JP2017510823A5

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Publication number: JP2017510823A5
Application number: JP2016534727A
Authority: JP
Filing date: 2014-12-18
Publication date: 2018-01-25
Anticipated expiration: 2034-12-18

Claims

少なくとも部分的にターゲット領域と一致する第１の残存プラズマを形成することとであって、前記第１の残存プラズマは、ターゲット材料と増幅光ビームとの相互作用を生成する先行極端紫外（ＥＵＶ）光から形成されることと、
第１の空間分布内のターゲット材料を含むターゲットを前記ターゲット領域に提供することであって、前記ターゲット材料がプラズマに変換された時にＥＵＶ光を放出する材料を含むことと、
前記第１の残存プラズマ及び前記初期ターゲットが相互作用できるようにすることであって、前記相互作用が前記第１の空間分布から整形ターゲット分布に前記ターゲット材料を再配置して前記ターゲット領域内に整形ターゲットを形成し、前記整形ターゲットが前記整形ターゲット分布内に配置された前記ターゲット材料を含み、前記整形ターゲット分布が凹面領域を確定する側部を含むことと、
増幅光ビームを前記ターゲット領域内の前記整形ターゲットの前記凹面領域に向かって誘導することであって、前記増幅光ビームと前記整形ターゲットの前記ターゲット材料との間の相互作用が、前記整形ターゲット内の前記ターゲット材料の少なくとも一部を、ＥＵＶ光を放出するプラズマに変換し、前記凹面領域の前記側部が、ＥＵＶ光を放出する前記プラズマの少なくとも一部を閉じ込めることと、
第２の残存プラズマが前記ターゲット領域内で形成できるようにすることと、
を含む、方法。
前記整形ターゲット分布の前記側部が、頂点から延び、
前記凹面領域は、前記側部と前記頂点によって確定される陥凹部である、請求項１に記載の方法。
前記増幅光ビームが、パルス増幅光ビームである、請求項１に記載の方法。
第１の空間分布内のターゲット材料を含むターゲットを前記ターゲット領域に提供することが、前記ターゲット領域にディスク形ターゲットを提供することを含む、請求項１に記載の方法。
ディスク形ターゲットを提供することが、
ターゲット材料を含むターゲット材料小滴をターゲット材料供給装置から前記ターゲット領域に向かって解放することと、
前記ターゲット材料小滴が前記ターゲット材料供給装置と前記ターゲット領域との間にある間に、放射パルスを前記ターゲット材料小滴に向かって誘導して、前記放射パルスを前記ターゲット材料小滴と相互作用させることであって、前記第１の放射パルスが前記ターゲット材料小滴の前記ターゲット材料の空間分布の変更を開始するのに十分なエネルギを有することと、
前記ターゲット材料小滴が前記放射パルスと前記ターゲット材料小滴との前記相互作用の後に２つの寸法において拡大して前記ディスク形ターゲットを形成できるようにすることと、
を含む、請求項４に記載の方法。
前記ターゲット材料小滴が、前記増幅光ビームの伝搬の方向に垂直な平面内で拡大することにより、２つの寸法において拡大する、請求項５に記載の方法。
前記ターゲット材料小滴が、前記ターゲット材料のディスク形空間分布を形成するために、前記伝搬の方向に平行な方向に狭小化する、請求項６に記載の方法。
前記第１の放射パルスが、１．０６ミクロン（μｍ）の波長を有するレーザ光のパルスを含み、
前記増幅光ビームが、１０．６μｍの波長を有するパルスレーザビームである、請求項６に記載の方法。
少なくとも部分的にターゲット領域と一致する残存プラズマを形成することであって、前記残存プラズマがターゲット材料と増幅光ビームとの相互作用を生成する先行極端紫外（ＥＵＶ）光から形成されたプラズマであり、前記ターゲット材料と前記増幅光ビームとの前記相互作用が前記ターゲット領域内で起こることと、
第１の空間分布内のターゲット材料を含むターゲットを初期ターゲット領域に提供することであって、前記ターゲット材料がプラズマに変換された時にＥＵＶ光を放出する材料を含み、前記初期ターゲット領域が前記ターゲット領域と空間的に異なることと、
前記ターゲットを前記初期ターゲット領域内の第１の放射パルスと相互作用させることにより２つの寸法における前記ターゲット材料の第１の空間分布の変更を開始することと、
前記ターゲット材料の第１の空間分布が、前記ターゲットを前記第１の放射パルスと相互作用させた後に前記２つの寸法において変化して、変更ターゲットを形成できるようにすることと、
前記変更ターゲットが前記ターゲット領域内に入り、前記ターゲット領域内の前記残存プラズマと相互作用して整形ターゲットを形成できるようにすることにより、前記変更ターゲットを３つの寸法において整形することと、
増幅光ビームを前記ターゲット領域及び前記整形ターゲットに向かって誘導して、ＥＵＶ光を放出するプラズマを形成することと、
を含む、方法。
前記２つの寸法が、前記増幅光ビームの前記伝搬の方向に垂直な平面内で延びる２つの寸法を含む、請求項９に記載の方法。
２つの寸法における前記第１の空間分布の変更を開始することが、前記レーザビームのパルスが前記ターゲットと相互作用するように、パルスレーザビームを前記ターゲットに向かって誘導することを含む、請求項９に記載の方法。
前記２つの寸法が、前記パルスレーザビームの前記伝搬の方向に垂直な平面内で延びる２つの寸法を含む、請求項１１に記載の方法。
前記変更ターゲットが、前記パルスレーザビームの前記伝搬の方向に垂直な平面において、前記ターゲットより大きい断面積を有する、請求項１２に記載の方法。
前記整形ターゲット分布が、前記増幅光ビームに対して開放されている凹面領域を含む、請求項１０に記載の方法。
前記ターゲット領域が、ＥＵＶ光源の真空チャンバの内部にある、請求項９に記載の方法。
前記増幅光ビームを前記ターゲット領域に誘導することが、前記増幅光ビームを伝搬の方向に誘導することと、前記伝搬の方向に垂直な平面内にある焦点に前記増幅光ビームを集束させることと、を含む、請求項９に記載の方法。
前記整形ターゲット分布が、頂点から延びる側部を有し、
前記側部が、開放されている領域を形成し、
前記開放されている領域が、前記増幅光ビームに対して方向付けられている、請求項９に記載の方法。
前記焦点が、前記ターゲット領域内の前記整形ターゲットを含む平行な平面とは異なる平面内にある、請求項１６に記載の方法。