を隣接して設けることで、第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域と、第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の間に移動領域が不要となり、この第１蒸着領域と第３蒸着領域との間は、第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８に同時に蒸着を行う第２蒸着領域となる。

よって、基板７，８に蒸着を行わない移動領域において有機材料が無駄に消費されることがなく、第１及び第２のマスク台３，４に配置された基板７，８に連続的に蒸着を行うことが可能となり、蒸着材料の使用効率が改善できる。

また、隣接した第１及び第２のマスク台３，４にアライメントした基板７，８を配置するだけで、各基板７，８が蒸着源６により同時に蒸着が可能な程度に隣接した状態とすることができ、基板７，８同士を互いに接離移動させる機構が不要となる。

本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。

本実施例は、図１，２に図示したように、チャンバ１内に、蒸着時にマスク２及び基板７を支持する第１のマスク台３と第１のアライメント機構９とを有する第１の蒸着ステージ11と、蒸着時にマスク２及び基板８を支持する第２のマスク台４と第２のアライメント機構10とを有する第２の蒸着ステージ12と、前記第１のマスク台３及び前記第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う蒸着源６とを有する蒸着装置であって、前記第１の蒸着ステージ11と前記第２の蒸着ステージ12とを隣接して配置したものである。

各部を具体的に説明する。

チャンバ１には真空ポンプ等の適宜な排気機構が設けられており、ロボットハンド等の基板搬送機構を備えた基板搬送室５と基板搬入出用の開閉機構（図示省略）を介して接続されている（図３参照）。本実施例においては、開閉機構は、第１の蒸着ステージ11及び第２の蒸着ステージ12に対応する位置に夫々１つずつ設けている。また、本実施例は成膜用の２つのチャンバ１を基板搬送室５に接続した構成としている。図３中、符号13は搬入室、14は搬出室、15はマスクストック室である。

チャンバ１の天面側には第１，第２の蒸着ステージ11，12が設けられ、これらと対向する底面側には線形の蒸着源６が設けられている。この蒸着源６は、成膜時に、蒸着源６を基板７，８が隣接して並ぶ方向に往復移動させる蒸着源移動機構により、移動し続けるように構成している。

蒸着ステージ11，12は、マスク２及び基板７，８を支持する開口部を有するマスク台３，４と、基板搬送室５から搬入された基板７，８を水平状態で支持する基板支持部16と、基板支持部16を駆動して基板支持部16に支持された基板７，８とマスク２とのアライメントを行うアライメント機構９，10とを備えている。従って、蒸着源６から放出される蒸着材料はマスク台３，４の開口部及びマスクのパターンを通過して基板７，８に付着する。符号17はマスク台を支持する支柱である。

また、第１のマスク台３及び第２のマスク台４とは、各マスク台３，４の間に、いずれの基板７，８に対しても成膜しない領域（移動領域）が生じない程度に隣接させている。そして、第１のマスク台３及び第２のマスク台４に支持される基板７，８同士は、蒸着源６を移動させながら蒸着させる際、同時に蒸着される過程を含む程度に隣接する。

また、蒸着源６は複数（本実施例では３つ）設けている。複数の蒸着源６には、例えば中央の蒸着源６にはホスト材料、左右の蒸着源６にはドーパント材料を収容する等、適宜材料を収容できる。即ち、複数の蒸着源６には夫々同一の蒸着材料を収容しても良いし、一部の蒸着源６に他と異なる蒸着材料を収容しても良い。

蒸着源移動機構としては、レール体18と、レール体18に転動体19を介して設けられレール体18に沿って移動する移動体20と、移動体20を駆動するボールネジ機構等の駆動部とから成る一般的なリニアガイド等を用いることができる。従って、蒸着源移動機構が１軸で成り立つため、チャンバ１内の機構を簡素化できる。

また、蒸着源移動機構は、複数の蒸着源６を同一の移動体20に設ける等して同時に移動するように構成している。また、同時に移動する複数の蒸着源６が、同一の基板７，８に対して同時に蒸着できるように各蒸着源６の並設間隔や夫々の蒸着材料放出範囲を設定している。

蒸着源移動機構は、第１のマスク台３及び第２のマスク台４に夫々配置された基板７，８に蒸着を行う際、蒸着源６を、第１のマスク台３に配置された基板７に蒸着を行う第１蒸着領域、第１及び第２のマスク台３，４に夫々配置された基板７，８に同時に蒸着を行う第２蒸着領域、第２のマスク台４に配置された基板８に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域及び各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成している。

なお、第２蒸着領域においては、基板７，８の少なくとも一方に蒸着を行う構成としても良い。例えば、第２蒸着領域において、第１のマスク台３に配置された基板７への蒸着終了と同時に第２のマスク台４に配置された基板８への蒸着を開始する構成としても良い。

また、蒸着源移動機構は、前記各蒸着領域において一定の蒸着用速度で蒸着源６を移動させるように構成している。

また、本実施例においては、蒸着源６が第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域を通過した後、再度第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域へと戻るために折返し移動するための折返し領域を第１のマスク台３及び第２のマスク台４とチャンバ１の内壁との間に夫々設けている。具体的には、蒸着源６の移動範囲の左端部及び右端部にして基板７，８への蒸着が行われない範囲を折返し領域に設定している。また、前記折返し領域において蒸着源６を減速し進行方向を変更した後、前記蒸着用速度まで加速するように前記蒸着源移動機構を構成している。

また、本実施例においては、第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域で一方の基板に蒸着を行っている間に、他方の基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構９及び前記第２のアライメント機構10を構成している。

なお、本実施例は、チャンバ１に２つのマスク台を備えた構成としているが、チャンバ１に３つ以上のマスク台を備えた構成としても良い。例えば３つのマスク台を備える構成の場合、中央のマスク台と左右のマスク台との間に移動領域が形成されないように左右のマスク台を中央のマスク台に夫々隣接させる。

以上の構成の蒸着装置を用いて以下の工程で蒸着を行う。
（１）チャンバ１内に第１の基板７を搬入し、この第１の基板７のマスク２とのアライメントを第１のアライメント機構９により行い、アライメントした基板７とマスク２とを重ね合わせて第１のマスク台３に配置する（図４，５参照）。
（２）第３蒸着領域に配置された不図示のシャッタが閉じた状態で、蒸着源６の移動を開始し第１蒸着領域において蒸着材料を第１の基板７に蒸着すると共に、チャンバ１内に第２の基板８を搬入し、この第２の基板８のマスク２とのアライメントを第２のアライメント機構10により行い、アライメントした基板８とマスク２とを重ね合わせて第２のマスク台４に配置する（図６参照）。また、第３蒸着領域に配置された不図示のシャッタが開いた状態となる。
（３）移動する蒸着源６により第２蒸着領域において第１の基板７及び第２の基板８に同時に蒸着した後（図７参照）、第３蒸着領域において蒸着材料を第２の基板８に蒸着すると共に、チャンバ１内から第１の基板７を搬出し他の第１の基板７をチャンバ１内に搬入し同様にアライメントして第１のマスク台３に配置する（図８参照）。
（４）折返し移動してきた蒸着源６により第３蒸着領域において蒸着材料を第２の基板８に蒸着した後（図９参照）、第２蒸着領域において第２の基板８及び他の第１の基板７に同時に蒸着する（図１０参照）。
（５）第１蒸着領域において蒸着材料を他の第１の基板７に蒸着すると共に、チャンバ１内から第２の基板８を搬出すると共に、他の第２の基板８をチャンバ１内に搬入し、同様にアライメントして第２のマスク台４に配置する（図１１参照）。
（６）折返し移動してきた蒸着源６により第１蒸着領域において蒸着材料を他の第１の基板７に蒸着した後、第２蒸着領域において他の第１の基板７及び他の第２の基板８に同時に蒸着する。

以上の工程を繰り返すことで、隣接する第１のマスク台３に支持される基板７と第２のマスク台４に支持される基板８とに連続的に蒸着を行うことが可能となり、交互に搬入される新しい基板に対して連続的に蒸着可能で、蒸着材料を無駄なく使用でき材料の使用効率を改善することが可能となる。

なお、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。

１チャンバ
２マスク
３第１のマスク台
４第２のマスク台
６蒸着源
７，８基板
９第１のアライメント機構
10 第２のアライメント機構
11 第１の蒸着ステージ
12 第２の蒸着ステージ

Claims

チャンバ内に、蒸着時にマスク及び基板を支持する第１のマスク台及び第２のマスク台と、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された基板に蒸着を行う蒸着源とを有する蒸着装置であって、前記第１のマスク台と前記第２のマスク台とを隣接して配置したことを特徴とする蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源を、前記第１のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板の少なくとも一方に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源を、前記第１のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板に同時に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
チャンバ内に、
蒸着時にマスク及び基板を支持する第１のマスク台と第１のアライメント機構とを有する第１の蒸着ステージと、
蒸着時にマスク及び基板を支持する第２のマスク台と第２のアライメント機構とを有する第２の蒸着ステージと、
前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された基板に蒸着を行う蒸着源とを有する蒸着装置であって、
前記第１の蒸着ステージと前記第２の蒸着ステージとを隣接して配置したことを特徴とする蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源を、前記第１のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板の少なくとも一方に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を、前記隣接した第１のマスク台と第２のマスク台とに夫々前記マスクと重ね合わせて支持された基板が隣接して並ぶ方向に移動させる蒸着源移動機構を備え、この蒸着源移動機構は、前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台に夫々配置された前記基板に蒸着を行う際、前記蒸着源を、前記第１のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第１蒸着領域、前記第１及び第２のマスク台に夫々配置された基板に同時に蒸着を行う第２蒸着領域、前記第２のマスク台に配置された基板に蒸着を行う第３蒸着領域の順、若しくはこの逆順に各蒸着領域間で停止させることなく移動させ続けるように構成したことを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
前記第１蒸着領域若しくは前記第３蒸着領域で一方の基板に蒸着を行っている間に、他方の基板のアライメント及びマスク台への配置を完了するように前記第１のアライメント機構及び前記第２のアライメント機構を構成したことを特徴とする請求項５，６のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源移動機構は、前記各蒸着領域において一定の蒸着用速度で前記蒸着源を移動させるように構成したことを特徴とする請求項２，３，５〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源移動機構は、前記基板が隣接して並ぶ方向に前記蒸着源を往復移動させるように構成したことを特徴とする請求項２，３，５〜８のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源が前記第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域を通過した後、再度第１蒸着領域若しくは第３蒸着領域へと戻るために折返し移動するための折返し領域を前記第１のマスク台及び前記第２のマスク台と前記チャンバの内壁との間に夫々設けたことを特徴とする請求項８，９のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記折返し領域において前記蒸着源を減速し進行方向を変更した後、前記蒸着用速度まで加速するように前記蒸着源移動機構を構成したことを特徴とする請求項１０に記載の蒸着装置。
前記蒸着源は、線形蒸着源であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記蒸着源を複数設け、これら複数の蒸着源を同一基板に対して蒸着させるように同時に移動させるように構成したことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の蒸着装置。
前記複数の蒸着源の少なくとも１つに他の蒸着源に収容される蒸着材料とは異なる蒸着材料を収容したことを特徴とする請求項１３に記載の蒸着装置。
前記複数の蒸着源の少なくとも１つに他の蒸着源に収容される蒸着材料と同一の蒸着材料を収容したことを特徴とする請求項１３に記載の蒸着装置。
チャンバに３つ以上のマスク台を備えたことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
チャンバ内に第１の基板を搬入し、前記第１の基板をアライメントして第１のマスク台に配置する工程と、蒸着源が移動して蒸着材料を前記第１の基板に蒸着する工程と、前記第１の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内に第２の基板を搬入し、前記第２の基板をアライメントして第２のマスク台に配置する工程と、前記蒸着源が移動して蒸着材料を前記第２の基板に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板に蒸着する工程において、前記蒸着源は、第１のマスク台と第２のマスク台とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続けていることを特徴とする蒸着方法。
チャンバ内に第１の基板を搬入し、前記第１の基板をアライメントして第１のマスク台に配置する工程と、蒸着源が移動して蒸着材料を前記第１の基板に蒸着する工程と、前記第１の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内に第２の基板を搬入し、前記第２の基板をアライメントして第２のマスク台に配置する工程と、前記蒸着源が移動して蒸着材料を前記第２の基板に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板に蒸着する工程において、前記蒸着源は、第１のマスク台と第２のマスク台とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続け、２つの基板に対して少なくとも一方に成膜する過程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の蒸着方法。
チャンバ内に第１の基板を搬入し、前記第１の基板をアライメントして第１のマスク台に配置する工程と、蒸着源が移動して蒸着材料を前記第１の基板に蒸着する工程と、前記第１の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内に第２の基板を搬入し、前記第２の基板をアライメントして第２のマスク台に配置する工程と、前記蒸着源が移動して蒸着材料を前記第２の基板に蒸着する工程とを有し、前記第１及び第２の基板に蒸着する工程において、前記蒸着源は、第１のマスク台と第２のマスク台とに臨んで位置する蒸着領域において移動し続け、２つの基板に対して同時に成膜する過程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の蒸着方法。
前記第２の基板に蒸着する工程と同時に行われる工程であって、チャンバ内から前記第１の基板を搬出すると共に他の第１の基板をチャンバ内に搬入し、前記他の第１の基板をアライメントして第１のマスク台に配置する工程を含むことを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の蒸着方法。