JP6500084B2 - 薄膜形成装置 - Google Patents
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Description
成膜源122は、成膜源移動装置131に取り付けられており、成膜源移動装置131が動作すると、成膜源122は、基板ホルダ121の下方位置で水平方向に往復移動される。
基板ホルダ121には、貫通孔が設けられており、基板ホルダ121に配置された成膜対象物105aの表面は、貫通孔の底面に露出されている。
本発明は、前記マスクと、前記マスク上に配置された前記成膜対象物とを前記回転装置に固定する保持装置を有する薄膜形成装置である。
本発明は、前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記マスクと共に前記アラインメント場所に戻される薄膜形成装置である。
本発明は、成膜室と、前記成膜室内に配置され、成膜対象物が配置される複数の基板ホルダが設けられ、前記成膜室内で回転する回転装置と、アラインメント場所に位置する前記基板ホルダと、前記基板ホルダに対面する前記成膜対象物とを撮像する主撮像装置と、前記主撮像装置の撮像結果から、前記基板ホルダと前記成膜対象物との間の第一の位置誤差を求め、前記第一の位置誤差を小さくするように、前記成膜対象物を移動させ、位置合わせがされた状態で前記基板ホルダに前記成膜対象物を配置する制御装置と、前記成膜室の内部に配置され、成膜材料の微粒子を放出する成膜源と、前記成膜源を前記成膜室の内部で移動させ、成膜場所と対面する場所を通過させる成膜源移動装置と、を有し、前記回転装置の回転によって、位置合わせがされた前記基板ホルダと前記成膜対象物とが前記アラインメント場所から前記成膜場所に移動され、前記成膜源が前記微粒子を放出しながら前記成膜場所と対面する場所を通過して、前記微粒子が、前記基板ホルダの貫通孔を通過して前記成膜対象物に到達し、薄膜が形成される薄膜形成装置であって、前記成膜場所に位置する前記基板ホルダと前記成膜対象物とを撮像する補助撮像装置が設けられ、前記補助撮像装置が撮像した結果から、前記成膜対象物と前記基板ホルダとの間の第二の位置誤差が求められる薄膜形成装置である。
本発明は、前記基板ホルダと、前記基板ホルダ上に配置された前記成膜対象物とを前記回転装置に固定する保持装置を有する薄膜形成装置である。
本発明は、前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記アラインメント場所に戻される薄膜形成装置である。
本発明は、前記基板ホルダは二台設けられ、前記回転装置の回転中心を中心として、二台の前記基板ホルダは互いに反対側に設けられた薄膜形成装置である。
保持装置によって、回転移動中の位置誤差発生が防止されるし、発生した場合には、補助撮像装置によって成膜前に検出され、再度位置合わせを行うことができるから、回転移動で発生した位置誤差による不良は無くなる。
図1を参照し、本発明の薄膜形成装置10は、搬送室12を有している。
搬送室12の周囲には、薄膜を形成する成膜室11と、薄膜形成の前処理や後処理を行う真空室14と、成膜対象物の搬出入を行う搬出入室13とが配置され、各室11、13、14は、搬送室12に接続されている。
成膜室11の内部には、円板状の回転装置21が水平に設けられている。
成膜室11の外部には、モーター等の駆動装置48が設けられており、回転軸32の他端は、駆動装置48に接続され、駆動装置48が動作すると、回転軸32は、回転軸32の中心軸線回りに回転するようにされている。
図3(a)の符号5aは、基板移動装置27に配置された成膜対象物を示している。
主制御装置36には、第一、第二の基準値が記憶されており、主制御装置36によって、第一の位置誤差は、第一の基準値と比較され、第一の位置誤差が第一の基準値よりも大きい場合には、成膜対象物5aとマスク4aとを相対的に移動させて位置誤差を小さくし、主撮像装置35の撮像によって、第一の位置誤差が再度求められる。
成膜材料の微粒子は、成膜源22の内部で生成されてもよいし、別の装置で生成された微粒子が、成膜源22に移動されて、成膜源22の放出孔23から放出されるようにしてもよい。
回転装置21が180度回転した後、静止したときに、成膜場所15で静止したマスク4aのアラインメントマークとそのマスク4a上の成膜対象物5aとのアラインメントマークとは、補助撮像装置45によって撮像され、撮像結果は補助制御装置46に出力されている。
主制御装置36は、第二の位置誤差が第二の基準値以下であった場合は、成膜源22に、微粒子を放出させながら成膜源移動装置31による移動を開始させる。
成膜源22が、放出孔23から成膜材料の微粒子を放出しながら、成膜場所15と対面する場所に到達すると、放出された微粒子は、成膜場所15に到達する。
上記成膜材料は、有機化合物であったが、成膜源22は、無機化合物の粒子を放出するようにしてもよい。
また、上記例では、第二の位置誤差が第二の基準値以下の時に成膜工程を開始したが、第二の位置誤差が第二の基準値未満の時に成膜工程を開始するようにしてもよい。
また、第一の基準値と第二の基準値とを同じ数にしたが、回転によって発生する微少な位置誤差を許容する場合は、第二の基準値を第一の基準値よりも大きくしても良い。
また、本発明は補助撮像装置を有さない発明も含まれる。
5a、5b……成膜対象物
10……薄膜形成装置
15……成膜場所
16……アラインメント場所
21……回転装置(ターンテーブル)
22……成膜源
25……基板搬出入装置
27……基板移動装置
31……成膜源移動装置
33……回転中心
34a、34b……基板ホルダ
35……主撮像装置
36……主制御装置
45……補助撮像装置
46……補助制御装置
48……駆動装置
Claims (9)
- 成膜室と、
前記成膜室内に配置され、マスクと成膜対象物とが配置される複数の基板ホルダが設けられ、前記成膜室内で回転する回転装置と、
アラインメント場所に位置する前記基板ホルダに配置された前記マスクと、前記マスクと対面する前記成膜対象物とを撮像する主撮像装置と、
前記主撮像装置の撮像結果から、前記マスクと前記成膜対象物との間の第一の位置誤差を求め、前記第一の位置誤差を小さくするように、前記成膜対象物を移動させ、位置合わせがされた状態で前記マスクに前記成膜対象物を配置する制御装置と、
前記成膜室の内部に配置され、成膜材料の微粒子を放出する成膜源と、
前記成膜源を前記成膜室の内部で移動させ、成膜場所と対面する場所を通過させる成膜源移動装置と、
を有し、
前記回転装置の回転によって、位置合わせがされた前記マスクと前記成膜対象物とが前記アラインメント場所から前記成膜場所に移動され、前記成膜源が前記微粒子を放出しながら前記成膜場所と対面する場所を通過して、前記微粒子が、前記基板ホルダの貫通孔と前記マスクの窓部とを通過して前記成膜対象物に到達し、薄膜が形成される薄膜形成装置であって、
前記成膜場所に位置する前記マスクと前記成膜対象物とを撮像する補助撮像装置が設けられ、
前記補助撮像装置が撮像した結果から、前記成膜対象物と前記マスクとの間の第二の位置誤差が求められる薄膜形成装置。 - 前記マスクと、前記マスク上に配置された前記成膜対象物とを前記回転装置に固定する保持装置を有する請求項1記載の薄膜形成装置。
- 前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記マスクと共に前記アラインメント場所に戻される請求項1記載の薄膜形成装置。
- 前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記マスクと共に前記アラインメント場所に戻される請求項2記載の薄膜形成装置。
- 成膜室と、
前記成膜室内に配置され、成膜対象物が配置される複数の基板ホルダが設けられ、前記成膜室内で回転する回転装置と、
アラインメント場所に位置する前記基板ホルダと、前記基板ホルダに対面する前記成膜対象物とを撮像する主撮像装置と、
前記主撮像装置の撮像結果から、前記基板ホルダと前記成膜対象物との間の第一の位置誤差を求め、前記第一の位置誤差を小さくするように、前記成膜対象物を移動させ、位置合わせがされた状態で前記基板ホルダに前記成膜対象物を配置する制御装置と、
前記成膜室の内部に配置され、成膜材料の微粒子を放出する成膜源と、
前記成膜源を前記成膜室の内部で移動させ、成膜場所と対面する場所を通過させる成膜源移動装置と、
を有し、
前記回転装置の回転によって、位置合わせがされた前記基板ホルダと前記成膜対象物とが前記アラインメント場所から前記成膜場所に移動され、前記成膜源が前記微粒子を放出しながら前記成膜場所と対面する場所を通過して、前記微粒子が、前記基板ホルダの貫通孔を通過して前記成膜対象物に到達し、薄膜が形成される薄膜形成装置であって、
前記成膜場所に位置する前記基板ホルダと前記成膜対象物とを撮像する補助撮像装置が設けられ、
前記補助撮像装置が撮像した結果から、前記成膜対象物と前記基板ホルダとの間の第二の位置誤差が求められる薄膜形成装置。 - 前記基板ホルダと、前記基板ホルダ上に配置された前記成膜対象物とを前記回転装置に固定する保持装置を有する請求項5記載の薄膜形成装置。
- 前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記アラインメント場所に戻される請求項5記載の薄膜形成装置。
- 前記第二の位置誤差が第二の基準値と比較され、前記第二の位置誤差が前記第二の基準値より大きい場合には、前記成膜対象物は、前記薄膜が形成されずに、前記回転装置の回転によって、前記アラインメント場所に戻される請求項6記載の薄膜形成装置。
- 前記基板ホルダは二台設けられ、前記回転装置の回転中心を中心として、二台の前記基板ホルダは互いに反対側に設けられた請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の薄膜形成装置。
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