JP2013524464A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. チャンバと、
   前記チャンバ内の照射領域に該照射領域とターゲット材料放出点の間の経路に沿ってターゲット材料を送出するターゲット材料の流れを供給する供給源と、
   前記チャンバ内のガス流であって、少なくともそのガスの一部が前記ターゲット材料の流れの方向に向かって流れるガス流と、
   ＥＵＶ放射線を生成するプラズマを発生させるために前記照射領域で前記ターゲット材料を照射するレーザビームを生成するシステムと、
   前記流れの一部分に沿って位置決めされ、シュラウドと、前記ガス流及び対向する開放部分から前記流れをシールドする第１のシュラウドと、
   を含むことを特徴とする装置。
2. 前記シュラウドは、前記経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 前記リングは、少なくとも１つの平坦面を有することを特徴とする請求項２に記載の装置。
4. 前記シュラウドは、前記経路と平行な方向に長形であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
5. 前記シュラウドは、少なくとも１つの穴が形成された管を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
6. 前記シュラウドと前記ターゲット材料放出点の間に前記流れに沿って位置決めされた液滴捕捉管を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
7. 前記経路は、非垂直であり、前記液滴捕捉管は、該非垂直経路から逸れるターゲット材料から反射光学系を保護するシールドであることを特徴とする請求項６に記載の装置。
8. 前記流れの少なくとも一部分が、液滴の流れであることを特徴とする請求項１に記載の装置。