TW201400635A - 鍍膜輔助裝置 - Google Patents
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Abstract
一種鍍膜輔助裝置，包括一個承載盤、一個底盤及多個遮擋塞。所述承載盤包括一個承載面、一個與所述承載面相背之對接面及多個自所述承載面延伸之固定部。所述承載面用於承載多個筒狀工件。每個工件一端套於對應一個固定部外，另一端塞入對應一個遮擋塞。所述承載盤開設有多個貫穿每個固定部及所述對接面之頂入孔。每個頂入孔與對應一個工件之通孔相連通。所述底盤包括一個組合面及多個設置於所述面上之頂出部。所述組合面與所述對接面相對。每個頂出部用於頂入對應一個頂入孔以將對應一個遮擋塞頂出。
Description
本發明涉及鍍膜領域，具體地，涉及一種鍍膜輔助裝置。
為了防止電磁干擾，通常在相機模組之鏡筒之外表面鍍上一層金屬膜。鍍膜時，鏡筒之一端承載在一個承載盤上，另一端塞入一個遮擋塞以完全封閉鏡筒，避免鏡筒內部在鍍膜時被污染。鍍膜完成後，操作人員需將遮擋塞拔出，如此，工作效率低，特別是多個鏡筒同時承載在承載盤上進行鍍膜時。
有鑒於此，有必要提供一種能夠提高工作效率之鍍膜輔助裝置。
一種鍍膜輔助裝置，包括一個承載盤、一個底盤及多個遮擋塞。所述承載盤包括一個承載面、一個與所述承載面相背之對接面及多個自所述承載面延伸之固定部。所述承載面用於承載多個筒狀工件。每個工件一端套於對應一個固定部外，另一端塞入對應一個遮擋塞。所述承載盤開設有多個貫穿每個固定部及所述對接面之頂入孔。每個頂入孔與對應一個工件之通孔相連通。所述底盤包括一個組合面及多個設置於所述面上之頂出部。所述組合面與所述對接面相對。每個頂出部用於頂入對應一個頂入孔以將對應一個遮擋塞頂出。
本發明提供之鍍膜輔助裝置，每個頂出部頂入對應一個頂入孔內從而將對應一個遮擋塞頂出，因此，可以實現同時將多個遮擋塞頂出，由此提高工作效率。
以下將結合圖式對本發明作進一步詳細說明。
請參見圖1、2及圖4，為本發明第一實施方式提供之一種鍍膜輔助裝置100，包括一承載盤10、一個底盤20及多個遮擋塞30。
所述承載盤10大致為長方體且包括一個大致為矩形之承載面101、一個與所述承載面101相背之對接面102及多個自所述承載面101上延伸形成之固定部103。所述承載盤10開設有一個定位孔104及多個頂入孔105。所述定位孔104位於所述承載盤10中心之且貫穿所述承載面101及所述對接面102。所述頂入孔105貫穿每個固定部103、所述承載面101及所述對接面102。所述頂入孔105圍繞所述定位孔104。
所述固定部103用於固定多個中空狀之工件，本實施方式中，每個工件為一鏡筒40，所述鏡筒40包括一個長方體狀之基部401一個連接於基部401上之圓柱狀筒體402。所述鏡筒40開設有一個貫穿所述基部401及所述筒體402之通孔403。所述通孔403包括一個長方體狀之第一端403a一個圓柱狀之第二端403b。每個固定部103為形狀與所述第一端403a相對應之長方體狀之凸塊。每個第一端403a套於對應一個固定部103外，如此，將每個鏡筒40固定在對應一個固定部103上。在其他實施方式中，每個第一端403a之形狀也可以為圓柱狀或其他形狀，相應之，每個固定部103之形狀也為圓柱狀或其他形狀。
所述對接面102之邊緣延伸有多個側壁1021。本實施方式中，所述側壁1021數量為四個。相鄰兩個側壁1021之連接處開設有一個開槽1022。所述對接面102上開設有多個定位槽1023。本實施方式中，所述定位槽1023數量為四個，每個定位槽1023分別連通所述定位孔104及對應一個開槽1022。所述四個定位槽1023沿所述定位孔104之徑向呈十字形排列。所述頂入孔105分佈於相鄰兩個定位槽1023之間。
所述底盤20大致為長方體且包括一個大致為矩形之組合面201、一個與所述組合面201相背之底面202及多個頂出部203。所述組合面201上開設有多個貫穿至所述底面202之安裝孔204。所述底盤20還包括自所述組合面201凸起延伸形成之一個定位台205及多個定位條206。所述定位台205為圓形且位於所述組合面201中心且其形狀對應於所述所定位孔104。所述定位條206數量為四個，每個定位條206一端連接至所述定位台205且對應於一個定位槽1023。所述四個定位條206沿所述定位台205之徑向呈十字形排列。所述安裝孔204分佈於相鄰兩個定位條206之間。每個頂出部203為一直徑小於或對應於每個頂入孔105及每個通孔403之第二端403b之直徑之圓柱形金屬桿，且每個頂出部203之一端安裝於對應一個安裝孔204內並垂直突設於所述組合面201上。每個頂出部203露出所述組合面201之高度大於所述定位條206之高度。在其他實施方式中，所述安裝孔204也可以是盲孔。
每個遮擋塞30由金屬一體製成，每個遮擋塞30包括一個方形之擋片301、一個自所述擋片301之一個表面中心垂直延伸之塞入部302及一個自所述擋片301與述塞入部302相背之另一表面突起延伸之握持部303。所述擋片301之面積大於所述筒體402之橫截面積。所述塞入部302之形狀與所述通孔403之第二端403b形狀相對應。所述握持部303可以方便操作人員將每個遮擋塞30塞入對應一個鏡筒40內，在其他實施方式中，所述遮擋塞30也可以省略所述握持部303。
在對所述鏡筒40進行鍍膜時，每個鏡筒40之通孔403之第一端403a套設於一個固定部103外，每個頂入孔105與對應一個通孔403相連通。每個遮擋塞30之塞入部302塞入一對應一個通孔403之第二端403b。然後在所述鏡筒40之外表面鍍上用於防止電磁干擾之金屬鍍，在鍍膜過程中，所述遮擋塞30可以防止鍍膜材料進入到所述鏡筒40之內部而污染鏡筒40內部。
請參閱圖3及4，在鍍膜完成後，所述底盤20與所述承載盤10相組合。具體之，所述對接面102與所述組合面201相對，所述定位台205收容於所述定位孔104內，每個定位條206卡入對應一個定位槽內。每個頂出部203遠離安裝孔204之一端自所述對接面102頂入至對應一個頂入孔105內並突伸出對應一個固定部103外，每個頂出部203與對應一個塞入部302相抵接並將每個遮擋塞30頂出所述通孔403內。由於每個頂出部203頂入對應一個頂入孔105內從而將對應一個遮擋塞30頂出，因此，可以實現同時將多個遮擋塞30頂出，由此提高工作效率。
如圖5所示，為本發明第二實施方式提供之鍍膜輔助裝置500之剖視示意圖，其結構與第一實施方式之鍍膜輔助裝置100基本相似，不同之處在於，每個遮擋塞60包括一個方形擋片601及一個穿設於所述擋片601中心並由所述擋片601卡持之第一磁體602。所述第一磁體602為圓柱狀且其兩磁極分別位於所述擋片601之兩個相背表面，所述第一磁體602之其中一磁極插入對應一個通孔403之第二端403b內。本實施方式中，第一磁體之N極插入對應一個通孔403之第二端403b內。每個頂出部203為一個圓柱形第二磁體，所述第二磁體之直徑小於或對應於每個頂入孔105之直徑。所述第二磁體之其中一磁極安裝至對應一個安裝孔204內，所述第二磁體與所述第一磁體602相同之磁極相對設置。本實施方式中，所述第二磁體之S極安裝至對應之一個安裝孔204內。所述底盤20與所述承載盤10相組合時，每個第二磁體自所述對接面102頂入至對應一個頂入孔105內，每個第二磁體之N極與每個第一磁體602之N極間隔相對，通過每個第二磁體之N極與每個第一磁體602之N極之間之排斥力將對應一個遮擋塞60頂出。本實施方式中，所述第二磁體不需要與第一磁體602相抵接即可將對應之遮擋塞60頂出。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100、500．．．鍍膜輔助裝置
10．．．承載盤
101．．．承載面
102．．．對接面
1021．．．側壁
1022．．．開槽
1023．．．定位槽
103．．．固定部
104．．．定位孔
105．．．頂入孔
20．．．底盤
201．．．組合面
202．．．底面
203．．．頂出部
204．．．安裝孔
205．．．定位台
206．．．定位條
30、60．．．遮擋塞
301、601．．．擋片
302．．．塞入部
303．．．握持部
40．．．鏡筒
401．．．基部
402．．．筒體
403．．．通孔
403a．．．第一端
403b．．．第二端
602．．．第一磁體
圖1為本發明第一實施方式提供之鍍膜輔助裝置之分解示意圖。
圖2為圖1所示之鍍膜輔助裝置之另一視角之分解示意圖。
圖3為圖1所示之鍍膜輔助裝置之組合示意圖。
圖4為圖3所示之鍍膜輔助裝置之沿剖線III-III之剖視示意圖。
圖5為本發明第二實施方式提供之鍍膜輔助裝置之剖視示意圖。
100．．．鍍膜輔助裝置
101．．．承載面
102．．．對接面
103．．．固定部
105．．．頂入孔
201．．．組合面
203．．．頂出部
204．．．安裝孔
301．．．擋片
302．．．塞入部
303．．．握持部
40．．．鏡筒
403．．．通孔
403a．．．第一端
403b．．．第二端
Claims (10)
- 一種鍍膜輔助裝置，包括一個承載盤、一個底盤及多個遮擋塞；所述承載盤包括一個承載面、一個與所述承載面相背之對接面及多個自所述承載面延伸之固定部；所述承載面用於承載多個筒狀工件；每個工件一端套於對應一個固定部外，另一端塞入對應一個遮擋塞；所述承載盤開設有多個貫穿每個固定部及所述對接面之頂入孔；每個頂入孔與對應一個工件之通孔相連通；所述底盤包括一個組合面及多個設置於所述面上之頂出部；所述組合面與所述對接面相對；每個頂出部用於頂入對應一個頂入孔以將對應一個遮擋塞頂出。
- 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜輔助裝置，其中，每個遮擋塞包括一個擋片及一個自所述擋片一表面延伸之塞入部，所述塞入部塞入所述對應一個工件之另一端內。
- 如申請專利範圍第2項所述之鍍膜輔助裝置，其中，每個遮擋塞還包括一個自所述擋片與所述塞入部相背之表面延伸之握持部。
- 如申請專利範圍第2項所述之鍍膜輔助裝置，其特徵在於，每個組合面上開設有多個安裝孔，每個頂出部為圓柱形金屬桿，每個頂出部之一端安裝於對應一個安裝孔內，每個頂出部之另一端自所述對接面頂入至對應一個頂入孔內並與對應一個塞入部相抵接。
- 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜輔助裝置，其中，每個遮擋塞包括一個擋片及一個穿設於所述擋片中心並由所述擋片卡持之第一磁體，所述第一磁體為圓柱狀且其兩磁極分別位於所述擋片之兩個相背表面，所述述第一磁體之其中一磁極插入對應一個工件之另一端內。
- 如申請專利範圍第5項所述之鍍膜輔助裝置，其中，每個頂出部為一個圓柱形第二磁體，所述第二磁體之其中一磁極安裝至對應一個安裝孔內，所述第二磁體與所述第一磁體相同之磁極相對設置。
- 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜輔助裝置，其中，所述底盤包括自所述組合面之中心凸起延伸形成之一個圓形定位台；所述承載盤之中心開設有一個貫穿所述承載面及對接面之定位孔，所述定位台收容於所述定位孔內。
- 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜輔助裝置，其中，所述組合面還延伸設有多個定位條，每個定位台一端連接至所述定位台；所述對接面開設有多個定位槽，每個定位槽之一端連通至所述定孔，每個定位條對應收容於一個定位槽內。
- 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜輔助裝置，其中，所述定位條之數量為四個，四個定位條沒所述定位台之徑向呈十字分佈；所述定位槽之數量為四個，四個定位槽沿所述定位台之徑向呈十字分佈。
- 如申請專利範圍第9項所述之鍍膜輔助裝置，其中，所述安裝孔分佈於相鄰兩個之定位條之間；所述頂入孔分佈於相鄰兩個之定位槽之間。
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