JP4701815B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Images
Description
2 ステージ
23 開口部
24 回転軸
27 駆動手段
4 蒸発源(スパッタリングカソード)
7 基板ホルダー
8 マスクホルダー
H 基板保持具
Claims (7)
- 成膜室内に、蒸発源と、同一円周上に所定の間隔を置いて開口部が形成された回転自在なステージと、基板の搬送を可能とする搬送手段とを備え、前記ステージの基板が臨む前記開口部に載置されたマスクホルダーに、相互にパターンが同一または異なるマスクがセットされ、前記搬送手段によって、いずれかのマスク上にこのマスクに対し位置決めして基板を設置した後、ステージを回転させて蒸発源に対向した位置に搬送し、マスクを通して基板への成膜を可能としたことを特徴とする成膜装置。
- 前記基板は、前記マスクホルダーとの嵌合により組付自在な基板ホルダーにセットしたものであることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記搬送手段を前記成膜室内に設け、同一の成膜室においてマスク相互の間で基板の載せかえを可能としたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の成膜装置。
- 前記成膜室に、所定の真空度に保持可能なロードロックチャンバをゲートバルブを介して接続したことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記蒸発源を、前記ステージと同心である円周上に複数配置し、同一または相互に異なる材料の複数の基板への同時成膜を可能としたことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記ステージに駆動手段を設け、前記ステージの回転方向に対し直角な方向に移動自在としたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記蒸発源は、スパッタリング法による成膜を可能とするスパッタカソードであることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の成膜装置。
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