CN108977764B - 蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

提供一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。所述蒸镀膜层记录装置包括：记录掩模板，具有开口部；膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。

Description

蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。

背景技术

在制造显示器件的过程中，例如，在制造OLED显示面板时，通常通过蒸镀工艺将诸如有机发光材料的蒸镀材料蒸镀到基板上。在蒸镀工艺中，需要用加热源把蒸镀材料加热，然后将加热后的蒸镀材料蒸镀到基板上的预定位置。

在目前的蒸镀工艺中，各个蒸镀材料被蒸镀至基板的预定位置，形成堆叠的多个蒸镀膜层，无法获知单一蒸镀膜层的厚度。

发明内容

为了解决上述问题的至少一个方面，本公开实施例提供一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。

在一个方面，提供一种蒸镀膜层记录装置，包括：

记录掩模板，具有开口部；

膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和

驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。

例如，所述改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置包括：

驱动构件驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的第一位置改变至所述膜层记录构件上的第二位置，

其中，所述第一位置与所述第二位置在所述膜层记录构件上不重叠。

可选地，所述记录掩模板包括：

旋转板；和

设置在所述旋转板上的贯通孔，

其中，所述贯通孔形成所述开口部。

可选地，所述记录掩模板包括：

第一记录掩模子板，包括：

第一旋转板；和

设置在所述第一旋转板上的第一开口子部；以及

第二记录掩模子板，包括：

第二旋转板；和

设置在所述第二旋转板上的第二开口子部，

其中，所述第一开口子部的第一部分在所述膜层记录构件上的正投影与所述第二开口子部的第二部分在所述膜层记录构件上的正投影重合，所述第一开口子部的第一部分和所述第二开口子部的第二部分形成所述开口部。

例如，所述第一开口子部为直线槽，以及所述第二开口子部为渐开线槽。

例如，所述驱动构件包括旋转驱动机构，所述旋转驱动机构连接至旋转板，用于驱动所述旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度。

例如，所述驱动构件包括第一旋转驱动机构，所述第一旋转驱动机构连接至第一旋转板，用于驱动所述第一旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度，以使所述开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的所述第一位置改变至所述膜层记录构件上的所述第二位置，

其中，所述第一位置离所述膜层记录构件的中心的第一距离不等于所述第二位置离所述膜层记录构件的中心的第二距离。

例如，所述驱动构件还包括第二旋转驱动机构，所述第二旋转驱动机构连接至第一旋转板和第二旋转板，用于驱动所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转。

例如，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的旋转速度被设置为使得：在一种蒸镀材料被蒸镀期间，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的圈数小于等于一圈。

例如，所述驱动构件还包括分度机构，用于控制所述预定角度。

在另一方面，还提供一种利用蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法，包括：

在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层；和

在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层，

其中，所述第一位置不同于所述第二位置，使得所述第一记录膜层与所述第二记录膜层不重叠。

例如，所述蒸镀膜层记录装置包括：具有开口部的记录掩模板；和膜层记录构件，在蒸镀过程中，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上，

其中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上包括：

驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述第一位置改变至所述第二位置。

例如，所述第一位置和所述第二位置为在所述膜层记录构件的周向和/或径向上的不同位置。

例如，在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层包括：

控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第一径向位置；和

驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第一记录膜层，

其中，驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。

例如，在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层包括：

驱动所述掩模板旋转预定角度，以控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第二径向位置；和

再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第二记录膜层，

其中，所述第二径向位置不同于所述第一径向位置，

并且再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。

又一方面，提供一种掩模板组件，包括：

掩模板；和

上述的蒸镀膜层记录装置，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述掩模板。

再一方面，提供一种蒸镀设备，包括：

蒸发源；

设置在所述蒸发源与所述待蒸镀基板之间的蒸镀掩模板；和

上述的蒸镀膜层记录装置，

其中，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述蒸镀设备的基体或所述蒸镀掩模板。

例如，在蒸镀期间，蒸镀材料沉积在所述待蒸镀基板的第一表面以及所述蒸镀膜层记录装置的膜层记录构件的第二表面上，并且，所述第一表面和所述第二表面处于相同的水平高度。

在本公开的实施例中，可以通过蒸镀膜层记录装置，获知单一蒸镀膜层的厚度。

附图说明

通过下文中参照附图对本发明所作的描述，本发明的其它目的和优点将显而易见，并可帮助对本发明有全面的理解。

图1是OLED器件的结构示意图；

图2是根据本公开实施例的蒸镀设备的结构示意图；

图3示意性示出了设置在根据本公开实施例的蒸镀设备中的基体、待蒸镀基板以及蒸镀掩模板的相对位置关系；

图4A是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的结构示意图；

图4B是图4A中的蒸镀膜层记录装置的记录掩模板的俯视图；

图5A～5D示意性示出了图4A中的蒸镀膜层记录装置的工作过程；

图6是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的分度机构的结构示意图；

图7A是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的结构示意图；

图7B和7C是图7A中的蒸镀膜层记录装置的记录掩模板的俯视图；

图8A～8D示意性示出了图7A中的蒸镀膜层记录装置的工作过程；

图9示意性示出了根据本公开实施例的蒸镀设备在一个蒸镀腔室中蒸镀第一蒸镀材料的蒸镀过程；以及

图10是根据本公开实施例的利用蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法的流程图。

需要注意的是，为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层、结构或区域的尺寸可能被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。

具体实施方式

下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。在说明书中，相同或相似的附图标号指示相同或相似的部件。下述参照附图对本发明实施方式的说明旨在对本发明的总体发明构思进行解释，而不应当理解为对本发明的一种限制。

另外，在下面的详细描述中，为便于解释，阐述了许多具体的细节以提供对本披露实施例的全面理解。然而明显地，一个或多个实施例在没有这些具体细节的情况下也可以被实施。

图1示出了根据本公开实施例的OLED器件的结构示意图。如图所示，OLED器件包括衬底基板1、形成在衬底基板上的相对设置的阳极2、阴极4以及位于二者之间的发光层(简称为EL层)3。例如，EL层3具体可以包括：空穴注入层5、空穴传输层6、电子注入层7、电子传输层8以及有机材料发光层9。

图2示出了根据本公开实施例的蒸镀设备的结构示意图，图3示意性示出了基体、待蒸镀基板以及蒸镀掩模板的相对位置关系。可以采用蒸镀工艺在衬底基板上形成图1中所示的阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子注入层7、电子传输层8、有机材料发光层9、阴极4等各个膜层。

在下文中，以蒸镀空穴注入层5、空穴传输层6、有机材料发光层9和电子传输层8等4个膜层为例，对本公开的实施例进行说明，但是，这4个膜层并不是对本公开实施例的限制。在其它实施例中，可以蒸镀其它数量的膜层，也可以蒸镀其它材料的膜层。

如图2所示，蒸镀设备20包括蒸镀腔室21，在图2的实施例中，示意性示出了由隔板22隔开的4个蒸镀腔室21A、21B、21C、21D，应该理解，这仅是示例性的实施方式，而不是对本公开的限制。在其它实施例中，可以不设置隔板，也就是说，蒸镀腔室21是一个没有隔板隔开的大腔室。另外，蒸镀腔室的数量为4个也就是示意性的，可以根据待蒸镀材料或膜层的数量设置蒸镀腔室的数量，例如，为了形成图1中所示的7个膜层，可以设置7个蒸镀腔室，当然，也可以设置其它数量的蒸镀腔室。在蒸镀腔室21中，设置有多个蒸发源23A、23B、23C、23D，以分别蒸发不同的蒸镀材料，图2中的标记AR示意性示出了蒸镀方向。蒸发源的数量与待蒸镀材料或膜层的数量对应，例如，为了形成图1中所示的7个膜层，可以设置7个蒸发源。

结合图2和图3，对准贴合待蒸镀基板24(即图1中的衬底基板1)与蒸镀掩模板25，并且将其安装至基体26上。承载待蒸镀基板24和蒸镀掩模板25的基体26被安装至传送机构27。例如，传送机构27可以沿图2中的左右方向运动。传送机构27带动待蒸镀基板24和蒸镀掩模板25依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方，以将各个蒸镀材料蒸镀至待蒸镀基板24上。蒸镀掩模板25用于控制蒸镀材料被蒸镀至基板24的预定位置处，例如，蒸镀掩模板25可以是适用于大尺寸OLED器件的Common Metal Mask(简称为CMM)。

然而，当待蒸镀基板24和蒸镀掩模板25依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方，形成各个膜层后，各个膜层堆叠在一起，如图1所示，阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子注入层7、电子传输层8、有机材料发光层9、阴极4等各个膜层堆叠在一起，无法获知其中单个膜层的厚度。

如图4A所示，示出了根据本公开实施例的一种蒸镀膜层记录装置40。具体地，蒸镀膜层记录装置40可以包括装置主体41、记录掩模板42、膜层记录构件45、承载构件43、和驱动构件46。蒸镀膜层记录装置40的装置主体41可以固定连接至基体26或蒸镀掩模板25上。例如，承载构件43可以固定安装至装置主体41上，膜层记录构件45可以被承载构件43承载。记录掩模板42可以连接至驱动构件46，在驱动构件46的驱动下，记录掩模板42可以相对于膜层记录构件45运动。在上述实施例中，膜层记录构件45通过承载构件43固定连接至装置主体41，记录掩模板42在驱动构件46的驱动下运动，以在记录掩模板42与膜层记录构件45之间产生相对运动，从而改变二者的相对位置。可替换地，记录掩模板42可以通过承载构件43固定连接至装置主体41，膜层记录构件45在驱动构件46的驱动下运动，以在记录掩模板42与膜层记录构件45之间产生相对运动，从而改变二者的相对位置。

在一个示例中，承载构件43可以包括载物台，膜层记录构件45可以包括被载物台43承载的环形片或圆形片，蒸镀材料可以沉积在例如环形片的膜层记录构件45上。

在一个示例中，记录掩模板42可以包括旋转板421和设置在旋转板421中的开口部422，例如，开口部422可以是贯通孔，如图4B所示。开口部422沿旋转板421的厚度方向贯穿旋转板421。在图示的实施例中，开口部422在旋转板421上的正投影为圆形形状。在其它实施例中，开口部422在旋转板421上的正投影可以为其它形状，例如矩形、椭圆形等。

下面，结合图2、图4A和图5A～5D，描述蒸镀膜层记录装置40的工作过程。由于蒸镀膜层记录装置40固定连接至基体26或蒸镀掩模板25上，所以，在蒸镀过程中，当传送机构27带动待蒸镀基板24和蒸镀掩模板25依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方时，蒸镀膜层记录装置40也被传送机构27带动依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方。

例如，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置40，并将其定位于蒸发源23A上方。当蒸发源23A工作时，第一蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第一膜层，例如图1中所示的空穴注入层5，同时，记录掩模板42处于第一旋转位置，如图5A上图所示，第一蒸镀材料也通过开口部422被蒸镀至膜层记录构件45的第一位置，形成图5A下图中所示的第一记录膜层451。

然后，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置40，并将其定位于蒸发源23B上方。当蒸发源23B工作时，第二蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第二膜层，例如图1中所示的空穴传输层6，同时，记录掩模板42在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45旋转预定角度，从而处于第二旋转位置，如图5B上图所示，第二蒸镀材料也通过开口部422被蒸镀至膜层记录构件45的第二位置，形成图5B下图中所示的第二记录膜层452。

然后，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置40，并将其定位于蒸发源23C上方。当蒸发源23C工作时，第三蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第三膜层，例如图1中所示的有机材料发光层9，同时，记录掩模板42在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45旋转预定角度，从而处于第三旋转位置，如图5C上图所示，第三蒸镀材料也通过开口部422被蒸镀至膜层记录构件45的第三位置，形成图5C下图中所示的第三记录膜层453。

然后，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置40，并将其定位于蒸发源23D上方。当蒸发源23D工作时，第四蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第四膜层，例如图1中所示的电子传输层8，同时，记录掩模板42在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45旋转预定角度，从而处于第四旋转位置，如图5D上图所示，第四蒸镀材料也通过开口部422被蒸镀至膜层记录构件45的第四位置，形成图5D下图中所示的第四记录膜层454。

通过上述的描述可知，膜层记录构件45的第一位置、第二位置、第三位置、第四位置分别为处于不同旋转位置的记录掩模板42的开口部422在膜层记录构件45上的正投影的位置。更具体地，膜层记录构件45的第一位置、第二位置、第三位置、第四位置分别为在蒸镀不同的材料时记录掩模板42的开口部422在膜层记录构件45上的正投影的位置。

在上述过程中，第一记录膜层451、第二记录膜层452、第三记录膜层453和第四记录膜层454分别完整记录第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层的蒸镀情况，特别地，第一记录膜层451、第二记录膜层452、第三记录膜层453和第四记录膜层454的厚度分别对应第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层的厚度，例如，第一记录膜层451、第二记录膜层452、第三记录膜层453和第四记录膜层454的厚度分别等于第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层的厚度。如图5A～5D所示，第一记录膜层451、第二记录膜层452、第三记录膜层453和第四记录膜层454分别沉积在膜层记录构件45上的不同位置处，彼此并没有堆叠，所以，可以方便地检测它们各自的厚度。这样，通过蒸镀膜层记录装置40，可以方便地分别检测蒸镀的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层的厚度。

在上述过程中，在每一个不同蒸镀材料的蒸镀过程中，记录掩模板42在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45旋转预定角度，以使得第一位置、第二位置、第三位置和第四位置为膜层记录构件45上的沿其周向不同的位置。但是，本公开的实施例不局限于此，记录掩模板42可以在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45进行其它类型的运动，例如移动，以使得第一位置、第二位置、第三位置和第四位置为膜层记录构件45上的沿其其它方向(例如径向、左右方向)的不同位置。

在上述过程中，当记录掩模板42在驱动构件46的驱动下相对于膜层记录构件45旋转一预定角度，以定位于不同的旋转位置。该预定角度的大小可以与蒸镀膜层的数量相关，例如，当蒸镀膜层的数量为4层时，预定角度可以为90°；当蒸镀膜层的数量为6层时，预定角度可以为60°。该预定角度的大小还可以与记录掩模板上的开口部的尺寸相关，例如，当记录掩模板42上的开口部422的尺寸较大时，该预定角度的大小可以设置得较大，以避免在不同的旋转位置处蒸镀的各个记录膜层重叠。也就是说，该预定角度的大小被设置，以避免在不同的旋转位置处蒸镀的各个记录膜层重叠。

可选地，蒸镀膜层记录装置40还可以包括分度机构47，如图6所示，分度机构47可以包括棘轮471和棘爪472。通过控制棘轮471旋转预定角度，驱动旋转板421旋转预定角度，从而实现一次旋转预定角度。棘爪472可以防止旋转板421沿相反的方向旋转，例如，通过棘轮棘爪的配合，可以驱动旋转板421仅沿图6中的顺时针方向旋转，防止其沿图6中的逆时针方向旋转。

返回参照图4A，膜层记录构件45与待蒸镀基板24处于同一高度，具体地，膜层记录构件45的蒸镀材料沉积的表面(例如图中的环形片的下表面)与待蒸镀基板24的蒸镀材料沉积的表面处于同一高度。这样，膜层记录构件45上的材料蒸镀情况可以完全反映待蒸镀基板24上的材料蒸镀情况，有利于对各个膜层厚度的检测。

如图7A所示，示出了根据本公开实施例的一种蒸镀膜层记录装置70。具体地，蒸镀膜层记录装置70可以包括装置主体71、记录掩模板72、膜层记录构件75、承载构件73、和驱动构件76。蒸镀膜层记录装置70的装置主体71可以固定连接至基体26或蒸镀掩模板25上。例如，承载构件73可以固定安装至装置主体71上，膜层记录构件75可以被承载构件73承载。记录掩模板72可以连接至驱动构件76，在驱动构件76的驱动下，记录掩模板72可以相对于膜层记录构件75运动。在上述实施例中，膜层记录构件75通过承载构件73固定连接至装置主体71，记录掩模板72在驱动构件76的驱动下运动，以在记录掩模板72与膜层记录构件75之间产生相对运动，从而改变二者的相对位置。

在一个示例中，承载构件73可以包括载物台，膜层记录构件75可以包括被载物台73承载的环形片或圆形片，蒸镀材料可以沉积在例如环形片或圆形片的膜层记录构件75上。

如图所示，记录掩模板72可以包括第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722。

如图7B所示，第一记录掩模子板721可以包括第一旋转板7211和设置在第一旋转板7211中的第一开口子部7212。例如，第一旋转板7211可以是圆形板，第一开口子部7212可以是直线槽，直线槽7212沿第一旋转板7211的厚度方向贯穿第一旋转板7212，并且直线槽7212沿第一旋转板7211的径向方向延伸。

如图7C所示，第二记录掩模子板722可以包括第二旋转板7221和设置在第二旋转板7221中的第二开口子部7222。例如，第二旋转板7221可以是圆形板，第二开口子部7222可以是渐开线槽，渐开线槽7222沿第二旋转板7221的厚度方向贯穿第二旋转板7222，并且渐开线槽7222在第二旋转板7221上的正投影呈渐开线形状。应该理解，与一条曲线C的所有切线相交成直角的曲线，称为曲线C的“渐开线”。特别地，“渐开线”可以包括圆的渐开线，即，一条直线在一个圆上作无滑动的滚动时，直线上一定点运动的轨迹称为圆的渐开线，而该圆称为渐开线的基圆，该直线称为渐开线的发生线。

驱动构件76包括用于驱动第一记录掩模子板721运动的第一驱动构件761和用于驱动第二记录掩模子板722和第一记录掩模子板721同步运动的第二驱动构件762。在一个示例中，第一驱动构件761可以为旋转驱动机构，例如，带有旋转驱动轴的电机；第二驱动构件762可以为旋转驱动机构，例如，带有旋转驱动轴的电机。例如，第一驱动构件761连接至第一记录掩模子板721，用于驱动第一记录掩模子板721旋转。第二驱动构件762连接至第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722，用于驱动第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722相对于膜层记录构件75同步旋转。

下面，结合图7A～7C和图8A～8D，描述蒸镀膜层记录装置70的工作过程。由于蒸镀膜层记录装置70固定连接至基体26或蒸镀掩模板25上，所以，在蒸镀过程中，当传送机构27带动待蒸镀基板24和蒸镀掩模板25依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方时，蒸镀膜层记录装置70也被传送机构27带动依次经过各个蒸发源23A、23B、23C、23D上方。

如图8A所示，例如，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70，并将其定位于蒸发源23A上方。当蒸发源23A工作时，第一蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第一膜层，例如图1中所示的空穴注入层5。同时，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转，使其处于如图8A所示的第一旋转位置，此时，第一记录掩模板721的直线槽7212在膜层记录构件75上的正投影与第二记录掩模板722的渐开线槽7222在膜层记录构件75上的正投影具有第一重叠部78A，第一重叠部78A离膜层记录构件75的中心的距离为R1。然后，在第二驱动构件762的驱动下，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722以预定旋转速度S1同步旋转。这样，第一蒸镀材料通过第一记录掩模板721的直线槽与第二记录掩模板722的渐开线槽的重叠部分而被蒸镀至膜层记录构件75上，例如，被蒸镀至环形片的下表面上。由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，所以，在膜层记录构件75上形成环形的第一记录膜层751。

例如，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转时的预定旋转速度S1可以被设置为使得：在蒸发源23A从开始工作至结束工作期间，即在第一蒸镀材料的蒸镀期间，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转的圈数小于等于一圈，这样，形成的第一记录膜层751可以为一个完整的环形(如图所示)，或者大半个环形，或者半个环形，或者小半个环形，只要保证第一蒸镀材料不在第一记录膜层751上重复沉积即可。特别地，例如，在蒸镀过程中，传送机构27可以一直带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70以预定移动速度V1移动，例如，沿图9从左向右的方向移动。第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转时的预定旋转速度S1与上述预定移动速度V1相互配合，使得：在第一蒸镀腔室内进行第一蒸镀材料的蒸镀期间，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转的圈数小于等于一圈，这样，形成的第一记录膜层751可以为一个完整的环形，或者大半个环形，或者半个环形，或者小半个环形。

这样，形成的第一记录膜层751可以完全反映第一蒸镀材料的蒸镀情况，下面结合图8A和图9更详细描述。

如图9所示，示出了第一蒸镀腔室21A中第一蒸镀材料的蒸镀过程。例如，在t1时刻，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70以预定移动速度V1移动至第一移动位置MP1，如图9所示，此时，由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，使得第一蒸镀材料被沉积在膜层记录构件75的第一位置的第一区域P1，如图8A所示。也就是说，第一位置的第一区域P1处的第一记录膜层751反映了t1时刻时第一蒸镀材料的蒸镀情况。在t2时刻，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70以预定移动速度V1移动至第二移动位置MP2，如图9所示，此时，由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，使得第一蒸镀材料被沉积在膜层记录构件75的第一位置的第二区域P2，如图8A所示。也就是说，第一位置的第二区域P2处的第一记录膜层751反映了t2时刻时第一蒸镀材料的蒸镀情况。在t3时刻，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70以预定移动速度V1移动至第三移动位置MP3，如图9所示，此时，由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，使得第一蒸镀材料被沉积在膜层记录构件75的第一位置的第三区域P3，如图8A所示。也就是说，第一位置的第三区域P3处的第一记录膜层751反映了t3时刻时第一蒸镀材料的蒸镀情况。以此类推，图8A示出的环形第一记录膜层751完整记录了第一蒸镀材料在整个蒸镀期间的各个时刻的蒸镀情况。在实际蒸镀过程中，由于各种因素的影响，可能在不同的时刻会产生波动，例如，第一蒸镀材料被蒸镀至基板24上的蒸镀速率、蒸镀厚度等蒸镀情况在t1时刻、t2时刻、t3时刻可能各不相同，导致第一位置的第一区域P1处、第一位置的第二区域P2处、第一位置的第三区域P3处的第一记录膜层751可能彼此不同，也就是说，第一记录膜层751可以完整反映第一蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上的波动性。

而且，环形的第一记录膜层751在第一位置的各个区域处的膜层的厚度之和，反映第一蒸镀材料在待蒸镀基板24上沉积的膜层的厚度。例如，通过积分计算环形的第一记录膜层751在第一位置的各个区域处的膜层的厚度之和，可以获知第一蒸镀材料在待蒸镀基板24上沉积的膜层的厚度，从而实现了获知单个膜层的厚度的目的。

如图8B所示，例如，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70，并将其定位于蒸发源23B上方。当蒸发源23B工作时，第二蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第二膜层，例如图1中所示的空穴传输层6。同时，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使其处于如图8B所示的第二旋转位置，此时，第一记录掩模板721的直线槽7212在膜层记录构件75上的正投影与第二记录掩模板722的渐开线槽7222在膜层记录构件75上的正投影具有第二重叠部78B，第二重叠部78B离膜层记录构件75的中心的距离为R2。然后，在第二驱动构件762的驱动下，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722以第二预定旋转速度S2同步旋转。这样，第二蒸镀材料通过第一记录掩模板721的直线槽与第二记录掩模板722的渐开线槽的重叠部分而被蒸镀至膜层记录构件75上，例如，被蒸镀至环形片的下表面上。由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，所以，在膜层记录构件75上形成环形的第二记录膜层752。

在上述过程中，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使得第二重叠部78B离膜层记录构件75的中心的距离为不同于上述R1的R2，从而使得形成的第二记录膜层752不与上述第一记录膜层751重叠。

第二预定旋转速度S2可以设置为等于第一预定旋转速度S1，或者，不等于第一预定旋转速度S1。与第一预定旋转速度S1一样，第二预定旋转速度可以设置为使得：在蒸发源23B从开始工作至结束工作期间，即在进行第二蒸镀材料的蒸镀期间，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转的圈数小于等于一圈，这样，形成的第二记录膜层752可以为一个完整的环形(如图所示)，或者大半个环形，或者半个环形，或者小半个环形，只要保证第一蒸镀材料不在第二记录膜层752上重复沉积即可。

同样地，第二记录膜层752可以反映第二蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上的波动性。而且，通过计算第二记录膜层752在各个位置处的膜层的厚度之和，可以获知第二蒸镀材料在待蒸镀基板24上沉积的膜层的厚度。

如图8C所示，例如，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70，并将其定位于蒸发源23C上方。当蒸发源23C工作时，第三蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第三膜层，例如图1中所示的有机材料发光层9。同时，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使其处于如图8C所示的第三旋转位置，此时，第一记录掩模板721的直线槽7212在膜层记录构件75上的正投影与第二记录掩模板722的渐开线槽7222在膜层记录构件75上的正投影具有第三重叠部78C，第三重叠部78C离膜层记录构件75的中心的距离为R3。然后，在第二驱动构件762的驱动下，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722以第三预定旋转速度S3同步旋转。这样，第二蒸镀材料通过第一记录掩模板721的直线槽与第二记录掩模板722的渐开线槽的重叠部分而被蒸镀至膜层记录构件75上，例如，被蒸镀至环形片的下表面上。由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，所以，在膜层记录构件75上形成环形的第三记录膜层753。

在上述过程中，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使得第三重叠部78C离膜层记录构件75的中心的距离为不同于上述R1和上述R2的R3，从而使得形成的第三记录膜层753不与上述第一记录膜层751、上述第二记录膜层752重叠。

第三预定旋转速度S3可以设置为等于第一预定旋转速度S1，或者，不等于第一预定旋转速度S1。与第一预定旋转速度S1一样，第三预定旋转速度可以设置为使得：在蒸发源23C从开始工作至结束工作期间，即在进行第三蒸镀材料的蒸镀期间，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转的圈数小于等于一圈，这样，形成的第三记录膜层753可以为一个完整的环形(如图所示)，或者大半个环形，或者半个环形，或者小半个环形，只要保证第三蒸镀材料不在第三记录膜层753上重复沉积即可。

同样地，第三记录膜层753可以反映第三蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上的波动性。而且，通过计算第三记录膜层753在各个位置处的膜层的厚度之和，可以获知第三蒸镀材料在待蒸镀基板24上沉积的膜层的厚度。

如图8D所示，例如，传送机构27带动待蒸镀基板24、蒸镀掩模板25以及蒸镀膜层记录装置70，并将其定位于蒸发源23D上方。当蒸发源23D工作时，第四蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上，以在待蒸镀基板24上形成第四膜层，例如图1中所示的电子传输层8。同时，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使其处于如图8D所示的第四旋转位置，此时，第一记录掩模板721的直线槽7212在膜层记录构件75上的正投影与第二记录掩模板722的渐开线槽7222在膜层记录构件75上的正投影具有第四重叠部78D，第四重叠部78D离膜层记录构件75的中心的距离为R4。然后，在第二驱动构件762的驱动下，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722以第四预定旋转速度S4同步旋转。这样，第四蒸镀材料通过第一记录掩模板721的直线槽与第二记录掩模板722的渐开线槽的重叠部分而被蒸镀至膜层记录构件75上，例如，被蒸镀至环形片的下表面上。由于第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转，所以，在膜层记录构件75上形成环形的第四记录膜层754。

在上述过程中，第一驱动构件761驱动第一记录掩模子板721旋转预定角度，使得第四重叠部78D离膜层记录构件75的中心的距离为不同于上述R1、R2和R3的R4，即，使得形成的第四记录膜层753不与上述第一记录膜层751、上述第二记录膜层752和上述第三记录膜层753重叠。

第四预定旋转速度S4可以设置为等于第一预定旋转速度S1，或者，不等于第一预定旋转速度S1。与第一预定旋转速度S1一样，第四预定旋转速度可以设置为使得：在蒸发源23D从开始工作至结束工作期间，即在进行第四蒸镀材料的蒸镀期间，第一记录掩模子板721和第二记录掩模子板722同步旋转的圈数小于等于一圈，这样，形成的第四记录膜层754可以为一个完整的环形(如图所示)，或者大半个环形，或者半个环形，或者小半个环形，只要保证第四蒸镀材料不在第四记录膜层754上重复沉积即可。

同样地，第四记录膜层754可以反映第四蒸镀材料被蒸镀至待蒸镀基板24上的波动性。而且，通过计算第四记录膜层754在各个位置处的膜层的厚度之和，可以获知第四蒸镀材料在待蒸镀基板24上沉积的膜层的厚度。

在上述实施例中，直线槽与渐开线槽重叠形成的第一重叠部、第二重叠部、第三重叠部和第四重叠部离膜层记录构件75的中心的距离为分别为R1、R2、R3、R4，即它们沿膜层记录构件75的径向间隔分布，从而使得形成第一记录膜层、第二记录膜层、第三记录膜层和第四记录膜层沿膜层记录构件75的径向间隔分布，彼此不重叠。在不冲突的情况下，第一重叠部、第二重叠部、第三重叠部和第四重叠部在膜层记录构件75上的位置可以分别被称为第一位置、第二位置、第三位置和第四位置。在具体的示例中，所述第一位置、第二位置、第三位置、第四位置可以分别为在蒸镀不同的材料时开口部在膜层记录构件75上的正投影的位置。

在图示的实施例中，第二开口子部7222为连续的渐开线槽。但是，本公开的实施例不局限于此。在其它实施例中，第二开口子部7222也可以为不连续的渐开线槽。

可选地，蒸镀膜层记录装置70还可以包括分度机构，可以参照上述对分度机构47的描述，在此不再赘述。

如图10所示，本公开的实施例还提供一种利用蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法，该方法可以具体描述如下。

在步骤S101中，蒸镀第一蒸镀材料，在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层。例如，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置40的膜层记录构件45的第一位置(如图5A)上，以形成第一记录膜层451。或者，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置70的膜层记录构件75的第一位置(如图8A)上，以形成第一记录膜层751。

在步骤S102中，蒸镀第二蒸镀材料，在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层。例如，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置40的膜层记录构件45的第二位置(如图5B)上，以形成第二记录膜层452。或者，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置70的膜层记录构件75的第二位置(如图8B)上，以形成第二记录膜层752。

特别地，所述第一位置不同于所述第二位置，使得所述第一记录膜层451、751与所述第二记录膜层452、752不重叠。

具体地，在步骤S102中，可以驱动记录掩模板42、72与膜层记录构件45、75产生相对运动，以使记录掩模板42、72的开口部在膜层记录构件45、75上的正投影从所述第一位置改变至所述第二位置。

根据本公开实施例的控制方法的其它过程以及具体细节，可以参考上面的实施例，在此不再赘述。

虽然本发明总体构思的一些实施例已被图示和说明，本领域普通技术人员将理解，在不背离本总体发明构思的原则和精神的情况下，可对这些实施例做出改变，本发明的范围以权利要求和它们的等同物限定。

Claims (18)

1.一种蒸镀膜层记录装置，包括：

记录掩模板，具有开口部；

膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和

驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置，

其中，所述改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置包括：

所述驱动构件驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的第一位置改变至所述膜层记录构件上的第二位置，

其中，所述第一位置与所述第二位置在所述膜层记录构件上不重叠。

2.根据权利要求1所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述记录掩模板包括：

旋转板；和

设置在所述旋转板上的贯通孔，

其中，所述贯通孔形成所述开口部。

3.根据权利要求1所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述记录掩模板包括：

第一记录掩模子板，包括：

第一旋转板；和

设置在所述第一旋转板上的第一开口子部；以及

第二记录掩模子板，包括：

第二旋转板；和

设置在所述第二旋转板上的第二开口子部，

其中，所述第一开口子部的第一部分在所述膜层记录构件上的正投影与所述第二开口子部的第二部分在所述膜层记录构件上的正投影重合，所述第一开口子部的第一部分和所述第二开口子部的第二部分形成所述开口部。

4.根据权利要求3所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述第一开口子部为直线槽，以及所述第二开口子部为渐开线槽。

5.根据权利要求2所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件包括旋转驱动机构，所述旋转驱动机构连接至旋转板，用于驱动所述旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度。

6.根据权利要求3或4所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件包括第一旋转驱动机构，所述第一旋转驱动机构连接至第一旋转板，用于驱动所述第一旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度，以使所述开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的所述第一位置改变至所述膜层记录构件上的所述第二位置，

其中，所述第一位置离所述膜层记录构件的中心的第一距离不等于所述第二位置离所述膜层记录构件的中心的第二距离。

7.根据权利要求6所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件还包括第二旋转驱动机构，所述第二旋转驱动机构连接至第一旋转板和第二旋转板，用于驱动所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转。

8.根据权利要求7所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的旋转速度被设置为使得：在一种蒸镀材料被蒸镀期间，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的圈数小于等于一圈。

9.根据权利要求5所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件还包括分度机构，用于控制所述预定角度。

10.根据权利要求6所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件还包括分度机构，用于控制所述预定角度。

11.一种利用根据权利要求1-10中任一项所述的蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法，包括：

在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层；和

在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层，

其中，所述第一位置不同于所述第二位置，使得所述第一记录膜层与所述第二记录膜层不重叠。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上包括：

驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述第一位置改变至所述第二位置。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第一位置和所述第二位置为在所述膜层记录构件的周向和/或径向上的不同位置。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层包括：

控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第一径向位置；和

驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第一记录膜层，

其中，驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层包括：

驱动所述掩模板旋转预定角度，以控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第二径向位置；和

再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第二记录膜层，

其中，所述第二径向位置不同于所述第一径向位置，

并且再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。

16.一种掩模板组件，包括：

掩模板；和

根据权利要求1-10中任一项所述的蒸镀膜层记录装置，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述掩模板。

17.一种蒸镀设备，包括：

蒸发源；

设置在所述蒸发源与待蒸镀基板之间的蒸镀掩模板；和

根据权利要求1-10中任一项所述的蒸镀膜层记录装置，

其中，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述蒸镀设备的基体或所述蒸镀掩模板。

18.根据权利要求17所述的蒸镀设备，其中，在蒸镀期间，蒸镀材料沉积在所述待蒸镀基板的第一表面以及所述蒸镀膜层记录装置的膜层记录构件的第二表面上，并且，所述第一表面和所述第二表面处于相同的水平高度。

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