JP2014523640A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 光学系と、
   ターゲット材料と、
   開口を有するＥＵＶミラーと、
   ビーム経路に沿って前記光学系を通過して前記ターゲット材料を照射するレーザビームと、
   前記開口を通って前記ターゲット材料に向けて前記ビーム経路に沿って向けられる実質的に乱流がないガス流を発生させ、
   容積を取り囲み、前記開口に向けて実質的に乱流がない流れを生成するべく、該開口に向けて配置された小さな端部と、該小さな端部と反対側に配置された大きな端部とを有するテーパ付け部材と、
   複数のガスラインと
   を有するシステムと、
   を含み、
   前記容積の少なくとも一部分は、前記ＥＵＶミラーと前記光学系との間に配置され、該光学系は、該容積内で前記大きな端部と前記小さな端部との間の前記ビーム経路に沿って配置され、前記複数のガスラインの各々のガスラインは、前記テーパ付け部材の該大きな端部から該容積内へとガスを入れる
   ことを特徴とする極紫外（ＥＵＶ）光源。
2. 前記部材は、内壁を有し、かつ該内壁から突出する複数のフローガイドを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
3. 前記光学系は、窓であることを特徴とする請求項１に記載の光源。
4. 前記光学系は、前記ビームを前記ビーム経路上の焦点に集束させるレンズであることを特徴とする請求項１に記載の光源。
5. 前記テーパ付け部材は、前記ビーム経路を取り囲むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
6. 前記ガス流は、水素（プロチウム）、水素（重水素）、及び水素（トリチウム）から構成されるガスの群から選択されたガスを含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
7. 前記テーパ付け部材は、前記レーザビーム内に延びないことを特徴とする請求項１に記載の光源。
8. 前記ガス流は、毎分４０標準立方リットル（ｓｃｌｍ）を超える流量の大きさを有することを特徴とする請求項１に記載の光源。
9. ターゲット材料液滴の流れを生成する液滴発生器を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
10. 前記光学系は、１５０ｍｍよりも大きい直径を有するレンズであることを特徴とする請求項１に記載の光源。