CN113122892A - 镀膜掩体及镀膜装置 - Google Patents

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Abstract

一种镀膜掩体，用于承载并遮蔽部分待镀元件；所述镀膜掩体包括至少一承载单元，每个所述承载单元包括一第一承载部、一第二承载部及至少两个肋板，所述第一承载部与所述第二承载部之间形成有一环形槽，所述肋板位于所述环形槽内；所述肋板包括第一肋板部及一与所述第一肋板部连接的第二肋板部，所述第一肋板部连接在所述第二承载部上，所述第二肋板部连接在所述第一承载部上，定义所述第一肋板部及所述第二肋板部之间的夹角为钝角。本发明还涉及一种镀膜装置。本发明提供的镀膜掩体及镀膜装置能够改善镀膜上的肋痕。

Description

镀膜掩体及镀膜装置
技术领域
本发明涉及一种镀膜掩体及镀膜装置。
背景技术
在镜头模组中，为解决杂散光造成的光斑等成像问题，常通过镀膜机在镜片的非中心区域镀黑膜，所述黑膜呈环状。由于镀膜设备中具有肋板，所述肋板导致所述黑膜上出现肋痕，肋痕会导致镜片上的黑膜不完全，从而无法完全解决杂散光造成的光斑等成像问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种能够改善镀膜上的肋痕的镀膜掩体。
还有必要提供一种包括如上所述的镀膜掩体的镀膜装置。
一种镀膜掩体，用于承载并遮蔽部分待镀元件；所述镀膜掩体包括至少一承载单元，每个所述承载单元包括一第一承载部、一第二承载部及至少两个肋板，所述第一承载部与所述第二承载部之间形成有一环形槽，所述肋板位于所述环形槽内；所述肋板包括第一肋板部及一与所述第一肋板部连接的第二肋板部，所述第一肋板部连接在所述第二承载部上，所述第二肋板部连接在所述第一承载部上，定义所述第一肋板部及所述第二肋板部之间的夹角为钝角。
进一步地，定义所述肋板的宽度为W1，定义所述第一肋板部及所述第二肋板部之间的夹角为θ1，则W1和θ1满足以下关系：0.05<W1≤0.2，且90°≤θ1≤150°。
进一步地，所述肋板上形成有多个通孔，部分所述待镀元件从所述通孔内裸露出来。
进一步地，定义所述肋板的宽度为W4，所述通孔的直径为D，则W4和D满足以下关系：0.5W4≤D≤0.8W4。
进一步地，所述待镀元件包括一凸部及环绕所述凸部且与所述凸部固定连接的边缘部，所述边缘部上具有一镀膜区域，所述边缘部设置于所述第二承载部上，所述镀膜区域正对所述环形槽，所述第一承载部还包括一第一收容槽，所述第一收容槽收容所述凸部。
进一步地，所述镀膜掩体还包括一承载板，所述承载单元阵列分布在所述承载板上。
进一步地，所述镀膜掩体还包括一形成在所述承载板上的盖板，所述盖板上形成有至少一第二收容槽，所述第二收容槽收容所述待镀元件。
一种镀膜装置，包括：一如上所述的镀膜掩体；及一镀膜机，位于所述镀膜掩体一侧且与所述待镀元件相背；所述镀膜机用于在从所述环形槽内裸露出来的待镀元件上喷涂镀液。
进一步地，所述镀膜装置还包括一旋转驱动组件，所述旋转驱动组件与所述镀膜掩体电连接且能够带动所述镀膜掩体旋转直至被所述肋板遮蔽的所述待镀元件从所述环形槽内裸露出来。
进一步地，定义所述旋转驱动组件驱动所述镀膜掩体的旋转角度为θ2，θ2＝180°。
本发明提供的镀膜掩体及镀膜装置，1)将第一肋板部与第二肋板部设置成具有折弯的形状，可以在一定程度上减少同一方向上肋痕的面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；2)减小肋板的宽度可以在一定程度上降低肋痕的总面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；3)在肋板上形成多个均匀排布的通孔，可以在一定程度上降低肋痕的总面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；4)在第一次镀膜后，采用旋转驱动组件使得镀膜掩体旋转直至被所述肋板遮蔽的所述待镀元件从所述环形槽内裸露出来，并进行二次镀膜，从而被肋板遮蔽的待镀元件上也被镀上了镀膜，从而能够得到无肋痕的镀膜。
附图说明
图1为本发明一第一实施方式提供的一种镀膜装置的模块图。
图2为图1所示的镀膜装置中的镀膜掩体的立体示意图。
图3为图2所示的镀膜掩体的分解图。
图4为图3所示的镀膜掩体的承载板及承载单元的另一个方向的示意图。
图5为图3所示的承载单元(V)的放大图。
图6为图4所示的承载单元(VI)的放大图。
图7为图3所示的镀膜掩体的一个承载单元的沿VII-VII的剖视图。
图8为本发明第二实施方式提供的一种镀膜装置的模块图。
图9为图8所示的镀膜装置中的承载单元旋转后的俯视图。
图10为本发明第三实施方式提供的一种承载单元的俯视图。
图11为本发明第四实施方式提供的一种承载单元的俯视图。
主要元件符号说明
镀膜装置 100，300
镀膜掩体 110
镀膜机 120
旋转驱动组件 130
盖板 10
第一表面 11
第二表面 12
第一收容槽 13
承载板 20
第三表面 21
第四表面 22
承载单元 30，310，320，330
第一承载部 31
第五表面 311
第六表面 312
外壁 313
第二收容槽 314
第二承载部 32
内壁 321
环形槽 33
肋板 34，35，36，37
第七表面 341
第八表面 342
第一肋板部 343
第二肋板部 344
通孔 371
夹角 θ1
肋板的宽度 W1，W2，W3，W4
旋转角度 θ2
待镀元件 200
镀膜 210
凸部 201
边缘部 202
镀膜区域 2021
肋痕区域 2101
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
为能进一步阐述本发明达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图1至图11及较佳实施方式，对本发明提供的镀膜掩体及镀膜装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，作出如下详细说明。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中设置的元件。当一个元件被认为是“设置在”另一个元件，它可以是直接设置在另一个元件上或者可能同时存在居中设置的元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1至图7，本发明第一实施方式提供一种镀膜装置100，所述镀膜装置100用于给一待镀元件200的特定区域形成一环状的镀膜210。在本实施方式中，所述待镀元件200为一透镜。
具体地，请参阅图1，所述镀膜装置100包括一镀膜掩体110及一镀膜机120。其中，所述待镀元件200收容并固定在所述镀膜掩体110内，所述镀膜机120分别位于所述镀膜掩体110的一侧。
具体地，请参阅图2-3及图7，所述镀膜掩体110包括一盖板10、一承载板20及至少一承载单元30。其中，所述盖板10固定在所述承载板20上，所述承载单元30固定在所述盖板10与所述承载板20之间。
请参阅图3及图7，所述盖板10包括一第一表面11及一与所述第一表面11相背的第二表面12。所述盖板10上形成有至少一第一收容槽13，所述第一收容槽13自所述第一表面11向所述第二表面12凹陷形成。所述第一收容槽13用于收容所述待镀元件200。
请参阅图3，所述承载板20包括一第三表面21及一与所述第三表面21相背的第四表面22。所述待镀元件200位于所述承载板20上。
其中，多个所述承载单元30阵列分布在所述承载板20上。
请参阅图5及图6，所述承载单元30包括一第一承载部31、一第二承载部32及至少两个肋板34。所述第一承载部31与所述第二承载部32之间形成有一环形槽33。所述肋板34位于所述环形槽33内且连接固定所述第一承载部31与所述第二承载部32。
其中，所述第一承载部31包括一第五表面311、一与所述第五表面311相背的第六表面312及一外壁313。所述外壁313连接所述第五表面311及所述第六表面312。所述环形槽33自所述第五表面311向所述第六表面312凹陷形成且贯穿所述第五表面311及所述第六表面312。
其中，所述第一承载部31上还形成有一第二收容槽314，所述第二收容槽314自所述第五表面311向所述第六表面312凹陷形成。所述第二收容槽314贯穿所述第五表面311且未贯穿所述第六表面312。
其中，所述第二承载部32包括一内壁321，所述肋板34的一端固定在所述内壁321上，另一端固定在所述外壁313上。
其中，所述肋板34包括一第七表面341及一与所述第七表面341相背的第八表面342。所述第七表面341与所述第五表面311平齐，所述第八表面342与所述第六表面312平齐。
在本实施方式中，所述肋板34还包括一第一肋板部343及一第二肋板部344。所述第一肋板部343与所述第二肋板部344相连接。所述第一肋板部343与所述第二肋板部344之间的夹角为钝角。具体地，所述第一肋板部343连接在所述第二承载部32的所述内壁321上，所述第二肋板部344连接在所述第一承载部31的所述外壁313上。定义所述第一肋板部343及所述第二肋板部344之间的夹角为θ1，则90°≤θ1≤150°。在本实施方式中，所述θ1＝90°。
在本实施方式中，所述第一肋板部343与所述第二肋板部344的宽度一致，定义所述第一肋板部343与所述第二肋板部344的宽度为W1，则0.05mm<W1≤0.2mm。优选地，0.05mm<W1<0.2mm。在本实施方式中，所述W1＝0.1mm。
请参阅图7，所述待镀元件200包括一凸部201及环绕所述凸部201且与所述凸部201固定连接的边缘部202。所述边缘部202上具有一镀膜区域2021。所述镀膜210形成在所述镀膜区域2021内且为一减反射膜。在本实施方式中，所述镀膜210为黑膜。
其中，所述待镀元件200的所述凸部201正对所述第一承载部31，所述待镀元件200的所述边缘部202置于所述第二承载部32上，所述待镀区域2021正对所述环形槽33。所述待镀元件200的所述凸部201收容在所述第二收容槽314内。
请参阅图8和图9，本发明第二实施方式提供一种镀膜装置300，所述镀膜装置300的结构与所述镀膜装置100的结构基本相同，其区别点仅在于，所述镀膜装置300还包括一旋转驱动组件130，所述旋转驱动组件130与所述镀膜掩体110电连接且能够带动所述镀膜掩体110旋转直至被所述肋板35遮蔽的所述待镀元件200(肋痕区域2101)从所述环形槽33内裸露出来。
在本实施方式中，所述旋转驱动组件130可以为一马达。当然，在其他实施方式中，所述旋转驱动组件130还可以为其他的能够带动所述镀膜掩体110旋转的组件。
定义所述旋转驱动组件130驱动所述镀膜掩体110的旋转角度为θ2，在本实施方式中，θ2＝180°。
定义所述肋板35的宽度为W2，则0.05mm<W2≤0.2mm，优选地，W2＝0.2mm。
其中，所述肋板35可以与第一实施方式中的所述肋板35的结构相同，也可以不发生折弯。在图9中，所述肋板35并未折弯。
当使用所述镀膜装置100给所述待镀元件200镀膜时，首先将所述待镀元件200置于所述承载板20上并使用所述盖板10固定所述待镀元件200；其次，使用所述镀膜机120对从所述环形槽33内裸露出来的所述镀膜区域2021进行第一次镀膜；再次，使用所述旋转驱动组件130带动所述镀膜掩体110旋转一定角度，以将所述肋痕区域2101裸露出来；最后，使用所述镀膜机120对从所述环形槽33内裸露出来的所述肋痕区域2101进行第二次镀膜。
请参阅图10，本发明第三实施方式提供一种承载单元320，所述承载单元320与所述承载单元30的结构基本相同，其区别点仅在于：所述承载单元320的肋板36的宽度小于第一实施方式中的所述承载单元30的所述肋板34的宽度且所述肋板36也并未发生折弯。定义所述肋板36的宽度为W3，优选地，0.05mm<W3<0.2mm。优选地，W3＝0.1mm。
当然，所述肋板36也可以像所述肋板34一样发生折弯。
请参阅图11，本发明第四实施方式提供一种承载单元330，所述承载单元330与所述承载单元30的结构基本相同，其区别点仅在于：所述承载单元330的肋板37上还形成有多个通孔371，部分被所述肋板37遮蔽的所述待镀元件200从所述通孔371内裸露出来。定义所述肋板37的宽度为W4，所述通孔371的直径为D，则0.5W4≤D≤0.8W4。其中，所述述肋板37的宽度可以等于或小于所述肋板34的宽度。优选地，0.05mm<W4<0.2mm。在本实施方式中，W4＝0.1mm。
本发明提供的镀膜掩体及镀膜装置，1)将第一肋板部与第二肋板部设置成具有折弯的形状，可以在一定程度上减少同一方向上肋痕的面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；2)减小肋板的宽度可以在一定程度上降低肋痕的总面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；3)在肋板上形成多个均匀排布的通孔，可以在一定程度上降低肋痕的总面积，从而可以一定程度上改善镀膜上的肋痕；4)在第一次镀膜后，采用旋转驱动组件使得镀膜掩体旋转直至被所述肋板遮蔽的所述待镀元件从所述环形槽内裸露出来，并进行二次镀膜，从而被肋板遮蔽的待镀元件上也被镀上了镀膜，从而能够得到无肋痕的镀膜。
以上所述，仅是本发明的较佳实施方式而已，并非对本发明任何形式上的限制，虽然本发明已是较佳实施方式揭露如上，并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施方式，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施方式所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种镀膜掩体，用于承载并遮蔽部分待镀元件；所述镀膜掩体包括至少一承载单元，每个所述承载单元包括一第一承载部、一第二承载部及至少两个肋板，所述第一承载部与所述第二承载部之间形成有一环形槽，所述肋板位于所述环形槽内；其特征在于，所述肋板包括第一肋板部及一与所述第一肋板部连接的第二肋板部，所述第一肋板部连接在所述第二承载部上，所述第二肋板部连接在所述第一承载部上，定义所述第一肋板部及所述第二肋板部之间的夹角为钝角。
2.如权利要求1所述的镀膜掩体，其特征在于，定义所述肋板的宽度为W1，定义所述第一肋板部及所述第二肋板部之间的夹角为θ1，则W1和θ1满足以下关系：0.05<W1≤0.2，且90°≤θ1≤150°。
3.如权利要求1所述的镀膜掩体，其特征在于，所述肋板上形成有多个通孔，部分所述待镀元件从所述通孔内裸露出来。
4.如权利要求3所述的镀膜掩体，其特征在于，定义所述肋板的宽度为W4，所述通孔的直径为D，则W4和D满足以下关系：0.5W4≤D≤0.8W4。
5.如权利要求1所述的镀膜掩体，其特征在于，所述待镀元件包括一凸部及环绕所述凸部且与所述凸部固定连接的边缘部，所述边缘部上具有一镀膜区域，所述边缘部设置于所述第二承载部上，所述镀膜区域正对所述环形槽，所述第一承载部还包括一第一收容槽，所述第一收容槽收容所述凸部。
6.如权利要求1所述的镀膜掩体，其特征在于，所述镀膜掩体还包括一承载板，所述承载单元阵列分布在所述承载板上。
7.如权利要求1所述的镀膜掩体，其特征在于，所述镀膜掩体还包括一形成在所述承载板上的盖板，所述盖板上形成有至少一第二收容槽，所述第二收容槽收容所述待镀元件。
8.一种镀膜装置，其特征在于，包括：
一如权利要求1-7任一项所述的镀膜掩体；及
一镀膜机，位于所述镀膜掩体一侧且与所述待镀元件相背；所述镀膜机用于在从所述环形槽内裸露出来的待镀元件上喷涂镀液。
9.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置还包括一旋转驱动组件，所述旋转驱动组件与所述镀膜掩体电连接且能够带动所述镀膜掩体旋转直至被所述肋板遮蔽的所述待镀元件从所述环形槽内裸露出来。
10.如权利要求9所述的镀膜装置，其特征在于，定义所述旋转驱动组件驱动所述镀膜掩体的旋转角度为θ2，θ2＝180°。
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